JP2001108638A - 欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検査装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 種々の形態の突起欠陥を高い検出感度で検出
できる欠陥検査装置を提供する。 【解決手段】 光源（１）から発生した光ビームをビー
ム走査装置（４）により光軸に平行で時間と共に光軸か
らの距離が変化する走査ビームに変換し、欠陥検査すべ
き試料（７）に投射する。試料表面（７）上に異物が存
在する場合、この異物による散乱光が異物を中心にして
放射状に発生するため、この異物からの散乱光を検出す
ることにより突起欠陥の存在を検出することができる。
この場合、試料表面に形成されているパターンによる回
折光を除去するため、散乱光検出手段として光ファイバ
を用いる。光ファイバは伝搬特性として入射角依存性を
有しているので、回折光だけを遮光する遮光マスクと同
等の作用効果を達成でき、欠陥の検出感度が増大する。
できる欠陥検査装置を提供する。 【解決手段】 光源（１）から発生した光ビームをビー
ム走査装置（４）により光軸に平行で時間と共に光軸か
らの距離が変化する走査ビームに変換し、欠陥検査すべ
き試料（７）に投射する。試料表面（７）上に異物が存
在する場合、この異物による散乱光が異物を中心にして
放射状に発生するため、この異物からの散乱光を検出す
ることにより突起欠陥の存在を検出することができる。
この場合、試料表面に形成されているパターンによる回
折光を除去するため、散乱光検出手段として光ファイバ
を用いる。光ファイバは伝搬特性として入射角依存性を
有しているので、回折光だけを遮光する遮光マスクと同
等の作用効果を達成でき、欠陥の検出感度が増大する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばカラーフィ
ルタのように、多数のパターンが２次元マトリックス状
に配列されている試料表面の欠陥を検出する欠陥検査装
置に関するものである。
ルタのように、多数のパターンが２次元マトリックス状
に配列されている試料表面の欠陥を検出する欠陥検査装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルタは、ガラス基板上にＲ，
Ｇ，Ｂのフィルタ素子が２次元マトリックス状に配列さ
れ、その上に透明保護層が形成されている。このカラー
フィルタの製造工程中にガラス基板上や透明保護層上に
埃やガラス片等の異物が付着すると、高さ数μｍ程度の
微小な突起欠陥が形成されてしまう。表面に微小突起が
存在するカラーフィルタが液晶表示装置に組み込まれる
と、微小突起が存在する部分の導電膜が対向する導電パ
ターンと電気的に接触してしまい、この部分が電気的に
短絡し、正確な画像表示ができなくなってしまう。従っ
て、製品の歩留りを向上させるためにカラーフィルタの
欠陥検査は極めて重要であり、カラーフィルタの欠陥検
査装置の開発が強く要請されている。
Ｇ，Ｂのフィルタ素子が２次元マトリックス状に配列さ
れ、その上に透明保護層が形成されている。このカラー
フィルタの製造工程中にガラス基板上や透明保護層上に
埃やガラス片等の異物が付着すると、高さ数μｍ程度の
微小な突起欠陥が形成されてしまう。表面に微小突起が
存在するカラーフィルタが液晶表示装置に組み込まれる
と、微小突起が存在する部分の導電膜が対向する導電パ
ターンと電気的に接触してしまい、この部分が電気的に
短絡し、正確な画像表示ができなくなってしまう。従っ
て、製品の歩留りを向上させるためにカラーフィルタの
欠陥検査は極めて重要であり、カラーフィルタの欠陥検
査装置の開発が強く要請されている。
【０００３】カラーフィルタの欠陥検査装置として、本
願人から提案されている特開平６−３４７４１６号公報
に記載されている欠陥検査装置が既知である。この既知
の欠陥検査装置は、突起欠陥により生ずる散乱光或いは
回折光を検出することにより欠陥の存在を検出してる。
すなわち、突起欠陥が存在する場合試料表面のオーバコ
ート層が厚さ方向になだらかに変化するため、このオー
バコート層の厚さ方向の変化により生じる散乱光を受光
することにより突起欠陥の存在を検出している。そし
て、垂直入射ビームによりカラーフィルタ表面を２次元
的に走査し、突起欠陥により発生しカラーフィルタの表
面の法線方向から僅かに傾いた方向に散乱した散乱光を
光検出器により受光し、光検出器の受光光量から欠陥の
存在を検出している。
願人から提案されている特開平６−３４７４１６号公報
に記載されている欠陥検査装置が既知である。この既知
の欠陥検査装置は、突起欠陥により生ずる散乱光或いは
回折光を検出することにより欠陥の存在を検出してる。
すなわち、突起欠陥が存在する場合試料表面のオーバコ
ート層が厚さ方向になだらかに変化するため、このオー
バコート層の厚さ方向の変化により生じる散乱光を受光
することにより突起欠陥の存在を検出している。そし
て、垂直入射ビームによりカラーフィルタ表面を２次元
的に走査し、突起欠陥により発生しカラーフィルタの表
面の法線方向から僅かに傾いた方向に散乱した散乱光を
光検出器により受光し、光検出器の受光光量から欠陥の
存在を検出している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した本願人から提
案されている欠陥検査装置は、微小な突起欠陥を正確に
検出することができ、実際の製造ラインで有効に用いら
れ高い検出感度を有している。
案されている欠陥検査装置は、微小な突起欠陥を正確に
検出することができ、実際の製造ラインで有効に用いら
れ高い検出感度を有している。
【０００５】しかしながら、現在製造されているカラー
フィルタは、その表面に保護層でるオーバコート層が形
成されていない形式も存在する。このようなオーバコー
ト層のないカラーフィルタの表面に異物が付着した場
合、カラーフィルタの表面に厚さ方向になだらかに変化
する部分が形成されず、欠陥の存在が見逃されるおそれ
が生じていた。また、カラーフィルタの表面に保護層が
形成された後異物が付着した場合、その異物による欠陥
を見逃すおそれが指摘されていた。
フィルタは、その表面に保護層でるオーバコート層が形
成されていない形式も存在する。このようなオーバコー
ト層のないカラーフィルタの表面に異物が付着した場
合、カラーフィルタの表面に厚さ方向になだらかに変化
する部分が形成されず、欠陥の存在が見逃されるおそれ
が生じていた。また、カラーフィルタの表面に保護層が
形成された後異物が付着した場合、その異物による欠陥
を見逃すおそれが指摘されていた。
【０００６】従って、本発明の目的は、種々の欠陥を一
層高い検出感度で検出することができる欠陥検査装置を
実現することにある。
層高い検出感度で検出することができる欠陥検査装置を
実現することにある。
【０００７】さらに、本発明の目的は、表面に保護層が
形成されていないカラーフィルタ等の多数のパターンが
規則的に形成されている試料についても正確に欠陥検出
することができる欠陥検査装置を実現することにある。
形成されていないカラーフィルタ等の多数のパターンが
規則的に形成されている試料についても正確に欠陥検出
することができる欠陥検査装置を実現することにある。
【０００８】さらに、本発明の別の目的は、種々の形態
の異物付着による欠陥であっても正確に検出することが
できる欠陥検査装置を実現することにある。
の異物付着による欠陥であっても正確に検出することが
できる欠陥検査装置を実現することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による欠陥検査装
置は、多数のパターンが規則的に配列されている試料の
表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査装置であって、
光ビームを発生する光源と、この光ビームを光軸に平行
で光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームに変換
し、変換された光ビームにより欠陥検査すべき試料表面
を走査軸線に沿って走査するビーム走査装置と、光入射
端及び光出射端を有し、試料表面からの散乱光を受光し
光出射端まで伝搬させる複数の光ファイバを有する１個
又はそれ以上の光ファイババンドルと、前記光ファイバ
の光出射端に光学的に結合した光検出器と、光検出器に
接続され、光検出器からの出力信号に基づいて欠陥検出
信号を発生する信号処理回路とを具え、前記光ファイバ
バンドルを、各光ファイバの光入射端が走査軸線と平行
なライン状に配置すると共に光入射端の光軸が走査軸線
に対して９０°以外の角度をなすように配置したことを
特徴とする。
置は、多数のパターンが規則的に配列されている試料の
表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査装置であって、
光ビームを発生する光源と、この光ビームを光軸に平行
で光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームに変換
し、変換された光ビームにより欠陥検査すべき試料表面
を走査軸線に沿って走査するビーム走査装置と、光入射
端及び光出射端を有し、試料表面からの散乱光を受光し
光出射端まで伝搬させる複数の光ファイバを有する１個
又はそれ以上の光ファイババンドルと、前記光ファイバ
の光出射端に光学的に結合した光検出器と、光検出器に
接続され、光検出器からの出力信号に基づいて欠陥検出
信号を発生する信号処理回路とを具え、前記光ファイバ
バンドルを、各光ファイバの光入射端が走査軸線と平行
なライン状に配置すると共に光入射端の光軸が走査軸線
に対して９０°以外の角度をなすように配置したことを
特徴とする。
【００１０】多数のパターンが２次元マトリックス状に
配列されている試料の表面に存在する欠陥を光散乱を利
用して検出する場合、試料表面に存在するパターンによ
る回折光が発生するため、パターンにより生ずる回折光
による影響を除去することが極めて重要である。すなわ
ち、多数のパターンがマトリックス状に形成されている
試料の場合、突起欠陥により散乱光が発生するだけでな
く試料表面に形成されているパターンからも回折光が発
生する。従って、欠陥により生じた散乱光をパターンに
より生じた回折光共に検出したのでは、欠陥の検出感度
が著しく劣化してしまう。
配列されている試料の表面に存在する欠陥を光散乱を利
用して検出する場合、試料表面に存在するパターンによ
る回折光が発生するため、パターンにより生ずる回折光
による影響を除去することが極めて重要である。すなわ
ち、多数のパターンがマトリックス状に形成されている
試料の場合、突起欠陥により散乱光が発生するだけでな
く試料表面に形成されているパターンからも回折光が発
生する。従って、欠陥により生じた散乱光をパターンに
より生じた回折光共に検出したのでは、欠陥の検出感度
が著しく劣化してしまう。
【００１１】本発明者がカラーフィルタ素子がマトリッ
クス状に形成されているカラーフィルタの散乱光の発生
状況について実験した結果、試料表面に垂直に光ビーム
を投射すると、パターンにより発生する回折光はパター
ンの配列方向及びこれと直交する方向に規則的に発生し
突起欠陥により生ずる散乱光又は回折光は突起を中心に
してほぼ放射状に発生することが判明した。この実験結
果に基づけば、パターンの配列方向及びこれと直交する
方向以外の方向に発生する散乱光だけを検出すれば突起
欠陥を正確に検出することができる。そこで、本発明で
は、散乱光の検出手段として光ファイバを用いる。光フ
ァイバは予め定めた受光角の範囲内の入射角で入射した
散乱光だけを光出射端まで伝搬する特性を有し、受光角
を超える角度で入射した散乱光は、光入射端面に入射し
ても出射端まで伝搬されることはない。従って、パター
ンにより生ずる回折光と突起欠陥による散乱光の両方が
入射しても突起欠陥の散乱光の入射角が光ファイバの受
光角の範囲内となりパターンによる散乱光が受光角の範
囲外となるように光ファイバの入射端を配置すれば、両
方の散乱光が同時に光ファイバの入射端に入射しても出
射端に結合した光検出器には突起欠陥による散乱光だけ
が入射し、パターンによる回折光の影響を大幅に低減す
ることができ、欠陥の検出感度が大幅に向上する。
クス状に形成されているカラーフィルタの散乱光の発生
状況について実験した結果、試料表面に垂直に光ビーム
を投射すると、パターンにより発生する回折光はパター
ンの配列方向及びこれと直交する方向に規則的に発生し
突起欠陥により生ずる散乱光又は回折光は突起を中心に
してほぼ放射状に発生することが判明した。この実験結
果に基づけば、パターンの配列方向及びこれと直交する
方向以外の方向に発生する散乱光だけを検出すれば突起
欠陥を正確に検出することができる。そこで、本発明で
は、散乱光の検出手段として光ファイバを用いる。光フ
ァイバは予め定めた受光角の範囲内の入射角で入射した
散乱光だけを光出射端まで伝搬する特性を有し、受光角
を超える角度で入射した散乱光は、光入射端面に入射し
ても出射端まで伝搬されることはない。従って、パター
ンにより生ずる回折光と突起欠陥による散乱光の両方が
入射しても突起欠陥の散乱光の入射角が光ファイバの受
光角の範囲内となりパターンによる散乱光が受光角の範
囲外となるように光ファイバの入射端を配置すれば、両
方の散乱光が同時に光ファイバの入射端に入射しても出
射端に結合した光検出器には突起欠陥による散乱光だけ
が入射し、パターンによる回折光の影響を大幅に低減す
ることができ、欠陥の検出感度が大幅に向上する。
【００１２】上述した認識に基づき、本発明では散乱光
をピックアップする光ファイバを、その入射端の光軸が
光ビームの走査方向に延在する走査軸線と９０°以外の
角度をなすように配置する。光ビームによる試料表面の
走査は、パターンすなわちカラーフィルタ素子の配列方
向に沿って行われるため、光ファイバの入射端の光軸が
走査軸線に対して９０°以外の角度をなすように配置す
れば、突起欠陥による散乱光は光ファイバの入射端面に
比較的小さな入射角で入射し、パターンにより発生する
散乱光は比較的大きな入射角で入射するため、パターン
からの散乱光の大部分は光ファイバを伝搬できず、パタ
ーンからの散乱光の影響を大幅に低減することができ
る。
をピックアップする光ファイバを、その入射端の光軸が
光ビームの走査方向に延在する走査軸線と９０°以外の
角度をなすように配置する。光ビームによる試料表面の
走査は、パターンすなわちカラーフィルタ素子の配列方
向に沿って行われるため、光ファイバの入射端の光軸が
走査軸線に対して９０°以外の角度をなすように配置す
れば、突起欠陥による散乱光は光ファイバの入射端面に
比較的小さな入射角で入射し、パターンにより発生する
散乱光は比較的大きな入射角で入射するため、パターン
からの散乱光の大部分は光ファイバを伝搬できず、パタ
ーンからの散乱光の影響を大幅に低減することができ
る。
【００１３】本発明の欠陥検査装置の好適実施例は、光
ファイバを、その入射端における光軸が前記ビーム走査
装置のビームスキャン方向に対してほぼ４５°の角度を
なすように配置したことを特徴とする。多くの光ファイ
バの受光角は±２０°程度であるため、光ファイバをそ
の光軸がスキャン方向に対してほぼ４５°となるように
設定すれば、パターンから散乱光の影響をほとんど除去
することができ、検出感度が大幅に向上する。
ファイバを、その入射端における光軸が前記ビーム走査
装置のビームスキャン方向に対してほぼ４５°の角度を
なすように配置したことを特徴とする。多くの光ファイ
バの受光角は±２０°程度であるため、光ファイバをそ
の光軸がスキャン方向に対してほぼ４５°となるように
設定すれば、パターンから散乱光の影響をほとんど除去
することができ、検出感度が大幅に向上する。
【００１４】本発明による欠陥検査装置の好適実施例
は、多数のパターンが規則的に配列されている試料の表
面に存在する欠陥を検出する欠陥検査装置であって、光
ビームを発生する光源と、この光ビームを光軸に平行で
光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームに変換
し、変換された光ビームにより欠陥検査すべき試料表面
を走査軸線に沿って走査するビーム走査装置と、光入射
端及び光出射端を有し、試料表面からの散乱光を受光し
光出射端まで伝搬させる複数の光ファイバを有する１個
又はそれ以上の光ファイババンドルと、前記光ファイバ
の光出射端に光学的に結合した第１の光検出器と、試料
からの散乱光を前記ビーム走査装置を介して受光する第
２の光検出器と、第２の光検出器とビーム走査装置との
間の光路中に配置され、試料のパターンからの回折光を
遮光する遮光マスクと、前記第１及び第２の光検出器に
接続され、これら光検出器からの出力信号に基づいて欠
陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、前記光フ
ァイババンドルを、各光ファイバの光入射端が走査軸線
と平行なライン状に配置すると共に光入射端の光軸が走
査軸線に対して９０°以外の角度をなすように配置した
ことを特徴とする。この欠陥検査装置では、試料表面か
らほぼ垂直方向に散乱した散乱光及びほぼ水平方向に散
乱した散乱光の両方の散乱光を検出することができるの
で、欠陥の検出感度が大幅に増大する。
は、多数のパターンが規則的に配列されている試料の表
面に存在する欠陥を検出する欠陥検査装置であって、光
ビームを発生する光源と、この光ビームを光軸に平行で
光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームに変換
し、変換された光ビームにより欠陥検査すべき試料表面
を走査軸線に沿って走査するビーム走査装置と、光入射
端及び光出射端を有し、試料表面からの散乱光を受光し
光出射端まで伝搬させる複数の光ファイバを有する１個
又はそれ以上の光ファイババンドルと、前記光ファイバ
の光出射端に光学的に結合した第１の光検出器と、試料
からの散乱光を前記ビーム走査装置を介して受光する第
２の光検出器と、第２の光検出器とビーム走査装置との
間の光路中に配置され、試料のパターンからの回折光を
遮光する遮光マスクと、前記第１及び第２の光検出器に
接続され、これら光検出器からの出力信号に基づいて欠
陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、前記光フ
ァイババンドルを、各光ファイバの光入射端が走査軸線
と平行なライン状に配置すると共に光入射端の光軸が走
査軸線に対して９０°以外の角度をなすように配置した
ことを特徴とする。この欠陥検査装置では、試料表面か
らほぼ垂直方向に散乱した散乱光及びほぼ水平方向に散
乱した散乱光の両方の散乱光を検出することができるの
で、欠陥の検出感度が大幅に増大する。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は本発明による欠陥検査装置
の一例の構成を示す線図である。本例では、検査される
べき試料を液晶表示装置に用いられるカラーフィルタと
し、カラーフィルタの突起欠陥を検出する例について説
明する。光源１から走査用光ビームを発生させる。本例
では、光源１としてＨｅ−Ｎｅレーザを用いる。光源１
から放出された光ビームは光軸Ｌに沿って伝播し、偏光
ビームスプリッタ２を通過し、さらにλ／４板３を透過
してビーム走査装置４に入射する。図２に示すように、
ビーム走査装置４は回転プリズム体５及びこのプリズム
体を回転させるステップモータ６を有する。回転プリズ
ム体５は光学的に透明な光学材料から成り、光軸Ｌと直
交する回転軸線Ｒを有する。この回転プリズム体５は回
転軸線Ｒに平行な２対の光学面を有し、光学面５ａと５
ｂ並びに５ｃと５ｄは互いに対向する平行な光学面とし
（図１参照）、これら光学面５ａ〜５ｄをモータ６によ
り回転軸Ｒのまわりで順次回転させる。
の一例の構成を示す線図である。本例では、検査される
べき試料を液晶表示装置に用いられるカラーフィルタと
し、カラーフィルタの突起欠陥を検出する例について説
明する。光源１から走査用光ビームを発生させる。本例
では、光源１としてＨｅ−Ｎｅレーザを用いる。光源１
から放出された光ビームは光軸Ｌに沿って伝播し、偏光
ビームスプリッタ２を通過し、さらにλ／４板３を透過
してビーム走査装置４に入射する。図２に示すように、
ビーム走査装置４は回転プリズム体５及びこのプリズム
体を回転させるステップモータ６を有する。回転プリズ
ム体５は光学的に透明な光学材料から成り、光軸Ｌと直
交する回転軸線Ｒを有する。この回転プリズム体５は回
転軸線Ｒに平行な２対の光学面を有し、光学面５ａと５
ｂ並びに５ｃと５ｄは互いに対向する平行な光学面とし
（図１参照）、これら光学面５ａ〜５ｄをモータ６によ
り回転軸Ｒのまわりで順次回転させる。
【００１６】図３に示すように、光軸Ｌにそって伝播し
光学面５ａに入射角ｉで入射した光ビームは屈折角ｒで
屈折し回転プリズム体を伝播し、光学面５ｂに入射角ｒ
で入射し、屈折角ｉで出射する。この結果、光軸に沿っ
て回転軸Ｒに向けて入射した光ビームは光軸Ｌに平行な
光ビームとして出射する。出射する平行ビームの光軸Ｌ
からの変位量ｘは、光学面５ａに対する入射光ビームの
入射角ｉに依存し、この入射角ｉは光学面５ａの回転角
θに等しいから、回転プリズム体５を回転軸Ｒを中心に
して回転させることり光軸Ｌに沿って伝播する光ビーム
の入射角ｉが時間と共に変化し、この結果光軸Ｌからの
変位量が時間と共に変化する平行光ビームが出射する。
また、回転が進み、光学面５ｄに光ビームが入射する
と、光ビームは対向する光学面５ｃから出射し、図３の
光軸Ｌの下側において光軸Ｌからの変位量が時間と共に
変化する平行光ビームが出射する。この結果、光軸Ｌに
沿って入射する光ビームは、光軸Ｌを含み光学面５ａ〜
５ｄ及び回転軸Ｒと直交する面内で光軸Ｌを中心にして
時間と共に光軸からの距離が変化する平行光ビームとし
て出射する。
光学面５ａに入射角ｉで入射した光ビームは屈折角ｒで
屈折し回転プリズム体を伝播し、光学面５ｂに入射角ｒ
で入射し、屈折角ｉで出射する。この結果、光軸に沿っ
て回転軸Ｒに向けて入射した光ビームは光軸Ｌに平行な
光ビームとして出射する。出射する平行ビームの光軸Ｌ
からの変位量ｘは、光学面５ａに対する入射光ビームの
入射角ｉに依存し、この入射角ｉは光学面５ａの回転角
θに等しいから、回転プリズム体５を回転軸Ｒを中心に
して回転させることり光軸Ｌに沿って伝播する光ビーム
の入射角ｉが時間と共に変化し、この結果光軸Ｌからの
変位量が時間と共に変化する平行光ビームが出射する。
また、回転が進み、光学面５ｄに光ビームが入射する
と、光ビームは対向する光学面５ｃから出射し、図３の
光軸Ｌの下側において光軸Ｌからの変位量が時間と共に
変化する平行光ビームが出射する。この結果、光軸Ｌに
沿って入射する光ビームは、光軸Ｌを含み光学面５ａ〜
５ｄ及び回転軸Ｒと直交する面内で光軸Ｌを中心にして
時間と共に光軸からの距離が変化する平行光ビームとし
て出射する。
【００１７】図１に示すように、ビーム走査装置４から
出射した光ビームは欠陥検査すべきカラーフィルタ７に
垂直に入射し、試料表面を垂直入射ビームにより走査す
る。カラーフィルタ７は試料ステージ８上に載置され、
試料ステージ８はビーム走査装置４によるビーム走査方
向と直交する方向、すなわち紙面と直交する方向に一定
速度で移動する。この結果、カラーフィルタ７は垂直入
射光ビームにより２次的に走査されることになる。
出射した光ビームは欠陥検査すべきカラーフィルタ７に
垂直に入射し、試料表面を垂直入射ビームにより走査す
る。カラーフィルタ７は試料ステージ８上に載置され、
試料ステージ８はビーム走査装置４によるビーム走査方
向と直交する方向、すなわち紙面と直交する方向に一定
速度で移動する。この結果、カラーフィルタ７は垂直入
射光ビームにより２次的に走査されることになる。
【００１８】カラーフィルタ７の表面に垂直に光ビーム
が入射すると、カラーフィルタに形成されているフィル
タ素子による回折光及び表面に付着した異物による散乱
光の両方が発生する。そして、カラーフィルタの表面に
対してほぼ垂直方向に回折した回折光及び散乱光はビー
ム走査装置４の回転プリズム体５によりピックアップさ
れる。また、ほぼ水平に近い角度で回折し及び散乱した
光は光ファイババンドル２０によりピックアップされ
る。ほぼ垂直な方向に回折、散乱又は反射した光は走査
装置４の回転プリズム体５、λ／４板３、偏光ビームス
プリッタ２及び遮光マスク９を経て第１の光検出器１０
に入射する。この第１の光検出器１０からの出力信号は
増幅器１１により増幅されて信号処理回路１２に入射す
る。また、試料表面でほぼ水平に近い角度で回折又は散
乱した光は、光ファイババンドル２０によりピックアッ
プされ、光ファイバの受光角の範囲内の散乱光だけが光
ファイバを伝搬し、第２光検出器２１に入射する。そし
て、第２の光検出器の出力信号は信号処理回路１２に供
給する。
が入射すると、カラーフィルタに形成されているフィル
タ素子による回折光及び表面に付着した異物による散乱
光の両方が発生する。そして、カラーフィルタの表面に
対してほぼ垂直方向に回折した回折光及び散乱光はビー
ム走査装置４の回転プリズム体５によりピックアップさ
れる。また、ほぼ水平に近い角度で回折し及び散乱した
光は光ファイババンドル２０によりピックアップされ
る。ほぼ垂直な方向に回折、散乱又は反射した光は走査
装置４の回転プリズム体５、λ／４板３、偏光ビームス
プリッタ２及び遮光マスク９を経て第１の光検出器１０
に入射する。この第１の光検出器１０からの出力信号は
増幅器１１により増幅されて信号処理回路１２に入射す
る。また、試料表面でほぼ水平に近い角度で回折又は散
乱した光は、光ファイババンドル２０によりピックアッ
プされ、光ファイバの受光角の範囲内の散乱光だけが光
ファイバを伝搬し、第２光検出器２１に入射する。そし
て、第２の光検出器の出力信号は信号処理回路１２に供
給する。
【００１９】次に、試料表面を垂直入射ビームで走査し
た場合に発生する回折光及び散乱光の状態について説明
する。図４はカラーフィルタの表面に垂直に光ビームを
投射した場合に発生する回折パターンを示す線図であ
り、図５は試料表面上に異物の突起欠陥が存在する場合
に生ずる散乱光の状態を示す線図である。図４に示すよ
うに、カラーフィルタのように多数のパターンが２次元
マトリックス状に配列されている試料表面を走査する
と、パターンであるフィルタ素子の配列方向及びこれと
直交する方向に回折パターンが発生する。これに対し
て、試料表面上に異物が存在する場合、異物を中心にし
て放射状に散乱光が発生する。そして、図５（ａ）に示
すように、異物が保護層によりオーバコートされている
場合、試料表面の高さ方向になだらかに変化する部分か
らほぼ垂直に近い方向に多量の散乱光が発生する。一
方、図５（ｂ）に示すように、異物がオーバコートされ
ていない場合、水平に近い方向に大量の散乱光が放射状
に発生する。
た場合に発生する回折光及び散乱光の状態について説明
する。図４はカラーフィルタの表面に垂直に光ビームを
投射した場合に発生する回折パターンを示す線図であ
り、図５は試料表面上に異物の突起欠陥が存在する場合
に生ずる散乱光の状態を示す線図である。図４に示すよ
うに、カラーフィルタのように多数のパターンが２次元
マトリックス状に配列されている試料表面を走査する
と、パターンであるフィルタ素子の配列方向及びこれと
直交する方向に回折パターンが発生する。これに対し
て、試料表面上に異物が存在する場合、異物を中心にし
て放射状に散乱光が発生する。そして、図５（ａ）に示
すように、異物が保護層によりオーバコートされている
場合、試料表面の高さ方向になだらかに変化する部分か
らほぼ垂直に近い方向に多量の散乱光が発生する。一
方、図５（ｂ）に示すように、異物がオーバコートされ
ていない場合、水平に近い方向に大量の散乱光が放射状
に発生する。
【００２０】一方、走査ビームの径は約５００μｍ程度
であり、ビーム径内に複数のフィルタ素子が含まれるた
め、異物が存在する部分に光ビームが照射されると異物
による散乱光とフィルタ素子による回折光の両方が発生
する。従って、上述した実験結果を考慮すれば、フィル
タ素子による走査方向及びこれと直交する方向の回折光
を除去することにより、異物による散乱光だけを検出す
ることができる。
であり、ビーム径内に複数のフィルタ素子が含まれるた
め、異物が存在する部分に光ビームが照射されると異物
による散乱光とフィルタ素子による回折光の両方が発生
する。従って、上述した実験結果を考慮すれば、フィル
タ素子による走査方向及びこれと直交する方向の回折光
を除去することにより、異物による散乱光だけを検出す
ることができる。
【００２１】上述した認識に基づき、本発明では、垂直
方向の散乱光だけを検出するため、回折光をカットする
遮光マスク９を用い、水平方向の散乱光だけを検出する
ため光ファイバの入射角依存性を利用する。遮光マスク
９は、ビーム走査方向及びこれと直交する方向にそれぞ
れ対応する方向に遮光部分が延在する十字状の遮光マス
クを用いる。この十字状の遮光マスクを第１の光検出器
の前段に配置することにより、異物による散乱光だけを
光検出器に入射させることができる。
方向の散乱光だけを検出するため、回折光をカットする
遮光マスク９を用い、水平方向の散乱光だけを検出する
ため光ファイバの入射角依存性を利用する。遮光マスク
９は、ビーム走査方向及びこれと直交する方向にそれぞ
れ対応する方向に遮光部分が延在する十字状の遮光マス
クを用いる。この十字状の遮光マスクを第１の光検出器
の前段に配置することにより、異物による散乱光だけを
光検出器に入射させることができる。
【００２２】次に、光ファイバを用いる第２の検出系に
ついて説明する。図６は試料上における走査光ビームと
光ファイババンドルの状態を示す線図的斜視図である。
光ビームＬＢは走査軸線Ｌs に沿って試料７の表面を走
査する。この走査軸線Ｌs と対向するように２個の光フ
ァイババンドル７ａ及び７ｂを配置する。光ファイババ
ンドル７ａ及び７ｂは複数の光ファイバをそれぞれ有す
る。各光ファイバは光入射面及び光出射面を有し、光入
射端面は走査軸線Ｌs に沿って直線状に配置し、光出射
端面は光検出器（図示せず）に結合する。そして、光ビ
ームの走査により発生する回折及び散乱光は、光ファイ
バの光入射面に入射し、光ファイバを伝搬し光検出器に
入射する。
ついて説明する。図６は試料上における走査光ビームと
光ファイババンドルの状態を示す線図的斜視図である。
光ビームＬＢは走査軸線Ｌs に沿って試料７の表面を走
査する。この走査軸線Ｌs と対向するように２個の光フ
ァイババンドル７ａ及び７ｂを配置する。光ファイババ
ンドル７ａ及び７ｂは複数の光ファイバをそれぞれ有す
る。各光ファイバは光入射面及び光出射面を有し、光入
射端面は走査軸線Ｌs に沿って直線状に配置し、光出射
端面は光検出器（図示せず）に結合する。そして、光ビ
ームの走査により発生する回折及び散乱光は、光ファイ
バの光入射面に入射し、光ファイバを伝搬し光検出器に
入射する。
【００２３】図７（ａ）は走査軸線Ｌs と光ファイバの
入射端面における光軸との関係を示す線図的平面図であ
り、図７（ｂ）は走査軸線Ｌs の方向から見た光ファイ
ババンドルの配置構成を示す側面図である。図７（ａ）
に示すように、各光ファイバは、その入射端において、
光ファイバの光軸と走査軸線とを含む面内において光軸
の延長線が走査軸線Ｌs と直交すなわち９０°以外の角
度、本例では４５°の角度をなすように配置する。ま
た、図７（ｂ）に示すように、各光ファイバは、その入
射端において、光ビームの光軸と光ファイバの光軸とを
含む面内において、走査ビームの光軸に対して光ファイ
バの光軸が６５°〜８５°の範囲となるように配置す
る。
入射端面における光軸との関係を示す線図的平面図であ
り、図７（ｂ）は走査軸線Ｌs の方向から見た光ファイ
ババンドルの配置構成を示す側面図である。図７（ａ）
に示すように、各光ファイバは、その入射端において、
光ファイバの光軸と走査軸線とを含む面内において光軸
の延長線が走査軸線Ｌs と直交すなわち９０°以外の角
度、本例では４５°の角度をなすように配置する。ま
た、図７（ｂ）に示すように、各光ファイバは、その入
射端において、光ビームの光軸と光ファイバの光軸とを
含む面内において、走査ビームの光軸に対して光ファイ
バの光軸が６５°〜８５°の範囲となるように配置す
る。
【００２４】図５及び図６に示すように、カラーフィル
タの表面を走査すると、フィルタ素子の配列方向及びこ
れと直交する方向に回折光が発生すると共に異物が存在
する場合その異物による散乱光が発生する。これら回折
及び散乱光は共に光ファイバの光入射面に入射する。し
かしながら、光ファイバは所定の受光角の範囲内で入射
した光だけが光ファイバを伝搬し、受光角の範囲よりも
大きな入射角で入射した光は光ファイバを伝搬すること
ができず内部拡散する。この場合、フィルタ素子による
回折光は走査軸線と直交する方向に回折するから、光フ
ァイバの光軸が走査軸線Ｌs に対して９０°以外の角度
で配置されている場合、回折光は光ファイバの光入射面
に大きな入射角で入射するため、ほとんどの回折光が光
ファイバ内部を伝搬せず、途中で拡散してしまう。これ
に対して、異物による散乱光は光ファイバの入射面に比
較的小さな入射角で入射するため、光出射端まで伝搬し
光検出器で受光される。このように、光ファイバの光伝
搬特性における入射角依存性を利用することにより、回
折光を遮光する遮光マスクと同等な効果を達成すること
ができ、この結果散乱光だけを光検出器に入射させるこ
とができる。
タの表面を走査すると、フィルタ素子の配列方向及びこ
れと直交する方向に回折光が発生すると共に異物が存在
する場合その異物による散乱光が発生する。これら回折
及び散乱光は共に光ファイバの光入射面に入射する。し
かしながら、光ファイバは所定の受光角の範囲内で入射
した光だけが光ファイバを伝搬し、受光角の範囲よりも
大きな入射角で入射した光は光ファイバを伝搬すること
ができず内部拡散する。この場合、フィルタ素子による
回折光は走査軸線と直交する方向に回折するから、光フ
ァイバの光軸が走査軸線Ｌs に対して９０°以外の角度
で配置されている場合、回折光は光ファイバの光入射面
に大きな入射角で入射するため、ほとんどの回折光が光
ファイバ内部を伝搬せず、途中で拡散してしまう。これ
に対して、異物による散乱光は光ファイバの入射面に比
較的小さな入射角で入射するため、光出射端まで伝搬し
光検出器で受光される。このように、光ファイバの光伝
搬特性における入射角依存性を利用することにより、回
折光を遮光する遮光マスクと同等な効果を達成すること
ができ、この結果散乱光だけを光検出器に入射させるこ
とができる。
【００２５】第１及び第２の光検出器１０及び２１から
の出力信号は増幅して信号処理回路１２に供給する。信
号処理回路１２では、光検出器１０及び２１からの増幅
された出力信号を順次メモリ（図示せず）に記憶し、水
平同期信号及び垂直同期を用いて順次読み出し信号処理
した後画像信号として出力する。
の出力信号は増幅して信号処理回路１２に供給する。信
号処理回路１２では、光検出器１０及び２１からの増幅
された出力信号を順次メモリ（図示せず）に記憶し、水
平同期信号及び垂直同期を用いて順次読み出し信号処理
した後画像信号として出力する。
【００２６】次に、水平同期信号及び垂直同期の作成プ
ロセスについて説明する。ビーム走査装置４の回転プリ
ズム体５の隣接する２個の光学面によって形成されるエ
ッジ部が光軸Ｌ上に位置すると、エッジ部に入射した光
ビームは光軸Ｌとほぼ直交する方向に反射する。従っ
て、図１に示すように、回転プリズム体のエッジ部が光
軸Ｌ上に位置する点から光軸とほぼ直交する軸線上に別
の光検出器１３を配置し、この光検出器１３により回転
プリズム体のエッジ部からの反射光を受光する。光検出
器１３からはパルス状の出力信号が発生し、この出力信
号を増幅器１４により増幅し、水平同期信号発生回路１
５に供給し、信号処理して水平同期信号を発生させる。
発生した水平同期信号を図４に示す。そして、発生した
水平同期信号を信号処理回路１２に供給する。次に、垂
直同期の作成プロセスについて説明する。試料ステージ
８は紙面と直交する方向に移動する。この試料ステージ
８の移動の限界位置を検出するためステージ位置検出セ
ンサ１６を設ける。この位置検出センサ１６は、例えば
ＬＥＤと光検出器とから成る光電センサとすることがで
きる。或は、試料ステージ８を駆動するモータの回転数
から試料ステージ８の移動限界位置信号を発生させるこ
ともできる。ステージ位置検出センサからの出力信号を
垂直同期信号発生回路１７に供給し、信号処理を施して
垂直同期信号を発生させる。この垂直同期信号を信号処
理回路１２に供給する。
ロセスについて説明する。ビーム走査装置４の回転プリ
ズム体５の隣接する２個の光学面によって形成されるエ
ッジ部が光軸Ｌ上に位置すると、エッジ部に入射した光
ビームは光軸Ｌとほぼ直交する方向に反射する。従っ
て、図１に示すように、回転プリズム体のエッジ部が光
軸Ｌ上に位置する点から光軸とほぼ直交する軸線上に別
の光検出器１３を配置し、この光検出器１３により回転
プリズム体のエッジ部からの反射光を受光する。光検出
器１３からはパルス状の出力信号が発生し、この出力信
号を増幅器１４により増幅し、水平同期信号発生回路１
５に供給し、信号処理して水平同期信号を発生させる。
発生した水平同期信号を図４に示す。そして、発生した
水平同期信号を信号処理回路１２に供給する。次に、垂
直同期の作成プロセスについて説明する。試料ステージ
８は紙面と直交する方向に移動する。この試料ステージ
８の移動の限界位置を検出するためステージ位置検出セ
ンサ１６を設ける。この位置検出センサ１６は、例えば
ＬＥＤと光検出器とから成る光電センサとすることがで
きる。或は、試料ステージ８を駆動するモータの回転数
から試料ステージ８の移動限界位置信号を発生させるこ
ともできる。ステージ位置検出センサからの出力信号を
垂直同期信号発生回路１７に供給し、信号処理を施して
垂直同期信号を発生させる。この垂直同期信号を信号処
理回路１２に供給する。
【００２７】信号処理回路１２では、メモリから読み出
された画像信号、水平同期信号及び垂直同期信号を用い
て信号処理を行ない映像信号を発生し、この映像信号を
欠陥検出回路１８に供給する。欠陥検出回路１８は、比
較器を有し、順次供給されてくる映像信号を基準値と比
較して欠陥の有無を判定する。前述したように、欠陥が
ない場合試料７からの散乱光は遮光マスクによって遮光
され或いは光ファイバにおいて減衰するので映像信号の
強度は低く、一方、突起欠陥がある場合遮光マスクによ
って遮光されない反射光が増大し又は光ファイバを伝搬
する散乱光が増大するため映像信号の強度が増大する。
従って、基準信号と比較するだけで欠陥の有無を検出す
ることができる。この結果、欠陥の存在及び欠陥のアド
レスを正確に判定することができる。
された画像信号、水平同期信号及び垂直同期信号を用い
て信号処理を行ない映像信号を発生し、この映像信号を
欠陥検出回路１８に供給する。欠陥検出回路１８は、比
較器を有し、順次供給されてくる映像信号を基準値と比
較して欠陥の有無を判定する。前述したように、欠陥が
ない場合試料７からの散乱光は遮光マスクによって遮光
され或いは光ファイバにおいて減衰するので映像信号の
強度は低く、一方、突起欠陥がある場合遮光マスクによ
って遮光されない反射光が増大し又は光ファイバを伝搬
する散乱光が増大するため映像信号の強度が増大する。
従って、基準信号と比較するだけで欠陥の有無を検出す
ることができる。この結果、欠陥の存在及び欠陥のアド
レスを正確に判定することができる。
【００２８】本発明は上述した実施例だけに限定されず
種々の変更や変形が可能である。例えば、上述した実施
例では欠陥検査すべき試料としてカラーフィルタを例に
して説明したが、試料表面からの反射光に基いて欠陥情
報が検出される他の種々の試料についても適用すること
ができる。さらに、上述した実施例ではビーム走査装置
の回転プリズム体として互いに平行な光学面を２対有す
る回転プリズム体を用いたが、平行な光学面を２対以上
有する回転プリズム体を用いることもできる。さらに、
上述した実施例では、ビームスプリッタとして偏光ビー
ムスプリッタを用いたが、ハーフミラーのような他のビ
ームスプリッタを用いることもできる。さらに、上述し
た実施例では、光ファイババンドルを２個用いたが、勿
論光ファイババンドルを１個だけ用いる場合でもよく、
或いは３個又は４個等用いることもできる。
種々の変更や変形が可能である。例えば、上述した実施
例では欠陥検査すべき試料としてカラーフィルタを例に
して説明したが、試料表面からの反射光に基いて欠陥情
報が検出される他の種々の試料についても適用すること
ができる。さらに、上述した実施例ではビーム走査装置
の回転プリズム体として互いに平行な光学面を２対有す
る回転プリズム体を用いたが、平行な光学面を２対以上
有する回転プリズム体を用いることもできる。さらに、
上述した実施例では、ビームスプリッタとして偏光ビー
ムスプリッタを用いたが、ハーフミラーのような他のビ
ームスプリッタを用いることもできる。さらに、上述し
た実施例では、光ファイババンドルを２個用いたが、勿
論光ファイババンドルを１個だけ用いる場合でもよく、
或いは３個又は４個等用いることもできる。
【図１】 本発明による欠陥検査装置の一例を示す線図
である。
である。
【図２】 本発明によるビーム偏向装置の一例を示す斜
視図である。
視図である。
【図３】 ビーム偏向状態を示す模式図である。
【図４】 カラーフィルタのフィルタ素子による回折光
の発生状況を示す線図である。
の発生状況を示す線図である。
【図５】 試料上の異物による散乱光の発生を示す線図
である。
である。
【図６】 試料上における走査軸線と光ファイババンド
ルの関係を示す線図である。
ルの関係を示す線図である。
【図７】 走査軸線に対する光ファイバの配列状態を示
す線図である。
す線図である。
１ 光源 ２ 偏光ビームスプリッタ ３ λ／４板 ４ ビーム走査装置 ５ 回転プリズム体 ６ モータ ７ 試料 ８ 試料ステージ ９ 遮光マスク 10，13 光検出器 12 信号処理回路 15 水平同期信号発生回路 16 ステージ位置検出センサ 17 垂直同期信号発生回路 18 欠陥検出回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2F065 AA49 BB02 CC00 FF41 FF48 FF67 GG05 HH04 HH13 JJ05 JJ07 LL03 LL15 LL36 LL37 LL62 MM03 MM16 PP12 QQ23 QQ25 2G051 AA90 AB01 AB07 BA10 BB01 BB20 BC07 CA01 CA07 CB05 CC17 DA06 EA11 EA25 EB01 2H088 FA13 HA12 MA20 4M106 AA01 AA02 BA05 CA41 DB02 DB08 DB16 DB30 DJ03 DJ11
Claims (6)
- 【請求項１】 多数のパターンが規則的に配列されてい
る試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査装置で
あって、 光ビームを発生する光源と、この光ビームを光軸に平行
で光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームに変換
し、変換された光ビームにより欠陥検査すべき試料表面
を走査軸線に沿って走査するビーム走査装置と、光入射
端及び光出射端を有し、試料表面からの散乱光を受光し
光出射端まで伝搬させる複数の光ファイバを有する１個
又はそれ以上の光ファイババンドルと、前記光ファイバ
の光出射端に光学的に結合した光検出器と、光検出器に
接続され、光検出器からの出力信号に基づいて欠陥検出
信号を発生する信号処理回路とを具え、前記光ファイバ
バンドルを、各光ファイバの光入射端が走査軸線と平行
なライン状に配置すると共に、光入射端の光軸と走査軸
線とを含む面内において光入射端の光軸が走査軸線に対
して９０°以外の角度をなすように配置したことを特徴
とする欠陥検査装置。 - 【請求項２】 前記試料を、多数のカラー素子が２次元
マトリックス状に配列ささているカラーフィルタとした
ことを特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。 - 【請求項３】前記光ファイバを、その入射端における光
軸が前記ビーム走査装置のビーム走査軸線に対してほぼ
４５°の角度をなすように配置したことを特徴とする請
求項１に記載の欠陥検査装置。 - 【請求項４】 前記光ファイバの入射端面に入射した光
のうち、所定の受光角の範囲内で入射した回折光又は散
乱光だけが光検出器まで伝搬するように構成したことを
特徴とする請求項１に記載の欠陥検査装置。 - 【請求項５】 前記光ファイバの光入射端における光軸
が、前記ビーム走査装置の光軸と光ファイバの光軸とを
含む面内において、ビーム走査装置の光軸に対して６０
〜８５°の角度をなすことを特徴とする請求項４に記載
の欠陥検査装置。 - 【請求項６】 多数のパターンが規則的に配列されてい
る試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査装置で
あって、 光ビームを発生する光源と、この光ビームを光軸に平行
で光軸からの距離が時間と共に変化する光ビームに変換
し、変換された光ビームにより欠陥検査すべき試料表面
を走査軸線に沿って走査するビーム走査装置と、光入射
端及び光出射端を有し、試料表面からの散乱光を受光し
光出射端まで伝搬させる複数の光ファイバを有する１個
又はそれ以上の光ファイババンドルと、前記光ファイバ
の光出射端に光学的に結合した第１の光検出器と、試料
からの散乱光を前記ビーム走査装置を介して受光する第
２の光検出器と、第２の光検出器とビーム走査装置との
間の光路中に配置され、試料のパターンからの回折光を
遮光する遮光マスクと、前記第１及び第２の光検出器に
接続され、これら光検出器からの出力信号に基づいて欠
陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、前記光フ
ァイババンドルを、各光ファイバの光入射端が走査軸線
と平行なライン状に配置すると共に、光入射端における
光軸と走査軸線とを含む面内において光入射端の光軸が
走査軸線に対して９０°以外の角度をなすように配置し
たことを特徴とする欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28637599A JP4403215B2 (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | 欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28637599A JP4403215B2 (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | 欠陥検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001108638A true JP2001108638A (ja) | 2001-04-20 |
| JP4403215B2 JP4403215B2 (ja) | 2010-01-27 |
Family
ID=17703589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28637599A Expired - Lifetime JP4403215B2 (ja) | 1999-10-07 | 1999-10-07 | 欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4403215B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004040281A1 (ja) * | 2002-10-30 | 2006-03-02 | 凸版印刷株式会社 | 配線パターンの検査装置、検査方法、検出装置および検出方法 |
| WO2013018878A1 (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-07 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
| KR20150083577A (ko) * | 2014-01-10 | 2015-07-20 | 유진인스텍 주식회사 | 조명장치 |
-
1999
- 1999-10-07 JP JP28637599A patent/JP4403215B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2004040281A1 (ja) * | 2002-10-30 | 2006-03-02 | 凸版印刷株式会社 | 配線パターンの検査装置、検査方法、検出装置および検出方法 |
| WO2013018878A1 (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-07 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
| JP2013032996A (ja) * | 2011-08-03 | 2013-02-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 検査装置 |
| US8976347B2 (en) | 2011-08-03 | 2015-03-10 | Hitachi High-Technologies Corporation | Inspection apparatus |
| KR20150083577A (ko) * | 2014-01-10 | 2015-07-20 | 유진인스텍 주식회사 | 조명장치 |
| KR101713374B1 (ko) | 2014-01-10 | 2017-04-06 | 유진인스텍 주식회사 | 조명장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4403215B2 (ja) | 2010-01-27 |
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