JP4822548B2 - 欠陥検査装置 - Google Patents
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Description
本発明の別の目的は、大型のフォトマスクやガラス基板を高速で欠陥検査できる欠陥検査装置を提供することにある。
さらに、本発明の別の目的は、検出された欠陥の種類を自動的に分類できる欠陥検査装置を提供することにある。
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを集束して検査すべき試料に向けて投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置とビーム偏向装置との間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
複数の受光素子を有し、 前記試料表面で反射し、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して入射する試料表面からの反射光を受光する光検出手段と、
光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、
前記微分干渉光学系をノマルスキープリズムで構成し、当該ノマルスキープリズムから出射する常光線と異常光線とが前記ビーム偏向装置の反射面上で交差するように構成したことを特徴とする。
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを検査すべき試料に向けて投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置とビーム偏向装置との間又はビーム偏向装置と対物レンズとの間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
複数の受光素子を有し、 前記試料表面で反射し、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して入射する試料表面からの反射光を受光する光検出手段と、
光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、
前記ビーム偏向装置は、複数の反射面を有するポリゴンミラーで構成され、ポリゴンミラーの回転軸は、入射する断面楕円形の走査ビームの長軸と平行に設定され、
前記信号処理回路は、ポリゴンミラーの1つの反射面の偏向期間中に光検出手段から出力される出力信号と、ポリゴンミラーの1回転前の当該反射面の偏向期間中に光検出手段から出力される出力信号との差分を検出して差分信号を発生する手段と、
差分信号を+Thの閾値で2値化する第1の2値化手段及び差分信号を−Thの閾値で2値化する第2の2値化手段と、
第1及び第2の2値化手段からの出力信号に基づき、検出された欠陥が凸状欠陥であるか又は凹状欠陥であるかを判別する手段とを有することを特徴とする。本発明では、微分干渉光学系を用いて試料表面の凹凸を位相差情報として検出しているので、試料表面の微細なキズやピットを正確に検出することができる。特に、凸状欠陥と凹状欠陥の微分干渉画像は輝度変化が反転しているから、+Thの閾値を有する2値化回路と−Thの閾値を有する2値化回路を用い、検出された欠陥が凹状欠陥であるか又は凸状欠陥であるかを明確に判別することが可能である。
第1の方向に延在する長軸と、長軸と直交する方向に延在する短軸とを有する断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置と、
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを検査すべきガラス基板に向けて、ガラス基板の表面に垂直に投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置と対物レンズとの間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
複数の受光素子を有し、前記ガラス基板の表面で反射した反射光を、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して受光する第1の光検出手段と、
前記ガラス基板に対して対物レンズと同一の側に配置され、ガラス基板から走査ビームの進行方向に対して斜め後方に出射した後方散乱光を検出する第2の光検出手段と、
前記ガラス基板をはさんで対物レンズとは反対側に配置され、ガラス基板の内部に存在する内部欠陥により発生し、ガラス基板の裏面から斜め前方に出射した前方散乱光を、ガラス基板を透過した透過ビームから分離して検出する第3の光検出手段と、
前記第1〜第3の光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、
前記微分干渉光学系をノマルスキープリズムで構成し、当該ノマルスキープリズムから出射する常光線と異常光線とが前記ビーム偏向装置の反射面上で交差するように構成したことを特徴とする。
前記検査ヘッドは、
第1の方向に延在する長軸と、長軸と直交する方向に延在する短軸とを有する断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置と、
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを検査すべきガラス基板に向けて、ガラス基板の表面に対して垂直に投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置と対物レンズとの間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
前記ガラス基板の表面で反射した反射光を、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して受光する第1の光検出手段と、
前記ガラス基板から走査ビームの進行方向に対して斜め後方に出射する後方散乱光を受光する第2の光検出手段とを有し、
前記サブ検査ヘッドは、ガラス基板の内部に存在する内部欠陥により発生し、ガラス基板の裏面から斜め前方に出射した前方散乱光を、ガラス基板を透過した透過ビームから分離して検出する第3の光検出手段を有し、
前記微分干渉光学系はノマルスキープリズムで構成され、当該ノマルスキープリズムから出射する常光線と異常光線とが前記ビーム偏向装置の反射面上で交差するように構成され、
前記信号処理回路は、前記第1〜第3の光検出手段からの出力信号に基づいて、ガラス基板の表面に形成された凹凸欠陥、ガラス基板の表面に存在する異物欠陥、及び、ガラス基板の内部に存在する内部欠陥を検出することを特徴とする。
2 ステージ
3 ガラス基板
4a,4b Yレール
5 Xレール
6 検査ヘッド
7 サブ検査ヘッド
10 レーザ光源
11 エキスパンダ
12 シリンドリカルレンズ
13 偏光ビームスプリッタ
14 ノマルスキープリズム
15 ポリゴンミラー
16 駆動回路
17 光センサ
18 f−θレンズ
19 チューブレンズ
20 対物レンズ
21 集束性レンズ
22〜27 光ファイバ
26a〜26e フォトダイオード
30 第2の光検出手段
31 第3の光検出手段
32 光ファイババンドル
33,36 フォトマルチプライヤ
34 集光レンズ
35 ミラー
50 バンドパスフィルタ
51 A/D変換器
52 遅延メモリ
53 減算器
54,55,60,61,63,64 2値化回路
56,62,64 欠陥判定回路
57 欠陥分類回路
Claims (11)
- 第1の方向に延在する長軸と、長軸と直交する方向に延在する短軸とを有する断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置と、
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを集束して検査すべき試料に向けて投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置とビーム偏向装置との間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
複数の受光素子を有し、前記試料表面で反射し、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して入射する試料表面からの反射光を受光する光検出手段と、
光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、
前記微分干渉光学系をノマルスキープリズムで構成し、当該ノマルスキープリズムから出射する常光線と異常光線とが前記ビーム偏向装置の反射面上で交差するように構成したことを特徴とする欠陥検査装置。 - 第1の方向に延在する長軸と、長軸と直交する方向に延在する短軸とを有する断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置と、
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを検査すべき試料に向けて投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置とビーム偏向装置との間又はビーム偏向装置と対物レンズとの間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
複数の受光素子を有し、前記試料表面で反射し、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して入射する試料表面からの反射光を受光する光検出手段と、
光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、
前記ビーム偏向装置は、複数の反射面を有するポリゴンミラーで構成され、ポリゴンミラーの回転軸は、入射する断面楕円形の走査ビームの長軸と平行に設定され、
前記信号処理回路は、ポリゴンミラーの1つの反射面の偏向期間中に光検出手段から出力される出力信号と、ポリゴンミラーの1回転前の当該反射面の偏向期間中に光検出手段から出力される出力信号との差分を検出して差分信号を発生する手段と、
前記差分信号を+Thの閾値で2値化する第1の2値化手段及び差分信号を−Thの閾値で2値化する第2の2値化手段と、
前記第1及び第2の2値化手段からの出力信号に基づき、検出された欠陥が凸状欠陥であるか又は凹状欠陥であるかを判別する手段とを有することを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項1又は2に記載の欠陥検査装置において、前記光検出手段は、複数の光ファイバと、各光ファイバの出射側にそれぞれ配置したフォトダイオードのアレイとを有し、各光ファイバの光入射面が前記第1の方向と対応する方向に配列されていることを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項1、2又は3に記載の欠陥検査装置において、前記走査ビーム発生装置は、レーザ光源と、レーザ光源から出射したレーザ光を拡大平行ビームに変換するエキスパンダ光学系と、前記第1の方向と直交する第2の方向についてだけ光ビームを集束する作用を有するシリンドリカルレンズとを有することを特徴とする欠陥検査装置。
- パターンが形成されていないガラス基板に存在する欠陥を検出する欠陥検査装置であって、
第1の方向に延在する長軸と、長軸と直交する方向に延在する短軸とを有する断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置と、
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを検査すべきガラス基板に向けて、ガラス基板の表面に垂直に投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置と対物レンズとの間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
複数の受光素子を有し、前記ガラス基板の表面で反射した反射光を、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して受光する第1の光検出手段と、
前記ガラス基板に対して対物レンズと同一の側に配置され、ガラス基板から走査ビームの進行方向に対して斜め後方に出射した後方散乱光を検出する第2の光検出手段と、
前記ガラス基板をはさんで対物レンズとは反対側に配置され、ガラス基板の内部に存在する内部欠陥により発生し、ガラス基板の裏面から斜め前方に出射した前方散乱光を、ガラス基板を透過した透過ビームから分離して検出する第3の光検出手段と、
前記第1〜第3の光検出手段からの出力信号に基づいて欠陥検出信号を発生する信号処理回路とを具え、
前記微分干渉光学系をノマルスキープリズムで構成し、当該ノマルスキープリズムから出射する常光線と異常光線とが前記ビーム偏向装置の反射面上で交差するように構成したことを特徴とする欠陥検査装置。 - 請求項5に記載の欠陥検査装置において、当該欠陥検査装置は、ガラス基板の表面に形成された凹凸欠陥、ガラス基板の表面に存在する異物欠陥、及び、ガラス基板の内部に存在する欠陥を同時に検査することを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項5又は6に記載の欠陥検査装置において、前記第2の光検出手段は、対物レンズの周囲に沿って配列した複数の光ファイバと、光ファイバを伝搬する光を受光する光検出器とを有することを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項5又は6に記載の欠陥検査装置において、前記第2の光検出手段は、前記対物レンズとポリゴンミラーとの間の光路中に配置され、走査ビームを通過させる開口部を有するミラーと、ミラーで反射した後方散乱光を受光する光検出器とを有し、ガラス基板から出射した後方散乱光を対物レンズ及びミラーを介して光検出器により受光することを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項5又は6に記載の欠陥検査装置において、前記第3の光検出手段は、前記ガラス基板を透過した光を受光する集光レンズと、集光レンズの光軸に対して傾斜するように配置され、ガラス基板から出射した透過ビームを通過させる開口部を有するミラーと、ミラーからの反射光を受光する光検出器とを有し、ガラス基板から出射した前方散乱光を前記集光レンズ及びミラーを介して光検出器により受光することを特徴とする欠陥検査装置。
- 請求項5、6、7、8、又は9に記載の欠陥検査装置において、前記信号処理回路は、前記第1〜3の光検出手段からの出力信号に基づいて検出された欠陥を分類する欠陥分類手段を有し、当該分類手段は、第1の光検出手段からの出力信号に基づいて検出された欠陥については、試料表面の傷又は凹凸欠陥と判定し、第2の光検出手段からの出力信号に基づいて検出された欠陥については、ガラス基板表面に付着した異物による異物欠陥と判定し、第3の光検出手段からの出力信号に基づいて検出された欠陥についてはガラス基板内部の欠陥と判定することを特徴とする欠陥検査装置。
- 検査すべきガラス基板を支持するステージと、ステージの両側にそれぞれ配置され、Y方向に延在する2本のYレールと、Yレール上に移動可能に配置され、Y方向と直交するX方向に延在するXレールと、Xレール上に移動可能に装着され、検査光学系が搭載されている検査ヘッドと、前記Xレールを駆動する駆動機構と、前記検査ヘッドを駆動する駆動機構と、ガラス基板をはさんで検査ヘッドとは反対側に配置され、前記検査ヘッドと同期して移動するサブ検査ヘッドと、信号処理回路とを具え、
前記検査ヘッドは、
第1の方向に延在する長軸と、長軸と直交する方向に延在する短軸とを有する断面がほぼ楕円形をした走査ビームを発生する走査ビーム発生装置と、
入射する走査ビームの楕円形断面の長軸と平行な回転軸及び当該回転軸のまわりで回転する1個又は複数個の反射面を有し、入射する走査ビームを周期的に偏向するビーム偏向装置と、
ビーム偏向装置から出射した走査ビームを検査すべきガラス基板に向けて、ガラス基板の表面に対して垂直に投射する対物レンズと、
前記走査ビーム発生装置と対物レンズとの間の光路中に配置した微分干渉光学系と、
前記ガラス基板の表面で反射した反射光を、前記対物レンズ、ビーム偏向装置及び微分干渉光学系を介して受光する第1の光検出手段と、
前記ガラス基板から走査ビームの進行方向に対して斜め後方に出射する後方散乱光を受光する第2の光検出手段とを有し、
前記サブ検査ヘッドは、ガラス基板の内部に存在する内部欠陥により発生し、ガラス基板の裏面から斜め前方に出射した前方散乱光を、ガラス基板を透過した透過ビームから分離して検出する第3の光検出手段を有し、
前記微分干渉光学系はノマルスキープリズムで構成され、当該ノマルスキープリズムから出射する常光線と異常光線とが前記ビーム偏向装置の反射面上で交差するように構成され、
前記信号処理回路は、前記第1〜第3の光検出手段からの出力信号に基づいて、ガラス基板の表面に形成された凹凸欠陥、ガラス基板の表面に存在する異物欠陥、及び、ガラス基板の内部に存在する内部欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査装置。
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