JP2001039100A - 偽造防止方法及び偽造防止媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】潜像２３を偽造防止に用いる際に、真偽判定が
多回数可能であり、耐性、画像の精細さの点で制約され
ず、特定の検出装置を必要とせず、真偽判定を容易に行
うことができる偽造防止方法及び偽造防止媒体１を提供
すること。 【解決手段】光反射層１２上に潜像形成層１３が設けら
れた媒体の該潜像形成層に、偏光フィルムを介した目視
によって視認可能な且つ偏光フィルムを介さない目視に
よって視認不能又は視認困難なように、配向を利用して
形成された潜像を設けた媒体１を用いたこと。及びその
媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、隠し文字や隠しパ
ターンを表示させることを目的とした潜像を用いた偽造
防止方法及び媒体に関するものであり、特に、偽造品か
否かの真偽判定を容易に行うことができる偽造防止方法
及び偽造防止媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から潜像を偽造防止に用いた方法は
種々ある。例えば、 １）万線のピッチの隙間を利用して隠し文字等を入れ、
万線部分を隠蔽することで隠し文字が現れる万線画、 ２）透明インキメジウム中にフィラーを入れたものを印
刷し、鉛筆でその部分を擦ると鉛筆の粉が印刷部分に付
着して隠し文字が現れる鉛筆出し印刷（デコマット）が
ある。しかし、これらの潜像は、よく見ると解読されて
しまうため、本格的な潜像を利用した偽造防止方法とい
うよりは、遊び用として使用されている。

【０００３】３）熱をかけることによって発色する、白
色もしくは無色透明な不可逆性感熱発色インキを用いて
潜像を形成する方法は、潜像を表示させるためには熱源
装置が必要であり、潜像を一回表示させたものを消色す
ることはできないため用途が限定される。 ４）酸化チタン等の金属よりも硬いフィラーを含有させ
た白色インキを、白色の紙に印刷しコイン等で擦ること
により潜像を表示させる方法は、マット調のニスを設け
ることにより目視で見えなくするものであるが、その潜
像を表示できるのは一回限りであるので用途が限定され
る。すなわち、上記３）、４）の方法は、一回限りの用
途に限定されるものである。

【０００４】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法として、 ５）可逆性感熱発色インキ（サーモクロミックインキ）
を用いた方法がある。サーモクロミックインキは熱をか
けることにより可逆的に発色もしくは消色し、しばらく
放置すると元の状態に戻るものである。このインキは潜
像として、もしくは画像を隠蔽するために使われている
が、耐性とくに耐熱性が弱いため用途が限定される。 ６）フォトクロミックインキは、光、特に紫外線を照射
することにより発色するインキであり、白色もしくは無
色透明のインキとして用いることより、潜像として利用
されているが、耐性とくに耐光性が弱いため用途が限定
されている。 ７）蛍光インキは紫外線を照射することにより発光する
インキであり、白色または無色透明のインキとして用い
ることより、潜像として利用されている。そして、蛍光
インキには有機タイプと無機タイプがある。有機タイプ
は印刷インキ中にごく少量含有するだけで発光が確認さ
れるが、耐光性が弱いため用途が限定される。また、無
機タイプは印刷インキ中に大量に含有させる必要があり
（１０〜２０％程度）、潜像としては目視で可視され易
いため、利用する際にはデザイン等に工夫が必要であ
る。すなわち、上記５）、６）、７）の方法は、耐性の
点で制約されるものである。

【０００５】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法の他の方法として、８）網点や万線のモアレ
（干渉縞）を利用して潜像を形成する方法がある。この
方法は、網点や万線のピッチもしくは角度を部分的に変
えた潜像を形成し、この潜像に整然と並んだ網点もしく
は万線の透明フィルムを重ねることで画像が出現するも
のである。この方法は、この透明フィルムで簡単に繰り
返しの表示が可能であり、耐性の点でも制約されない
が、複雑な画像を形成できないという問題がある。

【０００６】また、繰り返し表示が可能な潜像による偽
造防止方法の別な他の方法として、 ９）磁性インキによる潜像を用いた方法がある。これは
磁気記録可能な保持力（約３００Ｏｅ以上）のある磁性
層をパターン状に磁化させることで潜像の形成を行い、
磁性層上に鉄粉をふりかけることで磁化されている部分
を画像として表示する方法である。しかし、この方式
は、潜像の書き換えて偽造することが容易に可能であ
り、また、潜像を表示させる工程が煩雑で特定の検出装
置が必要である。 １０）赤外光を吸収するインキにて潜像を形成し、この
潜像上に可視光を透過させず赤外光を透過させる層を設
ける方法がある。しかし、この潜像を表示させるために
は赤外線カメラ等が必要であり、装置が大がかりとな
る。また、可視領域では白色もしくは無色であるが、赤
外領域に吸収のあるインキ（ＩＶインキ）を用いた方法
もあるが、これも同様に赤外線カメラ等が必要である。

【０００７】すなわち、上記９）、１０）の方法は、繰
り返し表示が可能な方法であり、且つ、耐性、画像の精
細さの点で制約されないが、潜像の表示に特定の検出装
置が必要となるものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように、上記の潜
像を偽造防止に用いた方法は、各々が異なった問題点を
有している。本発明は、上記の問題点を解決したもので
あり、潜像を偽造防止に用いる際に、真偽判定が多回数
可能であり、耐性、画像の精細さの点で制約されず、且
つ、その判読に特定の検出装置を必要としない、偽造か
否かの真偽判定を容易に行うことができる偽造防止方法
及び偽造防止媒体を提供することを課題とするものであ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、光反射層上に
潜像形成層が設けられた媒体の該潜像形成層に、偏光フ
ィルムを介した目視によって視認可能な且つ偏光フィル
ムを介さない目視によって視認不能又は視認困難なよう
に、配向を利用して形成された潜像を設けた媒体を用い
ることを特徴とする偽造防止方法である。

【００１０】また、本発明は、光反射層上に潜像形成層
が設けられた媒体の該潜像形成層に、偏光フィルムを介
した目視によって視認可能な且つ偏光フィルムを介さな
い目視によって視認不能又は視認困難なように、配向を
利用して形成された潜像を設けてあることを特徴とする
偽造防止媒体である。

【００１１】また、本発明は、上記発明による偽造防止
媒体において、前記潜像形成層の材料が、外力によって
配向されることにより形成可能な潜像を設けることが可
能な高分子材料であることを特徴とする偽造防止媒体で
ある。また、本発明は、上記発明による偽造防止媒体に
おいて、前記潜像形成層の材料が、高分子液晶材料であ
ることを特徴とする偽造防止媒体である。

【００１２】また、本発明は、上記発明による偽造防止
媒体において、前記高分子液晶材料が、サーモトロピッ
ク性を示す高分子液晶材料であり、前記潜像は加熱・加
圧により配向させて設けたことを特徴とする偽造防止媒
体である。また、本発明は、上記発明による偽造防止媒
体において、前記光反射層下に基材を設けたことを特徴
とする偽造防止媒体である。

【００１３】また、本発明は、上記発明による偽造防止
媒体において、前記潜像形成層上に保護層を設けたこと
を特徴とする偽造防止媒体である。また、本発明は、上
記発明による偽造防止媒体において、前記偏光フィルム
が円偏光フィルムであることを特徴とする偽造防止媒体
である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき説
明する。図１は本発明による偽造防止媒体の一実施例を
示す平面図である。図２は、図１におけるＸ−Ｘ’断面
で一実施例を示す断面図である。図１及び図２に示すよ
うに、偽造防止媒体（１）は、光反射層（１２）上に潜
像形成層（１３）が設けられたものである。図２におい
て、（２３）は、潜像形成層（１３）の一部分であり、
偏光フィルムを介した目視によって視認可能な且つ偏光
フィルムを介さない目視によって視認不能又は視認困難
なように、配向を利用して形成された部分（潜像）であ
る。この潜像形成層を選択的に配向させることによっ
て、配向部と非配向部による像様を呈することができ
る。尚、必要ならベタ状に配向させてもよい。

【００１５】この潜像（２３）は、潜像形成層（１３）
の一部が画像パターン状に熱、電気、磁気エネルギー等
で配向された部分である。図１において、偽造防止媒体
（１）は、偏光フィルムを介さない目視では潜像（２
３）が確認できず単なる光反射媒体にしか見えないもの
である。

【００１６】図３は、図１に示す偽造防止媒体の一実施
例の潜像（２３）を判読する際の状態を示す平面図であ
る。また、図４は、図３におけるＸ−Ｘ’断面で示す潜
像（２３）を判読する際の状態を示す断面図である。図
３及び図４に示すように、偽造防止媒体（１）の上方に
偏光フィルム（１４）を重ねて偏光フィルム（１４）を
介して目視することにより、潜像（２３）が視認可能な
画像（２３’）となるものである。

【００１７】図５は、本発明による偽造防止媒体を判読
する際の光路の状態を概念的に説明した図である。図５
に示すように、光源（５８）からの白色光（５６）は偏
光フィルム（１４）を透過して直線偏光となり、潜像形
成層の一部分である画像パターン状に配向された潜像
（２３）部を透過して楕円偏光に変わり、光反射層（１
２）により反射され、再度偏光フィルム（１４）を透過
して反射光（５７）となる。

【００１８】この反射光（５７）は、波長によって光の
強さが異なるため、多彩な色相を有する反射光が得られ
る。また、偏光フィルムの配向方向と潜像形成層の配向
方向との角度によっても見える色相が異なってくる。潜
像形成層の他の部分である画像パターン状に配向されな
い部分（図示せず）を透過した直線偏光は、楕円偏光に
変わらず光反射層（１２）により反射され、再度偏光フ
ィルム（１４）を透過して白色の反射光となるものであ
る。

【００１９】図６は、図２に示す偽造防止媒体（１）の
潜像形成層（１３）上に保護層（１５）を、光反射層
（１２）下に基材（１１）を設けた偽造防止媒体の一例
を示す断面図である。保護層（１５）は、潜像形成層
（１３）を外傷から保護し、また画像形成時の熱圧から
画像形成痕による潜像の視認を防ぐ役割を持つものであ
る。また、基材（１１）は、光反射層（１２）及び潜像
形成層（１３）を支持し強度を補強する役割を持つもの
である。

【００２０】基材（１１）としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等の
合成樹脂のフィルム、天然樹脂のフィルム、合成紙、
紙、ガラス板などを単独で、または、組み合わされた複
合体等で使用することが可能である。

【００２１】光反射層（１２）としては、光反射性を有
するものであれば特に限定されるものではなく、各種金
属、合金等の蒸着膜、スパッタリング膜等を用いること
ができる。例えば、金属としてＡｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃ
ｕ、Ａｇ等があげられ、合金としてはＰｔ−Ｒｈ、Ｎｉ
−Ｃｒ等があげられる。

【００２２】潜像形成層（１３）としては、ポリオレフ
ィン系、ポリエステル系等の高分子材料があげられる。
また、高分子液晶としては、８０〜２００℃程度の融点
を有し、サーモトロピック性を示すものが好ましく、例
えば、ポリエステル共重合体、ポリエーテル、ポリカー
ボネイト、ポリイソシアネート、ポリグルタミン酸エス
テル等のサーモトロピック性を示す高分子材料があげら
れる。この高分子液晶層となるサーモトロピック性を示
す高分子材料は、例えば、グラビア印刷法、スクリーン
印刷法、ノズルコーター法等の既知の塗布手段により形
成することができる。この高分子液晶層は、塗布した通
常の状態では特定の結晶構造を有してないランダムな分
子状態に形成されている。

【００２３】偏光フィルム（１４）としては、ＰＶＡ延
伸フィルムにヨードを吸収させたＰＶＡ−ヨウ素型、二
色性染料型、金属または金属化合物含有型、ポリエン型
などの高分子多結晶型があげられる。特に、ＰＶＡ−ヨ
ウ素型、二色性染料型が好ましいものである。尚、円偏
光フィルムは、前記偏光フィルム（１４）に１／４波長
位相差フィルムを重ねたフィルムが代表例である。

【００２４】潜像（２３）は、潜像形成層（１３）が
熱、圧、引っ掻き、摩擦、光、電気、磁気等の外力によ
って一定方向に配向された部分であって、潜像形成層を
選択的に配向させることによって、配向部と非配向部に
よる像様を呈することができる。潜像の形成方法として
は、例えば、ホットスタンプ、サーマルヘッド、レーザ
ー等による加熱、ブラシ、サンドペーパー、サンドブラ
スト等による引っ掻きが可能である。

【００２５】保護層（１５）としては、例えば、アクリ
ル系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル樹脂−酢酸ビニ
ル共重合樹脂、ポリエステル系樹脂、メラミン系樹脂、
エポキシ系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド樹脂
等の従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線ま
たは電子線硬化樹脂を単独、或いは、混合物にして用い
ることができる。

【００２６】また、サーマルヘッド等による画像形成時
の印字痕防止のために、樹脂を架橋する硬化剤、ポリエ
チレンワッス、カルナバワックス、シリコンワックス等
のワックス類、或いは、炭酸カルシウム、ステアリン酸
亜鉛、シリカ、アルミナ、タルク等の体質顔料、或いは
シリコ−ン油脂等の油脂類を、透明性を損なわない範囲
で添加することができる。この保護層（１５）に用いる
樹脂は、例えば、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、
オフセット印刷法、フレキソ印刷法等の印刷手段、及び
ノズルコーター法等の既知の塗布手段により塗工するす
ることができる。

【００２７】

【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する。 ＜実施例１＞厚さ５０μｍのポリプロピレンシートの片
面にＡｌを真空蒸着法にて約６０ｎｍ成膜して光反射層
を形成し、他面にナイロンブラシで一方向に擦り、全面
に偏光性を持たせた。この面の偏光性を残したい部分を
スクリーン印刷を用いてアクリル樹脂でマスキングした
後、先に擦った方向と直角方向にナイロンブラシで擦っ
て、マスキングされていない部分の偏光性を消滅させた
後、アクリル樹脂を剥がした。

【００２８】得られた偽造防止媒体は偏光フィルムを介
さない目視では潜像が全く視認できず、単なる金属蒸着
フィルムに見えたが、偏光フィルムを介した目視では潜
像のパターンが出現し良好な画像を視認できた。

【００２９】＜実施例２＞基材としての１００μｍのＰ
ＥＴフィルムを用い、実施例１で作製した偽造防止媒体
をＡｌ蒸着側からラミネートし強度を持せた。そして、
潜像を形成した面に紫外線硬化型インキを用いてオフセ
ット印刷にて３μｍ塗布し、紫外線ランプにて硬化させ
潜像を保護した。

【００３０】得られた偽造防止媒体は、偏光フィルムを
介さない目視では潜像が全く視認できず、単なる金属蒸
着フィルムに見えたが、円偏光フィルムを介した目視で
は潜像のパターンが出現し良好な画像を視認できた。

【００３１】＜実施例３＞厚さ５０μｍのＰＥＴ基材上
にＡｌを真空蒸着法にて約６０ｎｍの金属膜として成膜
し光反射層を得た。この上に潜像形成層として、サーモ
トロピック性高分子材料インキを用いグラビア法にて形
成した。乾燥温度は６０℃、塗布厚は０．５μｍであっ
た。この潜像形成層上に、アンカーメジウムをオフセッ
ト印刷法にて約１μｍ印刷塗工し、更に、トップコート
ニスをオフセット印刷法にて約２μｍ印刷塗工し保護層
を得た。

【００３２】このようにして得られた偽造防止媒体の潜
像形成層に潜像のパターンの形成を行うため、１２０
℃、０．２秒間ホットスタンプにて熱圧をかけて配向を
行い、潜像を形成した偽造防止媒体を得た。得られた潜
像を形成した偽造防止媒体は、偏光フィルムを介さない
目視では潜像画像が全く視認できず、単なる金属蒸着フ
ィルムに見えるが、偏光フィルムを介した目視により潜
像のパターンが鮮明に出現し良好な画像を視認できた。

【００３３】用いたサーモトロピック性高分子材料イン
キの組成を以下に示す。 高分子液晶（キラコールＰＬＣ−７００３：旭電化工業（株）製） ２０重量部 テトラヒドロフラン ４０重量部 トルエン ４０重量部 また、アンカーメジウム、及びトップコートニスは、各
々以下のものを用いた。 アンカーメジウム：ＦＤＳメジウムＴＰロ（東洋インキ
製造（株）製） トップコートニス：マットＯＰニス３Ｈ（（株）Ｔ＆Ｋ
ＴＯＫＡ社製）

【００３４】＜実施例４＞実施例３と同様にして得られ
た偽造防止媒体の潜像形成層にに潜像のパターンの形成
を行うため、サーマルヘッド印字により配向を行い、潜
像を形成した偽造防止媒体を得た。得られた潜像を形成
した偽造防止媒体は、円偏光フィルムを介さない目視で
は潜像が全く視認できず、単なる金属蒸着フィルムに見
えるが、円偏光フィルムを介した目視により潜像のパタ
ーンが角度に依存せず鮮明に出現し良好な画像を視認で
きた。また、この潜像のパターンはサーマルヘッド印字
により形成されているので、任意のパターンを形成する
ことができる。

【００３５】

【発明の効果】本発明は、偽造防止に潜像を用いた媒体
の偽造防止方法において、光反射層上に潜像形成層が設
けられた媒体の該潜像形成層に、偏光フィルムを介した
目視によって視認可能な且つ偏光フィルムを介さない目
視によって視認不能又は視認困難なように、配向を利用
して形成された潜像を設けた媒体を用いた偽造防止方法
であるので、偽造か否かの真偽判定が多回数可能であ
り、耐性、画像の精細さの点で制約されず、且つ、その
判読に特定の検出装置を必要としない、偽造か否かの真
偽判定を容易に行うことができる偽造防止方法となる。

【００３６】また、本発明は、偽造防止に潜像を用いた
媒体において、光反射層上に潜像形成層が設けられた媒
体の該潜像形成層に、偏光フィルムを介した目視によっ
て視認可能な且つ偏光フィルムを介さない目視によって
視認不能又は視認困難なように、配向を利用して形成さ
れた潜像を設けたので、偽造か否かの真偽判定が多回数
可能であり、耐性、画像の精細さの点で制約されず、且
つ、その判読に特定の検出装置を必要としない、偽造か
否かの真偽判定を容易に行うことができる偽造防止媒体
となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による偽造防止媒体の一実施例を示す平
面図である。

【図２】図１におけるＸ−Ｘ’断面で一実施例を示す断
面図である。

【図３】図１に示す偽造防止媒体の一実施例の潜像を判
読する際の状態を示す平面図である。

【図４】図３におけるＸ−Ｘ’断面で示す潜像を判読す
る際の状態を示す断面図である。

【図５】本発明による偽造防止媒体を判読する際の光路
の状態を概念的に説明した図である。

【図６】図２に示す偽造防止媒体の潜像形成層上に保護
層を、光反射層下に基材を設けた偽造防止媒体の一例を
示す断面図である。

【符号の説明】

１‥‥偽造防止媒体 １１‥‥基材 １２‥‥光反射層 １３‥‥潜像形成層 １４‥‥偏光フィルム １５‥‥保護層 ２３‥‥潜像 ２３’‥‥視認可能な画像 ５６‥‥白色光 ５７‥‥反射光 ５８‥‥光源

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光反射層上に潜像形成層が設けられた媒体
   の該潜像形成層に、偏光フィルムを介した目視によって
   視認可能な且つ偏光フィルムを介さない目視によって視
   認不能又は視認困難なように、配向を利用して形成され
   た潜像を設けた媒体を用いることを特徴とする偽造防止
   方法。
2. 【請求項２】光反射層上に潜像形成層が設けられた媒体
   の該潜像形成層に、偏光フィルムを介した目視によって
   視認可能な且つ偏光フィルムを介さない目視によって視
   認不能又は視認困難なように、配向を利用して形成され
   た潜像を設けてあることを特徴とする偽造防止媒体。
3. 【請求項３】前記潜像形成層の材料が、外力によって配
   向されることにより形成可能な潜像を設けることが可能
   な高分子材料であることを特徴とする請求項２記載の偽
   造防止媒体。
4. 【請求項４】前記潜像形成層の材料が、高分子液晶材料
   であることを特徴とする請求項２記載の偽造防止媒体。
5. 【請求項５】前記高分子液晶材料が、サーモトロピック
   性を示す高分子液晶材料であり、前記潜像は加熱・加圧
   により配向させて設けたことを特徴とする請求項４記載
   の偽造防止媒体。
6. 【請求項６】前記光反射層下に基材を設けたことを特徴
   とする請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の偽
   造防止媒体。
7. 【請求項７】前記潜像形成層上に保護層を設けたことを
   特徴とする請求項２乃至請求項６のいずれか１項に記載
   の偽造防止媒体。
8. 【請求項８】前記偏光フィルムが円偏光フィルムである
   ことを特徴とする請求項２乃至請求項７のいずれか１項
   に記載の偽造防止媒体。