JP2001026460A - 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸処理により容易に高清浄度、高平滑性が得
られる情報記録媒体用ガラス基板を提供する 【解決手段】 酸処理後のアルカリ洗浄において基板の
平滑性（表面平均粗さ）をＲa＜０．３ｎｍに保つため
には、耐酸性の指標として、基板用ガラスの温度50℃に
おける0.1重量％フッ酸水溶液によるエッチングレート
が45nm／min以下であることが必要である。
られる情報記録媒体用ガラス基板を提供する 【解決手段】 酸処理後のアルカリ洗浄において基板の
平滑性（表面平均粗さ）をＲa＜０．３ｎｍに保つため
には、耐酸性の指標として、基板用ガラスの温度50℃に
おける0.1重量％フッ酸水溶液によるエッチングレート
が45nm／min以下であることが必要である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク等の
情報記録媒体用ガラス基板のうち、特に、表面平滑性に
優れた高耐酸性ガラス基板に関する。
情報記録媒体用ガラス基板のうち、特に、表面平滑性に
優れた高耐酸性ガラス基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】情報記録媒体用の基板として、一般には
アルミニウム基板が用いられる。しかし、アルミニウム
基板は表面の平滑性を上げることが困難な面があり、高
密度記録用のディスクには不適である。そこで、表面硬
度が高く、研磨により高い平滑性を得られるガラス基板
が用いられている。
アルミニウム基板が用いられる。しかし、アルミニウム
基板は表面の平滑性を上げることが困難な面があり、高
密度記録用のディスクには不適である。そこで、表面硬
度が高く、研磨により高い平滑性を得られるガラス基板
が用いられている。
【０００３】情報記録媒体用ガラス基板は、溶融した原
料をフロート成形、ロッド成形、プレス成形などの方法
により成形し、必要であれば所定の形状に切断した後
に、研磨により厚み、表面平滑性を所定の範囲に調整し
て作製される。さらに、必要に応じてイオン交換などの
強化処理が行われる。従って、基板の表面には研磨剤を
主とした微小な異物が付着している。これらの異物は通
常の洗浄では完全には除去できないが、従来は大きな問
題とはならなかった。しかし今後、媒体の高密度化に伴
い、情報記録媒体ヘッドと記録媒体の間隙がより狭くな
り、微小な異物であってもヘッドと衝突してエラーやク
ラッシュの原因になるため、これらをより完全に除去す
る必要がある。これは容易ではないが、硫酸、フッ酸
等、酸を用いて付着物を溶解、または基板表面をエッチ
ングすれば効率的に実施できる。
料をフロート成形、ロッド成形、プレス成形などの方法
により成形し、必要であれば所定の形状に切断した後
に、研磨により厚み、表面平滑性を所定の範囲に調整し
て作製される。さらに、必要に応じてイオン交換などの
強化処理が行われる。従って、基板の表面には研磨剤を
主とした微小な異物が付着している。これらの異物は通
常の洗浄では完全には除去できないが、従来は大きな問
題とはならなかった。しかし今後、媒体の高密度化に伴
い、情報記録媒体ヘッドと記録媒体の間隙がより狭くな
り、微小な異物であってもヘッドと衝突してエラーやク
ラッシュの原因になるため、これらをより完全に除去す
る必要がある。これは容易ではないが、硫酸、フッ酸
等、酸を用いて付着物を溶解、または基板表面をエッチ
ングすれば効率的に実施できる。
【０００４】化学強化に適したガラス組成として、特公
昭46−4271号公報には、重量分率で、1〜5％のＭgＯ、0
〜5％のＫ2Ｏ、5〜25％のＮa2Ｏ、5〜25％のＡl2Ｏ3＋
ＺrＯ2および、ＳiＯ2から成り、これらの合計が組成全
体の80％以上である化学的強化ガラスについて開示され
ている。しかし、この先行技術に示されたガラスは耐酸
性が悪く、異物除去のために酸処理を用いることはでき
ない。
昭46−4271号公報には、重量分率で、1〜5％のＭgＯ、0
〜5％のＫ2Ｏ、5〜25％のＮa2Ｏ、5〜25％のＡl2Ｏ3＋
ＺrＯ2および、ＳiＯ2から成り、これらの合計が組成全
体の80％以上である化学的強化ガラスについて開示され
ている。しかし、この先行技術に示されたガラスは耐酸
性が悪く、異物除去のために酸処理を用いることはでき
ない。
【０００５】耐酸性を向上させた化学強化ガラスとし
て、特開平5−32431号公報には、重量分率で、62〜75％
のＳiＯ2、5〜15％のＡl2Ｏ3、4〜10％のＬi2Ｏ、4〜12
％のＮa2Ｏ、5.5〜15％のＺrＯ2を含み、Ｎa2Ｏ／ＺrＯ
2の重量比が0.5〜2.0、Ａl2Ｏ3／ＺrＯ2の重量比が0.4
〜2.5である化学強化ガラスについて開示されている。
しかし、この特許では表面凹凸と耐酸性の因果関係は示
されていない。さらには、この先行技術に記載のガラス
は、ＺrＯ2を多量に含むため、ＺrＯ2が微細な結晶とな
ってガラス中に析出しやすく、これが研磨後の表面に突
出し、エラーやヘッドクラッシュの原因になるおそれが
ある。
て、特開平5−32431号公報には、重量分率で、62〜75％
のＳiＯ2、5〜15％のＡl2Ｏ3、4〜10％のＬi2Ｏ、4〜12
％のＮa2Ｏ、5.5〜15％のＺrＯ2を含み、Ｎa2Ｏ／ＺrＯ
2の重量比が0.5〜2.0、Ａl2Ｏ3／ＺrＯ2の重量比が0.4
〜2.5である化学強化ガラスについて開示されている。
しかし、この特許では表面凹凸と耐酸性の因果関係は示
されていない。さらには、この先行技術に記載のガラス
は、ＺrＯ2を多量に含むため、ＺrＯ2が微細な結晶とな
ってガラス中に析出しやすく、これが研磨後の表面に突
出し、エラーやヘッドクラッシュの原因になるおそれが
ある。
【０００６】また、特開昭62−187140号公報には、重量
分率で、64〜70％のＳiＯ2、14〜20％のＡl2Ｏ3、4〜6
％のＬi2Ｏ、7〜10％のＮa2Ｏ、0〜4％のＭgＯ、0〜1.5
％のＺrＯ2からなる化学強化ガラスについて開示されて
いる。しかし、この先行技術においても、表面凹凸と耐
酸性の因果関係は何ら示されていない。
分率で、64〜70％のＳiＯ2、14〜20％のＡl2Ｏ3、4〜6
％のＬi2Ｏ、7〜10％のＮa2Ｏ、0〜4％のＭgＯ、0〜1.5
％のＺrＯ2からなる化学強化ガラスについて開示されて
いる。しかし、この先行技術においても、表面凹凸と耐
酸性の因果関係は何ら示されていない。
【０００７】特開平9−22525号公報には、磁気ディスク
用ガラス基板の製造方法として、強化処理液から引き上
げたガラス基板を酸を含む溶液で洗浄する工程が開示さ
れている。しかし、この先行技術は化学強化塩のみの除
去を目的としている。さらに、この特許は、基板が必要
とする耐酸性については何ら触れておらず、更に、本特
許で問題としているレベルの表面平滑性に関する示唆も
記載も認められない。
用ガラス基板の製造方法として、強化処理液から引き上
げたガラス基板を酸を含む溶液で洗浄する工程が開示さ
れている。しかし、この先行技術は化学強化塩のみの除
去を目的としている。さらに、この特許は、基板が必要
とする耐酸性については何ら触れておらず、更に、本特
許で問題としているレベルの表面平滑性に関する示唆も
記載も認められない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明では、酸処理に
より容易に高清浄度、高平滑性が得られる情報記録媒体
用ガラス基板、当該情報記録媒体用ガラス基板の製造方
法および当該製造方法によって得られる情報記録媒体を
提供することを目的とする。
より容易に高清浄度、高平滑性が得られる情報記録媒体
用ガラス基板、当該情報記録媒体用ガラス基板の製造方
法および当該製造方法によって得られる情報記録媒体を
提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、少なくとも一面側を記録面とした情報記録媒体
用ガラス基板において、このガラス基板の耐酸性は、温
度５０℃、濃度０．１wt％のフッ酸に接触させた時のエ
ッチングレートが４５ｎｍ／ｍｉｎ以下で、且つガラス
基板の少なくとも記録面の平均面粗さ（Ｒa）は、Ｒa＜
０．３ｎｍとした情報記録媒体である。
発明は、少なくとも一面側を記録面とした情報記録媒体
用ガラス基板において、このガラス基板の耐酸性は、温
度５０℃、濃度０．１wt％のフッ酸に接触させた時のエ
ッチングレートが４５ｎｍ／ｍｉｎ以下で、且つガラス
基板の少なくとも記録面の平均面粗さ（Ｒa）は、Ｒa＜
０．３ｎｍとした情報記録媒体である。
【００１０】ガラスを酸によりエッチングすると、ガラ
スの成分は一様に溶解するのではなく、酸に弱い成分が
優先的に溶出し、次いで酸に強い成分が徐々に溶出す
る。ここで酸に弱い成分とはアルカリ、アルカリ土類、
アルミナ等であり、酸に強い成分はシリカ、ジルコニ
ア、チタニアなどである。従って、酸で処理したガラス
の表面を微視的に見ると、主にシリカ、ジルコニア、チ
タニア等の網目構造からなる多孔質層が形成される。こ
の状態の基板に対し、前記多孔質層や油脂などの除去を
目的としたアルカリ洗浄を行うと、耐酸性の低い基板で
は、前記多孔質層が厚く形成されており、アルカリ処理
により前記多孔質層が不均一に溶解するため、小孔が顕
在化して表面に凹凸が発生し、情報記録媒体に必要な平
滑性を保つことができない。本発明では、酸処理後のア
ルカリ洗浄において基板の平滑性（表面平均粗さ）をＲ
a＜０．３ｎｍに保つためには、耐酸性の指標として、
基板用ガラスの温度50℃における0.1重量％フッ酸水溶
液によるエッチングレートが45nm／min以下でなくては
ならないことを見出した。
スの成分は一様に溶解するのではなく、酸に弱い成分が
優先的に溶出し、次いで酸に強い成分が徐々に溶出す
る。ここで酸に弱い成分とはアルカリ、アルカリ土類、
アルミナ等であり、酸に強い成分はシリカ、ジルコニ
ア、チタニアなどである。従って、酸で処理したガラス
の表面を微視的に見ると、主にシリカ、ジルコニア、チ
タニア等の網目構造からなる多孔質層が形成される。こ
の状態の基板に対し、前記多孔質層や油脂などの除去を
目的としたアルカリ洗浄を行うと、耐酸性の低い基板で
は、前記多孔質層が厚く形成されており、アルカリ処理
により前記多孔質層が不均一に溶解するため、小孔が顕
在化して表面に凹凸が発生し、情報記録媒体に必要な平
滑性を保つことができない。本発明では、酸処理後のア
ルカリ洗浄において基板の平滑性（表面平均粗さ）をＲ
a＜０．３ｎｍに保つためには、耐酸性の指標として、
基板用ガラスの温度50℃における0.1重量％フッ酸水溶
液によるエッチングレートが45nm／min以下でなくては
ならないことを見出した。
【００１１】本発明において酸性の薬液は、研磨剤自体
を溶解するか、もしくはガラス基板表面をエッチングす
ることにより、研磨剤を除去する役割を果たす。無機酸
ではフッ酸、フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合物、
塩酸、硫酸、硝酸、リン酸など、有機酸ではスルファミ
ン酸、ギ酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、ヒドロキ
シ酢酸、グルコン酸等を用いる。
を溶解するか、もしくはガラス基板表面をエッチングす
ることにより、研磨剤を除去する役割を果たす。無機酸
ではフッ酸、フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合物、
塩酸、硫酸、硝酸、リン酸など、有機酸ではスルファミ
ン酸、ギ酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、ヒドロキ
シ酢酸、グルコン酸等を用いる。
【００１２】また、酸洗浄のみでも表面に付着している
研磨剤が除去されるので、表面は十分に平坦になる。し
かしながら、研磨剤がガラス基板表面に埋まっている場
合があり、このような研磨剤が酸洗浄にて除去される
と、その部分が微小凹部となって残り、脆い変質層を形
成する。そこで、アルカリ洗浄することで基板を穏やか
にエッチングし前記微小凹部を均し、表面をより平坦化
することが可能となる。
研磨剤が除去されるので、表面は十分に平坦になる。し
かしながら、研磨剤がガラス基板表面に埋まっている場
合があり、このような研磨剤が酸洗浄にて除去される
と、その部分が微小凹部となって残り、脆い変質層を形
成する。そこで、アルカリ洗浄することで基板を穏やか
にエッチングし前記微小凹部を均し、表面をより平坦化
することが可能となる。
【００１３】最も一般的に用いられる酸化セリウムを主
成分とした研磨剤は、硫酸水溶液で溶解させることによ
り最も効率よく除去できる。処理に用いる硫酸の濃度が
0.01重量％未満では除去能力が不足し、5重量％を超え
るとガラスの微細な疵を顕在化させる原因になる。従っ
て、硫酸の濃度は、0.01〜5重量％が好ましい。この条
件で平滑性を維持するためには、基板ガラスの温度50℃
における0.1％フッ酸によるエッチングレートが45nm／m
in以下であることが望ましい。
成分とした研磨剤は、硫酸水溶液で溶解させることによ
り最も効率よく除去できる。処理に用いる硫酸の濃度が
0.01重量％未満では除去能力が不足し、5重量％を超え
るとガラスの微細な疵を顕在化させる原因になる。従っ
て、硫酸の濃度は、0.01〜5重量％が好ましい。この条
件で平滑性を維持するためには、基板ガラスの温度50℃
における0.1％フッ酸によるエッチングレートが45nm／m
in以下であることが望ましい。
【００１４】また、酸化セリウム以外の研磨剤を用いた
場合であっても、フッ酸など、エッチング効果の高い酸
で基板表面をエッチングすることにより、付着した研磨
剤をその種類によらず除去できる。処理に用いるフッ酸
の濃度が0.002重量％未満では除去能力が不足し、1重量
％を超えるとガラスの微細な疵を顕在化させる原因にな
る。従って、フッ酸の濃度は0.002〜1重量％が好まし
い。この処理はガラスに高い耐酸性を要求し、平滑性を
維持するためには、基板ガラスの温度50℃における0.1
％フッ酸によるエッチングレートが30nm／min以下であ
ることが望ましい。
場合であっても、フッ酸など、エッチング効果の高い酸
で基板表面をエッチングすることにより、付着した研磨
剤をその種類によらず除去できる。処理に用いるフッ酸
の濃度が0.002重量％未満では除去能力が不足し、1重量
％を超えるとガラスの微細な疵を顕在化させる原因にな
る。従って、フッ酸の濃度は0.002〜1重量％が好まし
い。この処理はガラスに高い耐酸性を要求し、平滑性を
維持するためには、基板ガラスの温度50℃における0.1
％フッ酸によるエッチングレートが30nm／min以下であ
ることが望ましい。
【００１５】0.1％フッ酸によるエッチングレートが45n
m／min以下との条件を満たす組成としては、モル分率で
示したＳiＯ2とＡl2Ｏ3の差（ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3）が5
6.5％以上で、ＳiＯ2：63〜70％、Ａl2Ｏ3：4〜11％、
Ｌi2Ｏ：5〜11％、Ｎa2Ｏ：6〜14％、Ｋ2Ｏ：0〜2％、
ＴiＯ2：0〜5％、ＺrＯ2：0〜2.5％、ＲＯ：2〜15％
（ただしＲＯ＝ＭgＯ＋ＣaＯ＋ＳrＯ＋ＢaＯでかつ、Ｍ
gＯ：0〜6％、ＣaＯ：1〜9％、ＳrＯ：0〜3％、ＢaＯ：
0〜2％）および3％以下のその他の成分から成るもの
が、ガラスの溶解性および、基板の耐候性の面から好ま
しい。（以後、ガラス組成を示す場合、特に断らない限
りモル分率を用いる。）
m／min以下との条件を満たす組成としては、モル分率で
示したＳiＯ2とＡl2Ｏ3の差（ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3）が5
6.5％以上で、ＳiＯ2：63〜70％、Ａl2Ｏ3：4〜11％、
Ｌi2Ｏ：5〜11％、Ｎa2Ｏ：6〜14％、Ｋ2Ｏ：0〜2％、
ＴiＯ2：0〜5％、ＺrＯ2：0〜2.5％、ＲＯ：2〜15％
（ただしＲＯ＝ＭgＯ＋ＣaＯ＋ＳrＯ＋ＢaＯでかつ、Ｍ
gＯ：0〜6％、ＣaＯ：1〜9％、ＳrＯ：0〜3％、ＢaＯ：
0〜2％）および3％以下のその他の成分から成るもの
が、ガラスの溶解性および、基板の耐候性の面から好ま
しい。（以後、ガラス組成を示す場合、特に断らない限
りモル分率を用いる。）
【００１６】また、0.1％フッ酸によるエッチングレー
トが30nm／min以下であるとの条件を満たす組成として
は、前述の組成のうち、Ａl−Ｓiが58.5％以上である組
成が、ガラスの溶解性および、基板の耐候性の面から好
ましい。
トが30nm／min以下であるとの条件を満たす組成として
は、前述の組成のうち、Ａl−Ｓiが58.5％以上である組
成が、ガラスの溶解性および、基板の耐候性の面から好
ましい。
【００１７】さらに、溶解性の面からは、上述の組成の
うち、TiO2：0〜3％、ZrO2：0〜2％である組成が、失透
温度が低くより有利である。
うち、TiO2：0〜3％、ZrO2：0〜2％である組成が、失透
温度が低くより有利である。
【００１８】組成の限定理由は次の通りである。0.1％
フッ酸によるエッチングレートはモル分率で示したＳｉ
Ｏ2−Ａｌ2Ｏ3に強く依存し、これを56.5％未満とした
場合、その他の成分の調整でエッチングレートを45nm／
min以下にするためにはアルカリ成分を極端に減らす必
要がある。このような組成は溶解温度が高く、さらには
イオン交換による化学強化が困難となる。ＳｉＯ2−Ａ
ｌ2Ｏ3が58.5％以下でエッチングレート30nm／min以下
とする場合も同様の問題を生じる。従って、同エッチン
グレートを45nm／min、30nm／min以下にするには、Ｓｉ
Ｏ2−Ａｌ2Ｏ3をそれぞれ56.5、58.5％以上にすること
が好ましい。
フッ酸によるエッチングレートはモル分率で示したＳｉ
Ｏ2−Ａｌ2Ｏ3に強く依存し、これを56.5％未満とした
場合、その他の成分の調整でエッチングレートを45nm／
min以下にするためにはアルカリ成分を極端に減らす必
要がある。このような組成は溶解温度が高く、さらには
イオン交換による化学強化が困難となる。ＳｉＯ2−Ａ
ｌ2Ｏ3が58.5％以下でエッチングレート30nm／min以下
とする場合も同様の問題を生じる。従って、同エッチン
グレートを45nm／min、30nm／min以下にするには、Ｓｉ
Ｏ2−Ａｌ2Ｏ3をそれぞれ56.5、58.5％以上にすること
が好ましい。
【００１９】ＳiＯ2はガラスを構成する主要成分であ
り、その割合が63％未満になるとガラスの化学的耐久性
が悪化する。一方、70％を超えると粘度が上がり溶融が
困難になる。従ってＳiＯ2の割合は63％〜70％が好まし
い。
り、その割合が63％未満になるとガラスの化学的耐久性
が悪化する。一方、70％を超えると粘度が上がり溶融が
困難になる。従ってＳiＯ2の割合は63％〜70％が好まし
い。
【００２０】Ａl2Ｏ3はイオン交換による圧縮応力層の
深さを増大させ、かつガラスの耐水性を向上させる成分
である。その割合が4％未満では、これらの効果が十分
に現れない。一方、その割合が11％を超えると粘度が上
がり、かつそれ以上に液相温度が上昇し、溶解性が悪化
する。従ってＡl2Ｏ3の割合は4〜11％以下、更には6〜1
1％が好ましい。
深さを増大させ、かつガラスの耐水性を向上させる成分
である。その割合が4％未満では、これらの効果が十分
に現れない。一方、その割合が11％を超えると粘度が上
がり、かつそれ以上に液相温度が上昇し、溶解性が悪化
する。従ってＡl2Ｏ3の割合は4〜11％以下、更には6〜1
1％が好ましい。
【００２１】Ｌi2Ｏはイオン交換において交換される成
分であるとともに、溶解性を高める成分である。その比
率が5％未満ではイオン交換後の圧縮応力が不足し、か
つ粘性が高く溶融が困難になる。一方、11％を超えると
基板の耐候性、耐酸性が悪化する。従って、Ｌi2Ｏの割
合は5％〜11％が好ましい。
分であるとともに、溶解性を高める成分である。その比
率が5％未満ではイオン交換後の圧縮応力が不足し、か
つ粘性が高く溶融が困難になる。一方、11％を超えると
基板の耐候性、耐酸性が悪化する。従って、Ｌi2Ｏの割
合は5％〜11％が好ましい。
【００２２】Ｎa2Ｏはイオン交換において交換される成
分であるとともに、溶解性を高める成分である。その比
率が6％未満では、イオン交換後の圧縮応力が不足し、
かつ粘性が高く溶融が困難になる。一方、14％を超える
と耐候性、耐酸性が悪化する。従って、Ｎa2Ｏの割合は
14％以下が好ましい。
分であるとともに、溶解性を高める成分である。その比
率が6％未満では、イオン交換後の圧縮応力が不足し、
かつ粘性が高く溶融が困難になる。一方、14％を超える
と耐候性、耐酸性が悪化する。従って、Ｎa2Ｏの割合は
14％以下が好ましい。
【００２３】Ｋ2Ｏは溶解性を高める成分であるが、2％
を超えると耐候性が悪化し、かつイオン交換後の表面圧
縮応力が低下する。従って、Ｋ2Ｏの割合は2％以下が好
ましい。
を超えると耐候性が悪化し、かつイオン交換後の表面圧
縮応力が低下する。従って、Ｋ2Ｏの割合は2％以下が好
ましい。
【００２４】ＴiＯ2はガラスの耐候性を向上させる成分
であるが、5％を超えるとガラスの液相温度が上昇し、
対失透性が悪化する。従ってＴiＯ2の割合は5％以下が
好ましく、3％以下がより好ましい。
であるが、5％を超えるとガラスの液相温度が上昇し、
対失透性が悪化する。従ってＴiＯ2の割合は5％以下が
好ましく、3％以下がより好ましい。
【００２５】ＺrＯ2はガラスの耐候性を向上させる成分
であるが、2.5％を超えると溶融時に微細な結晶として
析出する可能性が高まる。従ってＺrＯ2の割合は2.5％
以下が好ましく、2％以下がより好ましい。
であるが、2.5％を超えると溶融時に微細な結晶として
析出する可能性が高まる。従ってＺrＯ2の割合は2.5％
以下が好ましく、2％以下がより好ましい。
【００２６】ＭgＯはガラスの溶解性を高める成分であ
るが、6％を超えるとガラスの液相温度が上昇し、耐失
透性が悪化する。従って、ＭgＯの割合は6％以下、更に
は4.5％以下が好ましい。
るが、6％を超えるとガラスの液相温度が上昇し、耐失
透性が悪化する。従って、ＭgＯの割合は6％以下、更に
は4.5％以下が好ましい。
【００２７】ＣaＯは、ガラスの溶解性を高めると共に
熱膨張係数を増加させる成分であるが、2％未満ではそ
の効果が小さい。ただし、ＳrＯおよびＢaＯの何れか一
方または両方が共存する場合には、ＣaＯの効果は１％
以上でよく発現する。一方7.5％を超えるとガラスの液
相温度が上昇する傾向にあり、9％を超えるとそれが顕
著になる。したがって、ＣaＯの割合は1〜9％、さらに
は2〜7.5％が好ましい。
熱膨張係数を増加させる成分であるが、2％未満ではそ
の効果が小さい。ただし、ＳrＯおよびＢaＯの何れか一
方または両方が共存する場合には、ＣaＯの効果は１％
以上でよく発現する。一方7.5％を超えるとガラスの液
相温度が上昇する傾向にあり、9％を超えるとそれが顕
著になる。したがって、ＣaＯの割合は1〜9％、さらに
は2〜7.5％が好ましい。
【００２８】ＳrＯは、ガラスの溶解性を高めると共に
熱膨張係数を増加させる成分であり、熱膨張係数を増加
させる効果はＣaＯより高い。しかし、多量に含まれる
と、ガラスの比重が高くなる。
熱膨張係数を増加させる成分であり、熱膨張係数を増加
させる効果はＣaＯより高い。しかし、多量に含まれる
と、ガラスの比重が高くなる。
【００２９】ＢaＯは、ガラスの溶解性を高めると共に
熱膨張係数を増加させる成分であり、熱膨張係数を増加
させる効果はＣaＯ、ＳrＯより高い。しかし、多量に含
まれると、ガラスの比重が高くなる。
熱膨張係数を増加させる成分であり、熱膨張係数を増加
させる効果はＣaＯ、ＳrＯより高い。しかし、多量に含
まれると、ガラスの比重が高くなる。
【００３０】また、ＭgＯ＋ＣaＯ＋ＳrＯ＋ＢaＯ（Ｒ
Ｏ）の合計量が2％より少なければ溶解性が不十分であ
り、15％を超えるとガラスの液相温度が上昇し、耐失透
性が悪化する。従って、ＲＯの合計量は2〜15％、さら
には2〜12％が好ましい。‘
Ｏ）の合計量が2％より少なければ溶解性が不十分であ
り、15％を超えるとガラスの液相温度が上昇し、耐失透
性が悪化する。従って、ＲＯの合計量は2〜15％、さら
には2〜12％が好ましい。‘
【００３１】また、これらの成分以外に、着色、溶解時
の清澄などを目的とし、例えばＡs2Ｏ3、Ｓb2Ｏ3、ＳＯ
3、ＳnＯ2、Ｆe2Ｏ3、ＣoＯ、Ｃl、Ｆ等、その他の成分
を合計で3％を上限として加えることができる。
の清澄などを目的とし、例えばＡs2Ｏ3、Ｓb2Ｏ3、ＳＯ
3、ＳnＯ2、Ｆe2Ｏ3、ＣoＯ、Ｃl、Ｆ等、その他の成分
を合計で3％を上限として加えることができる。
【００３２】これらのガラス基板はリチウムを含むの
で、カリウム、ナトリウムもしくはその両方のイオンを
含む溶融塩中でイオン交換を行い、表面に圧縮応力を与
えることにより、破壊強度を向上することができる。
で、カリウム、ナトリウムもしくはその両方のイオンを
含む溶融塩中でイオン交換を行い、表面に圧縮応力を与
えることにより、破壊強度を向上することができる。
【００３３】これらのガラス基板を用いて情報記録媒体
を作製すると、表面平滑性が高く、異物による突起ない
ため、磁気ヘッドの浮上高さを下げることができ、高密
度記録に適する。
を作製すると、表面平滑性が高く、異物による突起ない
ため、磁気ヘッドの浮上高さを下げることができ、高密
度記録に適する。
【００３４】なお、ここで記載の酸処理は、鏡面研磨工
程から、記録層の成膜の直前までのいずれの時点でも実
施可能である。
程から、記録層の成膜の直前までのいずれの時点でも実
施可能である。
【００３５】
【発明の実施の形態】以下に、本発明について実例を挙
げて詳細に説明する。表１〜表４に本特許の実施例であ
る３１種類の実施例および３種類の比較例を示す。
げて詳細に説明する。表１〜表４に本特許の実施例であ
る３１種類の実施例および３種類の比較例を示す。
【００３６】
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【００３７】基板ガラスの母材は次のようにして作製し
た。表１〜４に示した組成となるように通常のガラス原
料であるシリカ、アルミナ、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸
カリウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、チタニ
ア、ジルコニアなどを用いてバッチを調合した。調合し
たバッチは白金ルツボを用いて1550℃で4時間保持し、
鉄板上に流し出した。このガラスを550℃で2時間保温し
た後、10時間かけて450℃まで徐々に温度を下げ、その
後電源を切り、室温まで放冷して試料ガラスとした。
た。表１〜４に示した組成となるように通常のガラス原
料であるシリカ、アルミナ、炭酸リチウム、炭酸ナトリ
ウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸
カリウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、チタニ
ア、ジルコニアなどを用いてバッチを調合した。調合し
たバッチは白金ルツボを用いて1550℃で4時間保持し、
鉄板上に流し出した。このガラスを550℃で2時間保温し
た後、10時間かけて450℃まで徐々に温度を下げ、その
後電源を切り、室温まで放冷して試料ガラスとした。
【００３８】試料ガラスの特性として、溶融温度Ｔm（l
ogη＝２の温度）、作業温度Ｔw（logη＝４の温度）、
液相温度Ｔl、作業温度と液相温度の差Ｔw−Ｔl、５０
〜３５０℃の平均熱膨張係数の測定結果を表１〜４に示
す。高温域の粘性は白金球引き上げ式自動粘度測定装置
にて測定した。
ogη＝２の温度）、作業温度Ｔw（logη＝４の温度）、
液相温度Ｔl、作業温度と液相温度の差Ｔw−Ｔl、５０
〜３５０℃の平均熱膨張係数の測定結果を表１〜４に示
す。高温域の粘性は白金球引き上げ式自動粘度測定装置
にて測定した。
【００３９】液相温度は次のようにして測定した。試料
ガラスを粉砕し、2380μｍのフルイを通過し、1000μｍ
のフルイ上に留まったガラス粒をエタノールに浸漬し、
超音波洗浄した後、高温槽で乾燥させた。幅12mm、長さ
200mm、深さ10mmの白金ボート上に前記ガラス粒25gをほ
ぼ一定の厚さになるように入れ、930〜1180℃の勾配炉
内に2時間保持した後、炉から取り出し、ガラス内部に
発生した失透を40倍の光学顕微鏡にて観察し、失透が観
察された最高温度をもって液相温度とした。また、熱膨
張係数は、試料ガラスを直径５ｍｍ、長さ１５ｍｍの円
筒形状に研削加工し、それを市販の熱膨張率測定装置を
用いて測定した。
ガラスを粉砕し、2380μｍのフルイを通過し、1000μｍ
のフルイ上に留まったガラス粒をエタノールに浸漬し、
超音波洗浄した後、高温槽で乾燥させた。幅12mm、長さ
200mm、深さ10mmの白金ボート上に前記ガラス粒25gをほ
ぼ一定の厚さになるように入れ、930〜1180℃の勾配炉
内に2時間保持した後、炉から取り出し、ガラス内部に
発生した失透を40倍の光学顕微鏡にて観察し、失透が観
察された最高温度をもって液相温度とした。また、熱膨
張係数は、試料ガラスを直径５ｍｍ、長さ１５ｍｍの円
筒形状に研削加工し、それを市販の熱膨張率測定装置を
用いて測定した。
【００４０】これらの実施例はいずれもＴm＜1580℃、
Ｔw＜1100℃かつＴl＜Ｔwであるので溶解性、成形性に
優れ、従って異物、反りなどのない高品質の基板が得ら
れる。
Ｔw＜1100℃かつＴl＜Ｔwであるので溶解性、成形性に
優れ、従って異物、反りなどのない高品質の基板が得ら
れる。
【００４１】50℃の温度下で、0.1重量％のフッ酸を用
いてエッチングを行った場合の１分間あたりのエッチン
グレートを表１〜４に示す。エッチングレートは次のよ
うにして測定した。
いてエッチングを行った場合の１分間あたりのエッチン
グレートを表１〜４に示す。エッチングレートは次のよ
うにして測定した。
【００４２】上記試料ガラスを外径65mm×内径20mmのド
ーナッツ状に切り出し、鏡面研磨（Ra＝0.25nm以下）し
て厚さ0.635mmとし、その後純水で洗浄してサンプル基
板とした。この基板の一部にマスキングを施した後、50
℃の0.1％フッ酸に2.5分間潰漬し、水洗した後にマスキ
ングを剥がし、マスキング部分とエッチング部分の境界
の段差を表面凹凸計（TENCORINSTRUMENT製 α−STEP50
0）により測定し、エッチングレートを算出した。
ーナッツ状に切り出し、鏡面研磨（Ra＝0.25nm以下）し
て厚さ0.635mmとし、その後純水で洗浄してサンプル基
板とした。この基板の一部にマスキングを施した後、50
℃の0.1％フッ酸に2.5分間潰漬し、水洗した後にマスキ
ングを剥がし、マスキング部分とエッチング部分の境界
の段差を表面凹凸計（TENCORINSTRUMENT製 α−STEP50
0）により測定し、エッチングレートを算出した。
【００４３】また、各組成の基板を２種類の条件で処理
した場合の表面粗さRaを表１〜４に示す。Raは次の方法
により測定した。エッチングレート測定用基板と同様の
手順により作製した基板を表１〜４に示した50℃の酸性
溶液に2.5分間浸漬し、その後50℃のアルカリ溶液（Ｋ
ＯＨ水溶液、ｐＨll）に2.5分間浸漬した。これを純水
中で洗浄、乾燥した後、走査型プローブ顕微鏡（SPM S
II製 SPI3700）を用いて5μｍ×5μｍの視野を観察
し、平均面粗さRaを算出した。ここでのRaとは、JIS B
O601で定義される中心線平均粗さを面に適用できるよう
３次元に拡張したものであり、次式により算出した。
した場合の表面粗さRaを表１〜４に示す。Raは次の方法
により測定した。エッチングレート測定用基板と同様の
手順により作製した基板を表１〜４に示した50℃の酸性
溶液に2.5分間浸漬し、その後50℃のアルカリ溶液（Ｋ
ＯＨ水溶液、ｐＨll）に2.5分間浸漬した。これを純水
中で洗浄、乾燥した後、走査型プローブ顕微鏡（SPM S
II製 SPI3700）を用いて5μｍ×5μｍの視野を観察
し、平均面粗さRaを算出した。ここでのRaとは、JIS B
O601で定義される中心線平均粗さを面に適用できるよう
３次元に拡張したものであり、次式により算出した。
【００４４】
【数１】Ｒa＝（１／ｎ）Σi＝１〜ｎabs（Ｚi−Ｚo） ｎ ：顕微鏡のデータ点の数 abs：絶対値 Ｚi：ｉ番目のデータ点の高さ Ｚo：全Ｚiの平均値
【００４５】表１〜４のうち、温度50℃の0.1％フッ酸
によるエッチングレートと洗浄処理後の表面粗さとの関
係を示したグラフを図１に示す。処理に用いる酸の種類
にもよるが、エッチングレートが30〜60nm／minの領域
で、洗浄処理後のガラスの表面粗さが大きく変化する。
エッチングレートが30nm／min、45nm／minを超えるガラ
スを、それぞれ0.005％フッ酸、1％硫酸で処理した場
合、処理後のRaを目標とした表面凹凸のレベルであるRa
＝0.3nm未満に保つことができない。
によるエッチングレートと洗浄処理後の表面粗さとの関
係を示したグラフを図１に示す。処理に用いる酸の種類
にもよるが、エッチングレートが30〜60nm／minの領域
で、洗浄処理後のガラスの表面粗さが大きく変化する。
エッチングレートが30nm／min、45nm／minを超えるガラ
スを、それぞれ0.005％フッ酸、1％硫酸で処理した場
合、処理後のRaを目標とした表面凹凸のレベルであるRa
＝0.3nm未満に保つことができない。
【００４６】表１〜４のうち、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3と、
0.1％フッ酸によるエッチングレートとの関係を示した
グラフを図２に示す。エッチングレートとＳｉＯ2−Ａ
ｌ2Ｏ3は非常に強い相関を持つ。エッチングレートが4
5、30nm／minとなるＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3の値はそれぞれ5
6.5および58.5％である。
0.1％フッ酸によるエッチングレートとの関係を示した
グラフを図２に示す。エッチングレートとＳｉＯ2−Ａ
ｌ2Ｏ3は非常に強い相関を持つ。エッチングレートが4
5、30nm／minとなるＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3の値はそれぞれ5
6.5および58.5％である。
【００４７】比較例は、0.1％フッ酸によるエッチング
レートが60nm／minを超える。そのため酸処理後の表面
粗さRaが0.3nm以上になる。比較例では、酸処理によっ
て異物を除去し、さらに洗浄後の平滑性を保つのは実質
的に不可能である。
レートが60nm／minを超える。そのため酸処理後の表面
粗さRaが0.3nm以上になる。比較例では、酸処理によっ
て異物を除去し、さらに洗浄後の平滑性を保つのは実質
的に不可能である。
【００４８】これに対し、実施例１〜３１は、0.1％フ
ッ酸によるエッチングレートが45nm／min以下である。
従って1％以下の硫酸を用いて表面の異物を除去した後
の表面粗さをRa＝0.3nm以下に保つことができる。
ッ酸によるエッチングレートが45nm／min以下である。
従って1％以下の硫酸を用いて表面の異物を除去した後
の表面粗さをRa＝0.3nm以下に保つことができる。
【００４９】さらに、実施例１〜６は、0.1％フッ酸に
よるエッチングレートが30nm／min以下である。従って
0.005％フッ酸を用いて表面の異物を除去した後の表面
粗さをRa＝0.3nm未満に保つことができる。
よるエッチングレートが30nm／min以下である。従って
0.005％フッ酸を用いて表面の異物を除去した後の表面
粗さをRa＝0.3nm未満に保つことができる。
【００５０】また実施例１〜３１および比較例１〜３の
組成のガラスについて、上述の表面粗さ測定と同様の手
順で50℃の0.005％フッ酸に2.5分間、その後アルカリ溶
液（ＫＯＨ水溶液、ｐＨ１１）に浸漬してサンプルを作
製した。これを走査型プローブ顕微鏡を用いて５０×５
０ｎｍの視野で観察し、表面に存在する高さ３ｎｍ以上
の凸部をカウントした。その結果を表１〜４に示す。実
施例１〜３１のガラスは、耐酸性が十分に高いので、酸
による荒れが起こらず高さ３ｎｍ以上の凸部の数が５０
０個以下であった。次いで、実施例１０の組成のガラス
について、上記のフッ酸への浸漬を行わず、アルカリ溶
液（ＫＯＨ水溶液、ｐＨ１１）にのみ浸漬してサンプル
を作製し、上記同様に高さ３ｎｍ以上の凸部をカウント
した。その結果、凸部の数は４１００個／５０μｍ□で
あった。この結果を実施例１０（フッ酸に浸漬した場
合）の３６６個／５０μｍ□と比較すると、酸洗浄を行
うことにより、５０μｍ×５０μｍのエリア内での高さ
３ｎｍ以上の凸部の数が５００個以下になることが判
る。また、実施例１０において、酸洗浄の前後でガラス
に付着するセリウムの量を測定したところ、洗浄前が３
２μｇ、洗浄後が０．６μｇであり、酸洗浄によるセリ
ウムの除去率は９８％であった。このことから、高さ３
ｎｍ以上の凸部の多くがガラス表面に残っている研磨剤
であり、それが酸洗浄により効率的に除去されているこ
とが判る。
組成のガラスについて、上述の表面粗さ測定と同様の手
順で50℃の0.005％フッ酸に2.5分間、その後アルカリ溶
液（ＫＯＨ水溶液、ｐＨ１１）に浸漬してサンプルを作
製した。これを走査型プローブ顕微鏡を用いて５０×５
０ｎｍの視野で観察し、表面に存在する高さ３ｎｍ以上
の凸部をカウントした。その結果を表１〜４に示す。実
施例１〜３１のガラスは、耐酸性が十分に高いので、酸
による荒れが起こらず高さ３ｎｍ以上の凸部の数が５０
０個以下であった。次いで、実施例１０の組成のガラス
について、上記のフッ酸への浸漬を行わず、アルカリ溶
液（ＫＯＨ水溶液、ｐＨ１１）にのみ浸漬してサンプル
を作製し、上記同様に高さ３ｎｍ以上の凸部をカウント
した。その結果、凸部の数は４１００個／５０μｍ□で
あった。この結果を実施例１０（フッ酸に浸漬した場
合）の３６６個／５０μｍ□と比較すると、酸洗浄を行
うことにより、５０μｍ×５０μｍのエリア内での高さ
３ｎｍ以上の凸部の数が５００個以下になることが判
る。また、実施例１０において、酸洗浄の前後でガラス
に付着するセリウムの量を測定したところ、洗浄前が３
２μｇ、洗浄後が０．６μｇであり、酸洗浄によるセリ
ウムの除去率は９８％であった。このことから、高さ３
ｎｍ以上の凸部の多くがガラス表面に残っている研磨剤
であり、それが酸洗浄により効率的に除去されているこ
とが判る。
【００５１】さらに、本実施例に記載のガラスを、380
℃に加熱したＫＮＯ3：ＮaＮＯ3＝80：20の混合溶融塩
に１時間浸漬して化学強化した後、偏光顕微鏡により圧
縮応力層の厚みを観察した。これらのいずれも、厚さ50
μｍ以上の圧縮応力層が得られ、化学強化に適した組成
であることが示された。
℃に加熱したＫＮＯ3：ＮaＮＯ3＝80：20の混合溶融塩
に１時間浸漬して化学強化した後、偏光顕微鏡により圧
縮応力層の厚みを観察した。これらのいずれも、厚さ50
μｍ以上の圧縮応力層が得られ、化学強化に適した組成
であることが示された。
【００５２】次いで、本特許の実施例の実際の情報記録
媒体用基板への適用について記す。エッチングレート測
定用サンプルと同様の工程により、外径65mm×内径20m
m、厚さ0.635mm、表面荒さＲａ＝0.25nmのディスクを作
製した。
媒体用基板への適用について記す。エッチングレート測
定用サンプルと同様の工程により、外径65mm×内径20m
m、厚さ0.635mm、表面荒さＲａ＝0.25nmのディスクを作
製した。
【００５３】このディスクを温度50℃の0.005％フッ酸
により洗浄して表面の異物を除去し、さらに温度50℃、
pH11のKOH水溶液、超純水で順次洗浄することにより清
浄な平滑面を得た。
により洗浄して表面の異物を除去し、さらに温度50℃、
pH11のKOH水溶液、超純水で順次洗浄することにより清
浄な平滑面を得た。
【００５４】さらに、この本実施例に記載のガラスを、
380℃に加熱したＫＮＯ3：ＮaＮＯ3＝80：20の混合溶融
塩に１時間浸漬して化学強化し、情報記録媒体用基板と
した。
380℃に加熱したＫＮＯ3：ＮaＮＯ3＝80：20の混合溶融
塩に１時間浸漬して化学強化し、情報記録媒体用基板と
した。
【００５５】次に以上のようにして作製した情報記録媒
体用基板を用いて、情報記録媒体を以下のように作製し
た。
体用基板を用いて、情報記録媒体を以下のように作製し
た。
【００５６】上記の情報記録媒体用基板に、下地層とし
てCrを、記録層としてCo-Cr-Taを、保護層としてCを、
それぞれスパッタリング法を用いて形成した。さらに潤
滑層を形成して、情報記録媒体を得た。
てCrを、記録層としてCo-Cr-Taを、保護層としてCを、
それぞれスパッタリング法を用いて形成した。さらに潤
滑層を形成して、情報記録媒体を得た。
【００５７】このようにして得た媒体をランプロード方
式のディスクドライブに装着し、４，５００回転で連続
動作試験を行った。その結果、異物とヘッドの衝突によ
るエラー、ヘッドのクラッシュは発生せず、低グライド
ハイトの磁気ディスクドライブに好適であることが確認
された。
式のディスクドライブに装着し、４，５００回転で連続
動作試験を行った。その結果、異物とヘッドの衝突によ
るエラー、ヘッドのクラッシュは発生せず、低グライド
ハイトの磁気ディスクドライブに好適であることが確認
された。
【００５８】
【発明の効果】以上のように、本発明の情報記録媒体基
板用ガラス基板は、温度５０℃、濃度０．１wt％のフッ
酸に接触させた時のエッチングレートが４５ｎｍ／ｍｉ
ｎ以下であるので、基板表面に付着した異物を酸処理に
よって除去でき、この酸処理とアルカリ処理を組み合わ
せることで、記録面の微小凹凸面の平均面粗さ（Ｒa）
をＲa＜０．３ｎｍとすることができる。その結果、エ
ラー率の低い優れた高密度情報記録装置を得ることがで
きる。
板用ガラス基板は、温度５０℃、濃度０．１wt％のフッ
酸に接触させた時のエッチングレートが４５ｎｍ／ｍｉ
ｎ以下であるので、基板表面に付着した異物を酸処理に
よって除去でき、この酸処理とアルカリ処理を組み合わ
せることで、記録面の微小凹凸面の平均面粗さ（Ｒa）
をＲa＜０．３ｎｍとすることができる。その結果、エ
ラー率の低い優れた高密度情報記録装置を得ることがで
きる。
【図１】温度50℃の0.1％フッ酸によるエッチングレー
トと酸処理およびアルカリ洗浄を実施した後の基板表面
のRaとの関係。▲は酸処理に0.005％フッ酸を用いた場
合、○は1％硫酸を用いた場合のRaである。
トと酸処理およびアルカリ洗浄を実施した後の基板表面
のRaとの関係。▲は酸処理に0.005％フッ酸を用いた場
合、○は1％硫酸を用いた場合のRaである。
【図２】温度50℃の0.1％フッ酸によるエッチングレー
トとＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3の関係を示す図
トとＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3の関係を示す図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/73 5/84 5/84 Ｚ (72)発明者 山本 信行 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 斉藤 靖弘 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 三谷 一石 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 安宅 功一 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 松野 好洋 大阪府大阪市中央区道修町３丁目５番11号 日本板硝子株式会社内
Claims (15)
- 【請求項１】 少なくとも一面側を記録面とした情報記
録媒体用ガラス基板において、このガラス基板の耐酸性
は、温度５０℃、濃度０．１wt％のフッ酸に接触させた
時のエッチングレートが４５ｎｍ／ｍｉｎ以下で、且つ
ガラス基板の少なくとも記録面の平均面粗さ（Ｒa）
は、Ｒa＜０．３ｎｍであることを特徴とする情報記録
媒体用ガラス基板。 - 【請求項２】 少なくとも一面側を記録面とした情報記
録媒体用ガラス基板において、このガラス基板の耐酸性
は、温度５０℃、濃度０．１wt％のフッ酸に接触させた
時のエッチングレートが３０ｎｍ／ｍｉｎ以下で、且つ
ガラス基板の少なくとも記録面の平均面粗さ（Ｒa）
は、Ｒa＜０．３ｎｍであることを特徴とする情報記録
媒体用ガラス基板。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の情報記
録媒体用ガラス基板において、記録面内で任意に選んだ
５０μｍ×５０μｍのエリア内での高さ３ｎｍ以上の凸
部の数が５００個以下であることを特徴とする情報記録
媒体用ガラス基板。 - 【請求項４】 請求項１乃至請求項３に記載の情報記録
媒体用ガラス基板において、このガラス基板はＳiＯ2と
Ａl2Ｏ3を含み、それぞれのモル分率（mol％）の差（Ｓ
iＯ2−Ａl2Ｏ3）が５６．５mol％以上であることを特徴
とする情報記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項５】 請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス
基板において、このガラス基板はＳiＯ2とＡl2Ｏ3を含
み、それぞれのモル分率（mol％）の差（ＳiＯ2−Ａl2
Ｏ3）が５８．５mol％以上であることを特徴とする情報
記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項６】 請求項４または請求項５に記載の情報記
録媒体用ガラス基板において、このガラス基板の成分割
合（モル分率）は以下の通りであることを特徴とする情
報記録媒体用ガラス基板。 ＳiＯ2 ：６３〜７０mol％ Ａl2Ｏ3： ４〜１１mol％ Ｌi2Ｏ ： ５〜１１mol％ Ｎa2Ｏ ： ６〜１４mol％ Ｋ2Ｏ ： ０〜２mol％ ＭgＯ ： ０〜６mol％ ＣaＯ ： １〜９mol％ ＳrＯ ： ０〜３mol％ ＢaＯ ： ０〜２mol％ ＴiＯ2 ： ０〜５mol％ ＺrＯ2 ： ０〜２．５mol％ ＲＯ ： ２〜１５mol％ ただし、ＲＯ＝ＭgＯ＋ＣaＯ＋ＳrＯ＋ＢaＯで、 - 【請求項７】 請求項４または請求項５に記載の情報記
録媒体用ガラス基板において、このガラス基板の成分割
合（モル分率）は以下の通りであることを特徴とする情
報記録媒体用ガラス基板。 ＳiＯ2 ：６３〜７０mol％ Ａl2Ｏ3： ６〜１１mol％ Ｌi2Ｏ ： ５〜１１mol％ Ｎa2Ｏ ： ６〜１４mol％ Ｋ2Ｏ ： ０〜２mol％ ＴiＯ2 ： ０〜５mol％ ＺrＯ2 ： ０〜２．５mol％ ＲＯ ： ２〜１２mol％ ただし、ＲＯ＝ＭgＯ＋ＣaＯ＋ＳrＯ＋ＢaＯで、 ＭgＯ ： ０〜４．５mol％ ＣaＯ ： ２〜７．５mol％ ＳrＯ ： ０〜３mol％ ＢaＯ ： ０〜２mol％ その他 ： ０〜３mol％ - 【請求項８】 請求項４または請求項５に記載の情報記
録媒体用ガラス基板において、このガラス基板の成分割
合（モル分率）は以下の通りであることを特徴とする情
報記録媒体用ガラス基板。 ＳiＯ2 ：６３〜７０mol％ Ａl2Ｏ3： ６〜１１mol％ Ｌi2Ｏ ： ５〜１１mol％ Ｎa2Ｏ ： ６〜１４mol％ Ｋ2Ｏ ： ０〜２mol％ ＴiＯ2 ： ０〜３mol％ ＺrＯ2 ： ０〜２mol％ ＲＯ ： ２〜１２mol％ ただし、ＲＯ＝ＭgＯ＋ＣaＯ＋ＳrＯ＋ＢaＯで、 ＭgＯ ： ０〜４．５mol％ ＣaＯ ： ２〜７．５mol％ ＳrＯ ： ０〜３mol％ ＢaＯ ： ０〜２mol％ その他 ： ０〜３mol％ - 【請求項９】 請求項１乃至請求項８に記載の情報記録
媒体用ガラス基板において、このガラス基板の表面はイ
オン交換による化学強化が施されていることを特徴とす
る情報記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項１０】 請求項１乃至請求項９に記載の情報記
録媒体用ガラス基板において、このガラス基板は酸によ
って表面の異物が除去された後に、酸処理により形成さ
れた表面の異質層をアルカリ処理により除去したこと特
徴とする情報記録媒体用ガラス基板。 - 【請求項１１】 温度５０℃で濃度０．１wt％のフッ酸
に接触させた時のエッチングレートが４５ｎｍ／ｍｉｎ
以下となる組成の原料を溶融せしめた後所定形状の基板
に成形し、次いで、この基板表面を研磨粉を用いて研磨
し、この後、研磨した基板表面を酸洗浄することで基板
表面に付着している研磨粉を除去し、更に基板表面をア
ルカリ洗浄することで表面平均粗さ（Ｒa）をＲa＜０．
３ｎｍに保つようにしたことを特徴とする情報記録媒体
用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項１２】 温度５０℃で濃度０．１wt％のフッ酸
に接触させた時のエッチングレートが３０ｎｍ／ｍｉｎ
以下となる組成の原料を溶融せしめた後所定形状の基板
に成形し、次いで、この基板表面を研磨粉を用いて研磨
し、この後、研磨した基板表面を酸洗浄することで基板
表面に付着している研磨粉を除去し、更に基板表面をア
ルカリ洗浄することで表面平均粗さ（Ｒa）をＲa＜０．
３ｎｍに保つようにしたことを特徴とする情報記録媒体
用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項１３】 請求項１１または請求項１２に記載の
情報記録媒体用ガラス基板において、前記酸洗浄に用い
る酸は濃度が0.01〜5重量％の硫酸であることを特徴と
する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項１４】 請求項１１または請求項１２に記載の
情報記録媒体用ガラス基板において、前記酸洗浄に用い
る酸は濃度が0.002〜1重量％のフッ酸であることを特徴
とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 【請求項１５】 請求項１乃至請求項１０に記載の情報
記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層等の記録層を形成
したことを特徴とする情報記録媒体。
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