JP2000513114A - 一次元高速格子ライトバルブアレイを組み込むディスプレィ・デバイス - Google Patents
一次元高速格子ライトバルブアレイを組み込むディスプレィ・デバイスInfo
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Abstract
(57)【要約】
基本的に一次元ライトバルブ・アレイを含み、二次元画像を与えるディスプレィ・システムである。回折ライトバルブ・アレイは、モジュレータ素子を含み、このモジュレータ素子は、それに入射した光を、表示させる画像素子により決定される広がりへ回折または反射させる。ディスプレィ・システムは、ライトバルブ・アレイからの回折光が拡大レンズを透過し、アレイからの反射光から分離されるように構成されている。回折光により形成されたアレイの拡大仮想像は拡大レンズを通じて観察される。観察者と拡大レンズとの間の走査構成は、観察者が走査された画像を二次元画像として知覚するのに充分に迅速に観察者の視野を横断してライトバルブ・アレイの画像を走査する。他の構成においては、印刷機が回折ライトバルブ・アレイの実像を印刷または記録媒体上を走査することによりプリンタが形成されている。
Description
【発明の詳細な説明】
一次元高速格子ライトバルブアレイを組み込むディスプレィ・デバイス発明の分野
本発明は一般にミニチュア・ディスプレィ・デバイスに関する。これは特に、
光を回折および/または反射させる高速格子ライトバルブ・アレイへ光が入射し
て、回折光が拡大光学系および機械的走査構成を介して観察者へ指向され、走査
構成はライトバルブからの回折光を二次元像として観察者へ表わされる。発明の背景
ミニチュア・ディスプレィ・デバイスは、ビデオ・シュミレーション・アプリ
ケーションその他のためのポータブル・ディスプレィのような適用に有益である
。この説明に関連するミニチュア・ディスプレィとは、有効な拡大光学系構成を
必要とするほどに充分に小さいものと理解されたい。このようなデバイスの利点
は、消費電力が少なく、増幅ミニチュア・ディスプレィの見かけの寸法に等しい
実寸法を有する従来のディスプレィよりも占有する空間が相当に少ないことであ
る。
このようなミニチュア・ディスプレィは、ゴーグルその他の眼の装着器に組み
込めるほどに充分に小さくできる。これは、一般的に「仮想現実」と称されるコ
ンピュータとの干渉における表示された環境に使用者を完全に「没頭」させるよ
うに使用し得る。このようなディスプレィは、使用者にディスプレィにより伝達
された情報に加えて使用者の実際の環境を見せるアクセサリー・ディスプレィと
して装着してもよい。このようなアクセサリー・ディスプレィは、例えば電話オ
ペレーターまたは航空券代理店のためのディスプレィとして有益であろう。この
ようなディスプレィを装着することは、使
用者が他の動作を実行するために自由に動きながら、使用者にディスプレィに関
係する心地よい固定された視野を維持させることが可能である。
米国特許第4,934,773号は、ミニチュア全頁ビデオ・ディスプレィを
説明しており、これは少なくとも一列の発光ダイオード(LED)のような発光素子
と、増幅レンズと、振動ミラーであって、この振動ミラーを観察できる開口を有
する光遮蔽箱内の振動ミラーとを含む。LEDは、振動ミラーの移動における点
を選択的に照明して、二次元像を与えるようにミラーにおける選択された点にお
いて投影されたピクセルの列または画像素子をもたらす。このミニチュア・ディ
スプレィを組み込む頭部装着ディスプレィ・システム概念は米国特許第5,00
3,300号に説明されている。
このようなエミッタの列は、一般にマイクロチップ・レーザー・アレイと称さ
れる単独の半導体チップ上に形成し得る。エミッタのための関連した駆動回路(
各エミッタについて一つ)は同一のチップ上に形成し得る。‘773号特許の教
示によれば、各列が異なる色の光を発する二列以上の光エミッタの使用により、
カラーのディスプレィを達成し得る。
上述した特許に説明されたディスプレィ・デバイスは、振動ミラーの走査動作
によって、単一列のエミッタを、同一の解像度の実際の二次元ディスプレィを与
えるために必要な多数列のような働きをさせることができる。これはデバイスの
複雑さとコストとを相当に減少させる。しかしながら、この種のデバイスの不都
合は、各光エミッタをモジュール化可能な率によって制限されることである。更
に、LEDの物理的大きさおよび端部放出半導体レーザー・デバイスも、この種
のデバイスの実現可能な解像度を制限する。
今日までのミニチュア・ディスプレィ・デバイスにおける技術的発展にも
拘わらず、この種のデバイスの更なる改良は、特に高解像度および停電力消費の
方向で要求されると信じられる。発明の概要
本発明は二次元像を与えるディスプレィ・システムを指向する。最も一般的な
局面においては、本発明に係るディスプレィ・システムは回折ライトバルブ・ア
レイを備える。回折ライトバルブ・アレイは、互いに並行に整列した細長く個々
に操作可能で離間したモジュレータ部材の列を含む。モジュレータ部材の各々は
、モジュレータ部材の各々は、それに対する入射光が、モジュレータ部材の操作
状態により拡がりが決定されるように回折される。
システムは、回折ライトバルブ・アレイへ入射する光を引き起こす照明構成と
、入射光の非回折部分から入射光の回折部分を分離する構成とを含む。電子回路
系は、
ビデオ・データを受け取って、表示すべきビデオ・データの画像素子に対応する
ライトバルブ・アレイのモジュレータ部材を操作するために設けられている。
拡大光学系は、分離された回折光部分を介して観察者へ格子ライトバルブ・ア
レイの拡大像を与える。このシステムは、二次元像として観察者に示される拡大
された仮想像を引き起こすのに充分な率で二次元像を連続線を与えるように観察
者の視野を通じて拡大された像を走査する電子回路系に協同する走査デバイスを
含む。
本発明に係るディスプレィ・システムの一つの好適実施例においては、ライト
バルブ・アレイが反射格子ライトバルブ(grating light-valve;GLV)アレイで
あり、これは、離間して細長く可動で互いに並行に整列した反射部材を含む。可
動反射部材の各々は、固定された反射部材に対して、固定された反射部材が位置
する面から並行且つ分離した面を通じて個々に可動である。可動および固定反射
部材は、対応する可動および固定反射部材が共に、可動および固定反射部材の平
面分離に依存して拡がるそれへの入射光の回折および/または反射を引き起こす
ように形作られている。
拡大光学系は拡大像を与える拡大レンズを含む。拡大レンズ手段、ライトバル
ブ・アレイ、および反射光から回折光を分離する構成は、テレセントリック系と
して構成されており、ここではライトバルブ・アレイと回折光分離構成とが、そ
れぞれ拡大レンズのテレセントリック対象位置と射出瞳とに位置している。
を含む形式の接眼レンズのグループから選択された形式の拡大レンズであ
ることが好ましい。拡大レンズは、観察者がレンズを通じて直接に観察できるラ
イトバルブ・アレイの拡大された仮想像を与えるように配置してもよい。拡大レ
ンズはライトバルブ・アレイの拡大された実像をスクリーンのような受像面に投
影するように配置することもできる。図面の簡単な説明
本明細書に組み込まれてその一部をなす添付図面は、本発明の好適実施例を模
式的に示し、上述の一般的な説明および以下の好適実施例の詳細な説明と共に本
発明の原理を説明するのに役立てられる。
図1は本発明に係るディスプレィ・システムにおける使用に適する従来技術の
反射/回折格子ライトバルブ・アレイの一例の部分を模式的に示す断片的な斜視
図である。
図2はアレイ部分が反射体として働く図1の格子ライトバルブ・アレイ部分の
作動状態を模式的に示す概略的な断面図である。
図2Aはアレイ部分が反射体として働く図1の格子ライトバルブ・アレイ部分
の他の例の作動状態作動状態を模式的に示す概略的な断面図である。
図3はアレイ部分が回折格子として働く図1の格子ライトバルブ・アレイ部分
の作動状態を模式的に示す概賂的な断面図である。
図3Aはアレイ部分が回折格子として働く図2Aの格子ライトバルブ・アレイ
部分の他の例の作動状態を模式的に示す概略的な断面図である。
図4は本発明に係るディスプレィ・システムの一つの好適実施例を模式的に示
す概略的な断面図であり、このシステムは反射格子ライトバルブ・アレイ(GL
V)へ入射する光を生起する照明構成と、拡大接眼レンズ、GLV)から反射し
た光からGLVから回折光を分離するための射出瞳絞りと、観察
者の視野を横断する分離された回折光を走査する走査ミラーとを含む。
図5は概ね図4の方向5−5において見た概略的な断面図であり、図4のGL
V、拡大接眼レンズ、射出瞳絞り、および走査ミラーとを模式的に示す。
図6は図4のシステムの接眼レンズの射出瞳絞りのためのテレセントリック中
継構成を模式的に示す概略的な断面図である。
図7は図4の接眼レンズに協働する投影レンズであり、図4のGLVの実像を
スクリーン、記録媒体、紙その他へ投影する投影レンズを模式的に示す概賂的な
断面図である。
図8は本発明に係るディスプレィ・システムの一つの好適実施例を模式的に示
す概略的な断面図であり、このシステムは光源、反射格子ライトバルブ・アレイ
(GLVアレイ)へ入射する光を生起する照明構成と、拡大接眼レンズ、GLV
)から反射した光からGLVから回折光を分離するための射出瞳絞りと、観察者
の視野を横断する分離された回折光を走査する走査ミラーとを含む。
図8Aは投影プリンタとして構成された図8に示された形式のシステムを模式
的に示す概略的な断面図であり、このシステムにおいては図8の走査ミラーは、
GLVアレイの静止投影実像が通った印刷または記録媒体を移動させるドラム・
スキャナに置き換えられている。
図9は概ね図8の方向9−9において見た概略的な断面図であり、図8の照明
像の部分を模式的に示す。
図10は概ね図8の方向10−10において見た概略的な断面図であり、図8
の照明像の他の部分を模式的に示す。
図11は概ね図8の方向10−10において見た概略的な断面図であり、図8
のGLVアレイから回折された光ビームの経路を模式的に示す。
図12は図8の像の拡大接眼レンズを介して図8のライトバルブ・アレイへ光
を指向させる図8のディスプレィ・システムのための多重旋回ミラーの配置を模
式的に示す概略的な断面図である。
図13は概ね図12の方向13−13において見て、図8の拡大接眼レンズの
射出瞳における図12の旋回ミラーを模式的に示す図である。
図14は受像面に格子ライトバルブ・アレイの実像を投影する投影レンズとし
て使用される図4または図8の拡大接眼レンズを模式的に示す概略的な断面図で
ある。
図15は図4および図6のシステムにおいて使用する回転多角形反射走査構成
を模式的に示す概略的な断面図である。
図16は図4および図6のシステムにおいて使用する可変角度プリズマティッ
ク走査構成を模式的に示す概略的な断面図である。
図17は図4および図6のシステムにおいて使用する移動レンズ透過走査構成
を模式的に示す概略的な断面図である。
図18は本発明に係り、透過回折ライトバルブ・アレイを含むディスプレィ・
システムを模式的に示す概賂的な正面図である。
好適実施例の詳細な説明
本発明に係るディスプレィ・システムにおいては、特に好ましい光モジュレー
タ・デバイスは反射格子ライトバルブ(GLV)アレイである。ディスプレィを
製作するための実二次元アレイにおいては、このようなデバイスの使用が提案さ
れている。このようなデバイスは米国特許第5,459,610号に詳細に説明
されており、その開示事項は本明細書に引用されて組み込まれている。この形式
の反射格子ライトバルブ・アレイは、非常に小さな形
状または素子の大きさ、非常に高速な切換速度、広帯域により非常に高解像度の
表示を与える能力がある。このようなデバイスの一実施例の簡単な説明は図1、
図2および図3を参照して以下に記載されている。
図1は射格子ライトバルブ・アレイの一例の一部10を示す。アレイ10は個
々の可動な細長い反射部材またはリボン12を含み、このリボン12は反射被覆
14を含む(図2参照)。リボン12は非作動状態においては基部16に対して
平行をなす面において基部16上に吊り下げられて(張力をかけられて)いる。
リボン12は互いに離間して並行である。リボン12はGLVアレイ10の「能
動」反射部材と称される。リボン12の間の間隙に整合されているのは、基部1
6上の反射被覆を被覆することにより形成された固定反射部材18である。固定
反射部材18は代替的にGLVアレイ10の「受動」反射部材と称される。
アレイ10は、シリコン(ウェハ)基板20上にリソグラフ半導体デバイス製
作技術を用いて作成されている。基部16はウェハの一表面である。電極層22
はウェハの反対面上に堆積されている。リボン12と固定反射部材は、好ましく
は約1乃至4マイクロメータの幅と、約40.0乃至100.0マイクロメータ
(μm)の長さとを有する。アレイ10は、好ましくは約1センチメートル(c
m)の長さを有する本発明に係るディスプレィにおける使用に適している.この
ようなアレイ10は、1000以上の可動部材12を含む。固定および可動部材
の狭い幅は、通常のCRTコンピュータ・モニタに比較し得る解像度を与えるの
に充分に小さいピクセルを依然として与えながら、隣接する部材のグループ、例
えば、8個の固定および可動部材の対を256のグレイ・シェイドにおける一つ
の画像素子またはピクセルを
表すように用いることができる。
リボン12は部材と基部16との間に電位を加えることにより移動または操作
される。非作動状態では、可動部材の反射被覆14と対応する(隣接する)固定
部材18との間の距離は、アレイの照明(図2参照)に用いられる光の1/2波
長に設定されている。この状態では、法線入射面波面24は回折を生じず、矢印
IおよびRにより示されるように入射方向の反対方向へ反射される。
充分な電位が加えられたとき、リボン12は基部16へ向かって偏向し、且つ
基部16に支持される。リボン12の厚さは、この「操作および支持」状態にお
いて、対応する固定および可動部材の反射面の間の距離が、アレイの照明
(図3参照)に用いられる光の1/4波長に選択されている。この状態では、可
動および固定部材から反射した光の間の破壊的な干渉は回折波面26(図3にお
ける正負の一次回折波面のみ)を形成し、これは矢印D+1およびD-1により示さ
れる入射面波面方向に対する角度において伝播する。
画像素子の全てまたは一部を示す可動および固定部材12および18の隣接す
る対またはこのような対の機能的グループは、「ライトバルブ」とみなせる。こ
のようにみなすことから、用語格子ライトバルブ(GLV)アレイは、この説明
の目的のために採用されている。
A GLVアレイも上述したアレイ10と同様に製作することが可能であるが
、その反射部材の全ては基部20の上に張力をかけて吊り下げられている。これ
は図2Aに示されている。アレイ10Aはアドレス・ラインその他(図示せず)
を介して、その交互の一つ12Aが空間光分離を与えるように可動であり、且つ
GLVアレイ10の能動要素と等しいように配置されている。各々の能動部材の
間の反射部材18A(各々は反射被覆14を含む)は、空間分離光のためのGL
Vアレイ10Aの動作の間は移動せず、且つGLVアレイ10Aの固定即ち受動
部材と等しい。
GLVアレイ10Aは非作動状態であるように優先的に配置される。その全て
の反射部材は、能動および受動ともに反射面を有し、これは図2Aに示されたの
と同一の面上に置かれており、ここでGLVはそこに入射する光を反射するのみ
である。GLVアレイ10Aは、その能動即ち可動部材12Aが、図3Aに示す
ように能動即ち可動部材の面からの1/4波長面により分離された極限面におか
れて、基部20に接触しないときに偏向するように優
先的に配置されている。
GLVアレイ1Aにより例示された形式のアレイは、GLVアレイ10により
例示された形式のアレイよりも製作が容易であり、二つのリトグラフ工程のみを
用いて製作できる。基部20に接触しない可動部材を有することは、部材が基部
20に「貼り付き」、アレイの操作を損なう潜在的問題を回避する。GLVアレ
イ10Aおよび同様なアレイの更なる詳細は、本発明の譲受人に譲渡された係属
中の出願第08/482,188号(1995年6月7日出願)に説明されてお
り、その開示事項全体は本明細書に引用により組み込まれている。
本発明の技術分野に精通する当業者には、GLVアレイ10およびGLVアレイ
10Aの双方において、図2および3と図2Aおよび3Aに示された極限状態の
間の状態において、リボン12および12Aが基部16に平行な面を通じて移動
するのに応じて、光は反射と回折の双方をなすことが理解されよう。中間状態は
アナログ方式で部材を操作するために用いられる。
リボン12が操作されるのは二進方式(グレイ・スケールを与えるように二進
法重みを付けられたグループにおける状態を有する図2および3の極限状態の一
つに支持されている)においてか、アナログ方式においてか、二次元像の一つの
分解能または走査線を示す全長、単独列即ち一次元アレイにおいてかにより、ア
レイの異なる部分が異なる状態の部材を有し、アレイからの回帰した入射光が回
折および非回折(反射)部分を有する。
本発明に係るディスプレィ・システムにおいては、回折光部分が観察者への二
次元像を表すように用いられる。このため、本発明に係るシステムは反射光部分
から回折光部分を分離する構成を含まねばならない。このような構成の好ましい
例は、以下の本発明の好適実施例の説明に詳細に説明される。これらの光学器構
成は、光学の分野でSchlieren光学器として一般的に知られた形式のものであり
、これは、反射光が観察者の視野か遮断されるように、少なくとも一つのレンズ
と少なくとも一つの絞りとの構成により典型的に回折光から反射光を分離する。
ここで図4および図5を参照すると、本発明に係るディスプレィ・システムの
好適実施例30が示されている。ディスプレィ・システム30において、GLV
アレイ10を照明する照明構成は、赤、緑および青光源32R,32Gおよび3
2Bをそれぞれ含む。好ましくはこれらの光源は、LEDまたは
半導体レーザーのような半導体発光デバイスである。非常に大きなディスプレィ
が投影される場合、適当な出射波長を有する固体レーザーまたは光パラメトリッ
ク・オシレータを使用する利点も見い出せる。
システム30において、光源32R,32G,32Bは一般的に対称な方式で
発光するLEDのような光源であると仮定する。ダイクロイック・フィルタ群3
4は、これらの光源の任意の一つからの光をコリメート・レンズ36へ向かって
システムの光軸zに概ね沿って伝播させる。ダイクロイック・フィルタ群は、
異なる色の三つの光源を光学系へ表すように起源の同一の点から発出させること
は、例えばフィリップス・プリズムとして光学の分野で良く知られている。従っ
て、このようなダイクロイック・フィルタ群の詳細な説明はここではなさない。
レンズ36はおそらく、単純な「球面」レンズ、即ちx軸およびy軸に等しい
反射倍率を有するレンズとして単純化されて示されている。図4において、y軸
は図示の面にあり、x軸は図示の面に対して直交している。このレンズの目的は
光源からの光を両方の軸へコリメートすることである。しかしながら、本発明の
技術分野に精通する当業者には、端部発光半導体レーザは一つの横軸(xまたは
y軸)において他方よりもより発散し、しかもアスティグマティックシスである
ことが理解されよう。このようなレーザーの出力ビームをコリメートすると共に
、これを所望のサイズへ拡大する手段は光学の分野では公知であり、また少なく
とも一つの球面、非球面、トロイダルまたは円筒面(球面または非球面)レンズ
素子を必要とする。レンズ36はこのような素子の少なくとも一つのグループを
表すように意図されている。対称発光源32からの発散光38は、レンズ36を
通過して、x軸およびy軸の双方にコリメートされる。二軸コリメート光40は
次いで円筒レンズ42を通過する。用語「円筒形」は、一軸(ここではy軸)の
みに反射倍率を有するレンズ42を規定する。光学分野に精通する当業者には、
レンズ42の面44は環状円筒形以外にもなし得ることが理解されよう。レンズ
24の作用は、それを透過する二軸コリメート光40をy軸へ収束(図4の線4
6)させ、残りをx軸へコリメート(図5の線48)へコリメートさせる。ここ
でレンズ42は上述したようなより多くの光学素子の一つから形成するこ
ともでき、単純化のために単独の素子として示されているが、通常は単独のレン
ズ素子で充分である。
GLVアレイ10は、円筒レンズ42から概ねこのレンズ42の焦点距離(f1
)に位置している。GLVアレイ10は、レンズ36および42の光軸に対応
するシステム光軸z上でx軸に整合する。GLV(リボン12)の操作面はz軸
に対して傾斜されている。図4において、GLVアレイ10は、z軸90度を有
効に曲げる軸に対して45度傾斜している。このGLVアレイ10の傾斜の選択
は、ここでは図示の便宜のためになされているのであって、これに限定して考え
るべきではない。
図5を参照すると、作動GLVアレイ10上に入射する光は、反射ビーム(矢
印48)と、それぞれ矢印D+1およびD-1で示される正負の一次回折ビームとを
生起する。これらの回折ビームはx軸におけるz軸に対して傾斜されている。y
軸において、回折および反射ビームは等しく発散する。回折および反射ビームは
次いで拡大(正)レンズ50を透過し、このレンズ50はGLVアレイ10から
レンズ50の焦点距離f2だけ離間されている。レンズ50は図5においては単
純化のために単独の素子として示されているが、実際のレンズ50は少なくとも
二つの素子を含み得る。レンズ50はシステム30のための接眼レンズとしての
働きを与え、好ましくは、Huygens,
式の公知のグループの一つから選択された形式の拡大レンズであることが好まし
く、これらの全ては少なくとも二つの素子を含む。
x軸において、反射ビームはz軸上の焦点に対して収束(矢印52)し、ここ
には、概ねレンズ50の外部テレセントリック射出瞳P2において細長
い絞り54が位置する。従ってシステム30のSchlieren光学器は、GLVアレ
イ10拡大接眼レンズ50および絞り54を含むテレセントリック光学構成49
の一部として規定でき、この構成においてはGLVアレイ10は概ねレンズ50
の対物位置にあり、且つ絞り54は概ねレンズ50の外部(射出)瞳に位置する
。テレセントリック系は、入射瞳および/または射出瞳が無限遠に位置する系で
ある。これは、系の僅かな収束ぼけに起因する測定または位置誤差を低減させる
傾向にあるので、計測のために設計された光学系において広く用いられている。
この傾向は、以下に説明する本発明の特定の実施例に一般的におよび特定的に採
用された系の絞りおよび他の構成部品の位置における或る程度の許容差を許す。
y軸(図4参照)において、発散反射光46(および回折光)は矢印56によ
り図示されたようにレンズ50によりコリメートされている。絞り54はy軸に
整合され、且つ反射光を遮断する。絞り54は吸収または反射に選択できる.絞
り54が反射であれば、絞りからの反射光はGLVアレイ10へ帰還する。しか
しながら回折ビームD+1およびD-1はz軸に対して傾斜し、対応入射および反射
ビームは絞り54の上下(または絞り54の反対側)の焦点へ収束するので、絞
り54により妨げられることなく射出瞳P2を透過する。
走査ミラー58は、回折ビームを妨げて、これらを観察者の眼64へ向かって
指向させる。観察者が見るものは、GLVアレイ10の(無限遠における)拡大
仮想像である。この像は図5においては線59により奇妙に示されているが、勿
論、ここには実際の像はないことが認められる。
GLVアレイ10の作動部材はM×Nディスプレィの連続的な異なる線
を表すように操作され、ここでMは線あたりの画像素子の数であり、Nはディス
プレィにおける(解像)線の数である。画像素子は上述したような少なくとも一
つの作動GLV部材を含む.GLVアレイ10は、一般的にライトバルブの一次
元アレイ或いは画像素子またはピクセルを表すものとして規定される。拡大仮想
像においては、これらピクセルは、GLVアレイ10の一つまたは複数のリボン
12の作動状態により決定された比較的に明るい輝度を有する。
走査ミラー58は、駆動ユニット60により、矢印A(図4参照)で図示され
たように軸62に関して角度的に移動して回折ビームを走査し、拡大仮想像が矢
印Bに示すように観察者の視野を直線的に横断して、ディスプレィの連続的なラ
インを示す。ミラー58は、観察者へ二次元像として表される走査された仮想像
を生起するのに充分に早く移動する。
マイクロプロセッサに基づく電子制御回路系70は端子72を介してビデオ・
データを受け入れるように構成されており、且つそのデータをGLVアレイ10
への光を分離するためにGLVアレイ10の可動部材を制御することに用いるよ
うにGLVアレイ10へ接続されている。この回路系は回折ビームD+1およびD-1
における光が、上述したようにビデオ・データを表す二次元像の連続的解像ラ
インを表すように分離するように構成されている。制御回路系70は走査ミラー
駆動ユニット60へも接続されており、連続的ラインのディスプレィを同期させ
、走査ミラー58の角度的振幅範囲の末端で開始される画像の連続的フレームを
与えるようにされている。制御回路系70は光源32R、32Gおよび32Bへ
も接続され、光源をGLVアレイ10の操作に共同して連続的に切り替えて、ア
レイの連続的な赤、緑、
および青の解像を与え、これらが共にカラー二次元画像の一つの解像ラインを表
すようにする。
図4において観察者の眼64は、システム30のディスプレィの拡大仮想画像
を適切に見るための単なる仮想系として図示されていることに留意されたい。理
想的には、このような画像を見るためには、観察者の眼は概ね射出瞳P2に位置
せねばならない。これは、ミラー58も好ましくは概ねこの射出瞳に配置せねば
ならないので困難である。この困難は、射出瞳の像をミラーから観察者の眼を位
置させるのが容易な位置へ光学的に中継することにより解決でき、これにより走
査ミラーと観察者の眼とを共に概ね射出瞳に配置することが可能となる。
射出瞳P2の像を中継する一手段が図6に示されており、ここでは光学構成が
光学的に「非屈曲」として示されており、走査ミラー58はレンズ50の射出瞳
P2における線として示され、その射出瞳P2は走査ミラーのための一つの好適
な位置である。ここでは瞳中継が同一焦点距離の二つのレンズ51および53に
より達成され、これらのレンズは、射出瞳P2の像P3が位置するユニット拡大テ
レセントリック・リレーを形成するように焦点距離の二倍に等しい距離だけ離間
されており、レンズ53から離間するレンズ53の焦点距離は、レンズ53から
の充分なアイ・リリーフを与える。光学分野の当業者には勿論、レンズ52およ
び53は一つより多くのレンズ素子を含んでもよく、更に図6に示されたテレセ
ントリック中継構成は、瞳像を中継する唯一可能な光学的構成ではないことが理
解されよう。
ここで図7(ここでは再び光学系が「非屈曲」として示されており、走査ミラ
ー58はレンズ50の射出瞳P2における線として示され、その射出瞳
P2はここでも走査ミラーのための一つの好適な位置である)を参照すると、接
眼レンズ50が、スクリーンまたは記録媒体上にGLVの拡大実像を投影するた
めに一つの素子、または素子群として用いられており、その記録媒体は例えば投
影ディスプレィまたは像を記録または印刷するデバイスを与えるのに要求される
ものである。ここで一つのレンズ(またはレンズ素子群)55はGLVアレイ1
0の拡大実像57(ここでは幅)をレンズ55からの無限遠に合焦させるように
位置している。この像は、投影された(明らかな)二次元画像を与える可視スク
リーンであり得る平面59、或いは写真フィルムまたは紙のような記録媒体上に
合焦できる。記録または印刷画像の場合、走査ミラー58は省くことができ、走
査は走査方向における記録または印刷媒体を移動させることにより達成され、そ
の走査方向は図7においては図示の平面に対して直交し、即ち画像の向きに対し
て直交する。走査動作は勿論、二次元の連続的な画像線が印刷または記録できる
目的で、システム30におけるように電子的回路系70により画像生成を同期さ
せる必要が依然としてある。
ここで図8,9,10および11を参照すると、本発明に係るディスプレィ・
システムの他の実施例31が図示されている。照明構成は光源は32R、32G
および32B、球面レンズ36、および円筒状レンズを含み、これらはディスプ
レィ・システム30の同一の部品について上述したものと同様であり、その機能
も同様である。二軸コリメート光40は円筒レンズ42によりy軸に収束され(
矢印46)、残りはx軸にコリメートされる(図9参照)。細長いミラー80はz
軸上でz軸に対して45°に傾斜され、x軸に整合されている。ミラー80は円
筒レンズ42のためのテレセントリック絞りであ
る。収束光46はミラー80から反射された後に発散される。コリメート光40
はコリメートされたままである。
レンズ50はこの反射光の経路にあり、且つミラー80から概ね1焦点距離に
位置している。従ってレンズを透過した後は、コリメートされた線は収束し、且
つ発散線はコリメートされてz軸におけるy軸において整合したミラー80の画
像を形成する。GLVアレイ10はレンズ50からレンズ50の概ね1焦点距離
に離間して位置し、z軸上でy軸に整合されている。GLVアレイは従ってこの
像を妨げて、これにより照明される。
反射ビームおよび正負の一次回折ビームD+1およびD-1はGLVアレイ10か
ら帰還する。反射ビームはその初期経路に沿ってレンズ50を透過して帰還し、
ミラー80上へ戻って結像されて、次いで入射光経路に沿ってレンズ42へ向か
って戻るように指向される。従って反射光は観察者へ達することが防止される。
回折ビームD+1およびD-1はy軸に収束され(図8参照)、y軸にコリメートされ
(図9参照)、y軸においてミラー80の上下を通過する。走査ミラー80は、シ
ステム30について上述したように回折ビームD+1およびD-1を観察者64(図
11参照)の視野を横断して走査するために回折ビームD+1およびD-1を遮るよ
うに配置されている。
システム31において、レンズ50およびGLVアレイ10は共に、ミラー8
0からの光のためのユニット拡大屈曲テレセントリック・リレー79を形成する
。レンズ50は入射光方向においてGLVアレイ10のための照明構成の部分と
して(反射および回折光の方向において)、GLVアレイ10の拡大仮想像を観
察者へ(テレセントリック・リレーの第2のレンズとして)更に与えるように作
用する。GLVアレイ10は概ねテレセントリック・リ
レーの内部瞳P1に位置している。ミラー80はレンズ50の(回折および反射
光)射出瞳P2に位置している。
これに代えて、GLVアレイ10からの回折および反射光の視点からは、テレ
セントリック光学系81(Schlieren光学器)はGLVアレイ10、レンズ50
、および絞り54により形成され、ここでGLV10はレンズ50の外部対物位
置にあり、且つ絞り54はレンズ50の(外部)射出瞳にある。これは上述した
ディスプレィ・システム30に見出されるのと同様な構成である。
システム31の屈曲テレセントリック・リレーの利点は、それが正確な対称光
学系であることであり、これはコマのような奇収差から本質的に自由である。従
って、これはGLVアレイ10からの反射光において、ミラー80へ戻る反射光
の正確な再結像を可能とする。これは、システムにより与えら
れたディスプレィについて可能な高いコントラスト比を作る。このテレセントリ
ック・リレーの他の利点は、それが拡大接眼レンズの形式に拘わらず正確に対称
なことであり、これは、反射光の再結像、ひいてはコントラスト比の相当な妥協
を伴わずに特定の接眼レンズ形式およびそれについての選好最適化の選択の柔軟
性を可能とする。
図6および7のアイリリーフ・リレーおよびプロジェクタ/プリンタ構成もディ
スプレィ・システム31へ適用可能である。
例として、図8Aにおいては、システム31Aが図示されており、これは基本
的にシステム31から走査ミラー58を省き、投影レンズ51(図7参照)を付
加したものである。ドラム構成65は、印刷媒体67等を保持して走査するため
に設けられている。ドラム65(およびその上の媒体67)は、電子機器70お
よびアクセル63に共動するモータ65により矢印Fで示されるように回転する
。従って実像57(図7も参照)は、二次元画像を印刷または記録するように媒
体の面に亘って走査される。ドラム・スキャナ65は、ここでは単純化されて示
されている。本発明の分野に精通する当業者には、例えば商業的に入手可能なレ
ーザー・プリンタの走査エンジンおよびトナー展開構成のようなシート供給プリ
ンタには更に複雑な走査および構成が要求されることが認められるであろう。こ
のような構成は当該技術分野では公知であるので、そのような複雑な構成の詳細
な説明は本明細書には示さない。
システム31において、レンズ50はGLVアレイ10への光を空間的に分離す
るように合焦させるようにも機能するので、接眼レンズは、可能な限り輝度の高
いディスプレィを与えるためにより可能な限り多くの光を合焦
させる能力があり、且つ良好な画質を与える能力もあることは重要である。これ
に関して、接眼レンズ形式の特定の好ましいグループは、Kellner,
視野を有するレンズ50の利点は、複数の旋回ミラーを受け入れるのに充分に広
い入射瞳を持てることである。これは図12に示されており、ここでは三つの細
長い旋回ミラー80A、80B、および80Cがy−z平面に「venetian blind
」形式で積層されており、システム31のレンズ42からの光がそれらの間の如
何なる間隙にも遇わず、しかも好ましくは、y軸方向においてはそれらの間の間
隙が、GLVアレイ10へ入射する対応する光ビームからの回折光の最大および
最小回折角度を受け容れるのに充分に広くなるように離間されている。
ミラー80Bおよび80Cは、その一方が他方の(屈曲テレセントリック系の
)共役像位置にある。従ってミラー80Bから反射した光はミラー80Cへ再結
像し、逆にミラー80Cから反射した光はミラー80Bへ再結像する。軸方向に
位置するミラー80Aは上述したようにそれ自身に再結像する。効果的な多重ミ
ラー・システムにするためには、非軸方向位置ミラーが、共役像において対応す
る非軸方向位置ミラーを持たねばならない。従って、二つのみのミラーを有する
システムにおいては、双方のミラーが非軸方向位置でなければならず、一方が他
方の共役像位置にある。
単純化のために、ミラー80Aからの入射光ビーム46に対応するビームD-1
のみを図12に示す。光学分野の当業者には、ミラー80Bおよび80Cからの
他の回折ビームが如何に二つのミラーの周囲またはそれらの間に見出されるかが
図示から明らかであろう。
レンズ50の入射瞳P1(およびテレセントリック構成により入射瞳に一致す
る射出瞳P2)の有効な外観が図13に示されており、ここで点線円83は「理
論的に出現可能な」瞳を表す。影付き領域80A−Cは、瞳のこの領域がGLV
アレイ10へ入力する光のために利用可能であることを示し、点線D+1(C)と
D-1(B)との間の非影付き領域は、回折光の出力のために利用可能な瞳の領域
を示し、線D+1(C)とD-1(B)とは、それぞれミラー80Cおよび80Bか
ら入射する光からの最大回折角度により規定される。
接眼レンズ50は、システム30またはシステム31の何れにおいても、GL
Vアレイ10がレンズ50のテレセントリック対物位置から僅かに(レンズ50
から更に遠方へ)置換されたなら、GLVアレイ10からの反射光は依然として
、各々の絞り54または旋回ミラー60に充分に正確に結像または再結像して、
絞りまたはミラーが回折光から反射光を分離可能とし、一方、レンズ50の射出
瞳50を透過する回折光は、付加的な投影レンズ群を必要とすることなく、GL
Vアレイ10のよく補正された実像を形成するように収束する。このような構成
は図14に示されており、ここでは図6および図7におけるように、光学系が「
非屈曲形」として示され、走査ミラー58はレンズ50の射出瞳P2における線
として示されており、これはここでも走査ミラーについての好適な位置である。
レンズ50の射出瞳P2からスクリーン59の距離SDは、図示の便宜のための
みで、レンズからの瞳の距離PDに対して短くされている。実際には、SDはP
Dよりも二十倍以上長く、線D+1およびD−1は平行から辛うじて区別可能で
あり、且つ絞り54は後述するようにテレセントリック・システムの射出瞳に依
然として位置
することができる。
ディスプレイ・システム30および31は、GLVアレイ10の画像の線形走
査動作を与えるように角度的に走査される走査ミラーを採用して説明されたが、
これに限定して考えるべきではない。より効果的かまたは効果が少ない他の走査
構成の例を図15−17に示す。図15においては、回転反射部材82が走査動
作を与える。反射部材92は六角形断面を有し、且つ反射縦方向面94を有する
。GLVアレイ10および拡大レンズ50からの光D-1は面84から反射して使
用者の眼64へ向かう。反射部材82は矢印Cにより示されるように回転し、G
LVアレイの像は、矢印Bにより示されたように使用者の視野を横断して線形に
走査される。
ここで図16を参照すると、プリズム透過走査構成100は、走査動作を与え
るように変形または可変角度プリズム102を含む。プリズム102は、透明な
平面平行前方および後方部材104および106から形成されている。部材10
4および106は、液体または好ましくはオイル延伸透明エラストマー(好まし
くはオイル:エラストマー比は85:15以上)で充たされたV字状溝108を
形成するように互いに角度をなして向かい合わせて配置されている。このような
エラストマーは比較的に容易に変形され、弾性記憶を有するが、高オイル比にも
拘わらず、流動しない。このようなエラストマーおよびそれらの調整は米国特許
第4,618,213号に説明されている。部材106は、ディスプレィ・シス
テム30および31の走査ミラー58の方式において、矢印Aで示されるように
角度的に走査または振動される。この角度的動作は、矢印Bにより示されるよう
に、観察者の視野を線形に横断して走査されるようにプリズム102を透過する
光を生起する。
最後に、しかし全てを尽くしたわけではないが、更に他の走査構成110を図
17に示す。走査構成110は、正と負の透明レンズ素子112と114とをそ
れぞれ含む。好ましくは素子112および114の曲率は、素子の組み合わせが
ゼロ光学倍率を有するように選択される。正の素子112は、矢印Dにより示さ
れるように往復線形駆動される。これは矢印Bにより示されるように観察者の視
野を横断する光の対応する線形走査を引き起こす。光学分野に精通する当業者に
は勿論、素子112は固定でき、且つ素子114は同一の走査機構を与えるよう
に往復移動されることが判るであろう。
本発明に係るシステムについては、反射(回折)格子ライトバルブ・アレイを
参照して説明したが、光学分野の当業者には、本発明の原理は透過(回折)
ライトバルブ・アレイを含むシステムにも具現できることが明白であろう。これ
は図18に示されており、この図は最も関係しているという点で図4のシステム
30に類似するシステム30Tを示しているが、ここでは透過(回折)ライトバ
ルブ・アレイは円筒レンズ42と正レンズ50との間に配置されている。システ
ム30Tの
全ての他の素子はシステム30の対応する素子と同様な機能を有する。
本発明の分野に精通する当業者には、本発明の原理は立体視ディスプレィを与
えるようにも適用できる。単純な配置では、例えば立体視ディスプレィはGLV
アレイおよび観察者の両目のための適切な分離光学器を与えることにより形成し
得る。当業者には、各発明の要旨と目的から逸脱することなく他の構成を工夫し
得る。
本発明は好適実施例および他の実施例について説明および図示した。しかしな
がら本発明は、これらの説明および図示された実施例に限定されるものではない
。むしろ、本発明は添付の請求の範囲によってのみ制限される。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項
【提出日】平成11年3月30日(1999.3.30)
【補正内容】
ビデオ・データを受け取って、表示すべきビデオ・データの画像素子に対応する
ライトバルブ・アレイのモジュレータ部材を操作するために設けられている。
拡大光学系は、分離された回折光部分を介して観察者へ格子ライトバルブ・ア
レイの拡大像を与える。このシステムは、二次元像として観察者に示される拡大
された仮想像を引き起こすのに充分な率で二次元像を連続線を与えるように観察
者の視野を通じて拡大された像を走査する電子回路系に協同する走査デバイスを
含む。
本発明に係るディスプレィ・システムの一つの好適実施例においては、ライト
バルブ・アレイが反射格子ライトバルブ(GLV)アレイであり、これは離間し
て細長く可動で互いに並行に整列した反射部材を含む。可動反射部材の各々は、
固定された反射部材に対して、固定された反射部材が位置する面から並行且つ分
離した面を通じて個々に可動である。可動および固定反射部材は、対応する可動
および固定反射部材が共に、可動および固定反射部材の平面分離に依存して拡が
るそれへの入射光の回折および/または反射を引き起こすように形作られている
。
拡大光学系は拡大像を与える拡大レンズを含む。拡大レンズ、ライトバルブ・
アレイ、および反射光から回折光を分離する構成は、テレセントリック系として
構成されており、ここではライトバルブ・アレイと回折光分離構成とが、それぞ
れ拡大レンズのテレセントリック対象位置と射出瞳とに位置している。
を含む形式の接眼レンズのグループから選択された形式の拡大レンズであ
ることが好ましい。拡大レンズは、観察者がレンズを通じて直接に観察できるラ
イトバルブ・アレイの拡大された仮想像を与えるように配置してもよい。拡大レ
ンズはライトバルブ・アレイの拡大された実像をスクリーンのような受像面に投
影するように配置することもできる。図面の簡単な説明
本明細書に組み込まれてその一部をなす添付図面は、本発明の好適実施例を模
式的に示し、上述の一般的な説明および以下の好適実施例の詳細な説明と共に本
発明の原理を説明するのに役立てられる。
図1は本発明に係るディスプレィ・システムにおける使用に適する従来技術の
反射/回折格子ライトバルブ・アレイの一例の部分を模式的に示す断片的な斜視
図である。
図2はアレイ部分が反射体として働く図1の格子ライトバルブ・アレイ部分の
作動状態を模式的に示す概略的な断面図である。
図2Aはアレイ部分が反射体として働く図1の格子ライトバルブ・アレイ部分
の他の例の部分の作動状態を模式的に示す概略的な断面図である。
図3はアレイ部分が回折格子として働く図1の格子ライトバルブ・アレイ部分
の作動状態を模式的に示す概略的な断面図である。
図3Aはアレイ部分が回折格子として働く図2Aの格子ライトバルブ・アレイ
部分の他の例の作動状態を模式的に示す概略的な断面図である。
図4は本発明に係るディスプレィ・システムの一つの好適実施例を模式的に示
す概略的な断面図であり、このシステムは反射格子ライトバルブ・アレイ(GL
V)へ入射する光を生起する照明構成と、拡大接眼レンズ、GLV)から反射し
た光からGLVから回折光を分離するための射出瞳絞りと、観察
者の視野を横断する分離された回折光を走査する走査ミラーとを含む。
(図3参照)に用いられる光の1/4波長に選択されている。この状態では、可
動および固定部材から反射した光の間の破壊的な干渉は回折波面26(図3にお
ける正負の一次回折波面のみ)を形成し、これは矢印D+1およびD-1により示さ
れる入射面波面方向に対する角度において伝播する。
画像素子の全てまたは一部を示す可動および固定部材12および18の隣接す
る対またはこのような対の機能的グループは、「ライトバルブ」とみなせる。こ
のようにみなすことから、用語格子ライトバルブ(GLV)アレイは、この説明
の目的のために採用されている。
GLVアレイも上述したアレイ10と同様に製作することが可能であるが、そ
の反射部材の全ては基部20の上に張力をかけて吊り下げられている。これは図
2Aに示されている。アレイ10Aはアドレス・ラインその他(図示せず)を介
して、その交互の一つ12Aが空間光分離を与えるように可動であり、且つGL
Vアレイ10の能動要素と等しいように配置されている。各々の能動部材の間の
反射部材18A(各々は反射被覆14を含む)は、空間分離光のためのGLVア
レイ10Aの動作の間は移動せず、且つGLVアレイ10Aの固定即ち受動部材
と等しい。
GLVアレイ10Aは非作動状態であるように優先的に配置される。その全て
の反射部材は、能動および受動ともに反射面を有し、これは図2Aに示されたの
と同一の面上に置かれており、ここでGLVはそこに入射する光を反射するのみ
である。GLVアレイ10Aは、その能動即ち可動部材12Aが、図3Aに示す
ように能動即ち可動部材の面からの1/4波長面により分離された極限面におか
れて、基部20に接触しないときに偏向するように優先的に配置されている。
GLVアレイ10Aにより例示された形式のアレイは、GLVアレイ10によ
り例示された形式のアレイよりも製作が容易であり、二つのリトグラフ工程のみ
を用いて製作できる。基部20に接触しない可動部材を有することは、部材が基
部20に「貼り付き」、アレイの操作を損なう潜在的問題を回避する。GLVア
レイ10Aおよび同様なアレイの更なる詳細は、本発明の譲受人に譲渡された係
属中の出願第08/482,188号(1995年6月7日出願)に説明されて
おり、その開示事項全体は本明細書に引用により組み込まれている。
異なる色の三つの光源を光学系へ表すように起源の同一の点から発出させること
は、例えばフィリップス・プリズムとして光学の分野で良く知られている。従っ
て、このようなダイクロイック・フィルタ群の詳細な説明はここではなさない。
レンズ36は、単純な「球面」レンズ、即ちx軸およびy軸に等しい反射倍率
を有するレンズとして単純化されて示されている。図4において、y軸は図示の
面にあり、x軸は図示の面に対して直交している。このレンズの目的は光源から
の光を両方の軸へコリメートすることである。しかしながら、本発明の技術分野
に精通する当業者には、端部発光半導体レーザは一つの横軸(xまたはy軸)に
おいて他方よりもより発散し、しかもアスティグマティックシスであることが理
解されよう。このようなレーザーの出力ビームをコリメートすると共に、これを
所望のサイズへ拡大する手段は光学の分野では公知であり、また少なくとも一つ
の球面、非球面、トロイダルまたは円筒面(球面または非球面)レンズ素子を必
要とする。レンズ36はこのような素子の少なくとも一つのグループを表すよう
に意図されている。対称発光源32からの発散光38は、レンズ36を通過して
、x軸およびy軸の双方にコリメートされる。二軸コリメート光40は次いで円
筒レンズ42を通過する。用語「円筒形」は、一軸(ここではy軸)のみに反射
倍率を有するレンズ42を規定する。光学分野に精通する当業者には、レンズ4
2の面44は環状円筒形以外にもなし得ることが理解されよう。レンズ24の作
用は、それを透過する二軸コリメート光40をy軸へ収束(図4の線46)させ
、残りをx軸へコリメート(図5の線48)へコリメートさせる。ここでレンズ
42は上述したようなより多くの光学素子の一つから形成することもでき、
単純化のために単独の素子として示されているが、通常は単独のレンズ素子で充
分である。
GLVアレイ10は、円筒レンズ42から概ねこのレンズ42の焦点距離(f1
)に位置している。GLVアレイ10は、レンズ36および42の光軸に対応
するシステム光軸z上でx軸に整合する。GLV(リボン12)の操作面はz軸
に対して傾斜されている。図4において、GLVアレイ10は、z軸90度を有
効に曲げる軸に対して45度傾斜している。このGLVアレイ10の傾斜の選択
は、ここでは図示の便宜のためになされているのであって、これに限定して考え
るべきではない。
図5を参照すると、作動GLVアレイ10上に入射する光は、反射ビーム(矢
印48)と、それぞれ矢印D+1およびD-1で示される正負の一次回折ビームとを
生起する。これらの回折ビームはx軸におけるz軸に対して傾斜されている。y
軸において、回折および反射ビームは等しく発散する。回折および反射ビームは
次いで拡大(正)レンズ50を透過し、このレンズ50はGLVアレイ10から
レンズ50の焦点距離f2だけ離間されている。レンズ50は図5においては単
純化のために単独の素子として示されているが、実際のレンズ50は少なくとも
二つの素子を含み得る。レンズ50はシステム30のための接眼レンズとしての
働きを与え、好ましくは、Huygens,
式の公知のグループの一つから選択された形式の拡大レンズであることが好まし
く、これらの全ては少なくとも二つの素子を含む。
x軸において、反射ビームはz軸上の焦点に対して収束(矢印52)し、ここ
には、概ねレンズ50の外部テレセントリック射出瞳P2において細長
い絞り54が位置する。従ってシステム30のSchlieren光学器は、GLVアレ
イ10、拡大接眼レンズ50および絞り54を含むテレセントリック光学構成4
9の一部として規定でき、この構成においてはGLVアレイ10は概ねレンズ5
0の対物位置にあり、且つ絞り54は概ねレンズ50の外部(射出)瞳に位置す
る。テレセントリック系は、入射瞳および/または射出瞳が無限遠に位置する系
である。これは、系の僅かな収束ぼけに起因する測定または位置誤差を低減させ
る傾向にあるので、計測のために設計された光学系において広く用いられている
。この傾向は、以下に説明する本発明の特定の実施例に一般的におよび特定的に
採用された系の絞りおよび他の構成部品の位置における或る程度の許容差を許す
。
y軸(図4参照)において、発散反射光46(および回折光)は矢印56によ
り図示されたようにレンズ50によりコリメートされている。絞り54はy軸に
整合され、且つ反射光を遮断する。絞り54は吸収または反射に選択できる.絞
り54が反射であれば、絞りからの反射光はGLVアレイ10へ帰還する。しか
しながら回折ビームD+1およびD-1はz軸に対して傾斜し、対応入射および反射
ビームは絞り54の上下(または絞り54の反対側)の焦点へ収束するので、絞
り54により妨げられることなく射出瞳P2を透過する。
走査ミラー58は、回折ビームを妨げて、これらを観察者の眼64へ向かって
指向させる。観察者が見るものは、GLVアレイ10の(無限遠における)拡大
仮想像である。この像は図5においては線59により奇妙に示されているが、勿
論、ここには実際の像はないことが認められる。
GLVアレイ10の作動部材はM×Nディスプレィの連続的な異なる線
れたディスプレィについて可能な高いコントラスト比を作る。このテレセントリ
ック・リレーの他の利点は、それが拡大接眼レンズの形式に拘わらず正確に対称
なことであり、これは、反射光の再結像、ひいてはコントラスト比の相当な妥協
を伴わずに特定の接眼レンズ形式およびそれについての選好最適化の選択の柔軟
性を可能とする。
図6および7のアイリリーフ・リレーおよびブロジェクタ/プリンタ構成もディ
スプレィ・システム31へ適用可能である。
例として、図8Aにおいては、システム31Aが図示されており、これは基本
的にシステム31から走査ミラー58を省き、投影レンズ55(図7参照)を付
加したものである。ドラム構成65は、印刷媒体67等を保持して走査するため
に設けられている。ドラム65(およびその上の媒体67)は、電子機器70お
よびアクセル63に共動するモータ65により矢印Fで示されるように回転する
。従って実像57(図7も参照)は、二次元画像を印刷または記録するように媒
体の面に亘って走査される。ドラム・スキャナ65は、ここでは単純化されて示
されている。本発明の分野に精通する当業者には、例えば商業的に入手可能なレ
ーザー・プリンタの走査エンジンおよびトナー展開構成のようなシート供給プリ
ンタには更に複雑な走査および構成が要求されることが認められるであろう。こ
のような構成は当該技術分野では公知であるので、そのような複雑な構成の詳細
な説明は本明細書には示さない。
システム31において、レンズ50はGLVアレイ10への光を空間的に分離
するように合焦させるようにも機能するので、接眼レンズは、可能な限り輝度の
高いディスプレィを与えるためにより可能な限り多くの光を合焦
させる能力があり、且つ良好な画質を与える能力もあることは重要である。これ
に関して、接眼レンズ形式の特定の好ましいグループは、Kellner,
広視野を有するレンズ50の利点は、複数の旋回ミラーを受け入れるのに充分に
広い入射瞳を持てることである。これは図12に示されており、ここでは三つの
細長い旋回ミラー80A、80B、および80Cがy−z平面に「venetian bli
nd」形式で積層されており、システム31のレンズ42からの光がそれらの間の
如何なる間隙にも遇わず、しかも好ましくは、y軸方向においてはそれらの間の
間隙が、GLVアレイ10へ入射する対応する光ビームからの回折光の最大およ
び最小回折角度を受け容れるのに充分に広くなるように離間されている。
ミラー80Bおよび80Cは、その一方が他方の(屈曲テレセントリック系の
)共役像位置にある。従ってミラー80Bから反射した光はミラー80Cへ再結
像し、逆にミラー80Cから反射した光はミラー80Bへ再結像する。軸方向に
位置するミラー80Aは上述したようにそれ自身に再結像する。効果的な多重ミ
ラー・システムにするためには、非軸方向位置ミラーが、共役像において対応す
る非軸方向位置ミラーを持たねばならない。従って、二つのみのミラーを有する
システムにおいては、双方のミラーが非軸方向位置でなければならず、一方が他
方の共役像位置にある。
単純化のために、ミラー80Aからの入射光ビーム46に対応するビームD-1
のみを図12に示す。光学分野の当業者には、ミラー80Bおよび80Cからの
他の回折ビームが如何に二つのミラーの周囲またはそれらの間に見出されるかが
図示から明らかであろう。
レンズ50の入射瞳P1(およびテレセントリック構成により入射瞳に一致す
る射出瞳P2)の有効な外観が図13に示されており、ここで点線円83は「理
論的に出現可能な」瞳を表す。影付き領域80A−Cは、瞳のこの領域がGLV
アレイ10へ入力する光のために利用可能であることを示し、点線D+1(C)と
D-1(B)との間の非影付き領域は、回折光の出力のために利用可能な瞳の領域
を示し、線D+1(C)とD-1(B)とは、それぞれミラー80Cおよび80Bか
ら入射する光からの最大回折角度により規定される。
接眼レンズ50は、システム30またはシステム31の何れにおいても、GL
Vアレイ10がレンズ50のテレセントリック対物位置から僅かに(レンズ50
から更に遠方へ)置換されたなら、GLVアレイ10からの反射光は依然として
、各々の絞り54または旋回ミラー80に充分に正確に結像または再結像して、
絞りまたはミラーが回折光から反射光を分離可能とし、一方、レンズ50の射出
瞳50を透過する回折光は、付加的な投影レンズ群を必要とすることなく、GL
Vアレイ10のよく補正された実像を形成するように収束する。このような構成
は図14に示されており、ここでは図6および図7におけるように、光学系が「
非屈曲形」として示され、走査ミラー58はレンズ50の射出瞳P2における線
として示されており、これはここでも走査ミラーについての好適な位置である。
レンズ50の射出瞳P2からスクリーン59の距離SDは、図示の便宜のための
みで、レンズからの瞳の距離PDに対して短くされている。実際には、SDはP
Dよりも二十倍以上長く、線D+1およびD−1は平行から辛うじて区別可能で
あり、且つ絞り54は後述するようにテレセントリック・システムの射出瞳に依
然として位置
することができる。
ディスプレイ・システム30および31は、GLVアレイ10の画像の線形走
査動作を与えるように角度的に走査される走査ミラーを採用して説明されたが、
これに限定して考えるべきではない。より効果的かまたは効果が少ない他の走査
構成の例を図15−17に示す。図15においては、回転反射部材82が走査動
作を与える。反射部材92は六角形断面を有し、且つ反射縦方向面94を有する
。GLVアレイ10および拡大レンズ50からの光D-1は面94から反射して使
用者の眼64へ向かう。反射部材82は矢印Cにより示されるように回転し、G
LVアレイの像は、矢印Bにより示されたように使用者の視野を横断して線形に
走査される。
ここで図16を参照すると、ブリズム透過走査構成100は、走査動作を与え
るように変形または可変角度プリズム102を含む。プリズム102は、透明な
平面平行前方および後方部材104および106から形成されている。部材10
4および106は、液体または好ましくはオイル延伸透明エラストマー(好まし
くはオイル:エラストマー比は85:15以上)で充たされたV字状溝108を
形成するように互いに角度をなして向かい合わせて配置されている。このような
エラストマーは比較的に容易に変形され、弾性記憶を有するが、高オイル比にも
拘わらず、流動しない。このようなエラストマーおよびそれらの調整は米国特許
第4,618,213号に説明されている。部材106は、ディスプレィ・シス
テム30および31の走査ミラー58の方式において、矢印Aで示されるように
角度的に走査または振動される。この角度的動作は、矢印Bにより示されるよう
に、観察者の視野を線形に横断して走査されるようにプリズム102を透過する
光を生起する。
最後に、しかし全てを尽くしたわけではないが、更に他の走査構成110を図1
7に示す。走査構成110は、正と負の透明レンズ素子112と114とをそれ
ぞれ含む。好ましくは素子112および114の曲率は、素子の組み合わせがゼ
ロ光学倍率を有するように選択される。正の素子112は、矢印Dにより示され
るように往復線形駆動される。これは矢印Bにより示されるように観察者の視野
を横断する光の対応する線形走査を引き起こす。光学分野に精通する当業者には
勿論、素子112は固定でき、且つ素子114は同一の走査機構を与えるように
往復移動されることが判るであろう。
本発明に係るシステムについては、反射(回折)格子ライトバルブ・アレイを
参照して説明したが、光学分野の当業者には、本発明の原理は透過(回折)
請求の範囲
1.二次元画像を観察者へ表示するシステムであって、
格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)であり、互いに平行に整合されて離
間した細長い能動反射部材(12,12A)の列を含み、その能動反射部材の各
々は、対応する受動反射部材(18,18A)に関して、この受動反射部材が位
置する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能であることにより、前記
対応する能動および受動反射部材が共に、前記能動および受動反射部材の平面分
離に応じて、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折および/または反
射を生起させるようにされた格子ライトバルブ・アレイと、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)に入射する光を生起する照明
手段(32R,32G,32B,36,42)と、
前記入射光の非回折部分から前記入射光の回折部分を分離する手段(50,5
4)と、
表示される画像素子に対応する前記ライトバルブ・アレイの前記操作素子を操
作する電子的手段(70)と、
前記ライトバルブ・アレイの拡大画像を前記分離された回折光部分を介して観
察者へ与える拡大レンズ手段(50)と、
走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大画像を観察者の視野に
亘り走査して二次元画像の連続ラインを表すようにすることにより、前記拡大画
像を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備えるディスプレィ・システム
。
2.請求項1のディスプレィ・システムであって、前記格子ライトバルブ・アレ
イ(10.10A)の前記拡大像が、仮想像であり、且つ前記拡大レンズ手
段を通じて観察者により可視であるディスプレィ・システム。
3.請求項1のディスプレィ・システムであって、前記格子ライトバルブ・アレ
イ(10,10A)の前記拡大像が、観察者により可視である受像面上へ結像さ
れるように前記拡大レンズ手段により投影された実像であり、且つ前記走査手段
により前記受像面に亘って走査されるディスプレィ・システム。
4.請求項1のディスプレィ・システムであって、前記拡大レンズ手段(50)、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)、および前記回折光分離手段(5
0,54)が、テレセントリック系(49)として配置され、ここで前記格子ラ
イトバルブ・アレイと前記回折光分離手段とは、それぞれ概ね前記拡大レンズ手
段のテレセントリック対物位置と射出瞳位置とに配置されているディスプレィ・
システム。
5.請求項4のディスプレィ・システムであって、前記拡大レンズ手段(50)
が接眼レンズであるディスプレィ・システム。
6.請求項5のディスプレィ・システムであつて、前記接眼レンズが、Huygens
,
ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム
7.請求項4のディスプレィ・システムであって、前記拡大像が、前記拡大レン
ズ手段を通じて観察者により観察される仮想像であるディスプレィ・システム。
8.請求項7のディスプレィ・システムであって、前記走査手段が、概ね前記拡
大レンズ手段(50)の前記射出瞳に位置するディスプレィ・システム。
9.請求項8のディスプレィ・システムであって、前記走査手段から離れた前記
射出瞳の画像を与えるように、前記走査手段を射出する光の光路に配置され
た光学的リレー(51,53)を更に含むディスプレィ・システム。
10.請求項4のディスプレィ・システムであって、前記拡大画像が、実像であり
、観察者により可視である受像面に結像するように前記拡大レンズ手段により投
影されるディスプレィ・システム。
11.請求項10のディスプレィ・システムであって、前記受像面が、可視スクリ
ーンであるディスプレィ・システム。
12.観察者により観察されるように受像面へ二次元画像を投影するディスプレィ
・システムであって、
格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)であり、互いに平行に整合されて
離間した細長い能動反射部材(12,12A)の列を含み、その能動反射部材の
各々は、対応する受動反射部材(18,18A)に関して、この受動反射部材が
位置する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能であることにより、前
記対応する能動および受動反射部材が共に、前記能動および受動反射部材の平面
分離に応じて、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折および/または
反射を生起させるようにされた格子ライトバルブ・アレイと、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)に入射する光を生起する照明
手段(32R,32G,32B,36,42)と、
前記格子ライトバルブ・アレイからの光の非回折部分から前記格子ライトバル
ブ・アレイからの光の回折部分を分離する手段(50,54)と、
表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A
)の前記操作素子を操作する電子的手段(70)と、
前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された実像を前記分離された回折光部分
を介して前記受像面へ投影する投影レンズ手段であり、第1と第2のレンズ
素子群(50,55)を含む投影レンズ手段と、
走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大画像を前記受像面を見
る観察者の視野に亘り走査して二次元画像の連続ラインを表すようにすることに
より、前記拡大画像を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備え、
前記第1レンズ素子群(50)と前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10
A)と前記回折光分離手段(50,54)とが、テレセントリック系(49)と
して配置され、ここで前記格子ライトバルブ・アレイど前記回折光分離手段とは
、それぞれ概ね前記第1レンズ素子群のテレセントリック対物位置と射出瞳位置
とに配置されていると共に、前記第1レンズ素子群の前記射出瞳は、前記第1レ
ンズ素子群と前記第2レンズ素子群との間に位置しているディスプレィ・システ
ム。
13.請求項12のディスプレィ・システムであって、前記走査手段が、概ね前記
第1レンズ素子群(50)の前記射出瞳に位置するディスプレィ・システム。
14.請求項12のディスプレィ・システムであって、前記第1レンズ素子群(5
0)が接眼レンズであるディスプレィ・システム。
15.請求項14のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens
,
ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。
16.二次元画像を観察者へ表示するディスプレィ・システムであって、
格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)であり、互いに平行に整合されて
離間した細長い能動反射部材(12,12A)の列を含み、その能動反射部材の
各々は、対応する受動反射部材(18,18A)に関して、この受動反射部材が
位置する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能であることに
より、前記対応する能動および受動反射部材が共に、前記能動および受動反射部
材の平面分離に応じて、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折および
/または反射を生起させるようにされた格子ライトバルブ・アレイと、
光軸を有する屈曲テレセントリック第1光学リレー(79,80)であり、前
記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)と、負レンズと、一つの細長い旋
回ミラー構成とを含み、前記旋回ミラー構成は、前記第1光学リレーの前記光軸
上で前記第1光学リレーの概ね対物位置において前記負レンズの一方側に位置し
、且つ前記第1光学リレーの前記光軸に対して傾斜されると共に、前記格子ライ
トバルブ・アレイは、前記前記第1光学リレーの前記光軸上で前記第1光学リレ
ーの概ね内部瞳位置において前記負レンズの他方側に位置する第1光学リレーと
を備えると共に、
前記旋回ミラー構成(80)は、それに光源(32R,32G,32B)から
入射する光が前記負レンズ(50)を透過して指向されて、この指向された光が
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)へ入射するように配置されてお
り、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)は、ここから反射されて前記
負レンズ(50)を透過する光の部分が前記旋回ミラー構成(80)に結像され
て、この旋回ミラー構成により前記光源(32R,32G,32B)へ指向され
るように配置されており、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)は、ここから回折された光の
前記部分が、前記負レンズ(50)を透過して前記旋回ミラー構成(80)を通
過して、前記負レンズの外部瞳を通じて観察者へ向かって指向されるように配置
されており、
前記旋回ミラー構成(80)は、前記回折光部分のみを観察者と前記負レンズ
(50)へ到達させることにより、前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された
仮想像を、観察者への前記入射光の前記回折部分を介して与え、更に、
表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射
部材(12,12A)を移動させる電子的手段(70)と、前記負レンズから観
察者へ向かう前記回折光部分の経路に位置する走査手段であり、この走査手段は
、前記モジュレータ手段に共働して、前記拡大された仮想像を観察者の視野に亘
り走査して、前記拡大された仮想像を二次元画像として表す走査手段とを備える
ディスプレィ・システム。
17.請求項16のディスプレィ・システムであって、前記負レンズ(50)が接
眼レンズであるディスプレィ・システム。
18.請求項17のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens
,
ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。
19.請求項16のディスプレィ・システムであって、前記負レンズ(50)の前
記射出瞳を透過する前記回折光部分の光路に配置された第2の光学的リレー(5
1,53)を更に含み、この光学的リレーは、前記走査手段から離れた前記射出
瞳の画像を与えるディスプレィ・システム。
20.請求項16のディスプレィ・システムであって、前記細長い旋回ミラー構成
(80)が、少なくとも二つの細長い旋回ミラーを含むディスプレィ・システム
。
21.請求項20のディスプレィ・システムであって、前記負レンズが接眼レンズ
であるディスプレィ・システム。
22.請求項21のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Kellner
,
式であるディスプレィ・システム。
23.請求項20のディスプレィ・システムであって、前記負レンズの前記射出瞳
を透過する前記回折光部分の光路に配置された第2の光学的リレー手段を更に含
み、この光学的リレーは、前記走査手段から離れた前記射出瞳の画像を与えるデ
ィスプレィ・システム。
24.二次元画像を観察者により観察される受像面へ投影するディスプレイ・シス
テムであって、
格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)であり、互いに平行に整合されて
離間した細長い能動反射部材(12,12A)の列を含み、その能動反射部材の
各々は、対応する受動反射部材(18,18A)に関して、この受動反射部材が
位置する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能であることにより、前
記対応する能動および受動反射部材が共に、前記能動および受動反射部材の平面
分離に応じて、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折および/または
反射を生起させるようにされた格子ライトバルブ・アレイと、
光軸を有する屈曲テレセントリック光学リレー(79,80)であり、前記格
子ライトバルブ・アレイ(10,10A)と、負レンズ(50)と、一つの細長
い旋回ミラー構成(80)とを含み、前記旋回ミラー構成は、前記光学リレーの
前記光軸上で前記光学リレーの概ね対物位置において前記負レンズの一方側に位
置し、且つ前記第1光学リレーの前記光軸に対して傾斜されると共に、前記格子
ライトバルブ・アレイは、前記前記光学リレーの前記光軸上で前記光学リレーの
概ね内部瞳位置において前記負レンズの他方側に位置する光学リレ
ーとを備えると共に、
前記旋回ミラー構成(80)は、それに光源(32R,32G,32B)から
入射する光が前記負レンズ(50)を透過して指向されて、この指向された光が
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)へ前記旋回ミラー構成の像とし
て入射するように配置されており、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)は、ここから反射されて前記
負レンズ(50)を透過する光の部分が前記負レンズにより前記旋回ミラー構成
(80)上に結像されて、この旋回ミラー構成により前記光源(32R,32G
,32B)へ指向されるように配置されており、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)は、ここから回折された光の
前記部分が、前記負レンズ(50)を透過して前記旋回ミラー構成(80)の両
側で前記旋回ミラー構成を通過して、前記負レンズの外部瞳を通じて観察者へ向
かって指向されるように配置されており、
前記旋回ミラー構成(80)は、前記回折光部分のみを前記受像面へ到達させ
、前記負レンズ(50)と前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)とは
、前記負レンズ(50)が、前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された実像を
、観察者により見られる前記受像面へ結像させるように前記入射光の前記回折部
分を介して投影させるように配置され、更に、
表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射
部材(12,12A)を移動させる電子的手段(70)と、前記負レンズから前
記受像面へ向かう前記回折光部分の経路に位置する走査手段であり、この走査手
段は、前記電子的手段に共働して、前記拡大された仮想像を前記受像面に亘って
走査して、前記走査された拡大された実像を二次元画像として観察者
へ表す走査手段とを備えるディスプレィ・システム。
25.請求項24のディスプレィ・システムであって、前記負レンズ(50)が接
眼レンズであるディスプレィ・システム。
26.請求項25のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens
,
ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。
27.請求項24のディスプレィ・システムであって、前記細長い旋回ミラー構成
が、少なくとも二つの細長い旋回ミラーを含むディスプレィ・システム。
28.請求項27のディスプレィ・システムであって、前記負レンズが接眼レンズ
であるディスプレィ・システム。
29.請求項28のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Kellner
,
式であるディスプレィ・システム。
30.二次元画像を印刷媒体上に印刷するシステムであって、
格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)であり、互いに平行に整合されて
離間された細長い能動反射部材(12,12A)の列を含み、前記能動反射部材
の各々は、対応する受動反射部材(18,18A)に関して、この受動反射部材
が位置する平面に対して平行な平面を通じて個々に可動であり、前記対応する能
動および受動反射部材は共に、前記能動および受動反射部材の平面分離に応じて
、前記能動および受動反射部材に入射する光の回折および/または反射を生起す
るようにされた格子ライトバルブ・アレイと、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)に入射する光を生起する照明
手段(32R,32G,32B,36,42)と、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)からの光の反射部分から前記
格子ライトバルブ・アレイからの光の回折部分を分離する手段(50,54,8
0)と、
表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A
)の前記能動反射部材を移動させる電子的手段(70)と、
前記格子ライトバルブ・アレイ(10,10A)の拡大された実像を前記分離
されて回折された光部分を介して前記印刷媒体へ投影する拡大レンズ手段(50
)と、
前記電子的手段に共働して、前記拡大された実像に関して前記印刷媒体を移動
させて、前記拡大された実像を二次元画像の連続線を前記印刷媒体上の連続位置
に規定させる走査手段とを備えるシステム。
31.請求項30記載のシステムであって、前記拡大レンズ手段(50)と前記格
子ライトバルブ・アレイ(10,10A)と前記回折光分離手段(50,54,
80)とが、テレセントリック系として配置され、ここで前記格子ライトバルブ
・アレイと前記回折光分離手段とは、それぞれ前記拡大レンズ手段の概ねテレセ
ントリック対物位置と概ね射出瞳とに配置されているシステム。
32.請求項30のシステムであって、前記負レンズ(50)が接眼レンズである
システム。
およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選択された形式であるシス
テム。
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フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L
U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF
,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,
SN,TD,TG),AP(GH,GM,KE,LS,M
W,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY
,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM
,AU,BB,BG,BR,CA,CN,CZ,EE,
FI,GE,HU,IS,JP,KG,KP,KR,L
K,LR,LT,LV,MD,MG,MK,MN,MX
,NO,NZ,PL,RO,SG,SI,SK,TR,
TT,UA,UZ,VN
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.二次元画像を表示するシステムであって、 回折ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて細長い個々に操作 可能な離間されたモジュレータ部材の列を含み、その各々のモジュレータ部材は 、それに入射した光の回折を前記操作可能部材の操作状態により決定された広が りとなるように生起させる回折ライトバルブ・アレイと、 前記ライトバルブ・アレイに入射する光を生起する照明手段と、 前記入射光の非回折部分から前記入射光の回折部分を分離する手段と、 表示される画像素子に対応する前記ライトバルブ・アレイの前記操作素子を操 作する電子的手段と、 前記ライトバルブ・アレイの拡大画像を前記分離された回折光部分を介して観 察者へ与える拡大レンズ手段と、 走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大画像を観察者の視野に 亘り走査して二次元画像の連続ラインを表すようにすることにより、前記拡大画 像を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備えるディスプレィ・システム 。 2.請求項1のディスプレィ・システムであって、前記ライトバルブ・アレイが 格子ライトバルブ・アレイであり、且つ前記可動部材が反射であり、前記可動反 射部材の各々は、平面を通じて対応する固定反射部材に関して個々に可動であり 、その平面は、前記固定反射部材が位置する平面に対して平行且つ離隔されてお り、前記対応する可動および固定反射部材は共に、それに入射する光の回折およ び/または反射を前記可動および固定反射部材の平面分離に依存して生起するデ ィスプレィ・システム。 3.請求項1のディスプレィ・システムであって、前記ライトバルブ・アレイの 前記拡大画像が、仮想像であって、観察者により前記拡大レンズ手段を通じて観 察されるディスプレィ・システム。 4.請求項1のディスプレィ・システムであって、前記ライトバルブ・アレイの 前記拡大画像が、観察者により可視である受像面に結像する前記拡大レンズ手段 により投影された実像であり、且つ前記走査手段により前記受像面に亘って走査 されるディスプレィ・システム。 5.二次元画像を表示するシステムであって、 回折ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて細長い個々に操作 可能な離間されたモジュレータ部材の列を含み、その各々のモジュレータ部材は 、それに入射した光の回折を前記操作可能部材の操作状態により決定された広が りとなるように生起させる回折ライトバルブ・アレイと、 前記ライトバルブ・アレイに入射する光を生起する照明手段と、 前記ライトバルブ・アレイからの光の非回折部分から前記ライトバルブ・アレ イからの光の回折部分を分離する手段と、 表示される画像素子に対応する前記ライトバルブ・アレイの前記操作素子を操 作する電子的手段と、 前記ライトバルブ・アレイの拡大画像を前記分離されて回折されて空間的に分 離された光部分を介して観察者へ与える拡大レンズ手段と、 走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大画像を観察者の視野に 亘り走査して二次元画像の連続ラインを表すようにすることにより、前記拡大画 像を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備えると共に、 前記拡大レンズ手段、前記ライトバルブ・アレイ、および前記回折光分離手 段が、テレセントリック系として配置され、ここで前記ライトバルブ・アレイと 前記回折光分離手段とは、それぞれ概ね前記拡大レンズ手段のテレセントリック 対物位置と射出瞳位置とに配置されているディスプレィ・システム。 6.請求項5のディスプレィ・システムであって、前記拡大レンズ手段が接眼レ ンズであるディスプレィ・システム。 7.請求項5のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。 8.請求項5のディスプレィ・システムであって、前記ライトバルブ・アレイが 透過回折ライトバルブ・アレイであるディスプレィ・システム。 9.請求項5のディスプレィ・システムであって、前記ライトバルブ・アレイの 前記拡大画像が、観察者により前記拡大レンズ手段を通じて観察される仮想像で あるディスプレィ・システム。 10.請求項9のディスプレィ・システムであって、前記走査手段が、概ね前記拡 大接眼レンズ手段の前記射出瞳に位置するディスプレィ・システム。 11.請求項10のディスプレィ・システムであって、前記走査手段から離れた前 記射出瞳の画像を与えるように、前記走査手段を射出する光の光路に配置された 光学的リレーを更に含むディスプレィ・システム。 12.請求項5のディスプレィ・システムであって、前記拡大画像が、実像であり 、観察者により可視である受像面に結像する前記拡大レンズ手段により投影され るディスプレィ・システム。 13.請求項12のディスプレィ・システムであって、前記受像面が、可視スクリ ーンであるディスプレィ・システム。 14.二次元画像を投影するディスプレィ・システムであって、 回折ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて細長い個々に操作 可能な離間されたモジュレータ部材の列を含み、その各々のモジュレータ部材は 、それに入射した光の回折を前記操作可能部材の操作状態により決定された広が りとなるように生起させる回折ライトバルブ・アレイと、 前記ライトバルブ・アレイに入射する光を生起する照明手段と、 前記ライトバルブ・アレイからの光の非回折部分から前記ライトバルブ・アレ イからの光の回折部分を分離する手段と、 表示される画像素子に対応する前記ライトバルブ・アレイの前記操作素子を操 作する電子的手段と、 前記ライトバルブ・アレイの拡大された実像を前記分離されて回折された光部 分を介して受像面へ投影する投影レンズ手段であり、第1と第2のレンズ素子群 を含む投影レンズ手段と、 走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大匪像を前記受像面を見 る観察者の視野に亘り走査して二次元画像の連続ラインを表すようにすることに より、前記拡大画像を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備えると共に 、 前記第1のレンズ素子群、前記ライトバルブ・アレイ、および前記回折光分離 手段が、テレセントリック系として配置され、ここで前記ライトバルブ・アレイ と前記回折光分離手段とは、それぞれ概ね前記第1素子群のテレセントリック対 物位置と射出瞳位置とに配置され、且つ前記第1素子群の前記射出瞳は前記第1 素子群と前記第2素子群との間に配置されているディスプレィ・システム。 15.請求項14のディスプレィ・システムであって、前記走査手段が、概ね前記 第1レンズ素子群の前記射出瞳に位置するディスプレィ・システム。 16.請求項14のディスプレィ・システムであって、前記拡大レンズ手段が接眼 レンズであるディスプレィ・システム。 17.請求項16のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。 18.二次元画像を与えるシステムであって、 格子ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて離間された細長い 可動反射部材の列を含み、前記能動反射部材の各々は、対応する受動反射部材に 関して平面を通じて個々に可動であり、その平面は、前記受動反射部材が位置す る平面に対して平行であり、前記対応する能動および受動反射部材は共に、それ に入射する光の回折および/または反射を前記能動および受動反射部材の平面分 離に依存して生起するようにされた格子ライトバルブ・アレイと、 前記格子ライトバルブ・アレイに入射する光を生起する照明手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイからの光の非回折部分から前記格子ライトバル ブ・アレイからの光の回折部分を分離する手段と、 表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射 部材を移動させる電子的手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された仮想像を前記分離されて回折され た光部分を介して観察者へ与える拡大レンズ手段と、 走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大された仮想像を観察者 の視野に亘り走査して、前記拡大された仮想像を二次元画像として観察者へ 表す走査手段とを備えると共に、 前記拡大レンズ手段、前記ライトバルブ・アレイ、および前記回折光分離手段 が、テレセントリック系として配置され、ここで前記ライトバルブ・アレイと前 記回折光分離手段とは、それぞれ概ね前記拡大レンズ手段のテレセントリック対 物位置と射出瞳位置とに配置されているディスプレィ・システム。 19.請求項18のディスプレィ・システムであって、前記拡大レンズ手段が接眼 レンズであるディスプレィ・システム。 20.請求項18のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。 21.請求項18のディスプレィ・システムであって、前記走査手段が、概ね前記 拡大レンズの前記射出瞳に位置するディスプレィ・システム。 22.請求項21のディスプレィ・システムであって、前記走査手段を射出する光 の光路に配置された光学的リレーを更に含み、この光学的リレーは、前記走査手 段から離れた前記射出瞳の画像を与えるディスプレィ・システム。 23.二次元画像を与えるディスプレィ・システムであって、 細長い格子ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて離間された 細長い能動反射部材の列を含み、前記能動反射部材の各々は、対応する受動反射 部材に関して平面を通じて個々に可動であり、その平面は、前記受動反射部材が 位置する平面に対して平行であり、前記対応する能動および受動反射部材は共に 、それに入射する光の回折および/または反射を前記能動および受動反射部材の 平面分離に依存して生起するようにされた格子ライトバルブ・アレイと、 光軸を有する屈曲テレセントリック第1光学リレーであり、前記格子ライトバ ルブ・アレイと、負レンズと、一つの細長い旋回ミラーとを含み、前記旋回ミラ ーは、前記第1光学リレーの前記光軸上で前記第1光学リレーの概ね対物位置に おいて前記負レンズの一方側に位置し、且つ前記第1光学リレーの前記光軸に対 して傾斜されると共に、前記格子ライトバルブ・アレイは、前記前記第1光学リ レーの前記光軸上で前記第1光学リレーの概ね内部瞳位置において前記負レンズ の他方側に位置する第1光学リレーとを備えると共に、 前記旋回ミラーは、それに入射する光が前記負レンズを透過して指向されて、 この指向された光が前記格子ライトバルブ・アレイへ入射するように配置されて おり、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから反射されて前記負レンズを透過す る光の部分が前記旋回ミラーに結像されて、この旋回ミラーにより前記光源へ指 向されるように配置されており、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから回折された光の前記部分が、前記 負レンズを透過して前記旋回ミラーの両側で前記旋回ミラーを通過して、前記負 レンズの外部瞳を通じて観察者へ向かって指向されるように配置されており、 前記旋回ミラーは、前記回折光部分のみを観察者へ到達させると共に、前記負 レンズは、前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された仮想像を、観察者への前 記入射光の前記回折部分を介して与え、更に、 表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射 部材を移動させる電子的手段と、前記負レンズから観察者へ向かう前記回折光部 分の経路に位置する走査手段であり、この走査手段は、前記モジュレータ 手段に共働して、前記拡大された仮想像を観察者の視野に亘り走査して、前記拡 大された仮想像を二次元画像として表す走査手段とを備えるディスプレィ・シス テム。 24.請求項23のディスプレィ・システムであって、前記負レンズが接眼レンズ であるディスプレィ・システム。 25.請求項24のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。 26.請求項23のディスプレィ・システムであって、前記負レンズの前記射出瞳 を透過する前記回折光部分の光路に配置された第2の光学的リレーを更に含み、 この光学的リレーは、前記走査手段から離れた前記射出瞳の画像を与えるディス プレィ・システム。 27.二次元画像を与えるディスプレィ・システムであって、 細長い格子ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて離間された 細長い能動反射部材の列を含み、前記第1反射部材の各々は、対応する受動反射 部材に関して平面を通じて個々に可動であり、その平面は、前記受動反射部材が 位置する平面に対して平行であり、前記対応する能動および受動反射部材は共に 、それに入射する光の回折および/または反射を前記能動および受動反射部材の 平面分離に依存して生起するようにされた格子ライトバルブ・アレイと、 光軸を有する屈曲テレセントリック第1光学リレーであり、前記格子ライトバ ルブ・アレイと、負レンズと、少なくとも二つの細長い旋回ミラーとを含み、前 記旋回ミラーは、前記第1光学リレーの前記光軸上で前記第1光学リレーの 概ね対物位置において前記負レンズの一方側に位置し、且つ前記少なくとも二つ の旋回ミラーの一方は、他方の旋回ミラーの共役像位置に近似する前記光軸の両 側に位置し、且つ前記少なくとも二つの旋回ミラーの各々は、前記光軸に対して 傾斜されると共に、前記格子ライトバルブ・アレイは、前記第1光学リレーの光 軸上で前記第1光学リレーの内部瞳位置における少なくとも二つの旋回ミラーに 対して前記負レンズの他方側に位置する第1光学リレーとを備えると共に、 前記旋回ミラーは、それに入射する光が前記負レンズを透過して第1の方向へ 指向されて、この指向された光が前記格子ライトバルブ・アレイへ入射するよう に配置されており、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから反射された入射光の部分が前記第 1の方向の反対側の第2の方向へ前記負レンズを透過して、前記旋回ミラーの各 々に結像されて、この旋回ミラーにより前記光源へ指向されるように配置されて おり、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから回折された光の前記部分が、前記 第2の方向で前記負レンズを透過して前記旋回ミラーの両側で前記旋回ミラーを 通過して、前記負レンズの外部瞳を通じて観察者へ向かって指向されるように配 置されており、 前記旋回ミラーは、前記回折光部分のみを観察者へ到達させると共に、前記負 レンズは、前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された仮想像を、観察者への前 記回折光部分を介して与え、更に、 表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射 部材を移動させる電子的手段と、前記負レンズから観察者へ向かう前記回折 光部分の経路に位置する走査手段であり、この走査手段は、前記電子的手段に共 働して、前記拡大された仮想像を観察者の視野に亘り走査して、前記拡大された 仮想像を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備えるディスプレィ・シス テム。 28.請求項27のディスプレィ・システムであって、前記負レンズが接眼レンズ であるディスプレィ・システム。 29.請求項28のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。 30.請求項27のディスプレィ・システムであって、前記負レンズの前記射出瞳 を透過する前記回折光部分の光路に配置された第2の光学的リレー手段を更に含 み、この光学的リレー手段は、前記走査手段から離れた前記射出瞳の画像を与え るディスプレィ・システム。 31.二次元画像を投影するディスプレィ・システムであって、 細長い格子ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて離間された 細長い能動反射部材の列を含み、前記能動反射部材の各々は、対応する受動反射 部材に関して平面を通じて個々に可動であり、その平面は、前記受動反射部材が 位置する平面に対して平行であり、前記対応する能動および受動反射部材は共に 、それに入射する光の回折および/または反射を前記能動および受動反射部材の 平面分離に依存して生起するようにされた格子ライトバルブ・アレイと、 光軸を有する屈曲テレセントリック光学リレーであり、前記第1光学リレーは 、前記格子ライトバルブ・アレイと、負レンズと、一つの細長い旋回ミラー とを含み、前記旋回ミラーは、前記第1光学リレーの前記光軸上で前記第1光学 リレーの概ね対物位置において前記負レンズの一方側に位置し、且つ前記第1光 学リレーの前記光軸に対して傾斜されると共に、前記格子ライトバルブ・アレイ は、前記前記屈曲テレセントリック光学リレーの前記光軸上で前記屈曲テレセン トリック光学リレーの概ね内部瞳位置において前記負レンズの他方側に位置する 屈曲テレセントリック光学リレーとを備えると共に、 前記旋回ミラーは、それに入射する光が前記負レンズを透過して指向されて、 この指向された光が前記旋回ミラーの像として前記格子ライトバルブ・アレイへ 入射するように配置されており、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから反射されて前記負レンズを透過す る光の部分が前記負レンズにより前記旋回ミラーに結像されて、この旋回ミラー により前記光源へ指向されるように配置されており、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから回折された光の前記部分が、前記 負レンズを透過して前記旋回ミラーの両側で前記旋回ミラーを通過して、前記負 レンズの外部瞳を通じて観察者へ向かって指向されるように配置されており、 前記旋回ミラーは、前記回折光部分のみを観察者へ到達させると共に、前記負 レンズと前記格子ライトバルブ・アレイとは、前記負レンズが、前記格子ライト バルブ・アレイの拡大された実像を、前記入射光の前記回折部分を介して観察者 により可視な受像面へ投影するように配置されており、更に、 表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射 部材を移動させる電子的手段と、前記負レンズから観察者へ向かう前記回折光部 分の経路に位置する走査手段であり、この走査手段は、前記電子的手段に 共働して、前記拡大された仮想像を前記受像面に亘り走査して、前記拡大された 実像を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備えるディスプレィ・システ ム。 32.請求項31のディスプレィ・システムであって、前記負レンズが接眼レンズ であるディスプレィ・システム。 33.請求項32のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム 34.二次元画像を投影するディスプレィ・システムであって、 細長い格子ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて離間された 細長い能動反射部材の列を含み、前記第1反射部材の各々は、対応する受動反射 部材に関して平面を通じて個々に可動であり、その平面は、前記受動反射部材が 位置する平面に対して平行であり、前記対応する能動および受動反射部材は共に 、それに入射する光の回折および/または反射を前記能動および受動反射部材の 平面分離に依存して生起するようにされた格子ライトバルブ・アレイと、 光軸を有する屈曲テレセントリック第1光学リレーであり、この第1光学リレ ーは、前記格子ライトバルブ・アレイと、負レンズと、少なくとも二つの細長い 旋回ミラーとを含み、前記旋回ミラーは、前記第1光学リレーの前記光軸上で前 記第1光学リレーの概ね対物位置において前記負レンズの一方側に位置し、且つ 前記少なくとも二つの旋回ミラーの一方は、他方の旋回ミラーの共役像位置に近 似する前記光軸の両側に位置し、且つ前記少なくとも二つの旋回ミラーの各々は 、前記光軸に対して傾斜されると共に、前記格子ライトバルブ・ アレイは、前記第1光学リレーの光軸上で前記第1光学リレーの内部瞳位置にお ける少なくとも二つの旋回ミラーに対して前記負レンズの他方側に位置する第1 光学リレーとを備えると共に、 前記旋回ミラーは、それに入射する光が前記負レンズを透過して第1の方向へ 指向されて、この指向された光が前記格子ライトバルブ・アレイへ入射するよう に配置されており、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから反射された入射光の部分が前記第 1の方向の反対側の第2の方向へ前記負レンズを透過して、前記旋回ミラーの各 々に結像されて、この旋回ミラーにより前記光源へ指向されるように配置されて おり、 前記格子ライトバルブ・アレイは、ここから回折された光の前記部分が、前記 第2の方向で前記負レンズを透過して前記旋回ミラーの両側で前記旋回ミラーを 通過して、前記負レンズの外部瞳を通じて観察者へ向かって指向されるように配 置されており、 前記旋回ミラーは、前記回折光部分のみを観察者へ到達させると共に、前記負 レンズと前記格子ライトバルブ・アレイとは、前記負レンズが、前記格子ライト バルブ・アレイの拡大された実像を、前記入射光の前記回折部分を介して観察者 により可視な受像面へ投影するように配置されており、更に、 表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射 部材を移動させる電子的手段と、前記負レンズから前記受像面へ向かう前記回折 光部分の経路に位置する走査手段であり、この走査手段は、前記電子的手段に共 働して、前記拡大された実像を前記受像面に亘り走査して、前記拡大された実像 を二次元画像として観察者へ表す走査手段とを備えるディスプレィ・ システム。 35.請求項34のディスプレィ・システムであって、前記負レンズが接眼レンズ であるディスプレィ・システム。 36.請求項35のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。 37.二次元画像を印刷媒体へ印刷するシステムであって、 格子ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて離間された細長い 可動反射部材の列を含み、前記能動反射部材の各々は、対応する受動反射部材に 関して平面を通じて個々に可動であり、その平面は、前記受動反射部材が位置す る平面に対して平行であり、前記対応する能動および受動反射部材は共に、それ に入射する光の回折および/または反射を前記能動および受動反射部材の平面分 離に依存して生起するようにされた格子ライトバルブ・アレイと、 前記格子ライトバルブ・アレイに入射する光を生起する照明手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイからの光の反射部分から前記格子ライトバルブ ・アレイからの光の回折部分を分離する手段と、 表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射 部材を移動させる電子的手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された実像を前記分離されて回折された 光部分を介して前記印刷媒体上へ与える拡大レンズ手段と、 走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大された実像に関して前 記印刷媒体を移動させて、前記拡大された実像が二次元画像の連続線を前記印刷 媒体上の連続位置に規定する走査手段とを備えるシステム。 38.請求項37のシステムにおいて、前記拡大レンズ手段、前記ライトバルブ・ アレイ、および前記回折光分離手段が、テレセントリック系として配置され、こ こで前記ライトバルブ・アレイと前記回折光分離手段とは、それぞれ概ね前記拡 大レンズ手段のテレセントリック対物位置と射出瞳位置とに配置されているシス テム。 39.請求項37のディスプレィ・システムであって、前記拡大レンズが接眼レン ズであるディスプレィ・システム。 40.請求項39のディスプレィ・システムであって、前記接眼レンズが、Huygens , ンズのグループから選択された形式であるディスプレィ・システム。 41.二次元画像を印刷媒体上に印刷するシステムであって、 格子ライトバルブ・アレイであり、互いに平行に整合されて離間された細長い 可動反射部材の列を含み、前記能動反射部材の各々は、対応する受動反射部材に 関して平面を通じて個々に可動であり、その平面は、前記固定反射部材が位置す る平面に対して平行であり、前記対応する能動および受動反射部材は共に、それ に入射する光の回折および/または反射を前記能動および受動反射部材の平面分 離に依存して生起するようにされた格子ライトバルブ・アレイと、 前記格子ライトバルブ・アレイに入射する光を生起する照明手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイからの光の反射部分から前記格子ライトバルブ ・アレイからの光の回折部分を分離する手段と、 表示される画像素子に対応する前記格子ライトバルブ・アレイの前記能動反射 部材を移動させる電子的手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された実像を前記分離されて回折され た光部分を介して前記印刷媒体へ投影する投影レンズ手段と、 前記電子的手段に共働して、前記拡大された実像に関して前記印刷媒体を移動 させて、前記拡大された実像を二次元画像の連続線を前記印刷媒体上の連続位置 に規定させる走査手段とを備えると共に、 前記投影レンズ手段が、第1と第2の素子群を含み、その第1の素子群は負レ ンズとを形成し、この負レンズと前記ライトバルブ・アレイと前記回折光分離手 段とが、テレセントリック系として配置され、ここで前記ライトバルブ・アレイ と前記回折光分離手段とは、概ね前記負レンズの射出瞳において前記第1素子群 と前記第2素子群との間に配置されているシステム。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002162599A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Sony Corp | 立体画像表示装置 |
JP2004139023A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-05-13 | Sony Corp | ホログラム記録装置、ホログラム記録方法、およびホログラム記録媒体 |
JP2004282013A (ja) * | 2002-10-16 | 2004-10-07 | Eastman Kodak Co | 電気機械グレーティング素子を含むvcselアレイを用いた光変調装置 |
JP2005084117A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-31 | Sony Corp | 投射型画像表示装置 |
US7102808B2 (en) | 2002-02-19 | 2006-09-05 | Sony Corporation | MEMS device and methods for manufacturing thereof, light modulation device, GLV device and methods for manufacturing thereof, and laser display |
JP2007513380A (ja) * | 2003-12-03 | 2007-05-24 | イーストマン コダック カンパニー | 三線形電気機械回折格子装置を備える表示システム |
WO2009019934A1 (ja) | 2007-08-03 | 2009-02-12 | Sony Corporation | 光走査装置 |
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US6969635B2 (en) | 2000-12-07 | 2005-11-29 | Reflectivity, Inc. | Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates |
US20080248046A1 (en) * | 1997-03-17 | 2008-10-09 | Human Genome Sciences, Inc. | Death domain containing receptor 5 |
GB9807186D0 (en) * | 1998-04-04 | 1998-06-03 | Marconi Gec Ltd | Display arrangements |
US6271808B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-08-07 | Silicon Light Machines | Stereo head mounted display using a single display device |
US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
DE19835072A1 (de) * | 1998-08-04 | 2000-02-10 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Anordnung zur Beleuchtung und/oder Detektion in einem Mikroskop |
US6962419B2 (en) | 1998-09-24 | 2005-11-08 | Reflectivity, Inc | Micromirror elements, package for the micromirror elements, and projection system therefor |
US6342960B1 (en) * | 1998-12-18 | 2002-01-29 | The Boeing Company | Wavelength division multiplex transmitter |
US6724125B2 (en) | 1999-03-30 | 2004-04-20 | Massachusetts Institute Of Technology | Methods and apparatus for diffractive optical processing using an actuatable structure |
US6501600B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-12-31 | Lightconnect, Inc. | Polarization independent grating modulator |
US6674563B2 (en) | 2000-04-13 | 2004-01-06 | Lightconnect, Inc. | Method and apparatus for device linearization |
US6826330B1 (en) | 1999-08-11 | 2004-11-30 | Lightconnect, Inc. | Dynamic spectral shaping for fiber-optic application |
US6608621B2 (en) * | 2000-01-20 | 2003-08-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Image displaying method and apparatus |
JP4474000B2 (ja) * | 2000-01-20 | 2010-06-02 | キヤノン株式会社 | 投影装置 |
US6307663B1 (en) | 2000-01-26 | 2001-10-23 | Eastman Kodak Company | Spatial light modulator with conformal grating device |
US6888983B2 (en) | 2000-04-14 | 2005-05-03 | Lightconnect, Inc. | Dynamic gain and channel equalizers |
CA2352729A1 (en) | 2000-07-13 | 2002-01-13 | Creoscitex Corporation Ltd. | Blazed micro-mechanical light modulator and array thereof |
JP3512171B2 (ja) * | 2000-08-28 | 2004-03-29 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
JP3590334B2 (ja) * | 2000-08-28 | 2004-11-17 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像記録装置 |
US6411425B1 (en) * | 2000-09-27 | 2002-06-25 | Eastman Kodak Company | Electromechanical grating display system with spatially separated light beams |
JP3766586B2 (ja) | 2000-10-02 | 2006-04-12 | 株式会社日立製作所 | 光学エンジン、映像表示装置及び色切替方法 |
US6323984B1 (en) * | 2000-10-11 | 2001-11-27 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for reducing laser speckle |
FR2815422B1 (fr) * | 2000-10-13 | 2003-09-19 | Commissariat Energie Atomique | Systeme de visualisation indiduel |
US6836309B2 (en) | 2000-11-30 | 2004-12-28 | Hana Microdisplay Technologies, Inc. | High contrast reflective light valve |
US6476848B2 (en) | 2000-12-21 | 2002-11-05 | Eastman Kodak Company | Electromechanical grating display system with segmented waveplate |
US6567584B2 (en) * | 2001-02-12 | 2003-05-20 | Silicon Light Machines | Illumination system for one-dimensional spatial light modulators employing multiple light sources |
EP1373963A4 (en) * | 2001-03-02 | 2006-04-26 | Massachusetts Inst Technology | METHOD AND DEVICE FOR DIFRACTIVE OPTICAL PROCESSING USING AN ACTIVE STRUCTURE |
US7177081B2 (en) * | 2001-03-08 | 2007-02-13 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast grating light valve type device |
US6614580B2 (en) * | 2001-04-10 | 2003-09-02 | Silicon Light Machines | Modulation of light out of the focal plane in a light modulator based projection system |
US20030208753A1 (en) * | 2001-04-10 | 2003-11-06 | Silicon Light Machines | Method, system, and display apparatus for encrypted cinema |
US6707591B2 (en) * | 2001-04-10 | 2004-03-16 | Silicon Light Machines | Angled illumination for a single order light modulator based projection system |
JP3823751B2 (ja) * | 2001-04-17 | 2006-09-20 | ソニー株式会社 | 画像表示装置 |
US6747781B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
US6639722B2 (en) | 2001-08-15 | 2003-10-28 | Silicon Light Machines | Stress tuned blazed grating light valve |
US6785001B2 (en) | 2001-08-21 | 2004-08-31 | Silicon Light Machines, Inc. | Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal |
KR100416548B1 (ko) * | 2001-10-10 | 2004-02-05 | 삼성전자주식회사 | 3차원 영상 표시장치 |
US6532097B1 (en) | 2001-10-11 | 2003-03-11 | Applied Materials, Inc. | Image registration apparatus having an adjustable reflective diffraction grating and method |
US7046410B2 (en) | 2001-10-11 | 2006-05-16 | Polychromix, Inc. | Actuatable diffractive optical processor |
US6567217B1 (en) | 2001-11-06 | 2003-05-20 | Eastman Kodak Company | Image-forming system with enhanced gray levels |
US6611380B2 (en) | 2001-12-21 | 2003-08-26 | Eastman Kodak Company | System and method for calibration of display system with linear array modulator |
US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
US6987240B2 (en) * | 2002-04-18 | 2006-01-17 | Applied Materials, Inc. | Thermal flux processing by scanning |
US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
JP2004004256A (ja) * | 2002-05-31 | 2004-01-08 | Sony Corp | 光走査装置及び2次元画像形成装置 |
US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
US6678085B2 (en) * | 2002-06-12 | 2004-01-13 | Eastman Kodak Company | High-contrast display system with scanned conformal grating device |
US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
US6714337B1 (en) | 2002-06-28 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response |
US20040004843A1 (en) * | 2002-07-03 | 2004-01-08 | Volker Melzer | System and method for providing polychromatic illumination of selected frequencies |
EP1381241A3 (en) * | 2002-07-10 | 2007-09-05 | FUJIFILM Corporation | Display device |
JP2004045684A (ja) * | 2002-07-11 | 2004-02-12 | Sony Corp | 画像表示装置における照明光学装置及び画像表示装置 |
US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
TWI226940B (en) * | 2002-10-01 | 2005-01-21 | Sony Corp | Optical scan device, image position calibration method, and image display device |
JP2004157522A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-06-03 | Sony Corp | 画像生成装置、画像表示装置、画像表示方法、及び光変調素子調整装置 |
US6947459B2 (en) * | 2002-11-25 | 2005-09-20 | Eastman Kodak Company | Organic vertical cavity laser and imaging system |
US6967758B2 (en) * | 2003-02-04 | 2005-11-22 | Silicon Light Machines Corporation | System and method for sub-pixel electronic alignment |
US6885494B2 (en) * | 2003-02-12 | 2005-04-26 | Reflectivity, Inc. | High angle micro-mirrors and processes |
US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
US7063920B2 (en) * | 2003-05-16 | 2006-06-20 | Asml Holding, N.V. | Method for the generation of variable pitch nested lines and/or contact holes using fixed size pixels for direct-write lithographic systems |
JP4371705B2 (ja) * | 2003-05-20 | 2009-11-25 | キヤノン株式会社 | 走査型画像表示装置 |
US6873398B2 (en) * | 2003-05-21 | 2005-03-29 | Esko-Graphics A/S | Method and apparatus for multi-track imaging using single-mode beams and diffraction-limited optics |
EP1480080A1 (en) * | 2003-05-22 | 2004-11-24 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7183566B2 (en) * | 2003-05-28 | 2007-02-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus for manufacturing a device |
US7061591B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-06-13 | Asml Holding N.V. | Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays |
US6989920B2 (en) * | 2003-05-29 | 2006-01-24 | Asml Holding N.V. | System and method for dose control in a lithographic system |
EP1482373A1 (en) * | 2003-05-30 | 2004-12-01 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
SG118283A1 (en) * | 2003-06-20 | 2006-01-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1489449A1 (en) * | 2003-06-20 | 2004-12-22 | ASML Netherlands B.V. | Spatial light modulator |
JP4411875B2 (ja) * | 2003-06-20 | 2010-02-10 | ソニー株式会社 | 光変調素子及びこれを用いた画像表示装置 |
US7110082B2 (en) * | 2003-06-24 | 2006-09-19 | Asml Holding N.V. | Optical system for maskless lithography |
SG119224A1 (en) * | 2003-06-26 | 2006-02-28 | Asml Netherlands Bv | Calibration method for a lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7154587B2 (en) * | 2003-06-30 | 2006-12-26 | Asml Netherlands B.V | Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7158215B2 (en) * | 2003-06-30 | 2007-01-02 | Asml Holding N.V. | Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays |
US7224504B2 (en) | 2003-07-30 | 2007-05-29 | Asml Holding N. V. | Deformable mirror using piezoelectric actuators formed as an integrated circuit and method of use |
US6831768B1 (en) * | 2003-07-31 | 2004-12-14 | Asml Holding N.V. | Using time and/or power modulation to achieve dose gray-scaling in optical maskless lithography |
SG110196A1 (en) * | 2003-09-22 | 2005-04-28 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7414701B2 (en) * | 2003-10-03 | 2008-08-19 | Asml Holding N.V. | Method and systems for total focus deviation adjustments on maskless lithography systems |
US7410736B2 (en) * | 2003-09-30 | 2008-08-12 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones |
US7023526B2 (en) * | 2003-09-30 | 2006-04-04 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation |
US6876440B1 (en) * | 2003-09-30 | 2005-04-05 | Asml Holding N.V. | Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap of exposure zones with attenuation of the aerial image in the overlap region |
US7109498B2 (en) * | 2003-10-09 | 2006-09-19 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method |
KR100754064B1 (ko) * | 2003-11-03 | 2007-08-31 | 삼성전기주식회사 | 광변조기를 이용한 스캐닝 장치 |
US7116398B2 (en) * | 2003-11-07 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7196772B2 (en) * | 2003-11-07 | 2007-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7001232B2 (en) * | 2003-12-11 | 2006-02-21 | Montgomery Robert E | Personal watercraft air intake assembly |
US6995830B2 (en) * | 2003-12-22 | 2006-02-07 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
US7012674B2 (en) * | 2004-01-13 | 2006-03-14 | Asml Holding N.V. | Maskless optical writer |
JP4083751B2 (ja) * | 2004-01-29 | 2008-04-30 | エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. | 空間光変調器アレイを較正するシステムおよび空間光変調器アレイを較正する方法 |
US7580559B2 (en) * | 2004-01-29 | 2009-08-25 | Asml Holding N.V. | System and method for calibrating a spatial light modulator |
US6847461B1 (en) * | 2004-01-29 | 2005-01-25 | Asml Holding N.V. | System and method for calibrating a spatial light modulator array using shearing interferometry |
US7133118B2 (en) * | 2004-02-18 | 2006-11-07 | Asml Netherlands, B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7190434B2 (en) * | 2004-02-18 | 2007-03-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7016014B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-03-21 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7081947B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7061586B2 (en) * | 2004-03-02 | 2006-06-13 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7094506B2 (en) * | 2004-03-09 | 2006-08-22 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
USRE43515E1 (en) | 2004-03-09 | 2012-07-17 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US6967711B2 (en) * | 2004-03-09 | 2005-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7227618B1 (en) | 2004-03-24 | 2007-06-05 | Baokang Bi | Pattern generating systems |
US7561251B2 (en) * | 2004-03-29 | 2009-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7153616B2 (en) * | 2004-03-31 | 2006-12-26 | Asml Holding N.V. | System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool |
US7053981B2 (en) * | 2004-03-31 | 2006-05-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7002666B2 (en) * | 2004-04-16 | 2006-02-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20050243295A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing |
US6963434B1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-08 | Asml Holding N.V. | System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator |
US20050259269A1 (en) * | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Asml Holding N.V. | Shearing interferometer with dynamic pupil fill |
US7242456B2 (en) * | 2004-05-26 | 2007-07-10 | Asml Holdings N.V. | System and method utilizing a lithography tool having modular illumination, pattern generator, and projection optics portions |
US7477403B2 (en) * | 2004-05-27 | 2009-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
US7123348B2 (en) * | 2004-06-08 | 2006-10-17 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and method utilizing dose control |
US6989886B2 (en) * | 2004-06-08 | 2006-01-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7016016B2 (en) * | 2004-06-25 | 2006-03-21 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7116403B2 (en) * | 2004-06-28 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7158208B2 (en) * | 2004-06-30 | 2007-01-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7116404B2 (en) * | 2004-06-30 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20060001890A1 (en) * | 2004-07-02 | 2006-01-05 | Asml Holding N.V. | Spatial light modulator as source module for DUV wavefront sensor |
US20060012779A1 (en) * | 2004-07-13 | 2006-01-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7573574B2 (en) * | 2004-07-13 | 2009-08-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7227613B2 (en) * | 2004-07-26 | 2007-06-05 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus having double telecentric illumination |
US7259829B2 (en) * | 2004-07-26 | 2007-08-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7335398B2 (en) * | 2004-07-26 | 2008-02-26 | Asml Holding N.V. | Method to modify the spatial response of a pattern generator |
US7142286B2 (en) * | 2004-07-27 | 2006-11-28 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7251020B2 (en) * | 2004-07-30 | 2007-07-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7538855B2 (en) * | 2004-08-10 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7102733B2 (en) * | 2004-08-13 | 2006-09-05 | Asml Holding N.V. | System and method to compensate for static and dynamic misalignments and deformations in a maskless lithography tool |
JP4290095B2 (ja) * | 2004-08-16 | 2009-07-01 | キヤノン株式会社 | 表示光学系および画像表示システム |
US7500218B2 (en) * | 2004-08-17 | 2009-03-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same |
US7304718B2 (en) * | 2004-08-17 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1792493A1 (en) * | 2004-09-08 | 2007-06-06 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Projection display device |
US7079225B2 (en) * | 2004-09-14 | 2006-07-18 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7177012B2 (en) * | 2004-10-18 | 2007-02-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7388663B2 (en) | 2004-10-28 | 2008-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
US7423732B2 (en) * | 2004-11-04 | 2008-09-09 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing placement of a patterning device at a pupil plane |
US7609362B2 (en) * | 2004-11-08 | 2009-10-27 | Asml Netherlands B.V. | Scanning lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7170584B2 (en) * | 2004-11-17 | 2007-01-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7061581B1 (en) * | 2004-11-22 | 2006-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7474384B2 (en) * | 2004-11-22 | 2009-01-06 | Asml Holding N.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and a projection element for use in the lithographic apparatus |
US7643192B2 (en) * | 2004-11-24 | 2010-01-05 | Asml Holding N.V. | Pattern generator using a dual phase step element and method of using same |
US7286277B2 (en) * | 2004-11-26 | 2007-10-23 | Alces Technology, Inc. | Polarization light modulator |
US7446925B2 (en) * | 2004-11-26 | 2008-11-04 | Alces Technology | Micro-electromechanical light modulator with anamorphic optics |
US7277216B2 (en) * | 2004-11-26 | 2007-10-02 | Alces Technology | Differential interferometric light modulator and image display system |
US7054051B1 (en) * | 2004-11-26 | 2006-05-30 | Alces Technology, Inc. | Differential interferometric light modulator and image display device |
US7713667B2 (en) * | 2004-11-30 | 2010-05-11 | Asml Holding N.V. | System and method for generating pattern data used to control a pattern generator |
US7333177B2 (en) * | 2004-11-30 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7365848B2 (en) * | 2004-12-01 | 2008-04-29 | Asml Holding N.V. | System and method using visible and infrared light to align and measure alignment patterns on multiple layers |
US7391499B2 (en) * | 2004-12-02 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7362415B2 (en) * | 2004-12-07 | 2008-04-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7355677B2 (en) * | 2004-12-09 | 2008-04-08 | Asml Netherlands B.V. | System and method for an improved illumination system in a lithographic apparatus |
US7119936B2 (en) * | 2004-12-15 | 2006-10-10 | Eastman Kodak Company | Speckle reduction for display system with electromechanical grating |
US7046446B1 (en) | 2004-12-15 | 2006-05-16 | Eastman Kodak Company | Speckle reduction for display system with electromechanical grating |
US7349068B2 (en) * | 2004-12-17 | 2008-03-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7180577B2 (en) * | 2004-12-17 | 2007-02-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a microlens array at an image plane |
US7202939B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-04-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7375795B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US7230677B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-06-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids |
US7256867B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-08-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7391676B2 (en) | 2004-12-22 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Ultrasonic distance sensors |
US7274502B2 (en) * | 2004-12-22 | 2007-09-25 | Asml Holding N.V. | System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks |
US7426076B2 (en) * | 2004-12-23 | 2008-09-16 | Asml Holding N.V. | Projection system for a lithographic apparatus |
US7242458B2 (en) * | 2004-12-23 | 2007-07-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates |
US7656506B2 (en) * | 2004-12-23 | 2010-02-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
US7538857B2 (en) * | 2004-12-23 | 2009-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler |
US7459247B2 (en) * | 2004-12-27 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7317510B2 (en) * | 2004-12-27 | 2008-01-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7279110B2 (en) * | 2004-12-27 | 2007-10-09 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for creating a phase step in mirrors used in spatial light modulator arrays |
US7126672B2 (en) * | 2004-12-27 | 2006-10-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20060138349A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7145636B2 (en) * | 2004-12-28 | 2006-12-05 | Asml Netherlands Bv | System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications |
US7756660B2 (en) | 2004-12-28 | 2010-07-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7403865B2 (en) * | 2004-12-28 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | System and method for fault indication on a substrate in maskless applications |
US7274029B2 (en) * | 2004-12-28 | 2007-09-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7342644B2 (en) * | 2004-12-29 | 2008-03-11 | Asml Netherlands B.V. | Methods and systems for lithographic beam generation |
US7253881B2 (en) * | 2004-12-29 | 2007-08-07 | Asml Netherlands Bv | Methods and systems for lithographic gray scaling |
US7567368B2 (en) * | 2005-01-06 | 2009-07-28 | Asml Holding N.V. | Systems and methods for minimizing scattered light in multi-SLM maskless lithography |
US7542013B2 (en) * | 2005-01-31 | 2009-06-02 | Asml Holding N.V. | System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode |
US7460208B2 (en) * | 2005-02-18 | 2008-12-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7286137B2 (en) * | 2005-02-28 | 2007-10-23 | Asml Holding N.V. | Method and system for constrained pixel graytones interpolation for pattern rasterization |
US7499146B2 (en) * | 2005-03-14 | 2009-03-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method, an integrated circuit, a flat panel display, and a method of compensating for cupping |
US7812930B2 (en) * | 2005-03-21 | 2010-10-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated patterns in an LCD to reduce datapath volume |
US7209216B2 (en) * | 2005-03-25 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography |
US7403265B2 (en) * | 2005-03-30 | 2008-07-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering |
US7193765B2 (en) | 2005-03-31 | 2007-03-20 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Reduction of speckle and interference patterns for laser projectors |
US7728956B2 (en) * | 2005-04-05 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data |
US7209217B2 (en) | 2005-04-08 | 2007-04-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices |
US7330239B2 (en) * | 2005-04-08 | 2008-02-12 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a blazing portion of a contrast device |
US7221514B2 (en) * | 2005-04-15 | 2007-05-22 | Asml Netherlands B.V. | Variable lens and exposure system |
US20060244805A1 (en) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Ming-Hsiang Yeh | Multicolor pen |
US7400382B2 (en) * | 2005-04-28 | 2008-07-15 | Asml Holding N.V. | Light patterning device using tilting mirrors in a superpixel form |
US7738081B2 (en) * | 2005-05-06 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a flat panel display handler with conveyor device and substrate handler |
CA2507177C (en) * | 2005-05-13 | 2012-04-24 | Institut National D'optique | Image projector with flexible reflective analog modulator |
KR100832622B1 (ko) * | 2005-05-25 | 2008-05-27 | 삼성전기주식회사 | 광변조기 및 그 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한휴대용 단말기 |
US7477772B2 (en) * | 2005-05-31 | 2009-01-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing 2D run length encoding for image data compression |
US7197828B2 (en) * | 2005-05-31 | 2007-04-03 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing FPD chuck Z position measurement |
WO2006133283A2 (en) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Infocus Corporation | Mirror-based light path combination for light sources |
US7742148B2 (en) * | 2005-06-08 | 2010-06-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image |
US7292317B2 (en) * | 2005-06-08 | 2007-11-06 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating |
US7233384B2 (en) * | 2005-06-13 | 2007-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor |
US7321416B2 (en) * | 2005-06-15 | 2008-01-22 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion |
US7408617B2 (en) * | 2005-06-24 | 2008-08-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method |
US7965373B2 (en) * | 2005-06-28 | 2011-06-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load |
US7307694B2 (en) * | 2005-06-29 | 2007-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation beam inspection device, method of inspecting a beam of radiation and device manufacturing method |
US7522258B2 (en) * | 2005-06-29 | 2009-04-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination |
US20070013889A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby having an increase in depth of focus |
KR100897666B1 (ko) * | 2005-07-20 | 2009-05-14 | 삼성전기주식회사 | 정역방향 스캐닝 방식의 디스플레이 장치 |
US7251019B2 (en) * | 2005-07-20 | 2007-07-31 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a continuous light beam in combination with pixel grid imaging |
US7411722B2 (en) * | 2005-08-24 | 2008-08-12 | Eastman Kodak Company | Display system incorporating bilinear electromechanical grating device |
US7606430B2 (en) * | 2005-08-30 | 2009-10-20 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD |
US20070046917A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU |
JP2007114750A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-05-10 | Asml Netherlands Bv | 投影システム設計方法、リソグラフィー装置およびデバイス製造方法 |
US20070063996A1 (en) * | 2005-09-14 | 2007-03-22 | Childers Winthrop D | Image display system and method |
US20070064007A1 (en) * | 2005-09-14 | 2007-03-22 | Childers Winthrop D | Image display system and method |
US20070064008A1 (en) * | 2005-09-14 | 2007-03-22 | Childers Winthrop D | Image display system and method |
US7551154B2 (en) * | 2005-09-15 | 2009-06-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Image display system and method |
KR100832621B1 (ko) * | 2005-09-23 | 2008-05-27 | 삼성전기주식회사 | 정역방향 스캐닝을 수행하는 모바일용 프로젝터 |
US7391503B2 (en) * | 2005-10-04 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | System and method for compensating for thermal expansion of lithography apparatus or substrate |
US7830493B2 (en) * | 2005-10-04 | 2010-11-09 | Asml Netherlands B.V. | System and method for compensating for radiation induced thermal distortions in a substrate or projection system |
US7332733B2 (en) * | 2005-10-05 | 2008-02-19 | Asml Netherlands B.V. | System and method to correct for field curvature of multi lens array |
US20070127005A1 (en) * | 2005-12-02 | 2007-06-07 | Asml Holding N.V. | Illumination system |
US7626181B2 (en) * | 2005-12-09 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20070133007A1 (en) * | 2005-12-14 | 2007-06-14 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using laser trimming of a multiple mirror contrast device |
US20070153249A1 (en) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using multiple exposures and multiple exposure types |
US7440078B2 (en) * | 2005-12-20 | 2008-10-21 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units |
US7466394B2 (en) * | 2005-12-21 | 2008-12-16 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using a compensation scheme for a patterning array |
US8478386B2 (en) | 2006-01-10 | 2013-07-02 | Accuvein Inc. | Practitioner-mounted micro vein enhancer |
US9492117B2 (en) | 2006-01-10 | 2016-11-15 | Accuvein, Inc. | Practitioner-mounted micro vein enhancer |
US10813588B2 (en) | 2006-01-10 | 2020-10-27 | Accuvein, Inc. | Micro vein enhancer |
US11278240B2 (en) | 2006-01-10 | 2022-03-22 | Accuvein, Inc. | Trigger-actuated laser vein contrast enhancer |
US8489178B2 (en) | 2006-06-29 | 2013-07-16 | Accuvein Inc. | Enhanced laser vein contrast enhancer with projection of analyzed vein data |
US11253198B2 (en) | 2006-01-10 | 2022-02-22 | Accuvein, Inc. | Stand-mounted scanned laser vein contrast enhancer |
US8255040B2 (en) | 2006-06-29 | 2012-08-28 | Accuvein, Llc | Micro vein enhancer |
US8838210B2 (en) * | 2006-06-29 | 2014-09-16 | AccuView, Inc. | Scanned laser vein contrast enhancer using a single laser |
US9854977B2 (en) | 2006-01-10 | 2018-01-02 | Accuvein, Inc. | Scanned laser vein contrast enhancer using a single laser, and modulation circuitry |
US7420177B2 (en) * | 2006-01-20 | 2008-09-02 | Evans & Sutherland Computer Corporation | High-resolution-imaging system for scanned-column projectors |
US20070194239A1 (en) | 2006-01-31 | 2007-08-23 | Mcallister Abraham | Apparatus and method providing a hand-held spectrometer |
US7532403B2 (en) * | 2006-02-06 | 2009-05-12 | Asml Holding N.V. | Optical system for transforming numerical aperture |
WO2007100690A2 (en) * | 2006-02-23 | 2007-09-07 | Microvision, Inc. | Scanned beam source and systems using a scanned beam source for producing a wavelength-compensated composite beam of light |
KR100772398B1 (ko) | 2006-02-25 | 2007-11-01 | 삼성전자주식회사 | 2스캔의 광원 및 이를 이용한 영상장치 및 그 구동방법 |
US7528933B2 (en) * | 2006-04-06 | 2009-05-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a MEMS mirror with large deflection using a non-linear spring arrangement |
US7508491B2 (en) * | 2006-04-12 | 2009-03-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilized to reduce quantization influence of datapath SLM interface to dose uniformity |
US7948606B2 (en) * | 2006-04-13 | 2011-05-24 | Asml Netherlands B.V. | Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns |
US7839487B2 (en) * | 2006-04-13 | 2010-11-23 | Asml Holding N.V. | Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device |
US8264667B2 (en) * | 2006-05-04 | 2012-09-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and other exposure |
US8934084B2 (en) | 2006-05-31 | 2015-01-13 | Asml Holding N.V. | System and method for printing interference patterns having a pitch in a lithography system |
US7728954B2 (en) * | 2006-06-06 | 2010-06-01 | Asml Netherlands B.V. | Reflective loop system producing incoherent radiation |
US7649676B2 (en) * | 2006-06-14 | 2010-01-19 | Asml Netherlands B.V. | System and method to form unpolarized light |
US7936445B2 (en) * | 2006-06-19 | 2011-05-03 | Asml Netherlands B.V. | Altering pattern data based on measured optical element characteristics |
US8896808B2 (en) * | 2006-06-21 | 2014-11-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
US7697115B2 (en) * | 2006-06-23 | 2010-04-13 | Asml Holding N.V. | Resonant scanning mirror |
US7593094B2 (en) * | 2006-06-26 | 2009-09-22 | Asml Netherlands B.V. | Patterning device |
US10238294B2 (en) | 2006-06-29 | 2019-03-26 | Accuvein, Inc. | Scanned laser vein contrast enhancer using one laser |
US8244333B2 (en) * | 2006-06-29 | 2012-08-14 | Accuvein, Llc | Scanned laser vein contrast enhancer |
US8594770B2 (en) * | 2006-06-29 | 2013-11-26 | Accuvein, Inc. | Multispectral detection and presentation of an object's characteristics |
US8463364B2 (en) * | 2009-07-22 | 2013-06-11 | Accuvein Inc. | Vein scanner |
US8730321B2 (en) | 2007-06-28 | 2014-05-20 | Accuvein, Inc. | Automatic alignment of a contrast enhancement system |
US20160296146A9 (en) * | 2006-06-29 | 2016-10-13 | Fred Wood | Apparatus-Mounted Vein Contrast Enchancer |
US8665507B2 (en) * | 2006-06-29 | 2014-03-04 | Accuvein, Inc. | Module mounting mirror endoscopy |
US20080002174A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Asml Netherlands B.V. | Control system for pattern generator in maskless lithography |
US7630136B2 (en) | 2006-07-18 | 2009-12-08 | Asml Holding N.V. | Optical integrators for lithography systems and methods |
US7548315B2 (en) | 2006-07-27 | 2009-06-16 | Asml Netherlands B.V. | System and method to compensate for critical dimension non-uniformity in a lithography system |
US7738077B2 (en) * | 2006-07-31 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Patterning device utilizing sets of stepped mirrors and method of using same |
US7549759B2 (en) * | 2006-08-28 | 2009-06-23 | Alces Technology, Inc. | Micro-electromechanical light modulator with enhanced contrast |
KR100905554B1 (ko) * | 2006-08-30 | 2009-07-02 | 삼성전기주식회사 | 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한 휴대용 단말기 |
US7626182B2 (en) | 2006-09-05 | 2009-12-01 | Asml Netherlands B.V. | Radiation pulse energy control system, lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7628875B2 (en) * | 2006-09-12 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | MEMS device and assembly method |
US8049865B2 (en) * | 2006-09-18 | 2011-11-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method |
US7400449B2 (en) * | 2006-09-29 | 2008-07-15 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for reduction of image artifacts for laser projectors |
US7683300B2 (en) * | 2006-10-17 | 2010-03-23 | Asml Netherlands B.V. | Using an interferometer as a high speed variable attenuator |
US20080111977A1 (en) | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Asml Holding N.V. | Compensation techniques for fluid and magnetic bearings |
US7738079B2 (en) * | 2006-11-14 | 2010-06-15 | Asml Netherlands B.V. | Radiation beam pulse trimming |
US7453551B2 (en) * | 2006-11-14 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Increasing pulse-to-pulse radiation beam uniformity |
US8054449B2 (en) * | 2006-11-22 | 2011-11-08 | Asml Holding N.V. | Enhancing the image contrast of a high resolution exposure tool |
US7891818B2 (en) * | 2006-12-12 | 2011-02-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for aligning RGB light in a single modulator projector |
US8259285B2 (en) * | 2006-12-14 | 2012-09-04 | Asml Holding N.V. | Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data |
KR100853843B1 (ko) | 2007-02-02 | 2008-08-22 | 삼성전기주식회사 | 초소형 컬러 디스플레이 장치 |
US7965378B2 (en) * | 2007-02-20 | 2011-06-21 | Asml Holding N.V | Optical system and method for illumination of reflective spatial light modulators in maskless lithography |
US8009269B2 (en) | 2007-03-14 | 2011-08-30 | Asml Holding N.V. | Optimal rasterization for maskless lithography |
US8009270B2 (en) * | 2007-03-22 | 2011-08-30 | Asml Netherlands B.V. | Uniform background radiation in maskless lithography |
US7714986B2 (en) * | 2007-05-24 | 2010-05-11 | Asml Netherlands B.V. | Laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control |
US20080304034A1 (en) * | 2007-06-07 | 2008-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Dose control for optical maskless lithography |
US8189172B2 (en) * | 2007-06-14 | 2012-05-29 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
US7768627B2 (en) * | 2007-06-14 | 2010-08-03 | Asml Netherlands B.V. | Illumination of a patterning device based on interference for use in a maskless lithography system |
US8692974B2 (en) * | 2007-06-14 | 2014-04-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method using pupil filling by telecentricity control |
EP2015589A1 (en) * | 2007-07-13 | 2009-01-14 | Barco NV | Stereo display system with scanning of light valves |
US8134591B2 (en) * | 2008-05-07 | 2012-03-13 | Eastman Kodak Company | Display using bidirectionally scanned linear modulator |
US8358317B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-01-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying a planar image on a curved surface |
US8702248B1 (en) | 2008-06-11 | 2014-04-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface |
US8077378B1 (en) | 2008-11-12 | 2011-12-13 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Calibration system and method for light modulation device |
US8215776B2 (en) * | 2009-01-07 | 2012-07-10 | Eastman Kodak Company | Line illumination apparatus using laser arrays |
US8531755B2 (en) * | 2009-02-16 | 2013-09-10 | Micronic Laser Systems Ab | SLM device and method combining multiple mirrors for high-power delivery |
US8864313B2 (en) * | 2009-06-15 | 2014-10-21 | Eastman Kodak Company | Dynamic illumination control for laser projection display |
US9061109B2 (en) | 2009-07-22 | 2015-06-23 | Accuvein, Inc. | Vein scanner with user interface |
CN101710202B (zh) * | 2009-11-13 | 2012-07-11 | 深圳超多维光电子有限公司 | 对位装置、采用所述对位装置的光栅对位***及其对位方法 |
US8698705B2 (en) * | 2009-12-04 | 2014-04-15 | Vuzix Corporation | Compact near eye display with scanned image generation |
US8330870B2 (en) | 2009-12-08 | 2012-12-11 | Eastman Kodak Company | Dynamic illumination control for laser projection display |
US9641826B1 (en) | 2011-10-06 | 2017-05-02 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface |
US9223138B2 (en) | 2011-12-23 | 2015-12-29 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Pixel opacity for augmented reality |
US8917453B2 (en) | 2011-12-23 | 2014-12-23 | Microsoft Corporation | Reflective array waveguide |
US8638498B2 (en) | 2012-01-04 | 2014-01-28 | David D. Bohn | Eyebox adjustment for interpupillary distance |
US8810600B2 (en) | 2012-01-23 | 2014-08-19 | Microsoft Corporation | Wearable display device calibration |
US9606586B2 (en) | 2012-01-23 | 2017-03-28 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Heat transfer device |
US9297996B2 (en) * | 2012-02-15 | 2016-03-29 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Laser illumination scanning |
US9779643B2 (en) | 2012-02-15 | 2017-10-03 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Imaging structure emitter configurations |
US9726887B2 (en) | 2012-02-15 | 2017-08-08 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Imaging structure color conversion |
US9368546B2 (en) | 2012-02-15 | 2016-06-14 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Imaging structure with embedded light sources |
US9578318B2 (en) * | 2012-03-14 | 2017-02-21 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Imaging structure emitter calibration |
US11068049B2 (en) | 2012-03-23 | 2021-07-20 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Light guide display and field of view |
US10191515B2 (en) | 2012-03-28 | 2019-01-29 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Mobile device light guide display |
US9558590B2 (en) | 2012-03-28 | 2017-01-31 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Augmented reality light guide display |
WO2013151747A1 (en) | 2012-04-03 | 2013-10-10 | Imax Corporation | Color dependent aperture stop |
US9717981B2 (en) | 2012-04-05 | 2017-08-01 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Augmented reality and physical games |
US10502876B2 (en) | 2012-05-22 | 2019-12-10 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Waveguide optics focus elements |
US8989535B2 (en) | 2012-06-04 | 2015-03-24 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Multiple waveguide imaging structure |
US9170474B2 (en) * | 2012-06-21 | 2015-10-27 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Efficient spatially modulated illumination system |
US9072426B2 (en) | 2012-08-02 | 2015-07-07 | AccuVein, Inc | Device for detecting and illuminating vasculature using an FPGA |
US10517483B2 (en) | 2012-12-05 | 2019-12-31 | Accuvein, Inc. | System for detecting fluorescence and projecting a representative image |
US10192358B2 (en) | 2012-12-20 | 2019-01-29 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Auto-stereoscopic augmented reality display |
CN110456499B (zh) | 2013-03-15 | 2023-01-24 | 图像影院国际有限公司 | 针对调制器衍射效应优化的投影仪 |
GB2515517A (en) * | 2013-06-26 | 2014-12-31 | Prp Optoelectronics Ltd | A projection display system |
US9967546B2 (en) | 2013-10-29 | 2018-05-08 | Vefxi Corporation | Method and apparatus for converting 2D-images and videos to 3D for consumer, commercial and professional applications |
US20150116458A1 (en) | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Barkatech Consulting, LLC | Method and apparatus for generating enhanced 3d-effects for real-time and offline appplications |
CN104049326B (zh) * | 2014-02-08 | 2015-12-09 | 武汉柏汉激光技术有限公司 | 半导体激光器阵列输出光束匀称化和光纤耦合*** |
US10158847B2 (en) | 2014-06-19 | 2018-12-18 | Vefxi Corporation | Real—time stereo 3D and autostereoscopic 3D video and image editing |
US9304235B2 (en) | 2014-07-30 | 2016-04-05 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Microfabrication |
US10678412B2 (en) | 2014-07-31 | 2020-06-09 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Dynamic joint dividers for application windows |
US10592080B2 (en) | 2014-07-31 | 2020-03-17 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Assisted presentation of application windows |
US10254942B2 (en) | 2014-07-31 | 2019-04-09 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Adaptive sizing and positioning of application windows |
CN104267482A (zh) * | 2014-10-31 | 2015-01-07 | 重庆卓美华视光电有限公司 | 一种用于柱镜式裸眼3d显示器装配及校验的治具 |
JP6539052B2 (ja) | 2015-01-20 | 2019-07-03 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像取得装置および画像取得方法 |
JP6300739B2 (ja) * | 2015-01-20 | 2018-03-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像取得装置および画像取得方法 |
US9827209B2 (en) | 2015-02-09 | 2017-11-28 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Display system |
US10018844B2 (en) | 2015-02-09 | 2018-07-10 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Wearable image display system |
US9429692B1 (en) | 2015-02-09 | 2016-08-30 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Optical components |
US9535253B2 (en) | 2015-02-09 | 2017-01-03 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Display system |
US10317677B2 (en) | 2015-02-09 | 2019-06-11 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Display system |
US11086216B2 (en) | 2015-02-09 | 2021-08-10 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Generating electronic components |
US9372347B1 (en) | 2015-02-09 | 2016-06-21 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Display system |
US9423360B1 (en) | 2015-02-09 | 2016-08-23 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Optical components |
US9513480B2 (en) | 2015-02-09 | 2016-12-06 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Waveguide |
DE102015104085B4 (de) * | 2015-03-18 | 2024-03-28 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Bildgebungseinrichtung und Vorrichtung zur Dateneinspiegelung |
WO2017087033A1 (en) * | 2015-11-20 | 2017-05-26 | Duan-Jun Chen | Auto stereoscopic three-dimensional panel display systems and methods supporting improved fidelity display to multiple simultaneous viewers |
US10732414B2 (en) * | 2016-08-17 | 2020-08-04 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Scanning in optical systems |
US10914954B2 (en) | 2018-08-03 | 2021-02-09 | Facebook Technologies, Llc | Rainbow reduction for waveguide displays |
US10845596B2 (en) * | 2018-01-23 | 2020-11-24 | Facebook Technologies, Llc | Slanted surface relief grating for rainbow reduction in waveguide display |
GB2573827B (en) * | 2018-05-18 | 2021-04-14 | Immobileyes Inc | Laser Shield Device |
US11131845B2 (en) | 2018-08-01 | 2021-09-28 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | High speed random access variable focusing and steering of a patterned line |
CN109557662A (zh) * | 2018-12-12 | 2019-04-02 | 无锡和晶科技股份有限公司 | 一种远距离导光以及光斑的方向和大小可控的显示方法 |
CN110745751B (zh) * | 2019-09-06 | 2020-11-17 | 郑金凯 | 一种市政用井盖维护装置 |
CN114815561A (zh) | 2021-01-19 | 2022-07-29 | 统雷有限公司 | 光学图像生成***和生成光学图像的方法 |
CN114594575A (zh) * | 2022-03-31 | 2022-06-07 | 歌尔光学科技有限公司 | 一种光学投影***以及电子设备 |
Family Cites Families (345)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US16767A (en) * | 1857-03-03 | Improved metallic roof | ||
US25169A (en) * | 1859-08-23 | Shipper-gear for pulleys | ||
USRE16767E (en) | 1927-10-11 | Charles prancis jenkins | ||
USRE16757E (en) * | 1922-10-31 | 1927-10-04 | knight | |
US1548262A (en) * | 1924-07-02 | 1925-08-04 | Freedman Albert | Manufacture of bicolored spectacles |
US1814701A (en) * | 1930-05-31 | 1931-07-14 | Perser Corp | Method of making viewing gratings for relief or stereoscopic pictures |
US2415226A (en) * | 1943-11-29 | 1947-02-04 | Rca Corp | Method of and apparatus for producing luminous images |
US2991690A (en) * | 1953-09-04 | 1961-07-11 | Polaroid Corp | Stereoscopic lens-prism optical system |
US2783406A (en) * | 1954-02-09 | 1957-02-26 | John J Vanderhooft | Stereoscopic television means |
NL113615C (ja) | 1954-06-01 | 1900-01-01 | ||
US3553364A (en) * | 1968-03-15 | 1971-01-05 | Texas Instruments Inc | Electromechanical light valve |
US3576394A (en) * | 1968-07-03 | 1971-04-27 | Texas Instruments Inc | Apparatus for display duration modulation |
US3600798A (en) * | 1969-02-25 | 1971-08-24 | Texas Instruments Inc | Process for fabricating a panel array of electromechanical light valves |
BE757764A (fr) * | 1969-10-21 | 1971-04-21 | Itt | Systeme d'exploration a l'etat solide |
US3783184A (en) * | 1972-03-08 | 1974-01-01 | Hughes Aircraft Co | Electronically switched field sequential color television |
US3781465A (en) * | 1972-03-08 | 1973-12-25 | Hughes Aircraft Co | Field sequential color television systems |
US3802769A (en) * | 1972-08-28 | 1974-04-09 | Harris Intertype Corp | Method and apparatus for unaided stereo viewing |
US3862360A (en) * | 1973-04-18 | 1975-01-21 | Hughes Aircraft Co | Liquid crystal display system with integrated signal storage circuitry |
US3915548A (en) * | 1973-04-30 | 1975-10-28 | Hughes Aircraft Co | Holographic lens and liquid crystal image source for head-up display |
US4093346A (en) * | 1973-07-13 | 1978-06-06 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Optical low pass filter |
US3886310A (en) * | 1973-08-22 | 1975-05-27 | Westinghouse Electric Corp | Electrostatically deflectable light valve with improved diffraction properties |
US3947105A (en) * | 1973-09-21 | 1976-03-30 | Technical Operations, Incorporated | Production of colored designs |
US3896338A (en) * | 1973-11-01 | 1975-07-22 | Westinghouse Electric Corp | Color video display system comprising electrostatically deflectable light valves |
US3969611A (en) * | 1973-12-26 | 1976-07-13 | Texas Instruments Incorporated | Thermocouple circuit |
US3943281A (en) * | 1974-03-08 | 1976-03-09 | Hughes Aircraft Company | Multiple beam CRT for generating a multiple raster display |
JPS5742849B2 (ja) * | 1974-06-05 | 1982-09-10 | ||
US4001663A (en) * | 1974-09-03 | 1977-01-04 | Texas Instruments Incorporated | Switching regulator power supply |
US4100579A (en) * | 1974-09-24 | 1978-07-11 | Hughes Aircraft Company | AC Operated flat panel liquid crystal display |
US4090219A (en) * | 1974-12-09 | 1978-05-16 | Hughes Aircraft Company | Liquid crystal sequential color display |
US4020381A (en) * | 1974-12-09 | 1977-04-26 | Texas Instruments Incorporated | Cathode structure for a multibeam cathode ray tube |
US3935500A (en) * | 1974-12-09 | 1976-01-27 | Texas Instruments Incorporated | Flat CRT system |
US3935499A (en) * | 1975-01-03 | 1976-01-27 | Texas Instruments Incorporated | Monolythic staggered mesh deflection systems for use in flat matrix CRT's |
US4017158A (en) * | 1975-03-17 | 1977-04-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Spatial frequency carrier and process of preparing same |
US4006968A (en) * | 1975-05-02 | 1977-02-08 | Hughes Aircraft Company | Liquid crystal dot color display |
US4012116A (en) * | 1975-05-30 | 1977-03-15 | Personal Communications, Inc. | No glasses 3-D viewer |
US3991416A (en) * | 1975-09-18 | 1976-11-09 | Hughes Aircraft Company | AC biased and resonated liquid crystal display |
US4084437A (en) * | 1975-11-07 | 1978-04-18 | Texas Instruments Incorporated | Thermocouple circuit |
CH595664A5 (ja) * | 1975-11-17 | 1978-02-15 | Landis & Gyr Ag | |
US4184700A (en) * | 1975-11-17 | 1980-01-22 | Lgz Landis & Gyr Zug Ag | Documents embossed with optical markings representing genuineness information |
US4127322A (en) * | 1975-12-05 | 1978-11-28 | Hughes Aircraft Company | High brightness full color image light valve projection system |
CH594495A5 (ja) * | 1976-05-04 | 1978-01-13 | Landis & Gyr Ag | |
US4135502A (en) * | 1976-09-07 | 1979-01-23 | Donald Peck | Stereoscopic patterns and method of making same |
US4139257A (en) * | 1976-09-28 | 1979-02-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Synchronizing signal generator |
US4067129A (en) * | 1976-10-28 | 1978-01-10 | Trans-World Manufacturing Corporation | Display apparatus having means for creating a spectral color effect |
CH604279A5 (ja) * | 1976-12-21 | 1978-08-31 | Landis & Gyr Ag | |
US4093922A (en) * | 1977-03-17 | 1978-06-06 | Texas Instruments Incorporated | Microcomputer processing approach for a non-volatile TV station memory tuning system |
US4093921A (en) * | 1977-03-17 | 1978-06-06 | Texas Instruments Incorporated | Microcomputer processing approach for a non-volatile TV station memory tuning system |
CH616253A5 (ja) * | 1977-06-21 | 1980-03-14 | Landis & Gyr Ag | |
US4185891A (en) * | 1977-11-30 | 1980-01-29 | Grumman Aerospace Corporation | Laser diode collimation optics |
US4205428A (en) * | 1978-02-23 | 1980-06-03 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Planar liquid crystal matrix array chip |
CH622896A5 (ja) * | 1978-03-20 | 1981-04-30 | Landis & Gyr Ag | |
US4256787A (en) * | 1978-05-03 | 1981-03-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Orientation of ordered liquids and their use in devices |
US4195915A (en) * | 1978-05-05 | 1980-04-01 | Hughes Aircraft Company | Liquid crystal image projector system |
US4225913A (en) * | 1978-09-19 | 1980-09-30 | Texas Instruments Incorporated | Self-referencing power converter |
US4338660A (en) * | 1979-04-13 | 1982-07-06 | Relational Memory Systems, Inc. | Relational break signal generating device |
US4343535A (en) * | 1979-12-14 | 1982-08-10 | Hughes Aircraft Company | Liquid crystal light valve |
US4311999A (en) * | 1980-02-07 | 1982-01-19 | Textron, Inc. | Vibratory scan optical display |
US4327966A (en) * | 1980-02-25 | 1982-05-04 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Variable attenuator for laser radiation |
US4327411A (en) * | 1980-03-04 | 1982-04-27 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | High capacity elastic store having continuously variable delay |
JPS56158313A (en) * | 1980-05-12 | 1981-12-07 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | Sealing structure at lead-in part of optical fiber cable |
US4447881A (en) * | 1980-05-29 | 1984-05-08 | Texas Instruments Incorporated | Data processing system integrated circuit having modular memory add-on capacity |
US4454591A (en) * | 1980-05-29 | 1984-06-12 | Texas Instruments Incorporated | Interface system for bus line control |
US4430584A (en) * | 1980-05-29 | 1984-02-07 | Texas Instruments Incorporated | Modular input/output system |
US4418397A (en) * | 1980-05-29 | 1983-11-29 | Texas Instruments Incorporated | Address decode system |
US4443845A (en) * | 1980-06-26 | 1984-04-17 | Texas Instruments Incorporated | Memory system having a common interface |
US4503494A (en) * | 1980-06-26 | 1985-03-05 | Texas Instruments Incorporated | Non-volatile memory system |
US4361384A (en) * | 1980-06-27 | 1982-11-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | High luminance miniature display |
US4420717A (en) * | 1980-10-06 | 1983-12-13 | Texas Instruments Incorporated | Use of motor winding as integrator to generate sawtooth for switch mode current regulator |
US4594501A (en) * | 1980-10-09 | 1986-06-10 | Texas Instruments Incorporated | Pulse width modulation of printhead voltage |
JPS57122981U (ja) * | 1981-01-27 | 1982-07-31 | ||
US4440839A (en) * | 1981-03-18 | 1984-04-03 | United Technologies Corporation | Method of forming laser diffraction grating for beam sampling device |
US4374397A (en) * | 1981-06-01 | 1983-02-15 | Eastman Kodak Company | Light valve devices and electronic imaging/scan apparatus with locationally-interlaced optical addressing |
US4408884A (en) * | 1981-06-29 | 1983-10-11 | Rca Corporation | Optical measurements of fine line parameters in integrated circuit processes |
US4571603A (en) * | 1981-11-03 | 1986-02-18 | Texas Instruments Incorporated | Deformable mirror electrostatic printer |
US4571041A (en) * | 1982-01-22 | 1986-02-18 | Gaudyn Tad J | Three dimensional projection arrangement |
FR2527385B1 (fr) | 1982-04-13 | 1987-05-22 | Suwa Seikosha Kk | Transistor a couche mince et panneau d'affichage a cristaux liquides utilisant ce type de transistor |
US4484188A (en) * | 1982-04-23 | 1984-11-20 | Texas Instruments Incorporated | Graphics video resolution improvement apparatus |
US4468725A (en) * | 1982-06-18 | 1984-08-28 | Texas Instruments Incorporated | Direct AC converter for converting a balanced AC polyphase input to an output voltage |
US4492435A (en) * | 1982-07-02 | 1985-01-08 | Xerox Corporation | Multiple array full width electro mechanical modulator |
JPS59117876A (ja) * | 1982-12-24 | 1984-07-07 | Seiko Epson Corp | パ−ソナル液晶映像表示器 |
JPS602073A (ja) * | 1983-04-06 | 1985-01-08 | テキサス・インスツルメンツ・インコ−ポレイテツド | 交流変換装置及び方法 |
US4655539A (en) * | 1983-04-18 | 1987-04-07 | Aerodyne Products Corporation | Hologram writing apparatus and method |
CH661683A5 (de) * | 1983-09-19 | 1987-08-14 | Landis & Gyr Ag | Einrichtung zum praegen von reliefmustern hoher aufloesung. |
US4561044A (en) * | 1983-09-22 | 1985-12-24 | Citizen Watch Co., Ltd. | Lighting device for a display panel of an electronic device |
US4809078A (en) | 1983-10-05 | 1989-02-28 | Casio Computer Co., Ltd. | Liquid crystal television receiver |
FR2553893B1 (fr) * | 1983-10-19 | 1986-02-07 | Texas Instruments France | Procede et dispositif de detection d'une transition de la composante continue d'un signal periodique, notamment pour joncteur telephonique |
JPS60127888A (ja) * | 1983-12-15 | 1985-07-08 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶表示装置 |
JPS60185918A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-21 | Canon Inc | 光変調方法 |
JPS60214684A (ja) * | 1984-04-10 | 1985-10-26 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶テレビ装置 |
CH664030A5 (de) | 1984-07-06 | 1988-01-29 | Landis & Gyr Ag | Verfahren zur erzeugung eines makroskopischen flaechenmusters mit einer mikroskopischen struktur, insbesondere einer beugungsoptisch wirksamen struktur. |
US4566935A (en) * | 1984-07-31 | 1986-01-28 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4710732A (en) * | 1984-07-31 | 1987-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4709995A (en) * | 1984-08-18 | 1987-12-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Ferroelectric display panel and driving method therefor to achieve gray scale |
US4662746A (en) * | 1985-10-30 | 1987-05-05 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US5096279A (en) | 1984-08-31 | 1992-03-17 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4596992A (en) * | 1984-08-31 | 1986-06-24 | Texas Instruments Incorporated | Linear spatial light modulator and printer |
US5061049A (en) | 1984-08-31 | 1991-10-29 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
JPS6188676A (ja) * | 1984-10-05 | 1986-05-06 | Citizen Watch Co Ltd | 液晶テレビ装置 |
US4615595A (en) * | 1984-10-10 | 1986-10-07 | Texas Instruments Incorporated | Frame addressed spatial light modulator |
US5281957A (en) | 1984-11-14 | 1994-01-25 | Schoolman Scientific Corp. | Portable computer and head mounted display |
US4772094A (en) | 1985-02-05 | 1988-09-20 | Bright And Morning Star | Optical stereoscopic system and prism window |
DE3605516A1 (de) | 1985-02-21 | 1986-09-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Optisches funktionselement sowie optische funktionsvorrichtung |
US4866488A (en) | 1985-03-29 | 1989-09-12 | Texas Instruments Incorporated | Ballistic transport filter and device |
US4623219A (en) * | 1985-04-15 | 1986-11-18 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Real-time high-resolution 3-D large-screen display using laser-activated liquid crystal light valves |
US4719507A (en) * | 1985-04-26 | 1988-01-12 | Tektronix, Inc. | Stereoscopic imaging system with passive viewing apparatus |
US4751509A (en) * | 1985-06-04 | 1988-06-14 | Nec Corporation | Light valve for use in a color display unit with a diffraction grating assembly included in the valve |
US4728185A (en) * | 1985-07-03 | 1988-03-01 | Texas Instruments Incorporated | Imaging system |
JPH0535388Y2 (ja) * | 1985-07-29 | 1993-09-08 | ||
US5299037A (en) | 1985-08-07 | 1994-03-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffraction grating type liquid crystal display device in viewfinder |
US5172262A (en) | 1985-10-30 | 1992-12-15 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and method |
US4687326A (en) * | 1985-11-12 | 1987-08-18 | General Electric Company | Integrated range and luminance camera |
JPS62119521A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-05-30 | Canon Inc | 光学変調装置 |
US4811210A (en) | 1985-11-27 | 1989-03-07 | Texas Instruments Incorporated | A plurality of optical crossbar switches and exchange switches for parallel processor computer |
US4744633A (en) * | 1986-02-18 | 1988-05-17 | Sheiman David M | Stereoscopic viewing system and glasses |
US4803560A (en) | 1986-02-21 | 1989-02-07 | Casio Computer Co., Ltd. | Liquid-crystal television receiver with cassette tape recorder |
US4829365A (en) | 1986-03-07 | 1989-05-09 | Dimension Technologies, Inc. | Autostereoscopic display with illuminating lines, light valve and mask |
US4856869A (en) | 1986-04-08 | 1989-08-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Display element and observation apparatus having the same |
GB2198867A (en) | 1986-12-17 | 1988-06-22 | Philips Electronic Associated | A liquid crystal display illumination system |
US4807965A (en) | 1987-05-26 | 1989-02-28 | Garakani Reza G | Apparatus for three-dimensional viewing |
US4814759A (en) | 1987-07-08 | 1989-03-21 | Clinicom Incorporated | Flat panel display monitor apparatus |
US4934773A (en) | 1987-07-27 | 1990-06-19 | Reflection Technology, Inc. | Miniature video display system |
US5003300A (en) | 1987-07-27 | 1991-03-26 | Reflection Technology, Inc. | Head mounted display for miniature video display system |
US4859012A (en) | 1987-08-14 | 1989-08-22 | Texas Instruments Incorporated | Optical interconnection networks |
US5142677A (en) | 1989-05-04 | 1992-08-25 | Texas Instruments Incorporated | Context switching devices, systems and methods |
US5072418A (en) | 1989-05-04 | 1991-12-10 | Texas Instruments Incorporated | Series maxium/minimum function computing devices, systems and methods |
US5155812A (en) | 1989-05-04 | 1992-10-13 | Texas Instruments Incorporated | Devices and method for generating and using systems, software waitstates on address boundaries in data processing |
US4801194A (en) | 1987-09-23 | 1989-01-31 | Eastman Kodak Company | Multiplexed array exposing system having equi-angular scan exposure regions |
US4797694A (en) | 1987-09-23 | 1989-01-10 | Eastman Kodak Company | Scan-multiplexed light valve printer with band-reducing construction |
US5024494A (en) | 1987-10-07 | 1991-06-18 | Texas Instruments Incorporated | Focussed light source pointer for three dimensional display |
HU197469B (en) | 1987-10-23 | 1989-03-28 | Laszlo Holakovszky | Spectacle like, wearable on head stereoscopic reproductor of the image |
US5155604A (en) | 1987-10-26 | 1992-10-13 | Van Leer Metallized Products (Usa) Limited | Coated paper sheet embossed with a diffraction or holographic pattern |
US4952925A (en) | 1988-01-25 | 1990-08-28 | Bernd Haastert | Projectable passive liquid-crystal flat screen information centers |
US4956619A (en) | 1988-02-19 | 1990-09-11 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator |
EP0330738B1 (de) | 1988-03-03 | 1991-11-13 | Landis & Gyr Betriebs AG | Dokument |
JPH01265293A (ja) | 1988-04-15 | 1989-10-23 | Sharp Corp | 小型表示装置 |
JPH01296214A (ja) | 1988-05-25 | 1989-11-29 | Canon Inc | 表示装置 |
US4827391A (en) | 1988-06-01 | 1989-05-02 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus for implementing output voltage slope in current mode controlled power supplies |
JP2585717B2 (ja) | 1988-06-03 | 1997-02-26 | キヤノン株式会社 | 表示装置 |
JPH01306886A (ja) | 1988-06-03 | 1989-12-11 | Canon Inc | 体積位相型回折格子 |
US4856863A (en) | 1988-06-22 | 1989-08-15 | Texas Instruments Incorporated | Optical fiber interconnection network including spatial light modulator |
US5048077A (en) | 1988-07-25 | 1991-09-10 | Reflection Technology, Inc. | Telephone handset with full-page visual display |
US5028939A (en) | 1988-08-23 | 1991-07-02 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator system |
US5058992A (en) | 1988-09-07 | 1991-10-22 | Toppan Printing Co., Ltd. | Method for producing a display with a diffraction grating pattern and a display produced by the method |
EP0360969B1 (de) | 1988-09-30 | 1993-12-15 | Landis & Gyr Business Support AG | Beugungselement |
US4915463A (en) | 1988-10-18 | 1990-04-10 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Multilayer diffraction grating |
JPH07121097B2 (ja) | 1988-11-18 | 1995-12-20 | 株式会社日立製作所 | 液晶テレビおよびその製造方法 |
US4982184A (en) | 1989-01-03 | 1991-01-01 | General Electric Company | Electrocrystallochromic display and element |
US5079544A (en) | 1989-02-27 | 1992-01-07 | Texas Instruments Incorporated | Standard independent digitized video system |
US5192946A (en) | 1989-02-27 | 1993-03-09 | Texas Instruments Incorporated | Digitized color video display system |
US5162787A (en) | 1989-02-27 | 1992-11-10 | Texas Instruments Incorporated | Apparatus and method for digitized video system utilizing a moving display surface |
US5446479A (en) | 1989-02-27 | 1995-08-29 | Texas Instruments Incorporated | Multi-dimensional array video processor system |
US5214420A (en) | 1989-02-27 | 1993-05-25 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator projection system with random polarity light |
US5128660A (en) | 1989-02-27 | 1992-07-07 | Texas Instruments Incorporated | Pointer for three dimensional display |
US5206629A (en) | 1989-02-27 | 1993-04-27 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator and memory for digitized video display |
US5170156A (en) | 1989-02-27 | 1992-12-08 | Texas Instruments Incorporated | Multi-frequency two dimensional display system |
US5214419A (en) | 1989-02-27 | 1993-05-25 | Texas Instruments Incorporated | Planarized true three dimensional display |
KR100202246B1 (ko) | 1989-02-27 | 1999-06-15 | 윌리엄 비. 켐플러 | 디지탈화 비디오 시스템을 위한 장치 및 방법 |
US5287096A (en) | 1989-02-27 | 1994-02-15 | Texas Instruments Incorporated | Variable luminosity display system |
US5272473A (en) | 1989-02-27 | 1993-12-21 | Texas Instruments Incorporated | Reduced-speckle display system |
US4978202A (en) | 1989-05-12 | 1990-12-18 | Goldstar Co., Ltd. | Laser scanning system for displaying a three-dimensional color image |
US5060058A (en) | 1989-06-07 | 1991-10-22 | U.S. Philips Corporation | Modulation system for projection display |
US5022750A (en) | 1989-08-11 | 1991-06-11 | Raf Electronics Corp. | Active matrix reflective projection system |
JPH0343682U (ja) | 1989-09-06 | 1991-04-24 | ||
GB8921722D0 (en) | 1989-09-26 | 1989-11-08 | British Telecomm | Micromechanical switch |
US4954789A (en) | 1989-09-28 | 1990-09-04 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator |
JP2508387B2 (ja) | 1989-10-16 | 1996-06-19 | 凸版印刷株式会社 | 回折格子パタ―ンを有するディスプレイの作製方法 |
US5037173A (en) | 1989-11-22 | 1991-08-06 | Texas Instruments Incorporated | Optical interconnection network |
US5072239A (en) | 1989-12-21 | 1991-12-10 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator exposure unit and method of operation |
US5237340A (en) | 1989-12-21 | 1993-08-17 | Texas Instruments Incorporated | Replaceable elements for xerographic printing process and method of operation |
US5105369A (en) | 1989-12-21 | 1992-04-14 | Texas Instruments Incorporated | Printing system exposure module alignment method and apparatus of manufacture |
US5041851A (en) | 1989-12-21 | 1991-08-20 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator printer and method of operation |
US5142303A (en) | 1989-12-21 | 1992-08-25 | Texas Instruments Incorporated | Printing system exposure module optic structure and method of operation |
US5101236A (en) | 1989-12-21 | 1992-03-31 | Texas Instruments Incorporated | Light energy control system and method of operation |
DE4001448C1 (ja) | 1990-01-19 | 1991-07-11 | Mercedes-Benz Aktiengesellschaft, 7000 Stuttgart, De | |
JPH03217814A (ja) | 1990-01-24 | 1991-09-25 | Canon Inc | 液晶プロジェクター |
US5113272A (en) | 1990-02-12 | 1992-05-12 | Raychem Corporation | Three dimensional semiconductor display using liquid crystal |
US5121231A (en) | 1990-04-06 | 1992-06-09 | University Of Southern California | Incoherent/coherent multiplexed holographic recording for photonic interconnections and holographic optical elements |
JP2938568B2 (ja) | 1990-05-02 | 1999-08-23 | フラウンホファー・ゲゼルシャフト・ツール・フォルデルング・デル・アンゲバンテン・フォルシュング・アインゲトラーゲネル・フェライン | 照明装置 |
US5291473A (en) | 1990-06-06 | 1994-03-01 | Texas Instruments Incorporated | Optical storage media light beam positioning system |
US5165013A (en) | 1990-09-26 | 1992-11-17 | Faris Sadeg M | 3-D stereo pen plotter |
US5502481A (en) | 1992-11-16 | 1996-03-26 | Reveo, Inc. | Desktop-based projection display system for stereoscopic viewing of displayed imagery over a wide field of view |
JP2622185B2 (ja) | 1990-06-28 | 1997-06-18 | シャープ株式会社 | カラー液晶表示装置 |
US5018256A (en) | 1990-06-29 | 1991-05-28 | Texas Instruments Incorporated | Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates |
US5099353A (en) | 1990-06-29 | 1992-03-24 | Texas Instruments Incorporated | Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates |
US5083857A (en) | 1990-06-29 | 1992-01-28 | Texas Instruments Incorporated | Multi-level deformable mirror device |
US5216537A (en) | 1990-06-29 | 1993-06-01 | Texas Instruments Incorporated | Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates |
US5142405A (en) | 1990-06-29 | 1992-08-25 | Texas Instruments Incorporated | Bistable dmd addressing circuit and method |
EP0467048B1 (en) | 1990-06-29 | 1995-09-20 | Texas Instruments Incorporated | Field-updated deformable mirror device |
US5291317A (en) | 1990-07-12 | 1994-03-01 | Applied Holographics Corporation | Holographic diffraction grating patterns and methods for creating the same |
US5121343A (en) | 1990-07-19 | 1992-06-09 | Faris Sadeg M | 3-D stereo computer output printer |
GB2249450A (en) | 1990-09-05 | 1992-05-06 | Marconi Gec Ltd | A display arrangement including linear array of light emitting elements |
US5182665A (en) | 1990-09-07 | 1993-01-26 | Displaytech, Inc. | Diffractive light modulator |
US5148157A (en) | 1990-09-28 | 1992-09-15 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator with full complex light modulation capability |
US5113285A (en) | 1990-09-28 | 1992-05-12 | Honeywell Inc. | Full color three-dimensional flat panel display |
US5331454A (en) | 1990-11-13 | 1994-07-19 | Texas Instruments Incorporated | Low reset voltage process for DMD |
US5231363A (en) | 1990-11-26 | 1993-07-27 | Texas Instruments Incorporated | Pulse width modulating producing signals centered in each cycle interval |
US5181231A (en) | 1990-11-30 | 1993-01-19 | Texas Instruments, Incorporated | Non-volatile counting method and apparatus |
US5172161A (en) | 1990-12-31 | 1992-12-15 | Texas Instruments Incorporated | Unibody printing system and process |
US5105207A (en) | 1990-12-31 | 1992-04-14 | Texas Instruments Incorporated | System and method for achieving gray scale DMD operation |
US5151718A (en) | 1990-12-31 | 1992-09-29 | Texas Instruments Incorporated | System and method for solid state illumination for dmd devices |
US5105299A (en) | 1990-12-31 | 1992-04-14 | Texas Instruments Incorporated | Unfolded optics for multiple row deformable mirror device |
US5159485A (en) | 1990-12-31 | 1992-10-27 | Texas Instruments Incorporated | System and method for uniformity of illumination for tungsten light |
CA2060057C (en) | 1991-01-29 | 1997-12-16 | Susumu Takahashi | Display having diffraction grating pattern |
US5178728A (en) | 1991-03-28 | 1993-01-12 | Texas Instruments Incorporated | Integrated-optic waveguide devices and method |
CA2063744C (en) | 1991-04-01 | 2002-10-08 | Paul M. Urbanus | Digital micromirror device architecture and timing for use in a pulse-width modulated display system |
US5347378A (en) | 1991-04-04 | 1994-09-13 | Displaytech, Inc. | Fast switching color filters for frame-sequential video using ferroelectric liquid crystal color-selective filters |
US5226099A (en) | 1991-04-26 | 1993-07-06 | Texas Instruments Incorporated | Digital micromirror shutter device |
US5148506A (en) | 1991-04-26 | 1992-09-15 | Texas Instruments Incorporated | Optical crossbar switch |
US5170269A (en) | 1991-05-31 | 1992-12-08 | Texas Instruments Incorporated | Programmable optical interconnect system |
US5299289A (en) | 1991-06-11 | 1994-03-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Polymer dispersed liquid crystal panel with diffraction grating |
US5155778A (en) | 1991-06-28 | 1992-10-13 | Texas Instruments Incorporated | Optical switch using spatial light modulators |
US5221982A (en) | 1991-07-05 | 1993-06-22 | Faris Sadeg M | Polarizing wavelength separator |
US5179274A (en) | 1991-07-12 | 1993-01-12 | Texas Instruments Incorporated | Method for controlling operation of optical systems and devices |
US5287215A (en) | 1991-07-17 | 1994-02-15 | Optron Systems, Inc. | Membrane light modulation systems |
US5170283A (en) | 1991-07-24 | 1992-12-08 | Northrop Corporation | Silicon spatial light modulator |
US5240818A (en) | 1991-07-31 | 1993-08-31 | Texas Instruments Incorporated | Method for manufacturing a color filter for deformable mirror device |
US5168406A (en) | 1991-07-31 | 1992-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Color deformable mirror device and method for manufacture |
CA2075026A1 (en) | 1991-08-08 | 1993-02-09 | William E. Nelson | Method and apparatus for patterning an imaging member |
US5418546A (en) * | 1991-08-20 | 1995-05-23 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Visual display system and exposure control apparatus |
US5254980A (en) | 1991-09-06 | 1993-10-19 | Texas Instruments Incorporated | DMD display system controller |
US5307056A (en) | 1991-09-06 | 1994-04-26 | Texas Instruments Incorporated | Dynamic memory allocation for frame buffer for spatial light modulator |
US5255100A (en) | 1991-09-06 | 1993-10-19 | Texas Instruments Incorporated | Data formatter with orthogonal input/output and spatial reordering |
US5245686A (en) | 1991-09-06 | 1993-09-14 | Faris Sadeg M | Method of fabricating an image plane translator device and apparatus incorporating such device |
CA2081753C (en) | 1991-11-22 | 2002-08-06 | Jeffrey B. Sampsell | Dmd scanner |
US5231432A (en) | 1991-12-03 | 1993-07-27 | Florida Atlantic University | Projector utilizing liquid crystal light-valve and color selection by diffraction |
DE69231194T2 (de) | 1991-12-05 | 2001-02-15 | Texas Instruments Inc | Verfahren zur Verbesserung eines Videosignals |
US5212555A (en) | 1991-12-17 | 1993-05-18 | Texas Instruments Incorporated | Image capture with spatial light modulator and single-cell photosensor |
US5231388A (en) | 1991-12-17 | 1993-07-27 | Texas Instruments Incorporated | Color display system using spatial light modulators |
US5247593A (en) | 1991-12-18 | 1993-09-21 | Texas Instruments Incorporated | Programmable optical crossbar switch |
US5311349A (en) | 1991-12-18 | 1994-05-10 | Texas Instruments Incorporated | Unfolded optics for multiple row spatial light modulators |
US5202785A (en) | 1991-12-20 | 1993-04-13 | Texas Instruments Incorporated | Method and device for steering light |
CA2084923A1 (en) | 1991-12-20 | 1993-06-21 | Ronald E. Stafford | Slm spectrometer |
US5233456A (en) | 1991-12-20 | 1993-08-03 | Texas Instruments Incorporated | Resonant mirror and method of manufacture |
CA2085961A1 (en) | 1991-12-23 | 1993-06-24 | William E. Nelson | Method and apparatus for steering light |
US5247180A (en) | 1991-12-30 | 1993-09-21 | Texas Instruments Incorporated | Stereolithographic apparatus and method of use |
US5285407A (en) | 1991-12-31 | 1994-02-08 | Texas Instruments Incorporated | Memory circuit for spatial light modulator |
US5189548A (en) * | 1991-12-31 | 1993-02-23 | Xerox Corporation | Electrooptic TIR light modulator image bar having multiple electrodes per pixel |
US5296950A (en) | 1992-01-31 | 1994-03-22 | Texas Instruments Incorporated | Optical signal free-space conversion board |
US5504514A (en) | 1992-02-13 | 1996-04-02 | Texas Instruments Incorporated | System and method for solid state illumination for spatial light modulators |
US5212582A (en) | 1992-03-04 | 1993-05-18 | Texas Instruments Incorporated | Electrostatically controlled beam steering device and method |
DE69310974T2 (de) | 1992-03-25 | 1997-11-06 | Texas Instruments Inc | Eingebautes optisches Eichsystem |
US5312513A (en) | 1992-04-03 | 1994-05-17 | Texas Instruments Incorporated | Methods of forming multiple phase light modulators |
US5319214A (en) | 1992-04-06 | 1994-06-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Infrared image projector utilizing a deformable mirror device spatial light modulator |
GB9208705D0 (en) | 1992-04-22 | 1992-07-22 | Smiths Industries Plc | Head-mounted display assemblies |
US5459592A (en) | 1992-04-24 | 1995-10-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Projection display system including a collimating tapered waveguide or lens with the normal to optical axis angle increasing toward the lens center |
US5311360A (en) | 1992-04-28 | 1994-05-10 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for modulating a light beam |
GB2267579A (en) | 1992-05-15 | 1993-12-08 | Sharp Kk | Optical device comprising facing lenticular or parallax screens of different pitch |
US5307185A (en) | 1992-05-19 | 1994-04-26 | Raychem Corporation | Liquid crystal projection display with complementary color dye added to longest wavelength imaging element |
US5347433A (en) | 1992-06-11 | 1994-09-13 | Sedlmayr Steven R | Collimated beam of light and systems and methods for implementation thereof |
US5486841A (en) | 1992-06-17 | 1996-01-23 | Sony Corporation | Glasses type display apparatus |
US5315418A (en) | 1992-06-17 | 1994-05-24 | Xerox Corporation | Two path liquid crystal light valve color display with light coupling lens array disposed along the red-green light path |
US5256869A (en) | 1992-06-30 | 1993-10-26 | Texas Instruments Incorporated | Free-space optical interconnection using deformable mirror device |
US5430524A (en) | 1992-07-22 | 1995-07-04 | Texas Instruments Incorporated | Unibody printing and copying system and process |
US5321416A (en) | 1992-07-27 | 1994-06-14 | Virtual Research Systems | Head-mounted visual display apparatus |
US5313479A (en) | 1992-07-29 | 1994-05-17 | Texas Instruments Incorporated | Speckle-free display system using coherent light |
US5327286A (en) | 1992-08-31 | 1994-07-05 | Texas Instruments Incorporated | Real time optical correlation system |
US5348619A (en) | 1992-09-03 | 1994-09-20 | Texas Instruments Incorporated | Metal selective polymer removal |
US5325116A (en) | 1992-09-18 | 1994-06-28 | Texas Instruments Incorporated | Device for writing to and reading from optical storage media |
GB9220412D0 (en) | 1992-09-28 | 1992-11-11 | Texas Instruments Holland | Transponder systems for automatic identification purposes |
US5285196A (en) | 1992-10-15 | 1994-02-08 | Texas Instruments Incorporated | Bistable DMD addressing method |
US5289172A (en) | 1992-10-23 | 1994-02-22 | Texas Instruments Incorporated | Method of mitigating the effects of a defective electromechanical pixel |
GB2272555A (en) | 1992-11-11 | 1994-05-18 | Sharp Kk | Stereoscopic display using a light modulator |
EP0599375B1 (de) | 1992-11-20 | 1999-03-03 | Ascom Tech Ag | Lichtmodulator |
US5450088A (en) | 1992-11-25 | 1995-09-12 | Texas Instruments Deutschland Gmbh | Transponder arrangement |
US5410315A (en) | 1992-12-08 | 1995-04-25 | Texas Instruments Incorporated | Group-addressable transponder arrangement |
KR100285696B1 (ko) | 1992-12-16 | 2001-09-17 | 윌리엄 비. 켐플러 | 패터닝된 금속층의 세정방법 |
US5420655A (en) | 1992-12-16 | 1995-05-30 | North American Philips Corporation | Color projection system employing reflective display devices and prism illuminators |
US5357369A (en) | 1992-12-21 | 1994-10-18 | Geoffrey Pilling | Wide-field three-dimensional viewing system |
US5418584A (en) | 1992-12-31 | 1995-05-23 | Honeywell Inc. | Retroreflective array virtual image projection screen |
US5371618A (en) | 1993-01-05 | 1994-12-06 | Brite View Technologies | Color liquid crystal display employing dual cells driven with an EXCLUSIVE OR relationship |
AU5306494A (en) | 1993-01-08 | 1994-07-14 | Richard A Vasichek | Magnetic keeper accessory for wrench sockets |
US5371543A (en) | 1993-03-03 | 1994-12-06 | Texas Instruments Incorporated | Monolithic color wheel |
US5404485A (en) | 1993-03-08 | 1995-04-04 | M-Systems Flash Disk Pioneers Ltd. | Flash file system |
US5293511A (en) | 1993-03-16 | 1994-03-08 | Texas Instruments Incorporated | Package for a semiconductor device |
US5435876A (en) | 1993-03-29 | 1995-07-25 | Texas Instruments Incorporated | Grid array masking tape process |
US5461411A (en) | 1993-03-29 | 1995-10-24 | Texas Instruments Incorporated | Process and architecture for digital micromirror printer |
US5455602A (en) | 1993-03-29 | 1995-10-03 | Texas Instruments Incorporated | Combined modulation schemes for spatial light modulators |
US5461410A (en) | 1993-03-29 | 1995-10-24 | Texas Instruments Incorporated | Gray scale printing using spatial light modulators |
US5451103A (en) | 1993-04-06 | 1995-09-19 | Sony Corporation | Projector system |
US5539422A (en) | 1993-04-12 | 1996-07-23 | Virtual Vision, Inc. | Head mounted display system |
US5321450A (en) | 1993-05-11 | 1994-06-14 | Proxima Corporation | Low profile liquid crystal projector and method of using same |
US5485172A (en) | 1993-05-21 | 1996-01-16 | Sony Corporation | Automatic image regulating arrangement for head-mounted image display apparatus |
KR970003007B1 (ko) | 1993-05-21 | 1997-03-13 | 대우전자 주식회사 | 투사형 화상표시장치용 광로조절장치 및 그 구동방법 |
US5445559A (en) | 1993-06-24 | 1995-08-29 | Texas Instruments Incorporated | Wafer-like processing after sawing DMDs |
US5453747A (en) | 1993-06-28 | 1995-09-26 | Texas Instruments Deutschland Gmbh | Transponder systems for automatic identification purposes |
US5491715A (en) | 1993-06-28 | 1996-02-13 | Texas Instruments Deutschland Gmbh | Automatic antenna tuning method and circuit |
US5345521A (en) | 1993-07-12 | 1994-09-06 | Texas Instrument Incorporated | Architecture for optical switch |
US5489952A (en) | 1993-07-14 | 1996-02-06 | Texas Instruments Incorporated | Method and device for multi-format television |
US5365283A (en) | 1993-07-19 | 1994-11-15 | Texas Instruments Incorporated | Color phase control for projection display using spatial light modulator |
US5461547A (en) | 1993-07-20 | 1995-10-24 | Precision Lamp, Inc. | Flat panel display lighting system |
US5510824A (en) | 1993-07-26 | 1996-04-23 | Texas Instruments, Inc. | Spatial light modulator array |
US5453778A (en) | 1993-07-30 | 1995-09-26 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for spatial modulation in the cross-process direction |
US5389182A (en) | 1993-08-02 | 1995-02-14 | Texas Instruments Incorporated | Use of a saw frame with tape as a substrate carrier for wafer level backend processing |
US5459492A (en) | 1993-08-30 | 1995-10-17 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for printing stroke and contone data together |
US5485354A (en) | 1993-09-09 | 1996-01-16 | Precision Lamp, Inc. | Flat panel display lighting system |
US5457493A (en) | 1993-09-15 | 1995-10-10 | Texas Instruments Incorporated | Digital micro-mirror based image simulation system |
EP0657760A1 (en) | 1993-09-15 | 1995-06-14 | Texas Instruments Incorporated | Image simulation and projection system |
KR970003466B1 (ko) | 1993-09-28 | 1997-03-18 | 대우전자 주식회사 | 투사형 화상 표시 장치의 광로 조절 장치 제조 방법 |
US5347321A (en) | 1993-09-30 | 1994-09-13 | Texas Instruments Incorporated | Color separator for digital television |
US5497197A (en) | 1993-11-04 | 1996-03-05 | Texas Instruments Incorporated | System and method for packaging data into video processor |
US5367585A (en) | 1993-10-27 | 1994-11-22 | General Electric Company | Integrated microelectromechanical polymeric photonic switch |
US5452024A (en) | 1993-11-01 | 1995-09-19 | Texas Instruments Incorporated | DMD display system |
US5398071A (en) | 1993-11-02 | 1995-03-14 | Texas Instruments Incorporated | Film-to-video format detection for digital television |
CA2134370A1 (en) | 1993-11-04 | 1995-05-05 | Robert J. Gove | Video data formatter for a digital television system |
US5450219A (en) | 1993-11-17 | 1995-09-12 | Hughes Aircraft Company | Raster following telecentric illumination scanning system for enhancing light throughout in light valve projection systems |
US5517347A (en) | 1993-12-01 | 1996-05-14 | Texas Instruments Incorporated | Direct view deformable mirror device |
US5491510A (en) | 1993-12-03 | 1996-02-13 | Texas Instruments Incorporated | System and method for simultaneously viewing a scene and an obscured object |
US5442411A (en) | 1994-01-03 | 1995-08-15 | Texas Instruments Incorporated | Displaying video data on a spatial light modulator with line doubling |
US5499060A (en) | 1994-01-04 | 1996-03-12 | Texas Instruments Incorporated | System and method for processing video data |
US5448314A (en) | 1994-01-07 | 1995-09-05 | Texas Instruments | Method and apparatus for sequential color imaging |
CA2139794C (en) | 1994-01-18 | 2006-11-07 | Robert John Gove | Frame pixel data generation |
US5500761A (en) | 1994-01-27 | 1996-03-19 | At&T Corp. | Micromechanical modulator |
US5467106A (en) | 1994-02-10 | 1995-11-14 | Hughes-Avicom International, Inc. | Retractable face-up LCD monitor with off-monitor power supply and back-EMF braking |
US5412186A (en) | 1994-02-23 | 1995-05-02 | Texas Instruments Incorporated | Elimination of sticking of micro-mechanical devices |
US5444566A (en) | 1994-03-07 | 1995-08-22 | Texas Instruments Incorporated | Optimized electronic operation of digital micromirror devices |
US5447600A (en) | 1994-03-21 | 1995-09-05 | Texas Instruments | Polymeric coatings for micromechanical devices |
US5467146A (en) | 1994-03-31 | 1995-11-14 | Texas Instruments Incorporated | Illumination control unit for display system with spatial light modulator |
US5459528A (en) | 1994-03-31 | 1995-10-17 | Texas Instruments Incorporated | Video signal processor and method for secondary images |
US5486698A (en) | 1994-04-19 | 1996-01-23 | Texas Instruments Incorporated | Thermal imaging system with integrated thermal chopper |
US5512374A (en) | 1994-05-09 | 1996-04-30 | Texas Instruments Incorporated | PFPE coatings for micro-mechanical devices |
US5442414A (en) | 1994-05-10 | 1995-08-15 | U. S. Philips Corporation | High contrast illumination system for video projector |
US5458716A (en) | 1994-05-25 | 1995-10-17 | Texas Instruments Incorporated | Methods for manufacturing a thermally enhanced molded cavity package having a parallel lid |
US5497172A (en) | 1994-06-13 | 1996-03-05 | Texas Instruments Incorporated | Pulse width modulation for spatial light modulator with split reset addressing |
US5521748A (en) | 1994-06-16 | 1996-05-28 | Eastman Kodak Company | Light modulator with a laser or laser array for exposing image data |
US5454906A (en) | 1994-06-21 | 1995-10-03 | Texas Instruments Inc. | Method of providing sacrificial spacer for micro-mechanical devices |
US5482564A (en) | 1994-06-21 | 1996-01-09 | Texas Instruments Incorporated | Method of unsticking components of micro-mechanical devices |
US5499062A (en) | 1994-06-23 | 1996-03-12 | Texas Instruments Incorporated | Multiplexed memory timing with block reset and secondary memory |
US5523878A (en) | 1994-06-30 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Self-assembled monolayer coating for micro-mechanical devices |
US5504504A (en) | 1994-07-13 | 1996-04-02 | Texas Instruments Incorporated | Method of reducing the visual impact of defects present in a spatial light modulator display |
US5512748A (en) | 1994-07-26 | 1996-04-30 | Texas Instruments Incorporated | Thermal imaging system with a monolithic focal plane array and method |
US5485304A (en) | 1994-07-29 | 1996-01-16 | Texas Instruments, Inc. | Support posts for micro-mechanical devices |
US5483307A (en) | 1994-09-29 | 1996-01-09 | Texas Instruments, Inc. | Wide field of view head-mounted display |
US5490009A (en) | 1994-10-31 | 1996-02-06 | Texas Instruments Incorporated | Enhanced resolution for digital micro-mirror displays |
US5519450A (en) | 1994-11-14 | 1996-05-21 | Texas Instruments Incorporated | Graphics subsystem for digital television |
US5516125A (en) | 1994-11-30 | 1996-05-14 | Texas Instruments Incorporated | Baffled collet for vacuum pick-up of a semiconductor die |
US5463347A (en) | 1994-12-12 | 1995-10-31 | Texas Instruments Incorporated | MOS uni-directional, differential voltage amplifier capable of amplifying signals having input common-mode voltage beneath voltage of lower supply and integrated circuit substrate |
US5486946A (en) | 1994-12-21 | 1996-01-23 | Motorola | Integrated electro-optic package for reflective spatial light modulators |
US5668611A (en) | 1994-12-21 | 1997-09-16 | Hughes Electronics | Full color sequential image projection system incorporating pulse rate modulated illumination |
US5524155A (en) | 1995-01-06 | 1996-06-04 | Texas Instruments Incorporated | Demultiplexer for wavelength-multiplexed optical signal |
US5517359A (en) | 1995-01-23 | 1996-05-14 | Gelbart; Daniel | Apparatus for imaging light from a laser diode onto a multi-channel linear light valve |
US5517340A (en) | 1995-01-30 | 1996-05-14 | International Business Machines Corporation | High performance projection display with two light valves |
US5504614A (en) | 1995-01-31 | 1996-04-02 | Texas Instruments Incorporated | Method for fabricating a DMD spatial light modulator with a hardened hinge |
US5508750A (en) | 1995-02-03 | 1996-04-16 | Texas Instruments Incorporated | Encoding data converted from film format for progressive display |
US5841579A (en) * | 1995-06-07 | 1998-11-24 | Silicon Light Machines | Flat diffraction grating light valve |
US5742373A (en) | 1995-10-13 | 1998-04-21 | Massachusetts Institute Of Technology | Color microdisplays and methods of manufacturing same |
-
1997
- 1997-03-20 US US08/821,390 patent/US5982553A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-19 EP EP98911822A patent/EP0968453B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-19 DK DK98911822T patent/DK0968453T3/da active
- 1998-03-19 AU AU65690/98A patent/AU6569098A/en not_active Abandoned
- 1998-03-19 DE DE69803656T patent/DE69803656T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-19 CN CN98803532A patent/CN1251178A/zh active Pending
- 1998-03-19 JP JP54079298A patent/JP3489841B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-19 KR KR1019997008565A patent/KR100342110B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-03-19 WO PCT/US1998/005397 patent/WO1998041893A1/en active IP Right Grant
-
1999
- 1999-09-17 NO NO994515A patent/NO994515D0/no not_active Application Discontinuation
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002162599A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-06-07 | Sony Corp | 立体画像表示装置 |
US7102808B2 (en) | 2002-02-19 | 2006-09-05 | Sony Corporation | MEMS device and methods for manufacturing thereof, light modulation device, GLV device and methods for manufacturing thereof, and laser display |
US9429826B2 (en) | 2002-08-16 | 2016-08-30 | Seiko Epson Corporation | Projection television device and screen |
US9733459B2 (en) | 2002-08-16 | 2017-08-15 | Seiko Epson Corporation | Projected television device and screen |
US10955648B2 (en) | 2002-08-16 | 2021-03-23 | Seiko Epson Corporation | Projection television device and screen |
JP2004139023A (ja) * | 2002-08-21 | 2004-05-13 | Sony Corp | ホログラム記録装置、ホログラム記録方法、およびホログラム記録媒体 |
JP2004282013A (ja) * | 2002-10-16 | 2004-10-07 | Eastman Kodak Co | 電気機械グレーティング素子を含むvcselアレイを用いた光変調装置 |
JP2005084117A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-03-31 | Sony Corp | 投射型画像表示装置 |
JP4534453B2 (ja) * | 2003-09-04 | 2010-09-01 | ソニー株式会社 | 投射型画像表示装置 |
JP2007513380A (ja) * | 2003-12-03 | 2007-05-24 | イーストマン コダック カンパニー | 三線形電気機械回折格子装置を備える表示システム |
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