JP2000327678A - ２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方法および３−アミノチオフェン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 工業的に可能な方法によって、３−アミノチ
オフェン誘導体の２位に二級のアルキル基を直接導入し
て、農園芸用殺菌剤として有用な一般式（１）で示され
る２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体を製造す
る方法を提供する。 【解決手段】一般式（２）と一般式（３）で示される化
合物（式中Ｒ¹〜Ｒ⁴、Ｒ^1ａ〜Ｒ^4ａはそれぞれ独立して
水素原子、又はアルキル基を示し、Ｒはアルキル基、ア
ルコキシ基、フェニル基、又は５員ないし６員のヘテロ
環式基を示す）とを酸の存在下で反応させ、得られた反
応混合物を還元することで、農園芸用殺菌剤、もしくは
その中間体として有用な一般式（１）で示される化合物
を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する術分野】発明は、農園芸用殺菌剤、もし
くはその中間体として有用な２−アルキル−３−アミノ
チオフェン誘導体の製造方法、及び新規な３−アミノチ
オフェン誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開平９−２３５２８２号公報（欧州特
許公開公報０７３７６８２ Ａ１）には、ある種の２−
アルキル−３−アミノチオフェン誘導体が種々の植物病
害に対して強力な防除効果を有することが記載されてい
る。そして、この２−アルキル−３−アミノチオフェン
誘導体の製造方法の一つとして、３−アミノチオフェン
誘導体の２位に直接アルキル基を導入する方法が考えら
れる。例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒ
ｓ，３４，５７１５−５７１８（１９９３）によると、
３−アミノチオフェンと各種アルデヒドとをパラトルエ
ンスルホン酸、セレノフェノール存在下で反応させると
２−アルキル−３−アミノチオフェンが得られることが
知られている（化２２）。

【０００３】

【化２２】 （式中Ｒ’はアルキル基を示す。）

【０００４】しかし、この文献中では、二級のアルキル
基を持つ２−アルキル−３−アミノチオフェンを合成す
るような記載は全く見られない。この文献に記載されて
いる合成法を利用して二級のアルキル基を持つ２−アル
キル−３−アミノチオフェン誘導体を得るためには、３
−アミノチオフェン誘導体とケトン類を反応させなけれ
ばならない。しかし、本発明者らが、アルデヒドをケト
ンに代えて反応を行ってみたところ、３−アミノチオフ
ェンは分解して、目的とする２−アルキル−３−アミノ
チオフェン誘導体もしくは２−アルケニル−３−アミノ
チオフェン誘導体を得ることはできなかった（参考例
１）。また、この文献の反応は工業的に使用が困難なセ
レノフェノールを還元剤として用いているため、工業的
な製造法としては問題がある。

【０００５】また、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ５４，９
０５５−９０６６（１９９８）によると、３−アミノチ
オフェンもしくは３−アミノチオフェン誘導体にα位で
分岐したアルデヒドを反応させると、一級のアルケニル
基が導入されることが知られている。しかし、この文献
には、ケトンを用いる反応についてはまったく何も記載
されていない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、３−アミノ
チオフェン誘導体とケトンとを反応させることで、農園
芸用殺菌剤、もしくはその中間体として有用な２−アル
キル−３−アミノチオフェン誘導体の中でも二級のアル
キル基を持つ化合物を工業的に製造する方法を提供する
ことを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決するために、３−アミノチオフェン誘導体の３位
のアミノ基をアミド結合、もしくはカーバメート結合に
変換した化合物と、各種ケトン類とを酸の存在下で反応
させたところ、３−アミノチオフェン誘導体の２位に二
級のアルケニル基が導入されること、さらにこのアルケ
ニル基を工業的に可能な方法で還元することで容易にア
ルキル基へと変換できることを見いだし、本発明を完成
した。

【０００８】すなわち、本発明は、次の（１）〜（６）
に関する。 （１）一般式（１）（化２３）

【化２３】

【０００９】（式中、Ｒは、水素原子、置換されていて
もよいアルキル基またはアルコキシ基、置換されていて
もよい芳香族または非芳香族の炭化水素環、置換されて
いてもよい芳香族または非芳香族の複素環を示し、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子また
は炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示
し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²と
Ｒ³もしくはＲ²とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基
を形成してもよい。）で示される２−アルキル−３−ア
ミノチオフェン誘導体の製造方法であって、一般式
（２）（化２４）

【００１０】

【化２４】 （式中、Ｒは前記と同様）で示される化合物と、一般式
（３）（化２５）

【００１１】

【化２５】

【００１２】（式中、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそ
れぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖もし
くは分岐のアルキル基または炭素数１〜１２の直鎖もし
くは分岐のアルケニル基を示し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ^3ａ
とＲ^4ａ、Ｒ^1ａとＲ^3ａ、Ｒ^1ａとＲ^4ａ、Ｒ^2ａとＲ^3ａ
もしくはＲ^2ａとＲ^4ａは一緒になってシクロアルキル基
またはシクロアルケニル基を形成してもよい）で示され
る化合物とを酸の存在下で反応させ、得られた反応混合
物を還元することを特徴とする、一般式（１）で示され
る２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方
法。

【００１３】（２）一般式（４ａ）、（４ｂ）、（４
ｃ）及び（４ｄ）（化２６）

【化２６】

【００１４】（式中、Ｒは、水素原子、置換されていて
もよいアルキル基またはアルコキシ基、置換されていて
もよい芳香族または非芳香族の炭化水素環、置換されて
いてもよい芳香族または非芳香族の複素環を示し、Ｒ
^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立して、水素原
子、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基ま
たは炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルケニル基
を示し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ^1ａとＲ^3ａ、
Ｒ^1ａとＲ^4ａ、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ^2ａとＲ^4ａは一
緒になってシクロアルキル基またはシクロアルケニル基
を形成してもよい。）で示される化合物を含有する混合
物の製造方法であって、一般式（２）（化２７）

【００１５】

【化２７】 （式中、Ｒは前記と同様）で示される化合物と、

【００１６】一般式（３）（化２８）

【化２８】 （式中Ｒ^1ａ〜Ｒ^4ａは前記と同様）で示される化合物と
を酸の存在下で反応させることを特徴とする、一般式
（４ａ）、（４ｂ）、（４ｃ）及び（４ｄ）で示される
化合物を含む２−アルケニル−３−アミノチフェン誘導
体の混合物の製造方法。

【００１７】（３）一般式（１ａ）（化２９）

【化２９】 〔式中、Ｒ^ａは以下の（Ａ１）から（Ａ１２）（化３
０）を示し、

【００１８】

【化３０】

【００１９】（式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン
原子であり、Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロ
メチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基で
あり、Ｒ⁷は水素原子、ハロゲン原子、メチル基または
メトキシ基であり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチ
ル基またはハロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意
味する。但し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場
合、Ｒ⁵はハロゲン原子ではない。）で示される基であ
り、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子
または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基
を示し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ
²とＲ³もしくはＲ²とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル
基を形成してもよい〕、で示される化合物の製造方法で
あって、

【００２０】一般式（２）（化３１）で示される化合物
と

【化３１】 （式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキ
ル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族
または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳
香族または非芳香族の複素環を示す）、

【００２１】一般式（３）（化３２）で示される化合物
と

【化３２】 （式中、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立し
て、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のア
ルケニル基を示し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ
^1ａとＲ^3ａ、Ｒ^1ａとＲ^4ａ、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ
^2ａとＲ^4ａは一緒になってシクロアルキル基またはシク
ロアルケニル基を形成してもよい）を酸の存在下で反応
させ、得られた反応混合物を還元して一般式（１）（化
３３）で示される化合物を得た後、

【００２２】

【化３３】 （式中、Ｒ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、前記と同様） さらに酸、またはアルカリ条件下で加水分解し、一般式
（５）（化３４）で示される化合物を得、

【００２３】

【化３４】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、前記と同様）

【００２４】これを一般式（８ａ）（化３５）で示され
る化合物

【化３５】 （式中、R^ａは前記と同様）と反応させることを特徴と
する、一般式（１ａ）で示される２−アルキル−３−ア
ミノチオフェンの製造方法。

【００２５】（４）一般式（６ａ）（化３６）

【化３６】 ｛式中、Ｒ^９は水素原子、カルボキシル基または炭素数
１〜６のアルコキシカルボニル基を、Ｒ^ａは以下の（Ａ
１）から（Ａ１２）（化３７）

【化３７】

【００２６】（式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン
原子であり、Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロ
メチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基で
あり、Ｒ⁷は水素原子、ハロゲン原子、メチル基または
メトキシ基であり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチ
ル基またはハロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意
味する。但し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場
合、Ｒ⁵はハロゲン原子でない。）で示される基であ
る｝で示される３−アミノチオフェン誘導体。

【００２７】（５）一般式（４ａ）’、（４ｂ）’、
（４ｃ）’、（４ｄ）’（化３８）

【化３８】 ｛式中、Ｒ^ｂは、水素原子、置換されていてもよいアル
キル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香
族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい
芳香族または非芳香族の複素環を示し、ただし、Ｒ^bが
（Ａ１）から（Ａ１２）（化３９）

【００２８】

【化３９】

【００２９】（式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン
原子であり、Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロ
メチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基で
あり、Ｒ⁷は水素原子、ハロゲン原子、メチル基または
メトキシ基であり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチ
ル基またはハロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意
味する。但し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場
合、Ｒ⁵はハロゲン原子ではない。）の場合は除き、Ｒ
^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立して、水素原
子、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基ま
たは炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルケニル基
を示し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ^1ａとＲ^3ａ、
Ｒ^1ａとＲ^{4 ａ}、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ^2ａとＲ^4ａは一
緒になってシクロアルキル基またはシクロアルケニル基
を形成してもよい。ただし、Ｒ^ｂがtert−ブトキシ基で
Ｒ^{1 ａ}、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａが全て水素原子の場合は除
く。}で示される２−アルケニル−３−アミノチオフェ
ン誘導体の混合物。

【００３０】（６）一般式（１ｂ）（化４０）

【化４０】 ｛式中、Ｒ^ｂは、水素原子、置換されていてもよいアル
キル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香
族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい
芳香族または非芳香族の複素環を示し、ただし、Ｒ^ｂが
（Ａ１）から（Ａ１２）（化４１）

【００３１】

【化４１】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
ハロゲン原子ではない。）の場合は除き、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ
³、Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜
１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹と
Ｒ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²とＲ³もしく
はＲ²とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基を形成して
もよい。}で示される２−アルキル−３−アミノチオフ
ェン誘導体。

【００３２】

【発明の実施の形態】本発明において、Ｒは水素原子、
Ｒで示される置換されていてもよいアルキルとしては、
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔ
ｅｒｔ-ブチル基、ヘキシル基、デシル基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、フェニルメチル基等のアル
キル基等があげられ、Ｒで示される置換されていてもよ
いアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロプロポキシ基、
ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ
ｅｒｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘキシ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基等のアルコキシ基があげ
られ、Ｒで示される置換されていてもよい芳香族の炭化
水素環としては、例えば、フェニル基、置換フェニル基
があげられ、置換フェニル基の置換基としては、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の
アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキシ基等のアルコキシ基、塩素原子、臭素原
子、フッ素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、アミノ基等があげられ、Ｒで示される置
換されていてもよい非芳香族の炭化水素環としては、例
えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘキセニル基等の非芳香族の炭化水素
環があげられ、Ｒで示される置換されていてもよい芳香
族の複素環としては、ピラゾリル基、チアゾリル基、イ
ソチアゾリル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、
ピラジニル基、オキサゾリル基、ピロリル基、置換ピラ
ゾリル基、置換チアゾリル基、置換イソチアゾリル基、
置換フリル基、置換チエニル基、置換ピリジル基、置換
ピラジニル基、置換オキサゾリル基、置換ピロリル基等
があげられ、置換ピラゾリル基、置換チアゾリル基、置
換イソチアゾリル基、置換フリル基、置換チエニル基、
置換ピリジル基、置換ピラジニル基、置換オキサゾリル
基、置換ピロリル基の置換基としては、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等のアルキ
ル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等の
ハロアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨ
ウ素原子等のハロゲン原子、アミノ基、シアノ基等があ
げられ、Ｒで示される置換されていてもよい非芳香族の
複素環としては、ジヒドロピラニル基、ジヒドロフリル
基、テトラヒドロフリル基、２，３−ジヒドロ−１，４
−オキサチイン−５−イル基、置換ジヒドロピラニル
基、置換ジヒドロフリル基、置換テトラヒドロフリル
基、置換２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５
−イル基等があげられ、置換ジヒドロピラニル基、置換
ジヒドロフリル基、置換テトラヒドロフリル基、置換
２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル基
の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基等のアルキル基、トリフルオロメ
チル基、ジフルオロメチル基等のハロアルキル基、フッ
素原子、塩素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、アミ
ノ基、シアノ基等があげられる。Ｒが（Ａ１）の場合、
３位のＲ⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル
基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、５
位のＲ⁷が水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメ
トキシ基であり、１位にメチルが置換した４−ピラゾリ
ル基、例えば１，３−ジメチル−４−ピラゾリル基、５
−クロロ−１，３−ジメチル−４−ピラゾリル基、５−
クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピ
ラゾリル基、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４
−ピラゾリル基、１−メチル−３−ジフルオロメチル−
４−ピラゾリル基、１−メチル−３−エチル−４−ピラ
ゾリル基、１−メチル−３−クロロ−４−ピラゾリル
基、１−メチル−３−トリフルオロメチル−５−メトキ
シ−４−ピラゾリル基等があげられ、Ｒが（Ａ２）の場
合、４位のＲ⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であ
り、２位のＲ⁶が水素原子、メチル基、トリフルオロメ
チル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であ
る５−チアゾリル基、例えば、２−メチル−４−トリフ
ルオロメチル−５−チアゾリル基、２−メチル−４−ジ
フルオロメチル−５−チアゾリル基、４−トリフルオロ
メチル−５−チアゾリル基、２，４−ジメチル−５−チ
アゾリル基、２−メチル−４−エチル−５−チアゾリル
基、２−アミノ−４−メチル−５−チアゾリル基、２−
メトキシ−４−メチル−５−チアゾリル基、２−クロロ
−４−メチル−５−チアゾリル基等があげられ、Ｒが
（Ａ３）の場合、２位のＲ⁵がトリフルオロメチル基、
ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲ
ン原子であり、５位のＲ⁸が水素原子、メチル基、エチ
ル基またはハロゲン原子である３−フリル基、例えば、
２−メチル−３−フリル基、２，５−ジメチル−３−フ
リル基、２−クロロ−３−フリル基、２−トリフルオロ
メチル−３−フリル基等があげられ、Ｒが（Ａ４）の場
合、３位のＲ⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であ
り、５位のＲ⁸が水素原子、メチル基またはハロゲン原
子である２−チエニル基、例えば、３−メチル−２−チ
エニル基、３，５−ジメチル−２−チエニル基、３−ク
ロロ−２−チエニル基、３−ヨード−２−チエニル基等
があげあれ、Ｒが（Ａ５）の場合、２位のＲ⁵がトリフ
ルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチ
ル基またはハロゲン原子であるフェニル基、すなわち、
２−トリフルオロメチルフェニル基、２−ジフルオロメ
チルフェニル基、２−メチルフェニル基、２−エチルフ
ェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニ
ル基、２−ブロモフェニル基、２−ヨードフェニル基が
あげられ、Ｒが（Ａ６）の場合、２位のＲ⁵がトリフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル
基またはハロゲン原子である３−ピリジル基、すなわ
ち、２−トリフルオロメチル−３−ピリジル基、２−ジ
フルオロメチル−３−ピリジル基、２−メチル−３−ピ
リジル基、２−エチル−３−ピリジル基、２−フルオロ
−３−ピリジル基、２−クロロ−３−ピリジル基、２−
ブロモ−３−ピリジル基、２−ヨード−３−ピリジル基
があげられ、Ｒが（Ａ７）の場合、２−クロロ−３−ピ
ラジニル基があげられ、Ｒが（Ａ８）の場合、３位のＲ
⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチ
ル基、エチル基またはハロゲン原子である４−チエニル
基であり、すなわち、３−トリフルオロメチル−４−チ
エニル基、３−ジフルオロメチル−４−チエニル基、３
−メチル−４−チエニル基、３−エチル−４−チエニル
基、３−フルオロ−４−チエニル基、３−クロロ−４−
チエニル基、３−ブロモ−４−チエニル基、３−ヨード
−４−チエニル基があげられ、Ｒが（Ａ９）の場合、６
位のＲ⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル
基、メチル基、エチル基である３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ピラン−５−イル基であり、すなわち、６−トリフル
オロメチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イ
ル基、６−ジフルオロメチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ
−ピラン−５−イル基、６−メチル−３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ピラン−５−イル基、２−エチル−３，４−ジ
ヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基があげられ、Ｒが
（Ａ１０）場合、６位のＲ⁵がトリフルオロメチル基、
ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基である２，３
−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル基、２，
３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−４−オキシド−
５−イル基または２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチ
イン−４、４−ジオキシド−５−イル基であり、例え
ば、６−メチル−２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチ
イン−５−イル基、６−メチル−２，３−ジヒドロ−
１，４−オキサチイン−４−オキシド−５−イル基、６
−メチル−２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−
４、４−ジオキシド−５−イル基等があげられる。Ｒが
（Ａ１１）の場合、５位のＲ⁵がトリフルオロメチル
基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基である
２，３−ジヒドロ−４−フリル基であり、すなわち、５
−トリフルオロメチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル
基、５−ジフルオロメチル−２，３−ジヒドロ−４−フ
リル基、５−メチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル
基、５−エチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル基があ
げられ、Ｒが（Ａ１２）の場合、３位のＲ⁵がトリフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル
基またはハロゲン原子である４−イソチアゾリル基、す
なわち、３−トリフルオロメチル−４−イソチアゾリル
基、３−ジフルオロメチル−４−イソチアゾリル基、３
−メチル−４−イソチアゾリル基、３−エチル−４−イ
ソチアゾリル基、３−フルオロ−４−イソチアゾリル
基、３−クロロ−４−イソチアゾリル基、３−ブロモ−
４−イソチアゾリル基、３−ヨード−４−イソチアゾリ
ル基があげられる。

【００３３】Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は水素原子、Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴で示されるアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅ
ｒｔ-ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基等
の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基を示
す。

【００３４】Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａは水素原子、
Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａで示されるアルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル
基、ｔｅｒｔ-ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデ
シル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル
基を示し、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａで示されるアル
ケニル基としては、例えば、エテニル基、１−プロペニ
ル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテ
ニル基、２−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２−ドデ
シニル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルケ
ニル基を示す。

【００３５】Ｒ^９は水素原子、カルボキシル基、Ｒ^９で
示されるアルコキシカルボニル基としては、例えば、メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキ
シカルボニル基、イソポロポキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ヘ
キシルオキシカルボニル基等の炭素数１〜６のアルコキ
シカルボニル基を示す。

【００３６】Ｒ^ａが（Ａ１）の場合、３位のＲ⁵がトリ
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エ
チル基またはハロゲン原子であり、５位のＲ⁷が水素原
子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基であり、
１位にメチルが置換した４−ピラゾリル基、例えば１，
３−ジメチル−４−ピラゾリル基、５−クロロ−１，３
−ジメチル−４−ピラゾリル基、５−クロロ−１−メチ
ル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾリル基、１−
メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾリル基、
１−メチル−３−ジフルオロメチル−４−ピラゾリル
基、１−メチル−３−エチル−４−ピラゾリル基、１−
メチル−３−クロロ−４−ピラゾリル基、１−メチル−
３−トリフルオロメチル−５−メトキシ−４−ピラゾリ
ル基等があげられ、Ｒ^ａが（Ａ２）の場合、４位のＲ⁵
がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル
基、エチル基またはハロゲン原子であり、２位のＲ⁶が
水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン
原子、メトキシ基またはアミノ基である５−チアゾリル
基、例えば、２−メチル−４−トリフルオロメチル−５
−チアゾリル基、２−メチル−４−ジフルオロメチル−
５−チアゾリル基、４−トリフルオロメチル−５−チア
ゾリル基、２，４−ジメチル−５−チアゾリル基、２−
メチル−４−エチル−５−チアゾリル基、２−アミノ−
４−メチル−５−チアゾリル基、２−メトキシ−４−メ
チル−５−チアゾリル基、２−クロロ−４−メチル−５
−チアゾリル基等があげられ、Ｒ^ａが（Ａ３）の場合、
２位のＲ ⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル
基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、５
位のＲ⁸が水素原子、メチル基、エチル基またはハロゲ
ン原子である３−フリル基、例えば、２−メチル−３−
フリル基、２，５−ジメチル−３−フリル基、２−クロ
ロ−３−フリル基、２−トリフルオロメチル−３−フリ
ル基等があげられ、Ｒ^ａが（Ａ４）の場合、３位のＲ⁵
がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル
基、エチル基またはハロゲン原子であり、５位のＲ⁸が
水素原子、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であ
る２−チエニル基、例えば、３−メチル−２−チエニル
基、３，５−ジメチル−２−チエニル基、３−クロロ−
２−チエニル基、３−ヨード−２−チエニル基等があげ
あれ、Ｒ^ａが（Ａ５）の場合、２位のＲ⁵がトリフルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基
またはハロゲン原子であるフェニル基、すなわち、２−
トリフルオロメチルフェニル基、２−ジフルオロメチル
フェニル基、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニ
ル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル
基、２−ブロモフェニル基、２−ヨードフェニル基があ
げられ、Ｒ^ａが（Ａ６）の場合、２位のＲ⁵がトリフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル
基またはハロゲン原子である３−ピリジル基、すなわ
ち、２−トリフルオロメチル−３−ピリジル基、２−ジ
フルオロメチル−３−ピリジル基、２−メチル−３−ピ
リジル基、２−エチル−３−ピリジル基、２−フルオロ
−３−ピリジル基、２−クロロ−３−ピリジル基、２−
ブロモ−３−ピリジル基、２−ヨード−３−ピリジル基
があげられ、Ｒ^ａが（Ａ７）の場合、２−クロロ−３−
ピラジニル基があげられ、Ｒ^ａが（Ａ８）の場合、３位
のＲ⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、
メチル基、エチル基またはハロゲン原子である４−チエ
ニル基であり、すなわち、３−トリフルオロメチル−４
−チエニル基、３−ジフルオロメチル−４−チエニル
基、３−メチル−４−チエニル基、３−エチル−４−チ
エニル基、３−フルオロ−４−チエニル基、３−クロロ
−４−チエニル基、３−ブロモ−４−チエニル基、３−
ヨード−４−チエニル基があげられ、Ｒ ^ａが（Ａ９）の
場合、６位のＲ⁵がトリフルオロメチル基、ジフルオロ
メチル基、メチル基、エチル基である３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ピラン−５−イル基であり、すなわち、６−ト
リフルオロメチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−
５−イル基、６−ジフルオロメチル−３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−ピラン−５−イル基、６−メチル−３，４−ジ
ヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基、２−エチル−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基があげられ、
Ｒ^ａが（Ａ１０）場合、６位のＲ⁵がトリフルオロメチ
ル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基である
２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル
基、２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−４−オ
キシド−５−イル基または２，３−ジヒドロ−１，４−
オキサチイン−４，４−ジオキシド−５−イル基であ
り、例えば、６−メチル−２，３−ジヒドロ−１，４−
オキサチイン−５−イル基、６−メチル−２，３−ジヒ
ドロ−１，４−オキサチイン−４−オキシド−５−イル
基、６−メチル−２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチ
イン−４、４−ジオキシド−５−イル基等があげられ
る。Ｒ^ａが（Ａ１１）の場合、５位のＲ⁵がトリフルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基
である２，３−ジヒドロ−４−フリル基であり、すなわ
ち、５−トリフルオロメチル−２，３−ジヒドロ−４−
フリル基、５−ジフルオロメチル−２，３−ジヒドロ−
４−フリル基、５−メチル−２，３−ジヒドロ−４−フ
リル基、５−エチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル基
があげられ、Ｒ^ａが（Ａ１２）の場合、３位のＲ⁵がト
リフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、
エチル基、またはハロゲン原子である４−イソチアゾリ
ル基、すなわち、３−トリフルオロメチル−４−イソチ
アゾリル基、３−ジフルオロメチル−４−イソチアゾリ
ル基、３−メチル−４−イソチアゾリル基、３−エチル
−４−イソチアゾリル基、３−フルオロ−４−イソチア
ゾリル基、３−クロロ−４−イソチアゾリル基、３−ブ
ロモ−４−イソチアゾリル基、３−ヨード−４−イソチ
アゾリル基があげられる。また、Ｒ^ｂは、ＲからＲ^ａを
除外した置換基である。

【００３７】以下に本発明の２−アルキル−３−アミノ
チオフェン誘導体の製造方法、及び３−アミノチオフェ
ン誘導体の製造方法について詳細に記述する。

【００３８】まず、３−アミノチオフェン誘導体の２位
に二級のアルケニル基を導入し、さらにこのアルケニル
基をアルキル基へと変換する反応について説明する。こ
の反応を詳細に説明するために二つの段階に分けて説明
をするが、第一段階と第二段階の反応を連続して行うこ
とも可能であり、必ずしも２段階で反応を行う必要はな
い。

【００３９】第一段階の反応は、一般式（２）の化合物
と一般式（３）の化合物を酸の存在下に反応させ、一般
式（４ａ）〜（４ｄ）に代表される２−アルケニル−３
−アミノチオフェンの混合物を製造する反応である（化
４２）。

【００４０】

【化４２】 （式中、Ｒ、Ｒ^1ａ〜Ｒ^4ａは前記と同じ意味を示す。）

【００４１】一般式（４ａ）〜（４ｄ）で示される２−
アルケニル−３−アミノチオフェンの混合物は、最大４
種類の化合物から構成される。例えば、一般式（３）で
示される化合物のＲ^１ａ〜Ｒ^４ａがすべて異なる場合、
４種類の化合物からなる混合物であり、一般式（３）で
示される化合物が４−メチル−２−ペンタノンの場合は
３種類の化合物からなる混合物であり、一般式（３）で
示される化合物がシクロヘキサノンの場合、単一化合物
である。

【００４２】第一段階の反応における一般式（３）で示
される化合物の使用量は、通常一般式（２）の化合物１
モルに対して０．５〜１００．０モル、好ましくは１．
０〜３０．０モル、さらに好ましくは１．０〜１０．０
モルの割合である。第一段階の反応で必要により使用さ
れる溶媒としては、例えば、ヘキサン、石油エーテル等
の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼ
ン、アニソール等の芳香族類、メタノール、エタノール
等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステ
ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素が挙げられ、これらの
混合溶媒も使用される。また、一般式（３）で示される
化合物を溶媒として用いることもできる。第一段階の反
応における溶媒の使用量は、一般式（２）に代表される
化合物１ｇに対して通常０．１〜２００ｍｌ、好ましく
は１〜５０ｍｌ、特に好ましくは１〜２０ｍｌの割合で
ある。

【００４３】第一段階の反応は、酸の存在下で行うが、
酸として例えば、硫酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素
酸、燐酸等の鉱酸類、酢酸、プロピオン酸等の有機系の
弱酸類、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等
の有機系の強酸類、ゼオライト等の固体酸類、塩化アル
ミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸類、イオン交換樹脂等
が挙げられ、好ましくは、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸
類、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有
機系の強酸類が挙げられ、特に好ましくは硫酸、パラト
ルエンスルホン酸である。これら酸の使用量は、通常一
般式（２）で示される化合物１モルに対して通常０．０
０１モルから１０モル、好ましくは、０．０１〜１モル
である。

【００４４】第一段階の反応の反応温度は通常０〜３０
０℃、好ましくは４０〜１８０℃であり、特に好ましく
は７０〜１３０℃であり、反応時間は通常０．１〜１０
０時間、好ましくは１〜３６時間である。第一段階の反
応における種々の条件、則ち、一般式（２）、一般式
（３）の化合物の使用量、溶媒の種類および使用量、酸
の種類および使用量、反応温度ならびに反応時間各々の
設定に際しては、各々の条件毎に示された通常の範囲の
数値、好ましい範囲の数値及び特に好ましい範囲の数値
から適宜相互に選択し、組み合わせることができる。

【００４５】また、第一段階での反応では、一般式（４
ａ）〜（４ｄ）の化合物と共に、水が生成するが、必要
により、この水を除去することで、反応の進行を促進す
ることができる。水を除去する方法としては、例えば、
無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム等の脱水剤
を添加する方法、共沸脱水等が挙げられる。

【００４６】第一段階の反応の反応温度は、反応が進行
し得る温度に設定されるべきであり、第一段階の反応に
使用される触媒も、反応が進行し得るものを適宜選択し
て使用すべきである。また、第一段階の反応に使用され
る溶媒としては、反応が進行し得る反応温度において問
題なく使用可能な溶媒を適宜選択して使用するべきであ
る。

【００４７】この第一段階の反応で得ることができる一
般式（４ａ）〜（４ｄ）で示される２−アルケニル−３
−アミノチオフェン誘導体の混合物のうち、一般式（４
ａ）’〜（４ｄ）’で表される化合物（化４３）は新規
な化合物からなる混合物である。

【００４８】

【化４３】 ｛式中、Ｒ^ｂは、水素原子、置換されていてもよいアル
キル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香
族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい
芳香族または非芳香族の複素環を示し、ただし、Ｒが
（Ａ１）から（Ａ１２）（化４４）

【００４９】

【化４４】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
ハロゲン原子ではない。）の場合は除き、Ｒ^1ａ、
Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立して、水素原子、
炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基または
炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルケニル基を示
し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ^1ａとＲ^3ａ、Ｒ
^1ａとＲ^{4 ａ}、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ^2ａとＲ^4ａは一緒
になってシクロアルキル基またはシクロアルケニル基を
形成してもよい。ただし、Ｒ^ｂがtert−ブトキシ基でＲ
^{1 ａ}、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａが全て水素原子の場合は除
く。}

【００５０】第二段階の反応は一般式（４ａ）〜（４
ｄ）に代表される化合物からなる混合物を還元すること
で一般式（１）で示される２−アルキル−３−アミノチ
オフェン誘導体を製造する反応である（化４５）。

【００５１】

【化４５】

【００５２】（式中、Ｒは、水素原子、置換されていて
もよいアルキル基またはアルコキシ基、置換されていて
もよい芳香族または非芳香族の炭化水素環、置換されて
いてもよい芳香族または非芳香族の複素環を示し、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子また
は炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示
し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²と
Ｒ³もしくはＲ²とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基
を形成してもよく、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれ
ぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖もしく
は分岐のアルキル基または炭素数１〜１２の直鎖もしく
は分岐のアルケニル基を示し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ ^3ａと
Ｒ^4ａ、Ｒ^1ａとＲ^3ａ、Ｒ^1ａとＲ^4ａ、Ｒ^2ａとＲ^3ａも
しくはＲ^2ａとＲ^4ａは一緒になってシクロアルキル基ま
たはシクロアルケニル基を形成してもよい。）

【００５３】還元方法は特に制限はなく、通常、二重結
合を単結合に還元する方法（例えば、新実験化学講座、
１５巻、酸化と還元［ＩＩ］、丸善（１９７７））を適
用できるが、工業的には接触還元が好ましい。

【００５４】接触還元に用いられる触媒としては、一般
に接触還元に用いられている金属触媒、例えばニッケ
ル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、コバル
ト、クロム、銅、鉛等を使用することができ、これらの
金属を混合して用いることもできる。これらの触媒は、
金属の状態でも使用できるが、通常は、カーボン、硫酸
バリウム、シリカゲル、アルミナ、セライトなどの担体
表面に担持させて用いたり、また、ニッケル、コバル
ト、銅等はラネー触媒としても用いられる。接触還元に
おいて使用される触媒の含量は通常３〜２０％であり、
使用量は特に限定されるものではないが、一般式（４
ａ）〜（４ｄ）に代表される化合物からなる混合物に対
して通常１〜１００重量％、好ましくは１〜３０重量％
を用いる。

【００５５】第二段階の接触還元反応で必要により使用
される溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等
のアルコール類、ヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン、アニソール等の芳香族
類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、酢酸、
プロピオン酸等の脂肪族カルボン酸類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶
媒等が挙げられ、これらの混合溶媒も使用される。 第
二段階の反応における溶媒の使用量は、一般式（４ａ）
〜（４ｄ）に代表される化合物からなる混合物１ｇに対
して通常０．１〜２００ｍｌ、好ましくは２〜２０ｍｌ
の割合である。

【００５６】第二段階の接触還元の反応温度は通常０〜
３００℃、好ましくは２０〜１８０℃であり、反応時間
は通常０．５〜１００時間、好ましくは１〜４８時間で
ある。第二段階の接触還元の水素圧は、常圧でもよい
が、加圧してもよく、加圧する場合は、０．０９８〜３
０ＭＰａ、好ましくは０．０９８〜５．０ＭＰａであ
る。尚、第二段階の接触還元反応における種々の条件、
則ち、触媒の種類およびその使用量、溶媒の種類および
その使用量、反応温度ならびに反応時間、反応圧力各々
の設定に際しては、各々の条件毎に示された通常の範囲
の数値と好ましい範囲の数値から適宜相互に選択し、組
み合わせることができる。

【００５７】この第二段階の反応で得ることができる一
般式（１）で示される２−アルキル−３−アミノチオフ
ェン誘導体の中で、一般式（１ｂ）で表される化合物
（化４６）は新規な化合物である。

【００５８】

【化４６】 ｛式中、Ｒ^ｂは、水素原子、置換されていてもよいアル
キル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香
族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい
芳香族または非芳香族の複素環を示し、ただし、Ｒ^ｂが
（Ａ１）から（Ａ１２）（化４７）

【００５９】

【化４７】

【００６０】（式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン
原子であり、Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロ
メチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基で
あり、Ｒ⁷は水素原子、ハロゲン原子、メチル基または
メトキシ基であり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチ
ル基またはハロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意
味する。但し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場
合、Ｒ⁵はハロゲン原子ではない。）の場合は除き、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子また
は炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示
し、Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²と
Ｒ³もしくはＲ²とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基
を形成してもよい。}

【００６１】次に本発明の中間体である以下の一般式
（６）（化４８）

【化４８】

【００６２】（式中、Ｒ^９は水素原子、カルボキシル基
または炭素数１〜６のアルコキシカルボニル基を示し、
Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキル基また
はアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族または非
芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳香族また
は非芳香族の複素環を示す。）で示される３−アミノチ
オフェン誘導体の合成法について述べる。これらの化合
物は例えば以下の反応式１（化４９）に示すような方法
で製造することができるが、これらの方法に限定される
ものではない。なお、一般式（６）の化合物は、一般式
（２）、一般式（９）及び一般式（１０）の化合物を包
含する。

【００６３】

【化４９】 （式中、Ｒは前記と同じ意味を示し、一般式（９）とは
一般式（６）におけるＲ ^９が炭素数１〜６のアルコキシ
カルボニル基の場合を意味し、一般式（１０）とは一般
式（６）におけるＲ^９がカルボキシル基の場合を意味
し、一般式（２）とは一般式（６）におけるＲ^９が水素
原子の場合を意味し、Ｒ^１０は炭素数１〜６のアルキル
基を示す。Ｒ^１０で示されるアルキル基としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソポロピル基、ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜６
のアルキル基があげられる。）

【００６４】一般式（９）で示される化合物は、一般式
（７）で示される３−アミノチオフェン−２−カルボン
酸エステル類と一般式（８）で示されるカルボン酸ハラ
イドとを溶融状態または溶媒中で反応させて製造するこ
とができる。尚、原料となる一般式（７）で示される３
−アミノチオフェン−２−カルボン酸エステル類は、公
知の方法、例えば、ＳＹＮＴＨＥＴＩＣ ＣＯＭＭＵＮ
ＩＣＡＴＩＯＮ、９（８）、７３１−７３４（１９７
９）．に記載されている方法によって製造することがで
きる。

【００６５】本反応における一般式（８）で示される化
合物の使用量は、通常一般式（７）で示される化合物１
モルに対して０．２〜２０．０モル、好ましくは０．５
〜５モルの割合である。

【００６６】本反応で必要により使用される溶媒として
は、例えば、ヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アニソール
等の芳香族類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリルのようなニトリル類、酢酸エチル等のエステ
ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イ
ミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒等が挙げら
れ、これらの混合溶媒も使用される。本反応における溶
媒の使用量は、一般式（７）で表される化合物１ｇに対
して通常０．１〜２００ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌ
である。

【００６７】本反応はまた塩基の存在下に行ってもよ
く、塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物、酸化カルシウム、酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物、
水素化ナトリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属
およびアルカリ土類金属の水素化物、リチウムアミド、
ナトリウムアミド等のアルカリ金属アミド、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ
金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の炭酸水素塩、メチルリチウム、フェニルリ
チウム、メチルマグネシウムクロライド等のアルカリ金
属、およびアルカリ土類金属アルキル、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキ
シド、ジメトキシマグネシウム等のアルカリ金属および
アルカリ土類金属のアルコキシド、トリエチルアミン、
ピリジン等の種々の有機塩基類が挙げられる。これらの
塩基の使用量は、一般式（８）で示されるカルボン酸ク
ロライド類１モルに対して、通常０．１〜２０．０モ
ル、好ましく１〜５．０モルである。

【００６８】反応温度は通常−７０〜２５０℃で、好ま
しくは０〜１５０℃であり、反応時間は通常０．１〜７
２時間、好ましくは０．５〜２４時間である。本反応に
おける種々の条件、即ち、一般式（７）、一般式（８）
で示される化合物の使用量、溶媒の種類および使用量、
塩基の種類および使用量、反応温度ならびに反応時間各
々の設定に際しては、各々の条件毎に示された通常の範
囲の数値と好ましい範囲の数値から適宜相互に選択し、
組み合わせることができる。

【００６９】一般式（１０）で示される化合物は、一般
式（９）で示される化合物のエステルを加水分解するこ
とで製造することができる。加水分解の方法は特に制限
はなく、通常、エステルをカルボン酸に加水分解する方
法（例えば、新実験化学講座、１４巻、有機化合物の合
成と反応（II）、丸善（１９７７））を適用できる。

【００７０】（Ａ法）：一般式（２）で示される化合物
は一般式（１０）で示される化合物を脱炭酸することで
製造することができる。

【００７１】本反応は溶媒中もしくは無溶媒で行うこと
ができる。必要により使用される溶媒としては、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタ
ノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリ
ジノン等の非プロトン性極性溶媒、ピリジン、キノリン
等の塩基性溶媒等が挙げられ、これらの混合溶媒も使用
される。本反応における溶媒の使用量は、一般式（１
０）で表される化合物１ｇに対して通常０．１〜２００
ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌの割合である。

【００７２】本反応はまた、触媒存在下に反応を行って
もよく、触媒として例えば、硫酸、塩酸、臭化水素酸、
ヨウ化水素酸、燐酸等の鉱酸類、酢酸、プロピオン酸等
の有機系の弱酸類、パラトルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸等の有機系の強酸類、銅、酸化銅等の金属およ
び金属の酸化物が挙げられる。これらの触媒の使用量
は、通常一般式（１０）で示される化合物に対して０．
１〜１００モル％、好ましくは、１〜２０モル％であ
る。

【００７３】本反応の反応温度は通常０〜４００℃、好
ましくは４０〜２５０℃であり、反応時間は通常０．０
１〜２４０時間、好ましくは０．１〜７２時間である。
本反応における種々の条件、即ち、一般式（１０）で表
される化合物の使用量、溶媒の種類および使用量、触媒
の種類および使用量、反応温度ならびに反応時間各々の
設定に際しては、各々の条件毎に示された通常の範囲の
数値と好ましい範囲の数値から適宜相互に選択し、組み
合わせることができる。

【００７４】（Ｂ法）：一般式（２）で示される化合物
は、公知の方法、例えば、ＳＹＮＴＨＥＳＩＳ、４８７
（１９８１）．に記載されている方法により、一般式
（９）で表される化合物から一段階で合成することもで
きる。

【００７５】（Ｃ法）：一般式（２）で表される化合物
は、３−アミノチオフェンと一般式（８）で示されるカ
ルボン酸ハライドとを溶融状態または溶媒中で反応させ
ることによっても製造することができる。尚、原料とな
る３−アミノチオフェンは、公知の方法、例えば、ＳＹ
ＮＴＨＥＴＩＣ ＣＯＭＭＵＮＩＣＡＴＩＯＮ、２５、
３７２９−３７３４（１９９５）．に記載されている方
法で製造することができる。

【００７６】３−アミノチオフェンに関しては、アミノ
体をフリー体のままで反応させても良いが、酸性塩の形
で反応させてもよい。使用される塩としては、例えば、
塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、燐酸
塩等の鉱酸類の塩、酢酸塩、シュウ酸塩等の有機酸類の
塩が挙げられる。本反応における一般式（８）で示され
る化合物の使用量は、通常３−アミノチオフェン１モル
に対して０．２〜２０．０モル、好ましくは０．５〜５
モルの割合である。

【００７７】本反応で必要により使用される溶媒として
は、例えば、ヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アニソール
等の芳香族類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリル等のニトリル類、酢酸エチル等のエステル
類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イ
ミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒等が挙げら
れ、これらの混合溶媒も使用される。本反応における溶
媒の使用量は、３−アミノチオフェン１ｇに対して通常
０．１〜２００ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌである。

【００７８】本反応はまた塩基の存在下に行ってもよ
く、塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物、酸化カルシウム、酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物、
水素化ナトリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属
およびアルカリ土類金属の水素化物、リチウムアミド、
ナトリウムアミド等のアルカリ金属アミド、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ
金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の炭酸水素塩、メチルリチウム、フェニルリ
チウム、メチルマグネシウムクロライド等のアルカリ金
属、およびアルカリ土類金属アルキル、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキ
シド、ジメトキシマグネシウム等のアルカリ金属および
アルカリ土類金属のアルコキシド、トリエチルアミン、
ピリジン等の種々の有機塩基類が挙げられる。これらの
塩基の使用量は、一般式（８）で表されるカルボン酸ク
ロライド類１モルに対して、通常０．１〜２０．０モ
ル、好ましく１〜５．０モルである。

【００７９】反応温度は通常−７０〜２５０℃、好まし
くは０〜１５０℃であり、反応時間は通常０．１〜７２
時間、好ましくは０．５〜２４時間である。本反応にお
ける種々の条件、即ち、３−アミノチオフェン、一般式
（８）で表される化合物の使用量、溶媒の種類および使
用量、塩基の種類および使用量、反応温度ならびに反応
時間各々の設定に際しては、各々の条件毎に示された通
常の範囲の数値と好ましい範囲の数値から適宜相互に選
択し、組み合わせることができる。

【００８０】前記の反応式１に示すような方法で製造す
ることができる一般式（６）で示される３−アミノチオ
フェン誘導体の中で、一般式（６ａ）で表される化合物
（化５０）は新規な化合物である。

【００８１】

【化５０】 ｛式中、Ｒ^９は水素原子、カルボキシル基または炭素数
１〜６のアルコキシカルボニル基を、Ｒ^ａは以下の（Ａ
１）から（Ａ１２）（化５１）

【００８２】

【化５１】

【００８３】（式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジ
フルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン
原子であり、Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロ
メチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基で
あり、Ｒ⁷は水素原子、ハロゲン原子、メチル基または
メトキシ基であり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチ
ル基またはハロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意
味する。但し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場
合、Ｒ⁵はハロゲン原子でない。）で示される基であ
る｝

【００８４】次に、一般式（５）で示される２−アルキ
ル-３−アミノチオフェンの製造方法について述べる
（反応式２）（化５２）。

【００８５】

【化５２】 （式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキ
ル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族
または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳
香族または非芳香族の複素環を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１
２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹とＲ²、
Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²とＲ³もしくはＲ²
とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基を形成してもよ
い。）

【００８６】一般式（５）で示される化合物は、一般式
（１）で示される化合物を酸、またはアルカリで加水分
解することで製造できるが、加水分解の方法は特に制限
はなく、通常、アミドをアミンに加水分解する方法（例
えば、新実験化学講座、１４巻、有機化合物の合成と反
応（II）、丸善（１９７７））を適用できる。

【００８７】次に、一般式（１ａ）で示される２−アル
キル−３−アミノチオフェン誘導体の製造法について述
べる（反応式３）（化５３）。

【００８８】

【化５３】 （式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴、Ｒ^ａは前記と同じ意味を示す。）

【００８９】一般式（１ａ）は一般式（５）で示される
化合物と一般式（８ａ）で示されるカルボン酸ハライド
とを溶融状態または溶媒中で反応させて製造することが
できる。本反応における一般式（８ａ）で示される化合
物の使用量は、通常一般式（５）で示される化合物１モ
ルに対して０．２〜２０．０モル、好ましくは０．５〜
５モルの割合である。

【００９０】本反応で必要により使用される溶媒として
は、例えば、ヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、アニソール
等の芳香族類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエ
チルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル、プロピ
オニトリルのようなニトリル類、酢酸エチル等のエステ
ル類、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン等のハロゲン化炭化水素、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イ
ミダゾリジノン等の非プロトン性極性溶媒等が挙げら
れ、これらの混合溶媒も使用される。本反応における溶
媒の使用量は、一般式（５）で表される化合物１ｇに対
して通常０．１〜２００ｍｌ、好ましくは１〜２０ｍｌ
である。

【００９１】本反応はまた塩基の存在下に行ってもよ
く、塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属およびアル
カリ土類金属の水酸化物、酸化カルシウム、酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物、
水素化ナトリウム、水素化カルシウム等のアルカリ金属
およびアルカリ土類金属の水素化物、リチウムアミド、
ナトリウムアミド等のアルカリ金属アミド、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等のアルカリ
金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属およびアルカ
リ土類金属の炭酸水素塩、メチルリチウム、フェニルリ
チウム、メチルマグネシウムクロライド等のアルカリ金
属、およびアルカリ土類金属アルキル、ナトリウムメト
キシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−ｔ−ブトキ
シド、ジメトキシマグネシウム等のアルカリ金属および
アルカリ土類金属のアルコキシド、トリエチルアミン、
ピリジン等の種々の有機塩基類が挙げられる。これらの
塩基の使用量は、一般式（８ａ）で示されるカルボン酸
クロライド類１モルに対して、通常０．１〜２０．０モ
ル、好ましく１〜５．０モルである。

【００９２】反応温度は通常−７０〜２５０℃で、好ま
しくは０〜１５０℃であり、反応時間は通常０．１〜７
２時間、好ましくは０．５〜２４時間である。本反応に
おける種々の条件、即ち、一般式（５）、一般式（８
ａ）で示される化合物の使用量、溶媒の種類および使用
量、塩基の種類および使用量、反応温度ならびに反応時
間各々の設定に際しては、各々の条件毎に示された通常
の範囲の数値と好ましい範囲の数値から適宜相互に選択
し、組み合わせることができる。

【００９３】

【実施例】本発明を更に具体的に説明するため、以下に
実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。 参考例１ ３−アミノチオフェンと４−メチル−２−ペ
ンタノンとの反応 パラトルエンスルホン酸一水和物０．１５ｇ、４−メチ
ル−２−ペンタノン１．６１ｇ（１６．１ｍｍｏｌ）を
塩化メチレン５ｍｌに装入し、５℃まで冷却した後、３
−アミノチオフェン ０．５３ｇ（５．３５ｍｍｏｌ）
を滴下しながら加えた。５℃で１時間攪拌したが、反応
が全く進行しなかったので、２５℃まで温度を上げ、１
時間攪拌した。反応が全く進行しなかったので、還流下
攪拌したところ、３−アミノチオフェンは分解した。

【００９４】実施例１ Ｎ−｛３−（２−メトキシカル
ボニル）チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メ
チルピラゾール−４−カルボン酸アミド（化合物1.1）
の合成 ３−アミノチオフェン−２−カルボン酸メチル９．５３
ｇ（６０．７ｍｍｏｌ）、ピリジン９．６０ｇ（１２
１．４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン６３ｍｌに装入
した後、１０℃まで冷却し、３−トリフルオロメチル−
１−メチルピラゾール−４−カルボン酸クロリド１２．
９ｇ（６０．７ｍｍｏｌ）を１８℃以下で滴下した。２
５℃で３時間撹拌した後、酢酸エチルを装入し、５％塩
酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水
で順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去し、得られた残渣をヘキサンで結晶化するこ
とで目的物２０．１ｇを無色結晶として得た（収率：９
９％）。なお、ここで用いた３−トリフルオロメチル−
１−メチルピラゾール−４−カルボン酸クロリドはＤＥ
４２３１５１７に記載されている方法により、３−トリ
フルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン
酸エチルを得た後に、定法により加水分解、酸クロ化を
行って得られたものを用いた。

【００９５】実施例２ Ｎ−｛３−（２−カルボキシ）
チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラ
ゾール−４−カルボン酸アミド（化合物8.1)の合成 実施例１で得られたＮ−｛３−（２−メトキシカルボニ
ル）チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチル
ピラゾール−４−カルボン酸アミド１５．６ｇ（４６．
８ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム３．７４ｇ（９３．７
ｍｍｏｌ）をメタノール６０ｍｌ、水４０ｍｌ、ジオキ
サン１０ｍｌからなる混合溶媒に装入し、２５℃で５時
間撹拌した。濃塩酸７．８ｍｌを加えｐＨを約４に調整
した後、減圧下メタノールとジオキサンを留去し、濃塩
酸１ｍｌを加えｐＨを１に調整した。析出した結晶を濾
過した後、水３０ｍｌで３回洗浄し、減圧下乾燥するこ
とで目的物１４．７ｇを無色結晶として得た（収率：９
９％）。

【００９６】実施例３ Ｎ−（３−チエニル）−３−ト
リフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボ
ン酸アミド（化合物15.1）の合成（Ａ法） 実施例２で得られたＮ−｛３−（２−カルボキシ）チエ
ニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ル−４−カルボン酸アミド２．０ｇ（６．２７ｍｍｏ
ｌ）を無溶媒で２１５℃まで加熱し、そのまま１０分撹
拌した。室温まで冷却し、目的物１．５７ｇを褐色結晶
として得た（収率：９１％）。

【００９７】実施例４ Ｎ−（３−チエニル）−３−ト
リフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボ
ン酸アミド（化合物15.1）の合成（Ｃ法） ３−アミノチオフェン１／２シュウ酸塩６５．０ｇ
（０．４５１ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン４５５ｍｌ
に装入し、窒素気流下１０℃まで冷却した。ピリジン７
４．９ｇ（０．９４８ｍｏｌ）、３−トリフルオロメチ
ル−１−メチルピラゾール−４−カルボンクロリド６
７．２ｇ（０．３１６ｍｏｌ）を１８℃以下で順次滴下
し、２５℃で２時間撹拌した。反応液を水１５００ｍｌ
に排出した後、減圧下テトラヒドロフランを留去した。
析出してきた結晶を濾過した後、水１００ｍｌで３回洗
浄し、減圧下乾燥することで目的物７３．９ｇを結晶と
して得た（収率：８５％（カルボン酸クロリドよ
り））。なお、ここで用いた３−トリフルオロメチル−
１−メチルピラゾール−４−カルボン酸クロリドはＤＥ
４２３１５１７に記載されている方法により、３−トリ
フルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン
酸エチルを得た後に、定法により加水分解、酸クロ化を
行って得られたものを用いた。

【００９８】実施例５ Ｎ−（３−チエニル）−３−ト
リフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボ
ン酸アミド（化合物15.1）の合成（Ｂ法） 実施例１で得られたＮ−｛３−（２−メトキシカルボニ
ル）チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチル
ピラゾール−４−カルボン酸アミド５．０ｇ（１５．０
ｍｍｏｌ）、ピリジン塩酸塩１．９１ｇ（１６．５ｍｍ
ｏｌ）をピリジン２５ｍｌに装入し、１２０℃で４２時
間攪拌した。室温まで冷却した後、減圧下ピリジンを留
去することで、１２．１ｇのオイルが得られた。このオ
イルを水２００ｍｌに排出し、析出した結晶を濾過し
た。この結晶を水１０ｍｌで３回洗浄し、減圧下乾燥す
ることで目的物 ３．８８ｇを結晶として得た（収率：
９４％）。

【００９９】実施例６ Ｎ−[３−｛２−（１，３−ジ
メチルブチル）｝チエニル]−３−トリフルオロメチル
−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成 実施例４で得られたＮ−（３−チエニル）−３−トリフ
ルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸
アミド ２０．０ｇ（７２．７ｍｍｏｌ）、４−メチル
−２−ペンタノン２１．９ｇ（２１８．２ｍｍｏｌ）、
パラトルエンスルホン酸一水和物１．０ｇをトルエン１
６０ｍｌに装入し、反応で生成してくる水を反応系外に
抜きながら８時間、１１２℃で加熱撹拌した。５０℃ま
で冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去した後、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶
離液：ヘキサン/酢酸エチル＝６/４）で精製すること
で、混合物２４．１ｇを無色結晶として得た。

【０１００】この混合物１．０ｇ（２．８０ｍｍｏｌ）
と５％パラジウムカーボン（デグサ化学触媒 Ｅ１０６
Ｒ/Ｗ）０．２ｇをメタノール１０ｍｌに装入し、常圧
下に接触還元を２５℃で９時間かけて行った。パラジウ
ムカーボンを濾過し、濾液のメタノールを減圧下留去し
た後、残渣に酢酸エチルを装入した。水で洗浄した後、
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留
去することで目的物１．０ｇを無色結晶として得た（収
率：９１％）。¹ H-NMR(CDCl_３,δ値,J=Hz):0.86(6H,d,J=6.8),1.25(3H,
d,J=6.8),1.43-1.64(3H,m),3.08(1H,sext,J=6.8),3.99
(3H,s),7.12(1H,d,J=5.1),7.43(1H,d,J=5.1),7.53(1H,b
rs),8.05(1H,s). m.p.:107-108℃

【０１０１】実施例７ Ｎ−[３−｛２−（１−メチルプ
ロピル）｝チエニル]−３−トリフルオロメチル−１−
メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成 実施例６において、４−メチル−２−ペンタノンの代わ
りに、メチルエチルケトンを使用した以外は全く同様の
方法で合成した（収率７０％）。¹ H-NMR(CDCl_３,δ値,J=Hz):0.89(3H,d,J=7.3),1.30(3H,
d,J=7.3),1.59-1.69(2H,m),2.85-2.93(1H,m),3.99(3H,
s),7.13(1H,d,J=5.1),7.46(1H,d,J=5.1), 7.54(1H,br
s),8.05(1H,s). m.p.:112-114℃

【０１０２】実施例８ Ｎ−｛３−（２−シクロヘキシ
ル）チエニル｝−３−トリフルオロメチル−１−メチル
ピラゾール−４−カルボン酸アミドの合成 実施例６において、４−メチル−２−ペンタノンの代わ
りに、シクロヘキサノンを使用した以外は全く同様の方
法で合成した（収率６８％）。¹ H-NMR(CDCl_３,δ値,J=Hz):1.22-1.49(5H,m),1.72-1.94
(5H,m),2.72-2.79(1H,m),3.99(3H,s),7.10(1H,d,J=5.
1),7.51(1H,d,J=5.1),7.60(1H,brs),8.06(1H,s). m.p.:128.7-129.5℃

【０１０３】参考例２ Ｎ−｛３−（２−メトキシカル
ボニル）チエニル｝−安息香酸アミドの合成 ３−アミノチオフェン−２−カルボン酸メチル３１．４
ｇ（０．２００ｍｏｌ）をトルエン９７．２ｇに装入
し、９０℃まで加熱した。ベンゾイルクロリド２９．５
ｇ（０．２１０ｍｏｌ）を還流温度を維持しながら２０
分かけて滴下し、還流下４時間攪拌した。室温まで冷却
後、トルエン１００ｍｌを装入し、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し目的物 ５２．
０ｇを結晶として得た（収率：１００％）。¹ H-NMR(CDCl_３,ppm,J=Hz):3.94(3H,s),7.49-7.61(5H,
m),8.00-8.05(2H,m),8.31(1H,d,J=5.3). m.p.:101.4-102.3℃

【０１０４】参考例３ Ｎ−｛３−（２−カルボキシ）
チエニル｝−安息香酸アミドの合成 参考例２で得られたＮ−｛３−（２−メトキシカルボニ
ル）チエニル｝−安息香酸アミド ５０．０ｇ（０．１
９２ｍｏｌ）をエタノール３００ｍｌに装入し、水１５
０ｍｌに溶解させた水酸化ナトリウム １５．４ｇ
（０．３８５ｍｏｌ）を滴下した。室温で４時間攪拌し
た後、１０℃まで冷却し、濃塩酸３０ｍｌを滴下してｐ
Ｈを約６に調整した。減圧下エタノールを留去した後、
得られた残渣に水１００ｍｌを装入し、濃塩酸１０ｍｌ
を加えてｐＨを１に調整した。析出した結晶を濾過し、
水５０ｍｌで３回洗浄した。得られた結晶を減圧下乾燥
することで、目的物４５．０ｇを無色結晶として得た
（収率：９５％）。¹H-NMR(DMSO-d_６,ppm,J=Hz):7.56-
7.69(3H,m),7.91-7.94(3H,m),8.09(1H,d,J=5.7),11.2(1
H,brs).m.p.:214.6-214.9℃

【０１０５】参考例４ Ｎ−（３−チエニル）−安息香
酸アミドの合成（Ａ法） 参考例３で得られたＮ−｛３−（２−カルボキシ）チエ
ニル｝−安息香酸アミド３０．０ｇ（１２．１ｍｍｏ
ｌ）と、パラトルエンスルホン酸一水和物１．５ｇを
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１２０ｍｌに
装入し、１３０℃で２７時間攪拌した。室温まで冷却
後、水１０００ｍｌに排出した。析出した結晶を濾過
し、水３０ｍｌで３回洗浄した。得られた結晶を減圧下
乾燥することで、目的物 ２０．８ｇを結晶として得た
（収率：８５％）。¹ H-NMR(CDCl_３,ppm,J=Hz):7.12-7.14(1H,m),7.28-7.29
(1H,m),7.44-7.58(3H,m),7.73(1H,dd,J=2.9,0.6),7.84-
7.88(2H,m),8.20(1H,brs).m.p.:155.4-156.2℃

【０１０６】実施例９ Ｎ−[３−｛２−（Ｅ）−（４
−メチル−２−ペンテン−２−イル）｝チエニル]−安
息香酸アミド、 Ｎ−[３−｛２−（Ｚ）−（４−メチル
−２−ペンテン−２−イル）｝チエニル]−安息香酸ア
ミド、Ｎ−[３−｛２−（４−メチル−１−ペンテン−
２−イル）｝チエニル]−安息香酸アミドからなる混合
物（混合物115.3）の合成 参考例４で得られたＮ−（３−チエニル）−安息香酸ア
ミド ２０．０ｇ（０．０９８５ｍｏｌ）、４−メチル
−２−ペンタノン２９．６ｇ（０．２９６ｍｏｌ）、パ
ラトルエンスルホン酸一水和物 １．０ｇをトルエン２
００ｍｌに装入し、留出してくる水を反応系外に抜きな
がら内温１１１℃で９．５時間加熱攪拌した。室温まで
冷却した後、反応液を一規定の水酸化ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにて精製（溶離液、ヘキサ
ン：酢酸エチル＝９：１）することで目的物 ２６．１
ｇを無色結晶として得た（収率９３％）。

【０１０７】実施例１０ Ｎ−[３−｛２−（１，３−
ジメチルブチル）｝チエニル]−安息香酸アミド（化合
物114.3）の合成 実施例９で得られたＮ−[３−｛２−（Ｅ）−（４−メ
チル−２−ペンテン−２−イル）｝チエニル]−安息香
酸アミド、 Ｎ−[３−｛２−（Ｚ）−（４−メチル−２
−ペンテン−２−イル）｝チエニル]−安息香酸アミ
ド、Ｎ−[３−｛２−（４−メチル−１−ペンテン−２
−イル）｝チエニル]−安息香酸アミドからなる混合物
２４．０ｇ（８４．２ｍｍｏｌ）、５％パラジウムカー
ボン（デグサ化学触媒 Ｅ１０６Ｒ/Ｗ）４．８ｇ、メ
タノール１２０ｍｌを２００ｍｌオートクレーブに装入
し、窒素置換をした後、４０℃、水素圧１．９６ＭＰａ
の条件下で１１時間水素化反応を行った。窒素置換をし
た後、触媒を濾過して除去し、濾液を減圧下にてを留去
することで目的物２３．５ｇ を無色結晶として得た(収
率：９７％)。

【０１０８】実施例１１ ３−アミノ−２−（１，３−
ジメチルブチル）チオフェンの合成 実施例１０で得られたＮ−[３−｛２−（１，３−ジメ
チルブチル）｝チエニル]−安息香酸アミド ２１．８
ｇ（７６．０ｍｍｏｌ）、濃塩酸１００ｍｌと酢酸７０
ｍｌからなる混合溶液に装入し、９７℃で２７時間還流
加熱反応を行った。室温まで冷却後、氷を装入しながら
１０規定水酸化ナトリウム水溶液で中和した。酢酸エチ
ルで二回抽出した後、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下、溶媒を留去することで目的
物 １３．３ｇをオイルとして得た（収率：９６％）。¹ H-NMR(CDCl_３,δ値,J=Hz):0.89(3H,d,J=6.6),0.90(3H,
d,J=6.6),1.23(3H,d, J=6.6),1.35-1.65(3H,m),2.95(1
H,sext,J=6.6),3.35(2H,brs),6.55(1H,d, J=5.1),6.95
(1H,d,J=5.1). 物性：オイル

【０１０９】実施例１２ Ｎ−[３−｛２−（１、３−
ジメチルブチル）チエニル｝]−３−トリフルオロメチ
ル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合
成 実施例１１で得られた３−アミノ−２−（１、３−ジメ
チルブチル）チオフェン０．５０ｇ（２．７３ｍｍｏ
ｌ）、ピリジン０．２６ｇ（３．２８ｍｍｏｌ）をテト
ラヒドロフラン３ｍｌに装入し、１０℃まで冷却した。
３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−
カルボン酸クロリド０．６４ｇ（３．００ｍｍｏｌ）を
反応温度を１８℃以下に保ちながら滴下した。室温で２
時間攪拌した後、５％塩酸水溶液に排出し、酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣をヘキ
サンで結晶化させることで目的物０．９３ｇを結晶とし
て得た（収率：９５％）。なお、ここで用いた３−トリ
フルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン
酸クロリドはＤＥ４２３１５１７に記載されている方法
により、３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ル−４−カルボン酸エチルを得た後に、定法により加水
分解、酸クロ化を行って得られたものを用いた。¹ H-NMR(CDCl_３,δ値,J=Hz):0.86(6H,d,J=6.8),1.25(3H,
d,J=6.8),1.43-1.64(3H,m),3.08(1H,sext,J=6.8),3.99
(3H,s),7.12(1H,d,J=5.1),7.43(1H,d,J=5.1),7.53(1H,b
rs),8.05(1H,s). m.p.:107-108℃

【０１１０】参考例５ ３−イソプロポキシカルボニル
アミノチオフェン−２−カルボン酸メチルの合成 ３−アミノチオフェン−２−カルボン酸メチル２２．１
ｇ（０．１４１ｍｏｌ）を酢酸エチル１００ｍｌに溶解
し、ピリジン１１．７ｇ（０．１４８ｍｏｌ）を加え
た。氷冷下でクロロ蟻酸イソプロピル １８．１ｇ
（０．１４８ｍｏｌ）を３０分かけて滴下した。滴下終
了後、６０℃まで昇温し３時間加熱攪拌した。反応終了
後、反応液を５％塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン
/酢酸エチル＝７／３）で精製することで目的物 ３
０．６ｇを結晶として得た（収率：８５％）。なお、こ
こで得られた結晶は分析せずに、次の反応に用いた。

【０１１１】参考例６ ３−イソプロポキシカルボニル
アミノチオフェンの合成（Ｂ法） 参考例５で得られた３−イソプロポキシカルボニルアミ
ノチオフェン−２−カルボン酸メチル ３０．８ｇ
（０．１２６ｍｏｌ）とピリジン塩酸塩１６．１ｇ
（０．１３９ｍｏｌ）をピリジン７０ｍｌに装入し、１
３０℃まで昇温し、４５時間加熱攪拌した。室温まで冷
却後、減圧下ピリジンを留去し、得られた残渣に酢酸エ
チル３００ｍｌを装入した。酢酸エチル層を水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶離液：ヘキサン/酢酸エチル＝２/１）で精製する
ことで目的物２１．０ｇを無色結晶として得た（収率：
９０％）。¹ H-NMR(CDCl_３,ppm,J=Hz):1.29(6H,d,J=6.3),5.01(1H,s
ept,J=6.3),6.80(1H, brs),6.92-6.94(1H,m),7.19-7.26
(2H,m). m.p.:105.0-107.2℃

【０１１２】実施例１３ ３−イソプロポキシカルボニ
ルアミノ−｛２−（Ｅ）−（４−メチル−２−ペンテン
−２−イル）｝チオフェン、３−イソプロポキシカルボ
ニルアミノ−｛２−（Ｚ）−（４−メチル−２−ペンテ
ン−２−イル）｝チオフェン、３−イソプロポキシカル
ボニルアミノ−｛２−（４−メチル−１−ペンテン−２
−イル｝チオフェンからなる混合物（混合物115.5）の
合成 参考例６で得られた３−イソプロポキシカルボニルアミ
ノチオフェン（１５．４ｍｍｏｌ）、４−メチル−２−
ペンタノン ４．６０ｇ（４６．０ｍｍｏｌ）、パラト
ルエンスルホン酸一水和物０．１４ｇをトルエン２０ｍ
ｌに装入し、生成する水を系外に抜きながら７時間還流
加熱した。室温まで冷却した後、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下
にて溶媒を留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにて精製（溶離液：ヘキサン／酢酸エチル＝２０
／１）することで目的物 ３．６８ｇをオイルとして得
た（収率：８９％）。

【０１１３】実施例１４ ３−イソプロポキシカルボニ
ル−｛２−（１，３−ジメチルブチル）｝チオフェン
(化合物114.5)の合成 実施例１３で得られた３−イソプロポキシカルボニルア
ミノ−｛２−（Ｅ）-（４−メチル−２−ペンテン−２
−イル）｝チオフェン、３−イソプロポキシカルボニル
アミノ−｛２−（Ｚ）−（４−メチル−２−ペンテン−
２−イル）｝チオフェン、３−イソプロポキシカルボニ
ルアミノ−｛２−（４−メチル−１−ペンテン−２−イ
ル｝チオフェンからなる混合物２．０６ｇ（７．７２ｍ
ｍｏｌ）、５％パラジウムカーボン（デグサ社Ｅ１０６
Ｒ／Ｗ） ０．４１ｇをメタノール２０ｍｌに装入し、
窒素置換した後、常圧、水素雰囲気下で９時間水素化反
応を行った。窒素置換した後、触媒を濾過して除去し、
減圧下にて濾液の溶媒を留去した。得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製（溶離液：ヘ
キサン／酢酸エチル＝９／１）することで、目的物
１．６１ｇを無色結晶として得た(収率：７０％）。

【０１１４】実施例１５ ３−アミノ−２−（１，３−
ジメチルブチル）チオフェンの合成 実施例１４で得られた３−イソプロポキシカルボニル−
｛２−（１，３−ジメチルブチル）｝チオフェン１．２
４ｇ（４．６１ｍｍｏｌ）、水酸化ナトリウム１．３６
ｇ（３４．０ｍｍｏｌ）をメタノール５ｍｌ、水４ｍ
ｌ、ジオキサン５ｍｌの混合液に装入し、８時間還流加
熱を行った。減圧下溶媒を留去した後、ジエチルエーテ
ルで二回抽出し、飽和食塩水で洗浄した。減圧下溶媒を
留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶離液：ヘキサン/酢酸エチル＝９/１）で精製
することで、目的物 ０．４２ｇを褐色オイルとして得
た（収率：５０%）。¹ H-NMR(CDCl_３,δ値,J=Hz):0.89(3H,d,J=6.6),0.90(3H,
d,J=6.6),1.23(3H,d, J=6.6),1.35-1.65(3H,m),2.95(1
H,sext,J=6.6),3.35(2H,brs),6.55(1H,d,J=5.1), 6.95(1H,d,J=5.1). 物性：オイル

【０１１５】実施例１６ Ｎ−[３−｛２−（１，３−
ジメチルブチル）チエニル｝]−３−トリフルオロメチ
ル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドの合
成 実施例１５で得られた３−アミノ−２−（１，３−ジメ
チルブチル）チオフェン０．２５ｇ（１．３６ｍｍｏ
ｌ）、ピリジン０．１３ｇ（１．６４ｍｍｏｌ）をテト
ラヒドロフラン３ｍｌに装入し、１０℃まで冷却した。
３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−
カルボン酸クロリド０．３２ｇ（１．５０ｍｍｏｌ）を
反応温度を１８℃以下に保ちながら滴下した。室温で２
時間攪拌した後、５％塩酸水溶液に排出し、酢酸エチル
で抽出した。酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧下溶媒を留去した後、得られた残渣をヘキ
サンで結晶化させることで目的物０．４６ｇを結晶とし
て得た（収率：９４％）。なお、ここで用いた３−トリ
フルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン
酸クロリドはＤＥ４２３１５１７に記載されている方法
により、３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾー
ル−４−カルボン酸エチルを得た後に、定法により加水
分解、酸クロ化を行って得られたものを用いた。¹ H-NMR(CDCl_３,δ値,J=Hz):0.86(6H,d,J=6.8),1.25(3H,
d,J=6.8),1.43-1.64(3H,m),3.08(1H,sext,J=6.8),3.99
(3H,s),7.12(1H,d,J=5.1),7.43(1H,d,J=5.1),7.53(1H,b
rs),8.05(1H,s). m.p.:107-108℃

【０１１６】本発明の中間体である一般式（６ａ）の化
合物（化５４）の例を以下の第１表にまとめた。第１表
において、Ｒ^９がカルボキシ基である場合、ＮＭＲ測定
溶媒は、ＤＭＳＯ−ｄ_６である。

【化５４】

【０１１７】

【表１】

【０１１８】

【表２】

【０１１９】

【表３】

【０１２０】

【表４】

【０１２１】

【表５】

【０１２２】

【表６】

【０１２３】

【表７】

【０１２４】

【表８】

【０１２５】

【表９】

【０１２６】

【表１０】

【０１２７】

【表１１】

【０１２８】

【表１２】

【０１２９】

【表１３】

【０１３０】

【表１４】

【０１３１】

【表１５】

【０１３２】

【表１６】

【０１３３】

【表１７】

【０１３４】

【表１８】

【０１３５】

【表１９】

【０１３６】

【表２０】

【０１３７】

【表２１】

【０１３８】

【表２２】

【０１３９】

【表２３】

【０１４０】

【表２４】

【０１４１】

【表２５】

【０１４２】

【表２６】

【０１４３】

【表２７】

【０１４４】

【表２８】

【０１４５】

【表２９】

【０１４６】

【表３０】

【０１４７】

【表３１】

【０１４８】

【表３２】

【０１４９】

【表３３】

【０１５０】

【表３４】

【０１５１】

【表３５】

【０１５２】

【表３６】

【０１５３】

【表３７】

【０１５４】

【表３８】

【０１５５】

【表３９】

【０１５６】

【表４０】

【０１５７】

【表４１】

【０１５８】

【表４２】

【０１５９】

【表４３】

【０１６０】

【表４４】

【０１６１】

【表４５】

【０１６２】

【表４６】

【０１６３】

【表４７】

【０１６４】

【表４８】

【０１６５】

【表４９】

【０１６６】

【表５０】

【０１６７】

【表５１】

【０１６８】

【表５２】

【０１６９】

【表５３】

【０１７０】

【表５４】

【０１７１】

【表５５】

【０１７２】本発明の中間体である一般式（１ｂ）の化
合物（化５５）の例を以下の第２表にまとめた。

【化５５】

【０１７３】

【表５６】

【０１７４】本発明の中間体である一般式（４ａ）’〜
（４ｄ）’で示される化合物（化５６）の混合物の例を
以下の第３表にまとめた。

【化５６】

【０１７５】

【表５７】

【０１７６】

【発明の効果】本発明によれば、一般式（２）の化合物
と一般式（３）の化合物とを酸の存在下反応させ、得ら
れた反応混合物を還元することで、二級のアルキル基を
持つ一般式（１）で表される２−アルキル−３−アミノ
チオフェン誘導体を簡便且つ高収率で製造できる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ０１Ｎ 43/56 Ａ０１Ｎ 43/56 Ａ 43/60 43/60 43/78 43/78 Ａ 43/80 １０２ 43/80 １０２ Ｃ０７Ｄ 409/12 Ｃ０７Ｄ 409/12 411/12 411/12 417/12 417/12 (72)発明者 冨谷 完治 千葉県茂原市東郷1144番地 三井化学株式 会社内 (72)発明者 小高 建次 千葉県茂原市東郷1144番地 三井化学株式 会社内

Claims (32)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）（化１） 【化１】 （式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキ
   ル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族
   または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳
   香族または非芳香族の複素環を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
   Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１
   ２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹とＲ²、
   Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²とＲ^４もしくはＲ²
   とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基を形成してもよ
   い。）で示される２−アルキル−３−アミノチオフェン
   誘導体の製造方法であって、一般式（２）（化２） 【化２】 （式中、Ｒは前記と同様）で示される化合物と、一般式
   （３）（化３） 【化３】 （式中、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立し
   て、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のア
   ルキル基または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のア
   ルケニル基を示し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ
   ^1ａとＲ^3ａ、Ｒ^1ａとＲ^4ａ、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ
   ^2ａとＲ^4ａは一緒になってシクロアルキル基またはシク
   ロアルケニル基を形成してもよい）で示される化合物と
   を酸の存在下で反応させ、得られた反応混合物を還元す
   ることを特徴とする、一般式（１）で示される２−アル
   キル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
2. 【請求項２】 Ｒが水素原子、置換されていてもよいア
   ルキル基またはアルコキシ基、置換されていてもよいフ
   ェニル基である請求項１記載の２−アルキル−３−アミ
   ノチオフェン誘導体の製造方法。
3. 【請求項３】 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³がそれぞれ水素原子、Ｒ⁴
   がイソプロピル基であり、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａがそれ
   ぞれ水素原子、Ｒ^4ａがイソプロピル基である請求項２
   記載の２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製
   造方法。
4. 【請求項４】 Ｒが以下の（Ａ１）から（Ａ１２）（化
   ４） 【化４】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
   ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
   Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
   ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
   水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
   あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
   ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
   し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
   ハロゲン原子ではない。）で示される基である請求項１
   記載の２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製
   造方法。
5. 【請求項５】 Ｒが（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）、
   （Ａ４）または（Ａ９）である請求項４記載の２−アル
   キル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
6. 【請求項６】 Ｒが（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）また
   は（Ａ４）である請求項５記載の２−アルキル−３−ア
   ミノチオフェン誘導体の製造方法。
7. 【請求項７】 Ｒが（Ａ１）である請求項６記載の２−
   アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
8. 【請求項８】 Ｒ⁵がトリフルオロメチル基であり、Ｒ⁷
   が水素原子である請求項７記載の２−アルキル−３−ア
   ミノチオフェン誘導体の製造方法。
9. 【請求項９】 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³がそれぞれ水素原子、Ｒ⁴
   がイソプロピル基であり、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａがそれ
   ぞれ水素原子、Ｒ^4ａがイソプロピル基である請求項８
   記載の２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製
   造方法。
10. 【請求項１０】 一般式（４ａ）、（４ｂ）、（４ｃ）
    及び（４ｄ）（化５） 【化５】 （式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキ
    ル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族
    または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳
    香族または非芳香族の複素環を示し、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ
    ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜
    １２の直鎖もしくは分岐のアルキル基または炭素数１〜
    １２の直鎖もしくは分岐のアルケニル基を示し、Ｒ^1ａ
    とＲ^2ａ、Ｒ ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ^1ａとＲ^3ａ、Ｒ^1ａと
    Ｒ^4ａ、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ^2ａとＲ^4ａは一緒にな
    ってシクロアルキル基またはシクロアルケニル基を形成
    してもよい。）で示される化合物を含有する混合物の製
    造方法であって、一般式（２）（化６） 【化６】 （式中、Ｒは前記と同様）で示される化合物と、一般式
    （３）（化７） 【化７】 （式中Ｒ^1ａ〜Ｒ^4ａは前記と同様）で示される化合物と
    を酸の存在下で反応させることを特徴とする、一般式
    （４ａ）、（４ｂ）、（４ｃ）及び（４ｄ）で示される
    化合物を含む２−アルケニル−３−アミノチフェン誘導
    体の混合物の製造方法。
11. 【請求項１１】 Ｒが水素原子、置換されていてもよい
    アルキル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい
    フェニル基である請求項１０記載の２−アルケニル−３
    −アミノチオフェン誘導体の製造方法。
12. 【請求項１２】 Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａがそれぞれ水素
    原子、Ｒ^4ａがイソプロピル基である請求項１１記載の
    ２−アルケニル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方
    法。
13. 【請求項１３】 Ｒが以下の（Ａ１）から（Ａ１２）
    （化８） 【化８】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
    ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
    Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
    水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
    あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
    ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
    し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
    ハロゲン原子ではない。）で示される基である請求項１
    ０記載の２−アルケニル−３−アミノチフェン誘導体の
    製造方法。
14. 【請求項１４】 Ｒが（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）、
    （Ａ４）または（Ａ９）である請求項１３に記載の２−
    アルケニル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
15. 【請求項１５】 Ｒが（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）ま
    たは（Ａ４）である請求項１４記載の２−アルケニル−
    ３−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
16. 【請求項１６】 Ｒが（Ａ１）である請求項１５記載の
    ２−アルケニル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方
    法。
17. 【請求項１７】 Ｒ⁵がトリフルオロメチル基であり、
    Ｒ⁷が水素原子である請求項１６記載の２−アルケニル
    −３−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
18. 【請求項１８】 Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａがそれぞれ水素原
    子、Ｒ^4ａがイソプロピル基である請求項１７記載の２
    −アルケニル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方
    法。
19. 【請求項１９】 一般式（１ａ）（化９） 【化９】 〔式中、Ｒ^ａは以下の（Ａ１）から（Ａ１２）（化１
    ０）を示し、 【化１０】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
    ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
    Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
    水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
    あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
    ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
    し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
    ハロゲン原子ではない。）で示される基であり、Ｒ¹、
    Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子または炭
    素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、
    Ｒ¹とＲ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²とＲ³も
    しくはＲ²とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基を形成
    してもよい〕、で示される化合物の製造方法であって、
    一般式（２）（化１１）で示される化合物と 【化１１】 （式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキ
    ル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族
    または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳
    香族または非芳香族の複素環を示す）、一般式（３）
    （化１２）で示される化合物と 【化１２】 （式中、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立し
    て、水素原子、炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のア
    ルキル基または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のア
    ルケニル基を示し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ
    ^1ａとＲ^3ａ、Ｒ^1ａとＲ^4ａ、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ
    ^2ａとＲ^4ａは一緒になってシクロアルキル基またはシク
    ロアルケニル基を形成してもよい）を酸の存在下で反応
    させ、得られた反応混合物を還元して一般式（１）（化
    １３）で示される化合物を得た後、 【化１３】 （式中、Ｒ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、前記と同様）さら
    に、酸またはアルカリ条件下で加水分解し、一般式
    （５）（化１４）で示される化合物を得、 【化１４】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は、前記と同様）これを一
    般式（８ａ）（化１５）で示される化合物 【化１５】 （式中、R^ａは前記と同様）と反応させることを特徴と
    する、一般式（１ａ）で示される２−アルキル−３−ア
    ミノチオフェンの製造方法。
20. 【請求項２０】 Ｒが水素原子、置換されていてもよい
    アルキル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい
    フェニル基であり、Ｒ^ａが（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ
    ３）、（Ａ４）または（Ａ９）である請求項１９記載の
    ２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製造方
    法。
21. 【請求項２１】 Ｒ^ａが（Ａ１）であり、Ｒ⁵がトリフ
    ルオロメチル基であり、Ｒ⁷が水素原子であり、Ｒ¹、Ｒ
    ²、Ｒ³がそれぞれ水素原子、Ｒ⁴がイソプロピル基であ
    り、Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａがそれぞれ水素原子、Ｒ^4ａが
    イソプロピル基である請求項２０記載の２−アルキル−
    ３−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
22. 【請求項２２】 一般式（６ａ）（化１６） 【化１６】 ｛式中、Ｒ^９は水素原子、カルボキシル基または炭素数
    １〜６のアルコキシカルボニル基を、Ｒ^ａは以下の（Ａ
    １）から（Ａ１２）（化１７） 【化１７】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
    ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
    Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
    水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
    あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
    ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
    し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
    ハロゲン原子でない。）で示される基である｝で示され
    る３−アミノチオフェン誘導体。
23. 【請求項２３】 Ｒ^ａが（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ
    ３）、（Ａ４）または（Ａ９）である請求項２２記載の
    ３−アミノチオフェン誘導体。
24. 【請求項２４】 Ｒ^ａが（Ａ１）、（Ａ２）、（Ａ３）
    または（Ａ４）である請求項２３記載の３−アミノチオ
    フェン誘導体。
25. 【請求項２５】 Ｒ^ａが（Ａ１）である請求項２４記載
    の３−アミノチオフェン誘導体。
26. 【請求項２６】 Ｒ⁵がトリフルオロメチル基であり、
    Ｒ⁷が水素原子である請求項２５記載の３−アミノチオ
    フェン誘導体。
27. 【請求項２７】 一般式（４ａ）’、（４ｂ）’、（４
    ｃ）’及び（４ｄ）’（化１８） 【化１８】 ｛式中、Ｒ^ｂは、水素原子、置換されていてもよいアル
    キル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香
    族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい
    芳香族または非芳香族の複素環を示し、ただし、Ｒ^ｂが
    （Ａ１）から（Ａ１２）（化１９） 【化１９】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
    ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
    Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
    水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
    あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
    ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
    し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
    ハロゲン原子ではない。）の場合は除き、Ｒ^1ａ、
    Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａはそれぞれ独立して、水素原子、
    炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基または
    炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルケニル基を示
    し、Ｒ^1ａとＲ^2ａ、Ｒ^3ａとＲ^4ａ、Ｒ^1ａとＲ^3ａ、Ｒ
    ^1ａとＲ^{4 ａ}、Ｒ^2ａとＲ^3ａもしくはＲ^2ａとＲ^4ａは一緒
    になってシクロアルキル基またはシクロアルケニル基を
    形成してもよい。ただし、Ｒ^ｂがtert−ブトキシ基でＲ
    ^{1 ａ}、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａ、Ｒ^4ａが全て水素原子の場合は除
    く。｝で示される混合物を含有する２−アルケニル−３
    −アミノチオフェン誘導体の混合物。
28. 【請求項２８】 Ｒ^ｂが水素原子、置換されていてもよ
    いアルキル基またはアルコキシ基、置換されていてもよ
    いフェニル基である請求項２７記載の２−アルケニル−
    ３−アミノチオフェン誘導体の混合物。
29. 【請求項２９】 Ｒ^1ａ、Ｒ^2ａ、Ｒ^3ａがそれぞれ水素
    原子、Ｒ^4ａがイソプロピル基である請求項２８記載の
    ２−アルケニル−３−アミノチオフェン誘導体の混合
    物。
30. 【請求項３０】 一般式（１ｂ）（化２０） 【化２０】 ｛式中、Ｒ^ｂは、水素原子、置換されていてもよいアル
    キル基またはアルコキシ基、置換されていてもよい芳香
    族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい
    芳香族または非芳香族の複素環を示し、ただし、Ｒ^ｂが
    （Ａ１）から（Ａ１２）（化２１） 【化２１】 （式中、Ｒ⁵はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチ
    ル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、
    Ｒ⁶は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハ
    ロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ⁷は
    水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基で
    あり、Ｒ⁸は、水素原子、メチル基、エチル基またはハ
    ロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但
    し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ⁵は
    ハロゲン原子ではない。）の場合は除き、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ
    ³、Ｒ⁴はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜
    １２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、Ｒ¹と
    Ｒ²、Ｒ³とＲ⁴、Ｒ¹とＲ³、Ｒ¹とＲ⁴、Ｒ²とＲ³もしく
    はＲ²とＲ⁴は一緒になってシクロアルキル基を形成して
    もよい。}で示される２−アルキル−３−アミノチオフ
    ェン誘導体。
31. 【請求項３１】 Ｒ^ｂが水素原子、置換されていてもよ
    いアルキル基またはアルコキシ基、置換されていてもよ
    いフェニル基である請求項３０記載の２−アルキル−３
    −アミノチオフェン誘導体。
32. 【請求項３２】 Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³がそれぞれ水素原子、
    Ｒ⁴がイソプロピル基である請求項３１記載の２−アル
    キル−３−アミノチオフェン誘導体。