JP2000322774A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
- Publication number
- JP2000322774A JP2000322774A JP11374208A JP37420899A JP2000322774A JP 2000322774 A JP2000322774 A JP 2000322774A JP 11374208 A JP11374208 A JP 11374208A JP 37420899 A JP37420899 A JP 37420899A JP 2000322774 A JP2000322774 A JP 2000322774A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- groove
- optical disk
- transparent substrate
- zone
- value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 窪み(凹み)の発生を小さくし、かつ窪み
(凹み)の中心とグルーブの中心のずれ量を小さくする
ことにより、記録後のコントラスト比を十分確保し、特
性低下を防止する。 【解決手段】 表面にグルーブ4とランド5を交互に同
心円状または螺旋状に形成したプリフォーマットを有す
る透明基板1の前記プリフォーマット上にスピンコート
により記録層2を形成するディスク形の光ディスクにお
いて、前記透明基板1のランド5と平行な仮想面Xに対
してグルーブ4の両側の側面がそれぞれ傾斜して設けら
れ、そのグルーブ4のディスク内周側の側面4aの前記
仮想面Xに対する平均テーパ角θ1が、そのグルーブ4
のディスク外周側の側面4bの前記仮想面Xに対する平
均テーパ角θ2よりも大きい(θ1>θ2)ことを特徴
とする。
(凹み)の中心とグルーブの中心のずれ量を小さくする
ことにより、記録後のコントラスト比を十分確保し、特
性低下を防止する。 【解決手段】 表面にグルーブ4とランド5を交互に同
心円状または螺旋状に形成したプリフォーマットを有す
る透明基板1の前記プリフォーマット上にスピンコート
により記録層2を形成するディスク形の光ディスクにお
いて、前記透明基板1のランド5と平行な仮想面Xに対
してグルーブ4の両側の側面がそれぞれ傾斜して設けら
れ、そのグルーブ4のディスク内周側の側面4aの前記
仮想面Xに対する平均テーパ角θ1が、そのグルーブ4
のディスク外周側の側面4bの前記仮想面Xに対する平
均テーパ角θ2よりも大きい(θ1>θ2)ことを特徴
とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクに係り、
特に表面にグルーブとランドを交互に同心円状または螺
旋状に形成したプリフォーマットを有する透明基板と、
その透明基板の前記プリフォーマットの上にスピンコー
トで形成した記録層とを有する光ディスクに関する。
特に表面にグルーブとランドを交互に同心円状または螺
旋状に形成したプリフォーマットを有する透明基板と、
その透明基板の前記プリフォーマットの上にスピンコー
トで形成した記録層とを有する光ディスクに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光記録用レーザ技術の進歩やコス
トの低減に伴い、光ディスクにレーザ光を照射して、情
報の記録、再生を行なう光記録システムが開発されてい
る。
トの低減に伴い、光ディスクにレーザ光を照射して、情
報の記録、再生を行なう光記録システムが開発されてい
る。
【0003】この光ディスクの一つとして、有機色素を
用いた追記形光ディスクであるCD−R(コンパクトデ
ィスクレコーダブル)等が商品化されている。この光デ
ィスクは、有機色素を含有する記録材料を溶剤に溶か
し、スピンコート法により透明基板上に記録層を塗布形
成することが可能で、スパッタリングや蒸着などで記録
層を形成する光ディスクに比べて、製造時間が短く、し
かも製造コストが低いという利点を有している。
用いた追記形光ディスクであるCD−R(コンパクトデ
ィスクレコーダブル)等が商品化されている。この光デ
ィスクは、有機色素を含有する記録材料を溶剤に溶か
し、スピンコート法により透明基板上に記録層を塗布形
成することが可能で、スパッタリングや蒸着などで記録
層を形成する光ディスクに比べて、製造時間が短く、し
かも製造コストが低いという利点を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】記録材料として有機色
素を含有したCD−R等の追記形光ディスクの基板は、
螺旋状のグルーブが形成され、この螺旋状のグルーブの
間にランドがあり、ディスクの径方向に沿ってグルーブ
とランドが交互に設けられて、プリフォーマットを形成
している。
素を含有したCD−R等の追記形光ディスクの基板は、
螺旋状のグルーブが形成され、この螺旋状のグルーブの
間にランドがあり、ディスクの径方向に沿ってグルーブ
とランドが交互に設けられて、プリフォーマットを形成
している。
【0005】透明基板1の中心部に記録材料の溶液を滴
下し、透明基板1を高速回転して遠心力によりグルーブ
4とランド5を交互に設けた透明基板1上で前記溶液を
径方向外側に引き延ばして記録層2を形成するスピンコ
ート法においては、図7に示すように、形成された記録
層2はグルーブ4の上では凹状となり、ランド5の上で
は相対的に凸状となり、グルーブ4の上の記録層2に窪
み(凹み)6が生じる。なお図中の3は金属からなる光
反射層、7は記録ピットである。
下し、透明基板1を高速回転して遠心力によりグルーブ
4とランド5を交互に設けた透明基板1上で前記溶液を
径方向外側に引き延ばして記録層2を形成するスピンコ
ート法においては、図7に示すように、形成された記録
層2はグルーブ4の上では凹状となり、ランド5の上で
は相対的に凸状となり、グルーブ4の上の記録層2に窪
み(凹み)6が生じる。なお図中の3は金属からなる光
反射層、7は記録ピットである。
【0006】スピンコート法によりディスクの内周側よ
り記録材料を塗布するので、窪み(凹み)6の中心とグ
ルーブ4の中心との間にずれ量d0が生じ、窪み(凹
み)6の中心はグルーブ4の中心より外周側に偏ってし
まう。
り記録材料を塗布するので、窪み(凹み)6の中心とグ
ルーブ4の中心との間にずれ量d0が生じ、窪み(凹
み)6の中心はグルーブ4の中心より外周側に偏ってし
まう。
【0007】中心ずれ量d0が大きくなると、図8
(a)の従来のトラッキング信号は、GND(グラン
ド)に対して(+)側と(−)側の振幅量が異なり、ト
ラッキング信号のずれ量〔|a(+)−a(−)|〕を
トラッキング信号振幅Aで規格化した価であるPush
−Pull(b)中心のGNDからのオフセット率〔|
a(+)−a(−)|×100/A〕が大きくなり、グ
ルーブの外周側をトラッキングしながら記録ピット7を
グルーブの外周側に形成してしまい、十分な特性が得ら
れず、記録再生が不可能となることがある。
(a)の従来のトラッキング信号は、GND(グラン
ド)に対して(+)側と(−)側の振幅量が異なり、ト
ラッキング信号のずれ量〔|a(+)−a(−)|〕を
トラッキング信号振幅Aで規格化した価であるPush
−Pull(b)中心のGNDからのオフセット率〔|
a(+)−a(−)|×100/A〕が大きくなり、グ
ルーブの外周側をトラッキングしながら記録ピット7を
グルーブの外周側に形成してしまい、十分な特性が得ら
れず、記録再生が不可能となることがある。
【0008】今後、記録材料として有機色素を含有した
CD−R等の追記形光ディスクは、高密度化のための狭
トラックピッチ化、および原価低減の観点よりタクトア
ップによるスピンコートの高速回転化傾向にあり、窪み
(凹み)6の中心とグルーブ4の中心との間のずれ量d
0がさらに大きくなり、前述のような弊害が顕著に現れ
る。
CD−R等の追記形光ディスクは、高密度化のための狭
トラックピッチ化、および原価低減の観点よりタクトア
ップによるスピンコートの高速回転化傾向にあり、窪み
(凹み)6の中心とグルーブ4の中心との間のずれ量d
0がさらに大きくなり、前述のような弊害が顕著に現れ
る。
【0009】また近年、光ディスクの記録容量をより一
層増大させることが要望されており、これを実現する方
法として、記録再生に使用されるレーザ光の波長を短く
してビームスポット径を小さくすることにより、記録密
度を高める方法が提案されている。この方法に従う高密
度記録の光ディスクとして、DVD(デジタルバーサタ
イルディスク)や、この追記型としてDVD−R(デジ
タルバーサタイルディスクレコーダブル)が提案されて
いる。このDVD−Rの記録再生に使用されるレーザ光
の波長は630nm〜660nmである。
層増大させることが要望されており、これを実現する方
法として、記録再生に使用されるレーザ光の波長を短く
してビームスポット径を小さくすることにより、記録密
度を高める方法が提案されている。この方法に従う高密
度記録の光ディスクとして、DVD(デジタルバーサタ
イルディスク)や、この追記型としてDVD−R(デジ
タルバーサタイルディスクレコーダブル)が提案されて
いる。このDVD−Rの記録再生に使用されるレーザ光
の波長は630nm〜660nmである。
【0010】DVD−Rのグルーブのトラックピッチは
0.7μm〜0.8μm、最小記録ピットは0.40μ
m〜0.44μmで、CD−Rのトラックピッチ1.6
μm、最小記録ピット0.83μmに比べると極めて短
くなっている。このように高密度化および高性能化によ
りトラックピッチ、記録ピットがさらに狭小化すると、
前述の窪み(凹み)6の影響がさらに顕著になる。
0.7μm〜0.8μm、最小記録ピットは0.40μ
m〜0.44μmで、CD−Rのトラックピッチ1.6
μm、最小記録ピット0.83μmに比べると極めて短
くなっている。このように高密度化および高性能化によ
りトラックピッチ、記録ピットがさらに狭小化すると、
前述の窪み(凹み)6の影響がさらに顕著になる。
【0011】本発明者らはこの窪み(凹み)6の形成に
ついて種々検討した結果、透明基板1の表面に形成され
るグルーブ4の形状に問題があることを解明した。すな
わち従来の光ディスクは図7に示すようにグルーブ4の
溝の両側面が傾斜しているが、その溝のディスク内周側
の側面4aのテーパ角θ1と、ディスク外周側の側面4
bのテーパ角θ2が等しくなっている(θ1=θ2 θ
2/θ1=1)。
ついて種々検討した結果、透明基板1の表面に形成され
るグルーブ4の形状に問題があることを解明した。すな
わち従来の光ディスクは図7に示すようにグルーブ4の
溝の両側面が傾斜しているが、その溝のディスク内周側
の側面4aのテーパ角θ1と、ディスク外周側の側面4
bのテーパ角θ2が等しくなっている(θ1=θ2 θ
2/θ1=1)。
【0012】そのため、ターンテーブル上に固定した透
明基板1のほぼ中央部に記録材料の溶液を滴下し、透明
基板1を高速回転して前記液状記録材料を中央部から外
周部側に向けて流延、固化しながら記録層2を形成する
際、前記液状記録材料はグルーブ4に流れ込んで一時的
に溜まりながら、遠心力でさらにその外周側のランド5
ならびにグルーブ4へと流動するが、そのときの記録材
料のグルーブ4への流れ込み状態とディスク外周側の側
面4bのところでのせり上がり状態から、比較的深い窪
み(凹み)6が形成されることを解明した。
明基板1のほぼ中央部に記録材料の溶液を滴下し、透明
基板1を高速回転して前記液状記録材料を中央部から外
周部側に向けて流延、固化しながら記録層2を形成する
際、前記液状記録材料はグルーブ4に流れ込んで一時的
に溜まりながら、遠心力でさらにその外周側のランド5
ならびにグルーブ4へと流動するが、そのときの記録材
料のグルーブ4への流れ込み状態とディスク外周側の側
面4bのところでのせり上がり状態から、比較的深い窪
み(凹み)6が形成されることを解明した。
【0013】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、前記窪み(凹み)を小さくし、かつ窪み
(凹み)の中心とグルーブの中心のずれ量を小さくする
ことにより、記録後のコントラスト比を十分確保し、特
性低下を防止することのできる、特に高密度記録に適し
た光ディスクを提供することにある。
点を解消し、前記窪み(凹み)を小さくし、かつ窪み
(凹み)の中心とグルーブの中心のずれ量を小さくする
ことにより、記録後のコントラスト比を十分確保し、特
性低下を防止することのできる、特に高密度記録に適し
た光ディスクを提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、表面にグルーブとランドを交互に同心円
状または螺旋状に形成したプリフォーマットを有する透
明基板の前記プリフォーマット上にスピンコートにより
記録層を形成する光ディスクを対象とするものである。
に、本発明は、表面にグルーブとランドを交互に同心円
状または螺旋状に形成したプリフォーマットを有する透
明基板の前記プリフォーマット上にスピンコートにより
記録層を形成する光ディスクを対象とするものである。
【0015】そして本発明の第1の手段は、前記グルー
ブを透明基板の径方向に沿って断面したときにグルーブ
の溝の両側面が、透明基板のランドと平行な仮想面に対
してそれぞれ傾斜しており、その溝における内周側の側
面の前記仮想面に対する平均テーパ角θ1が、その溝に
おける外周側の側面の前記仮想面に対する平均テーパ角
θ2よりも大きい(θ1>θ2)ことを特徴とするもの
である。
ブを透明基板の径方向に沿って断面したときにグルーブ
の溝の両側面が、透明基板のランドと平行な仮想面に対
してそれぞれ傾斜しており、その溝における内周側の側
面の前記仮想面に対する平均テーパ角θ1が、その溝に
おける外周側の側面の前記仮想面に対する平均テーパ角
θ2よりも大きい(θ1>θ2)ことを特徴とするもの
である。
【0016】本発明の第2の手段は、前記第1の手段に
おいて、前記θ1に対するθ2の比率であるθ2/θ1
の値が、0.3≦θ2/θ1<1の範囲内にあることを
特徴とするものである。
おいて、前記θ1に対するθ2の比率であるθ2/θ1
の値が、0.3≦θ2/θ1<1の範囲内にあることを
特徴とするものである。
【0017】本発明の第3の手段は、前記第1の手段に
おいて、前記θ1に対するθ2の比率であるθ2/θ1
の値が、0.75≦θ2/θ1≦0.9の範囲内にある
ことを特徴とするものである。
おいて、前記θ1に対するθ2の比率であるθ2/θ1
の値が、0.75≦θ2/θ1≦0.9の範囲内にある
ことを特徴とするものである。
【0018】本発明の第4の手段は、前記第1ないし第
3のいずれかの手段において、前記ディスクの内側領域
から外側領域にいくに従ってθ2/θ1の値が徐々に小
さくなっていることを特徴とするものである。
3のいずれかの手段において、前記ディスクの内側領域
から外側領域にいくに従ってθ2/θ1の値が徐々に小
さくなっていることを特徴とするものである。
【0019】本発明の第5の手段は、前記第1ないし第
3のいずれかの手段において、前記ディスクの内側領域
から外側領域にかけて複数のゾーンに分かれており、最
外周側ゾーンの前記θ2/θ1の値が最内周側ゾーンの
前記θ2/θ1の値よりも小さいことを特徴とするもの
である。
3のいずれかの手段において、前記ディスクの内側領域
から外側領域にかけて複数のゾーンに分かれており、最
外周側ゾーンの前記θ2/θ1の値が最内周側ゾーンの
前記θ2/θ1の値よりも小さいことを特徴とするもの
である。
【0020】本発明の第6の手段は、前記第1ないし第
3のいずれかの手段において、前記ディスクの内側領域
から外側領域にかけて複数のゾーンに分かれており、前
記θ2/θ1の値が内周側ゾーンから外周側ゾーンにか
けて段階的に小さくなっていることを特徴とするもので
ある。
3のいずれかの手段において、前記ディスクの内側領域
から外側領域にかけて複数のゾーンに分かれており、前
記θ2/θ1の値が内周側ゾーンから外周側ゾーンにか
けて段階的に小さくなっていることを特徴とするもので
ある。
【0021】本発明の第7の手段は、前記第1ないし第
6のいずれかの手段において、トラックピッチが0.8
μm以下であることを特徴とするものである。
6のいずれかの手段において、トラックピッチが0.8
μm以下であることを特徴とするものである。
【0022】本発明の第8の手段は、前記第1ないし第
6のいずれかの手段において、トラックピッチが0.7
4μm以下であることを特徴とするものである。
6のいずれかの手段において、トラックピッチが0.7
4μm以下であることを特徴とするものである。
【0023】なお、θ2/θ1の値が1になると従来の
光ディスクに相当し、前述したように窪み(凹み)6の
中心とグルーブ4の中心との間のずれ量d0が大きくな
る。一方、θ2/θ1の値が0.3未満になると、形成
された記録層2のグルーブ4上での凹部とグランド5上
での凸部が相対的に平坦化され、ランドとグルーブの境
が曖昧になり、トラッキングがかかり難くなるという問
題がある。従ってθ2/θ1の値は、0.3≦θ2/θ
1<1の範囲内に規制する必要がある。
光ディスクに相当し、前述したように窪み(凹み)6の
中心とグルーブ4の中心との間のずれ量d0が大きくな
る。一方、θ2/θ1の値が0.3未満になると、形成
された記録層2のグルーブ4上での凹部とグランド5上
での凸部が相対的に平坦化され、ランドとグルーブの境
が曖昧になり、トラッキングがかかり難くなるという問
題がある。従ってθ2/θ1の値は、0.3≦θ2/θ
1<1の範囲内に規制する必要がある。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図2に、ガラス基板9の上にフォ
トレジスト8を塗布した原盤に露光ビーム10を照射し
てプリフォーマットパターンをカッティングする際、原
盤の表面に対して露光ビーム10を角度θ0にて入射さ
せて、プリフォーマットパターン(グルーブ)部位を露
光したときの、原盤に対する露光ビーム10の入射状
態、露光強度分布、グルーブ溝のディスク内周側と外周
側のテーパ角をそれぞれ示す。
に基づいて説明する。図2に、ガラス基板9の上にフォ
トレジスト8を塗布した原盤に露光ビーム10を照射し
てプリフォーマットパターンをカッティングする際、原
盤の表面に対して露光ビーム10を角度θ0にて入射さ
せて、プリフォーマットパターン(グルーブ)部位を露
光したときの、原盤に対する露光ビーム10の入射状
態、露光強度分布、グルーブ溝のディスク内周側と外周
側のテーパ角をそれぞれ示す。
【0025】同図(a1)に示すように、露光ビーム1
0を入射角度θ0=90°、つまり対物レンズ11を介
して原盤に露光ビーム10を垂直に入射させ、フォトレ
ジスト8を感光させると、同図(a2)に示すように焦
点を中間にして内周側と外周側の露光強度分布が同じに
なる。そのため同図(a3)に示すように、現像後の内
周側のテーパ角θ1と外周側のテーパ角θ2は等しくな
る。
0を入射角度θ0=90°、つまり対物レンズ11を介
して原盤に露光ビーム10を垂直に入射させ、フォトレ
ジスト8を感光させると、同図(a2)に示すように焦
点を中間にして内周側と外周側の露光強度分布が同じに
なる。そのため同図(a3)に示すように、現像後の内
周側のテーパ角θ1と外周側のテーパ角θ2は等しくな
る。
【0026】これに対して同図(b1)に示すように入
射角度θ0<90°、つまり対物レンズ11を介して原
盤に露光ビーム10を若干傾けて入射させ、フォトレジ
スト8を感光させると、同図(b2)に示すように焦点
を間にして内周側と外周側の露光強度分布が異なり、露
光範囲は内周側の方が外周側よりも狭い。そのため同図
(b3)に示すように、溝の内周側のテーパ角θ1を外
周側のテーパ角θ2よりも大きくできる(θ1>θ
2)。
射角度θ0<90°、つまり対物レンズ11を介して原
盤に露光ビーム10を若干傾けて入射させ、フォトレジ
スト8を感光させると、同図(b2)に示すように焦点
を間にして内周側と外周側の露光強度分布が異なり、露
光範囲は内周側の方が外周側よりも狭い。そのため同図
(b3)に示すように、溝の内周側のテーパ角θ1を外
周側のテーパ角θ2よりも大きくできる(θ1>θ
2)。
【0027】同図(b1)、(b2)、(b3)に示す
ように原盤を露光し、現像した後、原盤にニッケルなど
を公知技術にてメッキしてスタンパを作成した。
ように原盤を露光し、現像した後、原盤にニッケルなど
を公知技術にてメッキしてスタンパを作成した。
【0028】このスタンパを用い、射出成形法によりポ
リカーボネート樹脂の透明基板1を作成する。透明基板
1の材料としてポリカーボネート樹脂以外の例えばエポ
キシ樹脂などの他の透明な樹脂材料を用いることも可能
である。このようにして作成した透明基板1は、スタン
パのプリフォーマットパターンを転写している。
リカーボネート樹脂の透明基板1を作成する。透明基板
1の材料としてポリカーボネート樹脂以外の例えばエポ
キシ樹脂などの他の透明な樹脂材料を用いることも可能
である。このようにして作成した透明基板1は、スタン
パのプリフォーマットパターンを転写している。
【0029】このプリフォーマットパターンのうちのプ
リグルーブ4は図1に示すように、透明基板1のランド
5と平行な仮想面Xに対して溝の両側の側面4a、4b
が互いに上側に向けて広角になるように傾斜して設けら
れている。そしてグルーブ4のディスク内周側の側面4
aの平均テーパ角θ1が、ディスク外周側の側面4bの
平均テーパ角θ2よりも大きく形成されている(θ1>
θ2)。この平均テーパ角θ1,θ2については、後で
具体的に説明する。
リグルーブ4は図1に示すように、透明基板1のランド
5と平行な仮想面Xに対して溝の両側の側面4a、4b
が互いに上側に向けて広角になるように傾斜して設けら
れている。そしてグルーブ4のディスク内周側の側面4
aの平均テーパ角θ1が、ディスク外周側の側面4bの
平均テーパ角θ2よりも大きく形成されている(θ1>
θ2)。この平均テーパ角θ1,θ2については、後で
具体的に説明する。
【0030】本発明において前記仮想面Xの位置は、グ
ルーブ4の溝の深さ方向の中間位置(すなわちL1=L
2)を通る位置とした。図7に示すようにグルーブ4の
溝底面あるいはランド5の表面を通る仮想面にした場
合、グルーブ4の溝底面と側面4a,4bが交わる部分
あるいはランド5の表面と側面4a,4bが交わる部分
が、微小的に見ると欠けたりあるいは丸みが付いたりし
て正確な角度が出ない懸念があるため、仮想面Xは、グ
ルーブ4の溝の深さ方向の中間位置を通る仮想面とし
た。
ルーブ4の溝の深さ方向の中間位置(すなわちL1=L
2)を通る位置とした。図7に示すようにグルーブ4の
溝底面あるいはランド5の表面を通る仮想面にした場
合、グルーブ4の溝底面と側面4a,4bが交わる部分
あるいはランド5の表面と側面4a,4bが交わる部分
が、微小的に見ると欠けたりあるいは丸みが付いたりし
て正確な角度が出ない懸念があるため、仮想面Xは、グ
ルーブ4の溝の深さ方向の中間位置を通る仮想面とし
た。
【0031】この透明基板1のプリフォーマットパター
ン形成面上に、有機色素を含有した記録層2をスピンコ
ート法により成膜した。有機色素としては、シアニン
系、フタロシアニン系、アゾ系染料などを用いることが
できる。特に次の〔化1〕、〔化2〕の一般構造式で表
せる有機色素が好適である。
ン形成面上に、有機色素を含有した記録層2をスピンコ
ート法により成膜した。有機色素としては、シアニン
系、フタロシアニン系、アゾ系染料などを用いることが
できる。特に次の〔化1〕、〔化2〕の一般構造式で表
せる有機色素が好適である。
【0032】
【化1】 式中、RまたはR’は同じかまたは異なってもよく、そ
れぞれは水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アル
コヒドロキシ基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ルカルボキシル基、アルキルスルホニル基を示す。Yま
たはY’は同じかまたは異なってもよく、それぞれは−
C(CH3 )2 −、−S−、−O−、−CH=CH−を
示す。AまたはA’は同じかまたは異なってもよく、そ
れぞれは芳香環あるいはベンゼン環を示す。Xは対イオ
ンを示し、ハロゲンおよびハロゲン化物イオンもしくは
金属錯体を示す。Zは水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基を示す。nは0〜2の整数を示す。
れぞれは水素原子、アルキル基、アルコキシル基、アル
コヒドロキシ基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ルカルボキシル基、アルキルスルホニル基を示す。Yま
たはY’は同じかまたは異なってもよく、それぞれは−
C(CH3 )2 −、−S−、−O−、−CH=CH−を
示す。AまたはA’は同じかまたは異なってもよく、そ
れぞれは芳香環あるいはベンゼン環を示す。Xは対イオ
ンを示し、ハロゲンおよびハロゲン化物イオンもしくは
金属錯体を示す。Zは水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基を示す。nは0〜2の整数を示す。
【0033】
【化2】 式中、R1 、R2 、R3 およびR4 は同じかまたは異な
ってもよく、それぞれは水素原子、水酸基、フッ化アル
キル基、アミン、アルキル基、アルコキシル基、アルキ
ルヒドロ基、アラルキル基、アルケニル基、アルキルカ
ルボキシル基、アルキルスルホニル基もしくはこれらの
官能基をもつ芳香環を示す。Xは陰イオンを示し、nは
化合物のイオン価を示し1または2である。
ってもよく、それぞれは水素原子、水酸基、フッ化アル
キル基、アミン、アルキル基、アルコキシル基、アルキ
ルヒドロ基、アラルキル基、アルケニル基、アルキルカ
ルボキシル基、アルキルスルホニル基もしくはこれらの
官能基をもつ芳香環を示す。Xは陰イオンを示し、nは
化合物のイオン価を示し1または2である。
【0034】なお、数種類の有機色素を組み合わせても
よく、また耐食性の向上などの目的によりクエンチャ
ー、赤外線吸収剤を添加することが可能で、添加剤とし
てはアミニウムやイモジウムなどを用いることができ
る。
よく、また耐食性の向上などの目的によりクエンチャ
ー、赤外線吸収剤を添加することが可能で、添加剤とし
てはアミニウムやイモジウムなどを用いることができ
る。
【0035】この記録層2の上に、Au、Ag、Alな
どの金属もしくはAu、Ag、Alなどを含有する合金
をスパッタリングや蒸着により成膜した反射層3を形成
した。この反射層3の上に、アクリル系の紫外線硬化樹
脂の保護層を積層して追記型光ディスクを作成した。
どの金属もしくはAu、Ag、Alなどを含有する合金
をスパッタリングや蒸着により成膜した反射層3を形成
した。この反射層3の上に、アクリル系の紫外線硬化樹
脂の保護層を積層して追記型光ディスクを作成した。
【0036】次に具体的な実施例について説明する。 (例1)透明基板を複製するためにガラス原盤を用い、
このガラス原盤は原盤露光装置を使用して次のようにし
て作成した。まず研磨したガラス基板9を用意し、その
上に屈折率1.65のクレゾールノボラック樹脂とナフ
トキノンジアジドの感光剤からなるフォトレジスト8を
0.13μmの膜厚になるように塗布した。
このガラス原盤は原盤露光装置を使用して次のようにし
て作成した。まず研磨したガラス基板9を用意し、その
上に屈折率1.65のクレゾールノボラック樹脂とナフ
トキノンジアジドの感光剤からなるフォトレジスト8を
0.13μmの膜厚になるように塗布した。
【0037】次に図2に示すように、このガラス基板9
をターンテーブル上で回転させながらフォトレジスト8
上に露光ビーム10を図4に示すθ0の角度を付けて内
周から外周へと照射した。最内周から最外周までθ0=
60°に固定し、トラックピッチ(TP)1.6μmの
断面形状が台形の連続溝となるように露光した。
をターンテーブル上で回転させながらフォトレジスト8
上に露光ビーム10を図4に示すθ0の角度を付けて内
周から外周へと照射した。最内周から最外周までθ0=
60°に固定し、トラックピッチ(TP)1.6μmの
断面形状が台形の連続溝となるように露光した。
【0038】この露光後のガラス基板9を回転させなが
ら、アルカリ性現像液を用いて露光したフォトレジスト
8の上に塗布して現像し、フォトレジスト8にグルーブ
に相当する連続溝を形成する。このガラス基板9の表面
にニッケルメッキを施してスタンパを作成し、このスタ
ンパを用いて射出成形によりポリカーボネート樹脂の透
明基板1を作成した。
ら、アルカリ性現像液を用いて露光したフォトレジスト
8の上に塗布して現像し、フォトレジスト8にグルーブ
に相当する連続溝を形成する。このガラス基板9の表面
にニッケルメッキを施してスタンパを作成し、このスタ
ンパを用いて射出成形によりポリカーボネート樹脂の透
明基板1を作成した。
【0039】この透明基板1のグルーブ4におけるディ
スク内周側の側面4aの平均テーパ角θ1とディスク外
周側の側面4bの平均テーパ角θ2を測定し、その結果
を図4に示した。
スク内周側の側面4aの平均テーパ角θ1とディスク外
周側の側面4bの平均テーパ角θ2を測定し、その結果
を図4に示した。
【0040】本発明における平均テーパ角θ1,θ2
は、作成した透明基板を切断し、そのグルーブの切断面
のテーパ角を原子間力顕微鏡(AFM)を用いてそれぞ
れランダムに10個所測定し、その平均値を算出して平
均テーパ角θ1,θ2とした。また図4中のゾーン1〜
4は、図3に示すように透明基板1を内周側から外周側
にかけてほぼ等間隔に4つのゾーンに分けて、内周側か
ら外周側に向かってゾーン1を符号12、ゾーン2を符
号13、ゾーン3を符号14、ゾーン4を符号15とし
て表している。
は、作成した透明基板を切断し、そのグルーブの切断面
のテーパ角を原子間力顕微鏡(AFM)を用いてそれぞ
れランダムに10個所測定し、その平均値を算出して平
均テーパ角θ1,θ2とした。また図4中のゾーン1〜
4は、図3に示すように透明基板1を内周側から外周側
にかけてほぼ等間隔に4つのゾーンに分けて、内周側か
ら外周側に向かってゾーン1を符号12、ゾーン2を符
号13、ゾーン3を符号14、ゾーン4を符号15とし
て表している。
【0041】この図4の結果から明らかなように、最内
周から最外周までθ0=60°を固定することにより、
各ゾーン1〜4とも平均テーパ角θ1は74°、平均テ
ーパ角θ2は67°で、テーパ角θ1の方がテーパ角θ
2よりも大きく、また図5から明らかなように各ゾーン
1〜4ともθ2/θ1の値は0.9となり、0.3≦θ
2/θ1<1の範囲内にある。
周から最外周までθ0=60°を固定することにより、
各ゾーン1〜4とも平均テーパ角θ1は74°、平均テ
ーパ角θ2は67°で、テーパ角θ1の方がテーパ角θ
2よりも大きく、また図5から明らかなように各ゾーン
1〜4ともθ2/θ1の値は0.9となり、0.3≦θ
2/θ1<1の範囲内にある。
【0042】この透明基板1のプリピットパターン上
に、次の構造式〔化3〕を有するインドール系シアニン
色素と、アミニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法
により厚さ160μmの記録層2を形成した。
に、次の構造式〔化3〕を有するインドール系シアニン
色素と、アミニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法
により厚さ160μmの記録層2を形成した。
【0043】
【化3】 この記録層の上に金からなる厚さ100nmの光反射層
3を形成し、さらにこの記録層2および光反射層3をオ
ーバーコートするように、アクリル系の紫外線硬化樹脂
からなる厚さ10μmの保護層を積層して追記型光ディ
スクを作成した。
3を形成し、さらにこの記録層2および光反射層3をオ
ーバーコートするように、アクリル系の紫外線硬化樹脂
からなる厚さ10μmの保護層を積層して追記型光ディ
スクを作成した。
【0044】この光ディスクに対して、波長λ=780
μmのレーザービームを用い、NA=0.50の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率は図6に示す例
3(後述)とほぼ同様であるので図示は省略した。図8
(b)は、この例による光ディスクのトラッキング信号
の波形図である。
μmのレーザービームを用い、NA=0.50の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率は図6に示す例
3(後述)とほぼ同様であるので図示は省略した。図8
(b)は、この例による光ディスクのトラッキング信号
の波形図である。
【0045】(例2)トラックピッチ0.8μmとし、
θ0=60°に固定して例1と同様にスタンパを作成
し、そのスタンパを用いて射出成形によりポリカーボネ
ート樹脂製の透明基板を作成した。
θ0=60°に固定して例1と同様にスタンパを作成
し、そのスタンパを用いて射出成形によりポリカーボネ
ート樹脂製の透明基板を作成した。
【0046】最内周から最外周までθ0=60°で露光
することにより、図4から明らかなように、各ゾーン1
〜4とも平均テーパ角θ1は74°、平均テーパ角θ2
は67°で、テーパ角θ1の方がテーパ角θ2よりも大
きく、また図5から明らかなように各ゾーン1〜4とも
θ2/θ1の値は0.9となり、0.3≦θ2/θ1<
1の範囲内にある。
することにより、図4から明らかなように、各ゾーン1
〜4とも平均テーパ角θ1は74°、平均テーパ角θ2
は67°で、テーパ角θ1の方がテーパ角θ2よりも大
きく、また図5から明らかなように各ゾーン1〜4とも
θ2/θ1の値は0.9となり、0.3≦θ2/θ1<
1の範囲内にある。
【0047】この透明基板1のプリピットパターン上
に、次の構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
に、次の構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
【0048】
【化4】 この記録層の上に金からなる厚さ100nmの光反射層
3を形成し、さらにこの記録層2および光反射層3をオ
ーバーコートするように、アクリル系の紫外線硬化樹脂
からなる厚さ10μmの保護層を積層して追記型光ディ
スクを作成した。
3を形成し、さらにこの記録層2および光反射層3をオ
ーバーコートするように、アクリル系の紫外線硬化樹脂
からなる厚さ10μmの保護層を積層して追記型光ディ
スクを作成した。
【0049】この光ディスクに対して、波長λ=780
μmのレーザービームを用い、NA=0.50の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
を図6に示す。
μmのレーザービームを用い、NA=0.50の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
を図6に示す。
【0050】(例3)トラックピッチ0.8μmとし、
図3に示すようにゾーン1(符号12)とゾーン2(符
号13)はθ0=60°とし、ゾーン3(符号14)と
ゾーン4(符号15)はθ0=70°として例1と同様
にスタンパを作成し、そのスタンパを用いて射出成形に
よりポリカーボネート樹脂製の透明基板を作成した。
図3に示すようにゾーン1(符号12)とゾーン2(符
号13)はθ0=60°とし、ゾーン3(符号14)と
ゾーン4(符号15)はθ0=70°として例1と同様
にスタンパを作成し、そのスタンパを用いて射出成形に
よりポリカーボネート樹脂製の透明基板を作成した。
【0051】この透明基板の各ゾーンのにおけるθ1と
θ2を測定すると図4のように、ゾーン1,2の平均テ
ーパ角θ1は74°、平均テーパ角θ2は67°であ
り、ゾーン3,4の平均テーパ角θ1は81°、平均テ
ーパ角θ2は65°であり、各ゾーンともテーパ角θ1
の方がテーパ角θ2よりも大きい。
θ2を測定すると図4のように、ゾーン1,2の平均テ
ーパ角θ1は74°、平均テーパ角θ2は67°であ
り、ゾーン3,4の平均テーパ角θ1は81°、平均テ
ーパ角θ2は65°であり、各ゾーンともテーパ角θ1
の方がテーパ角θ2よりも大きい。
【0052】また図5から明らかなようにゾーン1,2
のθ2/θ1の値は0.9、ゾーン3,4のθ2/θ1
の値は0.8で、各ゾーンともθ2/θ1の値は0.3
≦θ2/θ1<1の範囲内にあるが、ディスクの外側領
域に相当するゾーン3,4のθ2/θ1値が、内側領域
に相当するゾーン1,2のθ2/θ1値よりも段階的に
小さくなっている。
のθ2/θ1の値は0.9、ゾーン3,4のθ2/θ1
の値は0.8で、各ゾーンともθ2/θ1の値は0.3
≦θ2/θ1<1の範囲内にあるが、ディスクの外側領
域に相当するゾーン3,4のθ2/θ1値が、内側領域
に相当するゾーン1,2のθ2/θ1値よりも段階的に
小さくなっている。
【0053】この透明基板1のプリピットパターン上
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
【0054】この記録層の上に金からなる厚さ100n
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
【0055】この光ディスクに対して、波長λ=635
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
を図6に示す。
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
を図6に示す。
【0056】(例4)トラックピッチ0.74μmと
し、各ゾーン1〜4ともθ0=60°に固定して例1と
同様にスタンパを作成し、そのスタンパを用いて射出成
形によりポリカーボネート樹脂製の透明基板を作成し
た。
し、各ゾーン1〜4ともθ0=60°に固定して例1と
同様にスタンパを作成し、そのスタンパを用いて射出成
形によりポリカーボネート樹脂製の透明基板を作成し
た。
【0057】この透明基板の各ゾーンのにおけるθ1と
θ2を測定すると図4のように、各ゾーンとも平均テー
パ角θ1は74°、平均テーパ角θ2は67°であり、
また図5から明らかなように各ゾーンともθ2/θ1の
値は0.9であった。
θ2を測定すると図4のように、各ゾーンとも平均テー
パ角θ1は74°、平均テーパ角θ2は67°であり、
また図5から明らかなように各ゾーンともθ2/θ1の
値は0.9であった。
【0058】この透明基板1のプリピットパターン上
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
【0059】この記録層の上に金からなる厚さ100n
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
【0060】この光ディスクに対して、波長λ=635
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
を図6に示す。
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
を図6に示す。
【0061】(例5)トラックピッチ0.74μmと
し、図3に示すようにゾーン1(符号12)とゾーン2
(符号13)はθ0=60°とし、ゾーン3(符号1
4)とゾーン4(符号15)はθ0=70°として例1
と同様にスタンパを作成し、そのスタンパを用いて射出
成形によりポリカーボネート樹脂製の透明基板を作成し
た。
し、図3に示すようにゾーン1(符号12)とゾーン2
(符号13)はθ0=60°とし、ゾーン3(符号1
4)とゾーン4(符号15)はθ0=70°として例1
と同様にスタンパを作成し、そのスタンパを用いて射出
成形によりポリカーボネート樹脂製の透明基板を作成し
た。
【0062】この透明基板の各ゾーンのにおけるθ1と
θ2を測定すると図4のように、ゾーン1,2の平均テ
ーパ角θ1は74°、平均テーパ角θ2は67°であ
り、ゾーン3,4の平均テーパ角θ1は81°、平均テ
ーパ角θ2は65°であり、各ゾーンともテーパ角θ1
の方がテーパ角θ2よりも大きい。
θ2を測定すると図4のように、ゾーン1,2の平均テ
ーパ角θ1は74°、平均テーパ角θ2は67°であ
り、ゾーン3,4の平均テーパ角θ1は81°、平均テ
ーパ角θ2は65°であり、各ゾーンともテーパ角θ1
の方がテーパ角θ2よりも大きい。
【0063】また図5から明らかなようにゾーン1,2
のθ2/θ1の値は0.9、ゾーン3,4のθ2/θ1
の値は0.8で、各ゾーンともθ2/θ1の値は0.3
≦θ2/θ1<1の範囲内にあるが、ディスクの外側領
域に相当するゾーン3,4のθ2/θ1値が、内側領域
に相当するゾーン1,2のθ2/θ1値よりも段階的に
小さくなっている。
のθ2/θ1の値は0.9、ゾーン3,4のθ2/θ1
の値は0.8で、各ゾーンともθ2/θ1の値は0.3
≦θ2/θ1<1の範囲内にあるが、ディスクの外側領
域に相当するゾーン3,4のθ2/θ1値が、内側領域
に相当するゾーン1,2のθ2/θ1値よりも段階的に
小さくなっている。
【0064】この透明基板1のプリピットパターン上
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
【0065】この記録層の上に金からなる厚さ100n
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
【0066】この光ディスクに対して、波長λ=635
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
は図6に示す例6(後述)とほぼ同様であるので、図示
を省略した。
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
は図6に示す例6(後述)とほぼ同様であるので、図示
を省略した。
【0067】(例6)トラックピッチ0.74μmと
し、ゾーン1はθ0=60°、ゾーン2はθ0=65
°、ゾーン3はθ0=70°、ゾーン4はθ0=75°
として例1と同様にスタンパを作成し、そのスタンパを
用いて射出成形によりポリカーボネート樹脂製の透明基
板を作成した。
し、ゾーン1はθ0=60°、ゾーン2はθ0=65
°、ゾーン3はθ0=70°、ゾーン4はθ0=75°
として例1と同様にスタンパを作成し、そのスタンパを
用いて射出成形によりポリカーボネート樹脂製の透明基
板を作成した。
【0068】この透明基板の各ゾーンのにおけるθ1と
θ2を測定すると図4のように、ゾーン1のθ1=74
°でθ2=67°、ゾーン2のθ1=78°でθ2=6
6°、ゾーン3のθ1=81°で角θ2=65°、ゾー
ン4のθ1=83°でθ2=62°となっており、各ゾ
ーンともテーパ角θ1の方がテーパ角θ2よりも大き
い。
θ2を測定すると図4のように、ゾーン1のθ1=74
°でθ2=67°、ゾーン2のθ1=78°でθ2=6
6°、ゾーン3のθ1=81°で角θ2=65°、ゾー
ン4のθ1=83°でθ2=62°となっており、各ゾ
ーンともテーパ角θ1の方がテーパ角θ2よりも大き
い。
【0069】また図5から明らかなようにθ2/θ1値
はゾーン1で0.9、ゾーン2で0.85、ゾーン3で
0.8、ゾーン4で0.75となっており、各ゾーンと
もθ2/θ1値は0.3≦θ2/θ1<1の範囲内にあ
るが、ディスクの内側領域から外側領域にいくに従って
θ2/θ1値が徐々に小さくなっている。
はゾーン1で0.9、ゾーン2で0.85、ゾーン3で
0.8、ゾーン4で0.75となっており、各ゾーンと
もθ2/θ1値は0.3≦θ2/θ1<1の範囲内にあ
るが、ディスクの内側領域から外側領域にいくに従って
θ2/θ1値が徐々に小さくなっている。
【0070】この透明基板1のプリピットパターン上
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
に、前記構造式〔化4〕を有するシアニン色素と、アミ
ニウム塩を溶媒に溶かし、スピンコート法により厚さ1
60μmの記録層2を形成した。
【0071】この記録層の上に金からなる厚さ100n
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
mの光反射層3を形成し、さらにこの記録層2および光
反射層3をオーバーコートするように、アクリル系の紫
外線硬化樹脂からなる厚さ10μmの保護層を積層して
追記型光ディスクを作成した。
【0072】この光ディスクに対して、波長λ=635
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
は図6に示す。
μmのレーザービームを用い、NA=0.60の光学レ
ンズを使用して、再生パワー0.1mW、線速1.2m
/sで再生を行なった。そのときのPush−Pull
(b)中心のGNDからのオフセット率を測定した結果
は図6に示す。
【0073】前記実施例では透明基板上をゾーン1〜4
に分割し、各ゾーンの径方向の長さをほぼ同じにした
が、本発明はこれに限定されるものではなく、ゾーンの
分割数も各ゾーンの径方向の長さも、必要に応じて適宜
変更できる。
に分割し、各ゾーンの径方向の長さをほぼ同じにした
が、本発明はこれに限定されるものではなく、ゾーンの
分割数も各ゾーンの径方向の長さも、必要に応じて適宜
変更できる。
【0074】
【発明の効果】図5の右側に各トラックピッチ(TP)
でのオフセット特性の評価を示している。同図に示すよ
うに例1の如くTPが1.6μmと比較的大きい場合
は、各ゾーンのθ2/θ1値がディスクの全領域におい
て同じであってもオフセット率は低いため、評価は最良
の◎である。例2,3の如くTPが0.8μmとやや狭
くなると、例2よりも例3のようにθ2/θ1値をディ
スク内周側領域よりも外周側領域の方を小さくした方が
オフセット率は低くなり、評価は最良の◎である。さら
にTPが0.74μmと狭小化すると、例4よりも例5
または例6のようにθ2/θ1値をディスク内周側領域
よりも外周側領域の方を段階的にあるいは徐々に小さく
した方がオフセット率は低く、評価は最良の◎である。
でのオフセット特性の評価を示している。同図に示すよ
うに例1の如くTPが1.6μmと比較的大きい場合
は、各ゾーンのθ2/θ1値がディスクの全領域におい
て同じであってもオフセット率は低いため、評価は最良
の◎である。例2,3の如くTPが0.8μmとやや狭
くなると、例2よりも例3のようにθ2/θ1値をディ
スク内周側領域よりも外周側領域の方を小さくした方が
オフセット率は低くなり、評価は最良の◎である。さら
にTPが0.74μmと狭小化すると、例4よりも例5
または例6のようにθ2/θ1値をディスク内周側領域
よりも外周側領域の方を段階的にあるいは徐々に小さく
した方がオフセット率は低く、評価は最良の◎である。
【0075】本発明は前述のように、表面にグルーブと
ランドを交互に同心円状または螺旋状に形成したプリフ
ォーマットを有する透明基板の前記プリフォーマット上
にスピンコートにより記録層を形成する光ディスクにお
いて、前記グルーブを透明基板の径方向に沿って断面し
たときにグルーブの溝の両側面が、透明基板のランドと
平行な仮想面に対してそれぞれ傾斜しており、その溝に
おける内周側の側面の前記仮想面に対する平均テーパ角
θ1が、その溝における外周側の側面の前記仮想面に対
する平均テーパ角θ2よりも大きい(θ1>θ2)こと
を特徴とするものである。
ランドを交互に同心円状または螺旋状に形成したプリフ
ォーマットを有する透明基板の前記プリフォーマット上
にスピンコートにより記録層を形成する光ディスクにお
いて、前記グルーブを透明基板の径方向に沿って断面し
たときにグルーブの溝の両側面が、透明基板のランドと
平行な仮想面に対してそれぞれ傾斜しており、その溝に
おける内周側の側面の前記仮想面に対する平均テーパ角
θ1が、その溝における外周側の側面の前記仮想面に対
する平均テーパ角θ2よりも大きい(θ1>θ2)こと
を特徴とするものである。
【0076】このような構成にすることにより、記録層
の窪み(凹み)の中心とグルーブの中心のずれ量を小さ
くまたは零にすることができ、すなわちトラッキングの
中心と記録ピットの中心のずれ量が抑制され、記録後の
コントラスト比を十分確保し、特性低下を防止すること
ができ、特に高密度記録に好適な光ディスクを提供する
ことができる。
の窪み(凹み)の中心とグルーブの中心のずれ量を小さ
くまたは零にすることができ、すなわちトラッキングの
中心と記録ピットの中心のずれ量が抑制され、記録後の
コントラスト比を十分確保し、特性低下を防止すること
ができ、特に高密度記録に好適な光ディスクを提供する
ことができる。
【図1】本発明の実施形態に係る光ディスクの一部拡大
断面図である。
断面図である。
【図2】ガラス基板に対する露光ビームの入射角、露光
強度、グルーブ溝側面の傾斜角との関係を示す説明図で
ある。
強度、グルーブ溝側面の傾斜角との関係を示す説明図で
ある。
【図3】透明基板上におけるゾーン1〜4を示す説明図
である。
である。
【図4】本発明の各例における透明基板上の各ゾーンの
θ0,θ1,θ2とトラックピッチ(TP)を示した図
である。
θ0,θ1,θ2とトラックピッチ(TP)を示した図
である。
【図5】本発明の各例における各ゾーンのθ2/θ1
値、トラックピッチ(TP)、評価結果を示した図であ
る。
値、トラックピッチ(TP)、評価結果を示した図であ
る。
【図6】本発明の各例におけるオフセット率を示す特性
図である。
図である。
【図7】従来の光ディスクの一部拡大断面図である。
【図8】本発明の実施例と従来例のそれぞれのPush
−Pull(b)中心のGNDからのオフセット率を説
明するためのトラッキング信号の波形図である。
−Pull(b)中心のGNDからのオフセット率を説
明するためのトラッキング信号の波形図である。
1 透明基板 2 記録層 3 反射層 4 グルーブ 4a グルーブのディスク内周側の側面 4b グルーブのディスク外周側の側面 5 ランド 6 窪み(凹み) 7 記録ピット 8 フォトレジスト層 9 ガラス基板 10 露光ビーム 11 対物レンズ 12 ゾーン1 13 ゾーン2 14 ゾーン3 15 ゾーン4 X ランドと平行な仮想面層 θ1 グルーブのディスク内周側の側面の仮想面に対す
る平均テーパ角 θ2 グルーブのディスク外周側の側面の仮想面に対す
る平均テーパ角
る平均テーパ角 θ2 グルーブのディスク外周側の側面の仮想面に対す
る平均テーパ角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 陽太 大阪府茨木市丑寅一丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 大塚 隆裕 大阪府茨木市丑寅一丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 大塚 幸一 大阪府茨木市丑寅一丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 Fターム(参考) 5D029 JA04 WB03 WD10 WD11 WD19
Claims (9)
- 【請求項1】 表面にグルーブとランドを交互に同心円
状または螺旋状に形成したプリフォーマットを有する透
明基板の前記プリフォーマット上にスピンコートにより
記録層を形成する光ディスクにおいて、 前記グルーブを透明基板の径方向に沿って断面したとき
にグルーブの溝の両側面が、透明基板のランドと平行な
仮想面に対してそれぞれ傾斜しており、その溝における
内周側の側面の前記仮想面に対する平均テーパ角θ1
が、その溝における外周側の側面の前記仮想面に対する
平均テーパ角θ2よりも大きい(θ1>θ2)ことを特
徴とする光ディスク。 - 【請求項2】 請求項1記載の光ディスクにおいて、前
記θ1に対するθ2の比率であるθ2/θ1の値が、
0.3≦θ2/θ1<1の範囲内にあることを特徴とす
る光ディスク。 - 【請求項3】 請求項1記載の光ディスクにおいて、前
記θ1に対するθ2の比率であるθ2/θ1の値が、
0.75≦θ2/θ1≦0.9の範囲内にあることを特
徴とする光ディスク。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか記載の光デ
ィスクにおいて、前記ディスクの内側領域から外側領域
にいくに従ってθ2/θ1の値が徐々に小さくなってい
ることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項5】 請求項1ないし3のいずれか記載の光デ
ィスクにおいて、前記ディスクの内側領域から外側領域
にかけて複数のゾーンに分かれており、最外周側ゾーン
の前記θ2/θ1の値が最内周側ゾーンの前記θ2/θ
1の値よりも小さいことを特徴とする光ディスク。 - 【請求項6】 請求項1ないし3のいずれか記載の光デ
ィスクにおいて、前記ディスクの内側領域から外側領域
にかけて複数のゾーンに分かれており、前記θ2/θ1
の値が内周側ゾーンから外周側ゾーンにかけて段階的に
小さくなっていることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項7】 請求項1ないし6のいずれか記載の光デ
ィスクにおいて、トラックピッチが0.8μm以下であ
ることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項8】 請求項1ないし6のいずれか記載の光デ
ィスクにおいて、トラックピッチが0.74μm以下で
あることを特徴とする光ディスク。 - 【請求項9】 請求項1ないし8のいずれか記載の光デ
ィスクにおいて、前記記録層が有機色素を含有している
ことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11374208A JP2000322774A (ja) | 1999-03-09 | 1999-12-28 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6228199 | 1999-03-09 | ||
JP11-62281 | 1999-03-09 | ||
JP11374208A JP2000322774A (ja) | 1999-03-09 | 1999-12-28 | 光ディスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000322774A true JP2000322774A (ja) | 2000-11-24 |
Family
ID=26403349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11374208A Withdrawn JP2000322774A (ja) | 1999-03-09 | 1999-12-28 | 光ディスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000322774A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005006313A2 (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-20 | Tdk Corporation | Optical recording medium, process for the production thereof, master stamper for optical recording medium and process for the production thereof |
WO2005015555A1 (ja) * | 2003-08-07 | 2005-02-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 光学情報記録媒体及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-12-28 JP JP11374208A patent/JP2000322774A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005006313A2 (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-20 | Tdk Corporation | Optical recording medium, process for the production thereof, master stamper for optical recording medium and process for the production thereof |
WO2005006313A3 (en) * | 2003-07-10 | 2005-05-19 | Tdk Corp | Optical recording medium, process for the production thereof, master stamper for optical recording medium and process for the production thereof |
WO2005015555A1 (ja) * | 2003-08-07 | 2005-02-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 光学情報記録媒体及びその製造方法 |
US7540006B2 (en) | 2003-08-07 | 2009-05-26 | Panasonic Corporation | Optical information recording medium and manufacture method thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20060104194A1 (en) | Optical information-recording medium | |
US6982944B2 (en) | Optical recording medium having relation between groove depths and pit depths | |
US6504815B1 (en) | Optical information medium, stamper for manufacturing transparent substrate therefor and recording method therefor | |
JP3209948B2 (ja) | 光情報記録媒体及びその原盤露光方法 | |
KR100611863B1 (ko) | 광 정보 매체 | |
US6721265B1 (en) | High-density optical information recording medium and a substrate and a stamper for the manufacture thereof | |
JP2000322774A (ja) | 光ディスク | |
JP2000322773A (ja) | 光ディスク | |
KR100785708B1 (ko) | 광정보기록매체 | |
JP2002050082A (ja) | 光記録媒体 | |
JP4092723B2 (ja) | 光情報記録媒体のスタンパー作成方法 | |
JP2002237100A (ja) | 光記録媒体 | |
JP4396230B2 (ja) | 光学記録方法、光記録媒体製造用原盤および光記録媒体 | |
JP2003006943A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法及び光ディスク原盤 | |
JP2530255B2 (ja) | 光学的情報記録媒体の製造方法 | |
JPH1011801A (ja) | 光ディスク基板 | |
JP4201571B2 (ja) | 光記録媒体の再生方法、光記録媒体及び光記録媒体の記録再生装置 | |
JP2001319379A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH07334868A (ja) | 情報記憶媒体 | |
JP2000222780A (ja) | 情報記録媒体用基板及び情報記録媒体 | |
JP2000251327A (ja) | 光情報記録媒体 | |
JP2005032384A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法、並びに、光記録媒体用原盤及びその製造方法 | |
JP2001325727A (ja) | 追記型光記録媒体の光学的情報記録再生方法 | |
JP2004355751A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2000348386A (ja) | 光記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20070306 |