JP2000315060A - Electro-optic device and electronic appliance - Google Patents
Electro-optic device and electronic applianceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は電気光学装置及び電
子機器の技術分野に属し、特に信頼性、表示品質の高い
液晶装置などの電気光学装置及び電子機器の技術分野に
属する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of electro-optical devices and electronic apparatuses, and particularly to the technical field of electro-optical apparatuses and electronic apparatuses such as liquid crystal devices having high reliability and display quality.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、液晶装置などの電気光学装置で
は、マトリクスアレイ状に配設された画素により表示領
域が形成されている。例えば薄膜トランジスタ（以下、
ＴＦＴという。）をスイッチング素子として有するアク
ティブマトリクス型の液晶装置の場合、ＴＦＴアレイ基
板と対向基板との間に液晶層などの電気光学物質が挟持
されており、基板間隙の表示領域を囲繞するようにシー
ル材が設けられている。このシール材により液晶層は封
止されるとともに、ＴＦＴアレイ基板と対向基板とが接
合される。例えば配向膜が形成されたＴＦＴアレイ基板
と同じく配向膜が形成された対向基板とをシール材を介
して対向配置し、液晶封入孔（予めシール材を形成して
いない部分）からＴＦＴアレイ基板と対向基板との間隙
に液晶組成物などの電気光学物質を注入し、封入口を封
止することにより液晶層は基板間隙に封止される。2. Description of the Related Art Generally, in an electro-optical device such as a liquid crystal device, a display area is formed by pixels arranged in a matrix array. For example, a thin film transistor (hereinafter, referred to as a thin film transistor)
It is called TFT. ) As a switching element, an electro-optical material such as a liquid crystal layer is sandwiched between a TFT array substrate and a counter substrate, and a sealing material is formed so as to surround a display region of a substrate gap. Is provided. The liquid crystal layer is sealed by this sealing material, and the TFT array substrate and the opposing substrate are joined. For example, a TFT array substrate on which an alignment film is formed and a counter substrate on which an alignment film is formed are disposed to face each other with a sealant interposed therebetween. The liquid crystal layer is sealed in the gap between the substrates by injecting an electro-optical material such as a liquid crystal composition into the gap between the opposing substrate and sealing the sealing opening.
【０００３】また、ＴＦＴアレイ基板上のシール材より
外側の領域には、駆動回路や駆動回路接続端子等が設け
られている。更に、ＴＦＴアレイ基板の表面及び対向基
板の表面には、それぞれ液晶分子を保持するための、ラ
ビング処理等の所定の配向処理が施されたポリイミド薄
膜などの有機薄膜からなる配向膜が設けられている。Ｔ
ＦＴアレイ基板には、表示領域にＴＦＴや画素電極、各
種配線が形成され、その外側の領域に駆動回路や駆動回
路接続端子等が形成されている。Further, a drive circuit, a drive circuit connection terminal, and the like are provided in a region outside the sealant on the TFT array substrate. Further, an alignment film made of an organic thin film such as a polyimide thin film that has been subjected to a predetermined alignment process such as a rubbing process is provided on the surface of the TFT array substrate and the surface of the counter substrate, respectively, for holding liquid crystal molecules. I have. T
On the FT array substrate, TFTs, pixel electrodes, and various wirings are formed in a display region, and a drive circuit, a drive circuit connection terminal, and the like are formed in a region outside the TFT and the pixel electrode.
【０００４】さらに入射光の集光効率を向上するため、
一対の基板の一方の基板には、１画素毎に対応するよう
にマイクロレンズが１個、あるいは複数個配置されたマ
イクロレンズアレイを使用する場合がある。なお、光入
射側基板は、レンズの凹凸が液晶の配向に影響を及ぼす
為、液晶層側に平面基板をマイクロレンズアレイ基板に
接合、一体化されるのが一般的である。In order to further improve the efficiency of collecting incident light,
One of the pair of substrates may use a microlens array in which one or a plurality of microlenses are arranged corresponding to each pixel. In the light incident side substrate, a flat substrate is generally joined to and integrated with the microlens array substrate on the liquid crystal layer side because the unevenness of the lens affects the orientation of the liquid crystal.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成の電気光学装置では、投射型表示装置のライト
バルブとして用いた場合、昨今の光源ランプの高輝度化
に伴い、長時間使用していると、領域の外周に近い部分
に境界線状のムラが発生する場合がある、という課題が
ある。発明者の考察では、マイクロレンズアレイ基板と
平面基板を接合、一体化している接着樹脂層の変質が集
光率を良好とするために薄板化された平面基板まで作用
することによる。接着樹脂層は、レンズの集光率を良好
とする為、光学特性の屈折率は約１．４以下で調整され
る。当然、接着樹脂層はπ電子共役系を抑えて設計する
ため、二重結合の少ない直鎖系主体の材料となる。接着
樹脂層として光硬化性材料を用いた場合、光照射により
光重合が進みにくいため、完全に重合反応を終了させる
ことが難しく、使用時に該接着層に光が照射されること
によって経時的に重合反応がさらに進行し、これに起因
して接着層に体積変化、密度変化が生じ、そしてこのこ
とが基板に応力変形を生じさせ、表示領域の外周に近い
部分に境界線が生じている。However, when the electro-optical device having such a configuration is used as a light valve of a projection display device, it has been used for a long time due to the recent increase in luminance of a light source lamp. Thus, there is a problem that boundary line-shaped unevenness may occur in a portion near the outer periphery of the region. According to the inventor's consideration, the deterioration of the adhesive resin layer that joins and integrates the microlens array substrate and the flat substrate acts on the thinned flat substrate to improve the light collection rate. The refractive index of the optical characteristics of the adhesive resin layer is adjusted to about 1.4 or less in order to improve the light-collecting rate of the lens. Naturally, since the adhesive resin layer is designed while suppressing the π-electron conjugated system, it is a straight-chain-based material with few double bonds. When a photocurable material is used as the adhesive resin layer, it is difficult to completely terminate the polymerization reaction because photopolymerization does not easily proceed by light irradiation. The polymerization reaction further proceeds, which causes a change in volume and a change in density in the adhesive layer, and this causes stress deformation in the substrate, and a boundary line is formed near the outer periphery of the display area.
【０００６】本発明は上述した問題点に鑑みなされたも
のであり、表示領域の外周に近い部分に生じた境界線に
よって表示品質が劣化することを防止することができる
電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とす
る。An object of the present invention is to provide an electro-optical device and an electronic apparatus which can prevent display quality from being degraded by a boundary line formed near a periphery of a display area. The task is to provide.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の電気光学装置は、互いに対向する一対の基
板間のシール材により囲まれる領域に電気光学材料を有
し、前記一対の基板の一方の基板に配置されたマイクロ
レンズアレイは平面基板と接合材料により一体化された
電気光学装置であって、前記シール材の内側部から該シ
ール材により囲まれる領域の内側にある有効表示領域ま
での距離をＬ１とし、前記シール材により囲まれる領域
の幅をＬ２としたとき、Ｌ１／Ｌ２≧０．１であること
を特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, an electro-optical device according to the present invention has an electro-optical material in a region surrounded by a seal material between a pair of substrates facing each other. The microlens array disposed on one of the substrates is an electro-optical device integrated with a flat substrate and a bonding material, and an effective display area is provided from an inner portion of the sealing material to an inner portion of a region surrounded by the sealing material. Where L 1 / L 2 ≧ 0.1, where L 1 is the distance to the substrate and L 2 is the width of the region surrounded by the sealing material.
【０００８】本発明のかかる構成によれば、シール材の
内側部から該シール材により囲まれる領域の内側にある
有効表示領域までの距離をＬ１とし、シール材により囲
まれる領域の幅をＬ２としたとき、Ｌ１／Ｌ２≧０．１
であるので、表示領域の外周に近い部分に生じた境界線
を有効表示領域より外側に、即ちシール材の内側部から
該シール材により囲まれる領域の内側にある有効表示領
域までの間に位置させることができる。これにより、境
界線状のムラが発生した場合でも表示されることはなく
なり、表示品質の劣化を防止することができる。しいて
は製品寿命を向上することが可能となる。なお、本発明
ではＬ１／Ｌ２≧０．１５であることがより好ましく、
これにより境界線が表示されることは皆無となる。According to the configuration of the invention, the distance from the inner portion of the sealing member to the effective display region inside the region surrounded by the sealing material and L 1, the width of the region surrounded by the sealing material L when a 2, L 1 / L 2 ≧ 0.1
Therefore, the boundary line generated near the outer periphery of the display area is located outside the effective display area, that is, between the inner part of the seal material and the effective display area inside the area surrounded by the seal material. Can be done. Thereby, even when boundary line-shaped unevenness occurs, the image is not displayed, and deterioration of display quality can be prevented. As a result, the product life can be improved. In the present invention, L 1 / L 2 ≧ 0.15 is more preferable,
As a result, no boundary line is displayed.
【０００９】本発明の一の態様は、前記シール材の内側
部から該シール材により囲まれる領域の内側にある有効
表示領域までの領域に駆動回路や配線パターンが形成さ
れていることを特徴とする。One aspect of the present invention is characterized in that a drive circuit and a wiring pattern are formed in a region from an inner portion of the seal material to an effective display area inside a region surrounded by the seal material. I do.
【００１０】本発明では、Ｌ１／Ｌ２≧０．１としてい
るので、有効表示領域が狭くなるが、有効表示領域以外
の領域（シール材の内側部から該シール材により囲まれ
る領域の内側にある有効表示領域までの領域）に駆動回
路や配線パターンを形成することにより、基板上のシー
ル材より外側の駆動回路や配線パターンが形成されてい
た領域が不要となり、シール材により囲まれる領域を拡
張可能となり、有効表示領域は実質的に狭くなることは
ない。In the present invention, since L 1 / L 2 ≧ 0.1, the effective display area is reduced. However, the area other than the effective display area (from the inside of the sealing material to the inside of the area surrounded by the sealing material) (The area up to the effective display area in FIG. 1), the drive circuit and the wiring pattern outside the seal material on the substrate become unnecessary, and the area surrounded by the seal material becomes unnecessary. Can be expanded, and the effective display area is not substantially reduced.
【００１１】本発明の一の態様は、前記接合材料が光硬
化性樹脂であることを特徴とする。One embodiment of the present invention is characterized in that the bonding material is a photocurable resin.
【００１２】また、本発明の一の態様は、前記接合材料
の屈折率が１．４以下であることを特徴とする。In one aspect of the present invention, the bonding material has a refractive index of 1.4 or less.
【００１３】さらに、本発明の一の態様は、前記平面基
板の板厚が４０μm〜１００μｍであることを特徴とす
るかかる構成では、特に上記の境界線が発生しやすいの
で、本発明を適用することがより効果的である。Further, in one aspect of the present invention, the above-mentioned configuration characterized in that the plate thickness of the flat substrate is 40 μm to 100 μm, the above boundary line is particularly likely to occur, so the present invention is applied. Is more effective.
【００１４】本発明の電子機器は、光源と、入射光を投
射する光学系と、前記光源と前記光学系との間に介挿さ
れ、前記光源からの光を変調して前記光学系に導く、請
求項１から請求項６のうちいずれか１項に記載の電気光
学装置を有するライトバルブとを具備したことを特徴と
する。An electronic apparatus according to the present invention includes a light source, an optical system for projecting incident light, and an optical system interposed between the light source and the optical system to modulate light from the light source and to guide the light to the optical system. And a light valve having the electro-optical device according to any one of claims 1 to 6.
【００１５】例えばプロジェクターと呼ばれる投写型液
晶装置などの場合、光源光強度が大きいため光重合によ
る接着層の体積変化の影響がより顕著にみられる本発明
の電気光学装置を採用することにより、電子機器の表示
品質を大きく向上することができる。特にＲＧＢの光を
それぞれ変調するいわゆる３板式のプロジェクタの場
合、より波長の短いＢ光（青色光）を変調するためのラ
イトバルブを構成する電気光学装置に前述した問題が顕
著にみられる。したがってＢ光（青色光）を変調するた
めのライトバルブを構成する電気光学装置に選択的に本
発明の電気光学装置を適用するようにしてもよい。For example, in the case of a projection type liquid crystal device called a projector, since the light intensity of the light source is large, the effect of the change in the volume of the adhesive layer due to photopolymerization is more remarkable. The display quality of the device can be greatly improved. In particular, in the case of a so-called three-plate type projector that modulates each of RGB light, the above-described problem is remarkably observed in an electro-optical device that constitutes a light valve for modulating B light (blue light) having a shorter wavelength. Therefore, the electro-optical device of the present invention may be selectively applied to an electro-optical device constituting a light valve for modulating B light (blue light).
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１７】（電気光学装置の一実施形態の構成及び作
用）本発明による液晶装置の一実施形態の構成及び作用
について、図１乃至図４を参照して説明する。図１は本
実施形態の透過回路図であり、図２は本実施形態に係る
液晶装置の平面図であり、図３は図２に示した液晶装置
におけるＨ−Ｈ’断面図である。図４は、図２の断面図
の基板周辺の拡大断面図である。(Structure and Operation of One Embodiment of Electro-Optical Device) The structure and operation of one embodiment of the liquid crystal device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a transmission circuit diagram of the present embodiment, FIG. 2 is a plan view of the liquid crystal device according to the present embodiment, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line HH ′ in the liquid crystal device shown in FIG. FIG. 4 is an enlarged sectional view around the substrate in the sectional view of FIG.
【００１８】本実施の形態による液晶装置の画像表示領
域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素は、
画素電極１１及び画素電極１１を制御するためのＴＦＴ
３０とからなり、画像信号が供給されるデータ線３５が
当該ＴＦＴ３０のソースに電気的接続されている。デー
タ線３５に書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、
この順に線順次に供給されている。A plurality of pixels formed in a matrix and constituting an image display area of the liquid crystal device according to this embodiment are:
Pixel electrode 11 and TFT for controlling pixel electrode 11
The data line 35 to which an image signal is supplied is electrically connected to the source of the TFT 30. The image signals S1, S2,..., Sn written to the data lines 35 are
They are supplied line-sequentially in this order.
【００１９】ＴＦＴ３０のゲート電極にはパルス的に走
査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが、この順に線順次で印加
するように構成されている。画素電極１１は、ＴＦＴ３
０のドレインに電気的接続されており、ＴＦＴ３０を一
定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線
３５から供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所
定のタイミングで書き込む。画素電極１１を介して液晶
に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、
Ｓｎは、対向基板（後述する）に形成された対向電極
（後述する）との間で一定期間保持される。液晶は、印
加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化
することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。
ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐため
に、画素電極９と対向電極との間に形成される液晶容量
と並列に蓄積容量７０を付加する。容量線３４を設けて
も良いし、前段の走査線３１を容量線の代わりに用いて
もよい。The scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the gate electrode of the TFT 30 in a pulse-wise manner in this order. The pixel electrode 11 is a TFT3
., Sn supplied from the data line 35 are written at a predetermined timing by closing the switch of the TFT 30 for a certain period of time. The image signals S1, S2,... Of a predetermined level written in the liquid crystal via the pixel electrode 11
Sn is held for a certain period between a counter electrode (to be described later) formed on a counter substrate (to be described later). The liquid crystal modulates light by changing the orientation and order of the molecular assembly according to the applied voltage level, thereby enabling gray scale display.
Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with a liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 and the counter electrode. The capacitor line 34 may be provided, or the preceding scanning line 31 may be used instead of the capacitor line.
【００２０】図２は、図１の透過回路を有する電気光学
装置の平面図であり、図２に示すように、光透過性のＴ
ＦＴアレイ基板１０上には、有効表示領域２０１ａ、こ
の有効表示領域２０１ａを囲むように非表示領域２０１
ｂ及びこれらの領域２０１ａ、２０１ｂを囲むようにシ
ール材５２が設けられ、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基
板２０とはシール材により接着されている。FIG. 2 is a plan view of the electro-optical device having the transmission circuit shown in FIG. 1. As shown in FIG.
On the FT array substrate 10, an effective display area 201a and a non-display area 201 surrounding the effective display area 201a are provided.
A sealing material 52 is provided so as to surround b and these regions 201a and 201b, and the TFT array substrate 10 and the opposing substrate 20 are bonded by the sealing material.
【００２１】シール材５２の途切れ部分からなる液晶注
入口２０３が設けられている。この液晶注入口２０３は
例えばシール材５２と同一または異なる材料からなる封
止部材２０４により塞がれている。There is provided a liquid crystal injection port 203 which is formed by a discontinuous portion of the sealing material 52. The liquid crystal injection port 203 is closed by a sealing member 204 made of, for example, the same or different material as the sealing material 52.
【００２２】有効表示領域２０１ａには、図１に示され
るようにデータ線３５及び走査線３１が縦横に交差する
ように配置されていると共に、これらの配線により囲ま
れる各領域にマトリクス状に複数形成された例えばＩＴ
Ｏ（Indium Tin Oxide）膜などの透明導電性薄膜からな
る画素電極１１と画素電極を制御するためのＴＦＴ３０
とが配置されている。そして、ＴＦＴ３０やこれらの電
極等の上には配向膜１５が形成されている。In the effective display area 201a, the data lines 35 and the scanning lines 31 are arranged so as to intersect vertically and horizontally as shown in FIG. 1, and a plurality of matrixes are arranged in each area surrounded by these wirings. For example, IT formed
A pixel electrode 11 made of a transparent conductive thin film such as an O (Indium Tin Oxide) film and a TFT 30 for controlling the pixel electrode
And are arranged. Then, an alignment film 15 is formed on the TFT 30, these electrodes, and the like.
【００２３】シール材５２より外側の領域には、駆動回
路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿っ
て設けられている。一方、非表示領域２０１ｂには、デ
ータ線駆動回路１０１が駆動回路接続端子１０２と平行
するようにＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けら
れ、走査線駆動回路１０４が例えばこの一辺に隣接する
２辺に沿って設けられ、残る一辺には非表示領域２０１
ｂの両側に設けられた走査線駆動回路１０４間をつなぐ
ための複数の配線１０５が設けられている。また、対向
基板２０のコーナ部の少なくとも１箇所においては、Ｔ
ＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的導通
をとるための導通材１０６が設けられている。In a region outside the seal member 52, drive circuit connection terminals 102 are provided along one side of the TFT array substrate 10. On the other hand, in the non-display area 201b, the data line driving circuit 101 is provided along one side of the TFT array substrate 10 so as to be parallel to the driving circuit connection terminal 102, and the scanning line driving circuit 104 is, for example, adjacent to the one side. The non-display area 201 is provided along the
A plurality of wirings 105 for connecting between the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of “b” are provided. Further, at least one of the corners of the opposing substrate 20 has T
A conductive member 106 for providing electrical continuity between the FT array substrate 10 and the counter substrate 20 is provided.
【００２４】図３に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０
上には、図２に示したシール材５２とほぼ同じ輪郭を持
つ透明基板である対向基板２０が対向配置され、これら
ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間のシール材
５２により囲まれた空間に液晶が封入され、液晶層５０
が形成される。液晶層５０は、画素電極からの電界が印
加されていない状態で配向膜により所定の配向状態を採
る。液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティッ
ク液晶を混合した液晶からなる。シール材５２は、ＴＦ
Ｔアレイ基板１０及び対向基板２０をそれらの周辺で貼
り合わせるための、例えば光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂
からなる接着剤であり、両基板間の距離を所定値とする
ためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のスペー
サが混入されている。As shown in FIG. 3, the TFT array substrate 10
The opposing substrate 20 which is a transparent substrate having substantially the same contour as the sealing material 52 shown in FIG. 2 is disposed on the upper side, and is surrounded by the sealing material 52 between the TFT array substrate 10 and the opposing substrate 20. Liquid crystal is sealed in the space, and a liquid crystal layer 50 is formed.
Is formed. The liquid crystal layer 50 adopts a predetermined alignment state by the alignment film in a state where no electric field is applied from the pixel electrode. The liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several kinds of nematic liquid crystals are mixed. The sealing material 52 is made of TF
An adhesive made of, for example, a photo-curing resin or a thermosetting resin for bonding the T-array substrate 10 and the counter substrate 20 around the periphery thereof, and a glass fiber or a glass fiber for setting a distance between the two substrates to a predetermined value. Spacers such as glass beads are mixed.
【００２５】上記のＴＦＴアレイ基板１０は、例えば石
英基板からなり、対向基板２０は、例えばガラス基板や
石英基板からなる。また、対向基板２０には、遮光膜２
４を有し、その上にその全面に渡って対向電極（共通電
極）２３が設けられており、その上には、ラビング処理
等の所定の配向処理が施された配向膜１６が設けられて
いる。対向電極２３は例えば、ＩＴＯ膜などの透明導電
性薄膜からなる。また配向膜１６は、ポリイミド薄膜な
どの有機薄膜からなる。The TFT array substrate 10 is made of, for example, a quartz substrate, and the counter substrate 20 is made of, for example, a glass substrate or a quartz substrate. Further, the opposing substrate 20 includes a light shielding film 2.
4 on which an opposing electrode (common electrode) 23 is provided over the entire surface, and an alignment film 16 on which a predetermined alignment treatment such as a rubbing treatment is performed is provided thereon. I have. The counter electrode 23 is made of, for example, a transparent conductive thin film such as an ITO film. The alignment film 16 is made of an organic thin film such as a polyimide thin film.
【００２６】また、図４に示されるように、対向基板２
０はアクリル系樹脂等からなる接着樹脂層２２を介して
各画素電極に対応するようなマイクロレンズアレイ２１
と平面基板２５が接合、一体化されている。このマイク
ロレンズアレイ２１によって入射光の集光効率を向上す
ることで、明るい液晶装置が実現できる。さらに、マイ
クロレンズアレイ２１のＴＦＴアレイ基板１０と対向す
る面と反対面にはシリコン系の接着剤を介して該対向基
板２０とほぼ同形状の透明基板２０５が貼付され、ＴＦ
Ｔアレイ基板１０の表面（対向基板２０と対向する面と
反対面）にはシリコン系或いは他の部材からなる接着剤
を介して該ＴＦＴアレイ基板とほぼ同形状の透明基板２
０６が貼付されていてもよい。これら透明基板２０５及
び２０６は、対向基板２０の表面やＴＦＴアレイ基板１
０の表面を傷等から保護すると共に、例えば当該液晶装
置が液晶プロジェクタ等に用いられたときに表面に付着
したごみ等を光路上の焦点からできる限りずらし、これ
らがはっきりと表示映像上に表示されるのを防止するこ
とができる。Further, as shown in FIG.
0 denotes a microlens array 21 corresponding to each pixel electrode via an adhesive resin layer 22 made of an acrylic resin or the like.
And the flat substrate 25 are joined and integrated. By improving the light collection efficiency of the incident light by the microlens array 21, a bright liquid crystal device can be realized. Further, a transparent substrate 205 having substantially the same shape as the counter substrate 20 is attached to the surface of the micro lens array 21 opposite to the surface facing the TFT array substrate 10 via a silicon-based adhesive.
A transparent substrate 2 having substantially the same shape as the TFT array substrate is provided on the surface of the T array substrate 10 (the surface opposite to the surface facing the opposite substrate 20) via an adhesive made of silicon or another member.
06 may be attached. These transparent substrates 205 and 206 are formed on the surface of the counter substrate 20 or the TFT array substrate 1.
In addition to protecting the surface of the liquid crystal device from scratches and the like, for example, when the liquid crystal device is used in a liquid crystal projector or the like, dust or the like attached to the surface is shifted as much as possible from the focus on the optical path, and these are clearly displayed on the display image. Can be prevented.
【００２７】ここで、シール材５２の内側部５２ａから
有効表示領域２０１ａまでの距離をＬ１とし、シール材
５２により囲まれる領域（有効表示領域２０１ａと非表
示領域２０１ｂとを併せた領域）の幅をＬ２としたと
き、Ｌ１／Ｌ２≧０．１、より好ましくはＬ１／Ｌ２≧
０．１５とされている。なお、シール材５２により囲ま
れる矩形の領域の横方向及び縦方向の両方についてこの
ような値となっている。[0027] Here, the distance to the effective display area 201a from the inner portion 52a of the sealing member 52 and L 1, a region surrounded by the sealing material 52 (the effective display region 201a and the non-display region 201b and region combined) When the width is L 2 , L 1 / L 2 ≧ 0.1, more preferably L 1 / L 2 ≧
0.15. Note that such values are obtained in both the horizontal direction and the vertical direction of the rectangular area surrounded by the sealing material 52.
【００２８】このように本実施形態の液晶装置では、上
記の如くＬ１／Ｌ２との比が規定されているので、表示
領域の外周に近い部分に生じた境界線２０８を有効表示
領域２０１ａより外側の非表示領域２０１ｂに位置させ
ることができる。これにより、境界線状のムラ２０８が
表示されることはなくなり、表示品質の劣化を防止する
ことができる。As described above, in the liquid crystal device according to the present embodiment, since the ratio of L 1 / L 2 is specified as described above, the boundary 208 formed near the outer periphery of the display area is defined by the effective display area 201a. It can be located in the outer non-display area 201b. Thereby, the boundary line-shaped unevenness 208 is not displayed, and the deterioration of the display quality can be prevented.
【００２９】また、本実施形態では、特に非表示領域２
０１ｂにデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０
４及び配線１０５を配置するように構成したので、ＴＦ
Ｔアレイ基板１０上のシール材５２より外側の駆動回路
や配線パターンが形成されていた領域が不要となり、シ
ール材５２により囲まれる領域（有効表示領域２０１ａ
と非表示領域２０１ｂとを併せた領域）を拡張可能とな
り、有効表示領域２０１ａは実質的に狭くなることはな
い。In this embodiment, the non-display area 2
01b, the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 10
4 and the wiring 105 are arranged.
The area on the T-array substrate 10 where the drive circuit and the wiring pattern are formed outside the seal material 52 becomes unnecessary, and the area surrounded by the seal material 52 (effective display area 201a)
And the non-display area 201b) can be expanded, and the effective display area 201a is not substantially reduced.
【００３０】なお、非表示領域２０１ｂにデータ線駆動
回路１０１、走査線駆動回路１０４及び配線１０５を配
置することなく、これらデータ線駆動回路１０１、走査
線駆動回路１０４及び配線１０５をシール材５２より外
側の領域に配置しても構わない。図５はその場合の液晶
装置の平面図であり、図６は図５に示した液晶装置にお
けるＨ−Ｈ’断面図である。即ち、シール材５２の外側
の領域には、データ線駆動回路１０１及び駆動回路接続
端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設け
られており、走査線駆動回路１０４が、例えばこの一辺
に隣接する２辺に沿って設けられている。また、ＴＦＴ
アレイ基板１０の残る一辺には、表示領域２０４の両側
に設けられた走査線駆動回路１０４間をつなぐための複
数の配線１０５が設けられている。The data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 104, and the wiring 105 are not disposed in the non-display area 201b, and the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 104, and the wiring 105 are separated from the sealing material 52. It may be arranged in the outside area. FIG. 5 is a plan view of the liquid crystal device in that case, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line HH ′ of the liquid crystal device shown in FIG. That is, in a region outside the sealing material 52, the data line driving circuit 101 and the driving circuit connection terminal 102 are provided along one side of the TFT array substrate 10, and the scanning line driving circuit 104 is adjacent to this side, for example. It is provided along the two sides of Also, TFT
On one remaining side of the array substrate 10, a plurality of wirings 105 for connecting the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the display area 204 are provided.
【００３１】また、上記実施の形態における液晶装置の
ＴＦＴアレイ基板１０上には更に、製造途中や出荷時の
当該液晶装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路
等を形成してもよい。また、データ線駆動回路１０１及
び走査線駆動回路１０４をＴＦＴアレイ基板１０の上に
設ける代わりに、例えばＴＡＢ（テープオートメイテッ
ドボンディング基板）上に実装された駆動用ＬＳＩに、
ＴＦＴアレイ基板１０の周辺部に設けられた異方性導電
フィルムを介して電気的及び機械的に接続するようにし
てもよい。また、対向基板２０の投射光が入射する側及
びＴＦＴアレイ基板１０の出射光が出射する側には各
々、例えば、ＴＮ（ツイステッドネマティック）モー
ド、ＳＴＮ（スーパーＴＮ）モード、Ｄ−ＳＴＮ（ダブ
ル−ＳＴＮ）モード等の動作モードや、ノーマリーホワ
イトモード／ノーマリーブラックモードの別に応じて、
偏光フィルム、位相差フィルム、偏光手段などが所定の
方向で配置される。In addition, on the TFT array substrate 10 of the liquid crystal device in the above embodiment, an inspection circuit or the like for inspecting the quality, defects, etc. of the liquid crystal device during manufacturing or shipping may be further formed. . Further, instead of providing the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 on the TFT array substrate 10, for example, a driving LSI mounted on a TAB (tape automated bonding substrate) is used.
The connection may be made electrically and mechanically via an anisotropic conductive film provided on the periphery of the TFT array substrate 10. For example, a TN (twisted nematic) mode, an STN (super TN) mode, and a D-STN (double-side) are provided on the side of the opposite substrate 20 on which the projected light is incident and on the side of the TFT array substrate 10 on which the emitted light is emitted, respectively. STN) mode, and normally white mode / normally black mode.
A polarizing film, a retardation film, a polarizing means and the like are arranged in a predetermined direction.
【００３２】また、上記実施の形態における液晶装置
は、例えばカラー液晶プロジェクタ（投射型表示装置）
に適用されるため、３枚の液晶装置がＲＧＢ用のライト
バルブとして各々用いられ、各パネルには各々ＲＧＢ色
分解用のダイクロイックミラーを介して分解された各色
の光が投射光として各々入射されることになる。従っ
て、この実施の形態では、対向基板２０に、カラーフィ
ルタは設けられていない。しかしながら、所定領域にＲ
ＧＢのカラーフィルタをその保護膜と共に、対向基板２
０上に形成してもよい。このようにすれば、液晶プロジ
ェクタ以外の直視型や反射型のカラー液晶テレビなどの
カラー液晶装置に各実施の形態における液晶装置を適用
できる。更に、対向基板２０上に、何層もの屈折率の相
違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、
ＲＧＢ色を作り出すダイクロイックフィルタを形成して
もよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によ
れば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。The liquid crystal device according to the above embodiment is, for example, a color liquid crystal projector (projection display device).
Therefore, three liquid crystal devices are each used as a light valve for RGB, and light of each color separated through a dichroic mirror for RGB color separation is incident on each panel as projection light. Will be. Therefore, in this embodiment, the opposing substrate 20 is not provided with a color filter. However, R
The color filter of GB, together with its protective film, is formed on the opposite substrate 2.
It may be formed on zero. In this way, the liquid crystal device according to each embodiment can be applied to a color liquid crystal device such as a direct-view or reflection type color liquid crystal television other than the liquid crystal projector. Furthermore, by depositing many layers of interference layers having different refractive indexes on the opposing substrate 20, the interference of light can be utilized.
A dichroic filter for producing RGB colors may be formed. According to the counter substrate with the dichroic filter, a brighter color liquid crystal device can be realized.
【００３３】（電子機器）上記の液晶装置を用いた電子
機器の一例として、投射型表示装置の構成について、図
７を参照して説明する。図７において、投射型表示装置
１１００は、上述した液晶装置を３個用意し、夫々ＲＧ
Ｂ用の液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ及び９６２Ｂとして
用いた投射型液晶装置の光学系の概略構成図を示す。(Electronic Apparatus) As an example of an electronic apparatus using the above-described liquid crystal device, a configuration of a projection display device will be described with reference to FIG. In FIG. 7, a projection type display device 1100 prepares three liquid crystal devices described above,
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an optical system of a projection type liquid crystal device used as the liquid crystal devices 962R, 962G, and 962B for B.
【００３４】本例の投射型表示装置の光学系には、前述
した光源装置９２０と、均一照明光学系９２３が採用さ
れている。そして、投射型表示装置は、この均一照明光
学系９２３から出射される光束Ｗを赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）に分離する色分離手段としての色分離
光学系９２４と、各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂを変調する変調手
段としての３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９
２５Ｂと、変調された後の色光束を再合成する色合成手
段としての色合成プリズム９１０と、合成された光束を
投射面１００の表面に拡大投射する投射手段としての投
射レンズユニット９０６を備えている。また、青色光束
Ｂを対応するライトバルブ９２５Ｂに導く導光系９２７
をも備えている。なお前述のように、青色光束Ｂを対応
するライトバルブ９２５Ｂを構成する液晶装置に選択的
に本発明を適用するようにしてもよい。The optical system of the projection type display apparatus of this embodiment employs the light source device 920 and the uniform illumination optical system 923 described above. The projection display apparatus further includes a color separation optical system 924 as a color separation unit that separates the light beam W emitted from the uniform illumination optical system 923 into red (R), green (G), and blue (B). Three light valves 925R, 925G, 9 as modulation means for modulating each color light flux R, G, B
25B, a color synthesizing prism 910 as a color synthesizing means for re-synthesizing the modulated color light flux, and a projection lens unit 906 as a projection means for enlarging and projecting the synthesized light flux onto the surface of the projection surface 100. I have. Further, a light guide system 927 for guiding the blue light flux B to the corresponding light valve 925B.
Is also provided. As described above, the present invention may be selectively applied to a liquid crystal device constituting the light valve 925B corresponding to the blue light flux B.
【００３５】均一照明光学系９２３は、２つのレンズ板
９２１、９２２と反射ミラー９３１を備えており、反射
ミラー９３１を挟んで２つのレンズ板９２１、９２２が
直交する状態に配置されている。均一照明光学系９２３
の２つのレンズ板９２１、９２２は、それぞれマトリク
ス状に配置された複数の矩形レンズを備えている。光源
装置９２０から出射された光束は、第１のレンズ板９２
１の矩形レンズによって複数の部分光束に分割される。
そして、これらの部分光束は、第２のレンズ板９２２の
矩形レンズによって３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２
５Ｇ、９２５Ｂ付近で重畳される。従って、均一照明光
学系９２３を用いることにより、光源装置９２０が出射
光束の断面内で不均一な照度分布を有している場合で
も、３つのライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂ
を均一な照明光で照明することが可能となる。The uniform illumination optical system 923 includes two lens plates 921 and 922 and a reflection mirror 931. The two lens plates 921 and 922 are arranged so as to be orthogonal to each other with the reflection mirror 931 interposed therebetween. Uniform illumination optical system 923
The two lens plates 921 and 922 each include a plurality of rectangular lenses arranged in a matrix. The light beam emitted from the light source device 920 is transmitted to the first lens plate 92.
The light is split into a plurality of partial light beams by one rectangular lens.
Then, these partial light beams are divided into three light valves 925R and 925R by the rectangular lens of the second lens plate 922.
Superimposed around 5G and 925B. Therefore, by using the uniform illumination optical system 923, even when the light source device 920 has an uneven illuminance distribution in the cross section of the emitted light beam, the three light valves 925R, 925G, and 925B are used.
Can be illuminated with uniform illumination light.
【００３６】各色分離光学系９２４は、青緑反射ダイク
ロイックミラー９４１と、緑反射ダイクロイックミラー
９４２と、反射ミラー９４３から構成される。まず、青
緑反射ダイクロイックミラー９４１において、光束Ｗに
含まれている青色光束Ｂおよび緑色光束Ｇが直角に反射
され、緑反射ダイクロイックミラー９４２の側に向か
う。赤色光束Ｒはこのミラー９４１を通過して、後方の
反射ミラー９４３で直角に反射されて、赤色光束Ｒの出
射部９４４からプリズムユニット９１０の側に出射され
る。Each color separation optical system 924 includes a blue-green reflecting dichroic mirror 941, a green reflecting dichroic mirror 942, and a reflecting mirror 943. First, in the blue-green reflecting dichroic mirror 941, the blue light beam B and the green light beam G included in the light beam W are reflected at right angles, and head toward the green reflecting dichroic mirror 942. The red light beam R passes through the mirror 941, is reflected at a right angle by the rear reflection mirror 943, and is emitted from the emission unit 944 of the red light beam R to the prism unit 910 side.
【００３７】次に、緑反射ダイクロイックミラー９４２
において、青緑反射ダイクロイックミラー９４１におい
て反射された青色、緑色光束Ｂ、Ｇのうち、緑色光束Ｇ
のみが直角に反射されて、緑色光束Ｇの出射部９４５か
ら色合成光学系の側に出射される。緑反射ダイクロイッ
クミラー９４２を通過した青色光束Ｂは、青色光束Ｂの
出射部９４６から導光系９２７の側に出射される。本例
では、均一照明光学素子の光束Ｗの出射部から、色分離
光学系９２４における各色光束の出射部９４４、９４
５、９４６までの距離がほぼ等しくなるように設定され
ている。Next, a green reflecting dichroic mirror 942
Of the blue and green light fluxes B and G reflected by the blue-green reflection dichroic mirror 941,
Only the green light beam G is reflected at a right angle, and is emitted from the emission unit 945 of the green light beam G to the color combining optical system side. The blue light flux B that has passed through the green reflection dichroic mirror 942 is emitted from the emission section 946 of the blue light flux B to the light guide system 927 side. In this example, the emission portions 944 and 94 of the color light beams in the color separation optical system 924 from the emission portion of the light beam W of the uniform illumination optical element.
The distances to 5,946 are set to be substantially equal.
【００３８】色分離光学系９２４の赤色、緑色光束Ｒ、
Ｇの出射部９４４、９４５の出射側には、それぞれ集光
レンズ９５１、９５２が配置されている。したがって、
各出射部から出射した赤色、緑色光束Ｒ、Ｇは、これら
の集光レンズ９５１、９５２に入射して平行化される。The red and green luminous flux R of the color separation optical system 924,
Condensing lenses 951 and 952 are arranged on the emission sides of the G emission sections 944 and 945, respectively. Therefore,
The red and green luminous fluxes R and G emitted from the respective emission sections are incident on these condenser lenses 951 and 952 and are parallelized.
【００３９】このように平行化された赤色、緑色光束
Ｒ、Ｇは、ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇに入射して
変調され、各色光に対応した画像情報が付加される。す
なわち、これらの液晶装置は、不図示の駆動手段によっ
て画像情報に応じてスイッチング制御されて、これによ
り、ここを通過する各色光の変調が行われる。一方、青
色光束Ｂは、導光系９２７を介して対応するライトバル
ブ９２５Ｂに導かれ、ここにおいて、同様に画像情報に
応じて変調が施される。尚、本例のライトバルブ９２５
Ｒ、９２５Ｇ、９２５Ｂは、それぞれさらに入射側偏光
手段９６０Ｒ、９６０Ｇ、９６０Ｂと、出射側偏光手段
９６１Ｒ、９６１Ｇ、９６１Ｂと、これらの間に配置さ
れた液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９６２Ｂとからなる
液晶ライトバルブである。The red and green light beams R and G thus collimated are incident on the light valves 925R and 925G and modulated, and image information corresponding to each color light is added. That is, the switching of these liquid crystal devices is controlled by driving means (not shown) in accordance with the image information, whereby each color light passing therethrough is modulated. On the other hand, the blue light flux B is guided to the corresponding light valve 925B via the light guide system 927, where it is similarly modulated according to image information. In addition, the light valve 925 of this example
R, 925G, and 925B further include a liquid crystal light further including incident-side polarization units 960R, 960G, and 960B, emission-side polarization units 961R, 961G, and 961B, and liquid crystal devices 962R, 962G, and 962B disposed therebetween. It is a valve.
【００４０】導光系９２７は、青色光束Ｂの出射部９４
６の出射側に配置した集光レンズ９５４と、入射側反射
ミラー９７１と、出射側反射ミラー９７２と、これらの
反射ミラーの間に配置した中間レンズ９７３と、ライト
バルブ９２５Ｂの手前側に配置した集光レンズ９５３と
から構成されている。集光レンズ９４６から出射された
青色光束Ｂは、導光系９２７を介して液晶装置９６２Ｂ
に導かれて変調される。各色光束の光路長、すなわち、
光束Ｗの出射部から各液晶装置９６２Ｒ、９６２Ｇ、９
６２Ｂまでの距離は青色光束Ｂが最も長くなり、したが
って、青色光束の光量損失が最も多くなる。しかし、導
光系９２７を介在させることにより、光量損失を抑制す
ることができる。The light guide system 927 is a light emitting section 94 for the blue light flux B.
No. 6, a condenser lens 954 disposed on the exit side, an incident-side reflection mirror 971, an exit-side reflection mirror 972, an intermediate lens 973 disposed between these reflection mirrors, and a front side of the light valve 925B. And a condenser lens 953. The blue light flux B emitted from the condenser lens 946 is transmitted through the light guide system 927 to the liquid crystal device 962B.
And modulated. The optical path length of each color beam, that is,
Each liquid crystal device 962R, 962G, 9
The distance to 62B is the longest for the blue luminous flux B, and therefore the loss of light quantity of the blue luminous flux is the largest. However, by interposing the light guide system 927, the loss of light amount can be suppressed.
【００４１】各ライトバルブ９２５Ｒ、９２５Ｇ、９２
５Ｂを通って変調された各色光束Ｒ、Ｇ、Ｂは、色合成
プリズム９１０に入射され、ここで合成される。そし
て、この色合成プリズム９１０によって合成された光が
投射レンズユニット９０６を介して所定の位置にある投
射面１００の表面に拡大投射されるようになっている。Each light valve 925R, 925G, 92
The color light fluxes R, G, and B modulated through 5B are incident on a color combining prism 910, where they are combined. The light combined by the color combining prism 910 is enlarged and projected on the surface of the projection surface 100 at a predetermined position via the projection lens unit 906.
【００４２】このような構成を有する液晶プロジェクタ
において、各ライトバルブを本発明の構成を有すること
により、光照射によって接着層２２に生じる体積変化に
起因する信頼性、表示品質の劣化を防止することができ
る。In the liquid crystal projector having such a configuration, each light valve has the configuration of the present invention, thereby preventing deterioration of reliability and display quality due to a change in volume of the adhesive layer 22 caused by light irradiation. Can be.
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶装置の透過回路
図である。FIG. 1 is a transmission circuit diagram of a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の一実施形態に係る液晶装置のＴＦＴア
レイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基
板の側から見た平面図である。FIG. 2 is a plan view of a TFT array substrate of a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention, together with components formed thereon, viewed from a counter substrate side.
【図３】図１に示した液晶装置におけるＨ−Ｈ’断面図
である。FIG. 3 is a sectional view taken along line HH ′ in the liquid crystal device shown in FIG.
【図４】図３のシール材周辺の部分拡大断面図である。FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view around a sealing material of FIG. 3;
【図５】本発明の他の実施形態に係る液晶装置のＴＦＴ
アレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向
基板の側から見た平面図である。FIG. 5 shows a TFT of a liquid crystal device according to another embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a plan view of an array substrate together with components formed thereon viewed from a counter substrate side.
【図６】図３に示した液晶装置におけるＨ−Ｈ’断面図
である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line HH ′ in the liquid crystal device shown in FIG.
【図７】本発明の液晶装置を用いた電子機器の一例であ
る投射型表示装置の構成を示す図である。FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of a projection display device which is an example of an electronic apparatus using the liquid crystal device of the present invention.
１０…ＴＦＴアレイ基板 ２０…対向基板 ２１…マイクロレンズアレイ ２２…接着樹脂層 ２４…遮光膜 ２３…対向電極 ２５…平面基板 ５０…液層層 ５２…シール材 ５２ａ…シール材の内側部 １０１…データ線駆動回路 １０４…走査線駆動回路 １０５…配線 ２０１ａ…有効表示領域 ２０１ｂ…非表示領域 ２０８…境界線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... TFT array substrate 20 ... Counter substrate 21 ... Micro lens array 22 ... Adhesive resin layer 24 ... Light shielding film 23 ... Counter electrode 25 ... Flat substrate 50 ... Liquid layer 52 ... Sealing material 52a ... Inner part of sealing material 101 ... Data Line driving circuit 104: scanning line driving circuit 105: wiring 201a: effective display area 201b: non-display area 208: boundary line
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 LA07 LA49 MA03Y QA05 QA16 RA05 RA10 TA01 TA09 TA13 TA14 TA15 TA18 UA05 2H091 FA21X FA21Z FA29X FA29Z FA34Y FA41Z FB04 GA01 GA06 GA08 GA13 HA07 HA10 KA01 KA10 LA03 LA16 MA07 5C094 AA37 BA03 BA16 BA43 CA19 DA07 DA09 ED01 FB20 JA01 JA08 JA13 Continued on the front page F-term (reference) 2H089 LA07 LA49 MA03Y QA05 QA16 RA05 RA10 TA01 TA09 TA13 TA14 TA15 TA18 UA05 2H091 FA21X FA21Z FA29X FA29Z FA34Y FA41Z FB04 GA01 GA06 GA08 GA13 HA07 HA10 KA01 KA10 LA03 BA07 BA07 DA09 ED01 FB20 JA01 JA08 JA13
Claims (7)
により囲まれる領域に電気光学材料を有し、前記一対の
基板の一方の基板に配置されたマイクロレンズアレイは
平面基板と接合材料により一体化された電気光学装置で
あって、 前記シール材の内側部から該シール材により囲まれる領
域の内側にある有効表示領域までの距離をＬ１とし、前
記シール材により囲まれる領域の幅をＬ２としたとき、
Ｌ１／Ｌ２≧０．１であることを特徴とする電気光学装
置。An electro-optic material is provided in a region surrounded by a sealing material between a pair of substrates facing each other, and a microlens array disposed on one of the pair of substrates is integrated with a flat substrate and a bonding material. a reduction has been electro-optical device, the distance from the inner portion of the sealing material to an effective display region inside the region surrounded by the sealing material and L 1, the width of the region surrounded by the sealing material L Assuming 2 ,
An electro-optical device, wherein L 1 / L 2 ≧ 0.1.
より囲まれる領域の内側にある有効表示領域までの領域
に駆動回路が形成されていることを特徴とする請求項１
に記載の電気光学装置。2. A driving circuit is formed in a region from an inner portion of the sealing material to an effective display area inside a region surrounded by the sealing material.
An electro-optical device according to claim 1.
より囲まれる領域の内側にある有効表示領域までの領域
に配線パターンが形成されていることを特徴とする請求
項１または請求項２に記載の電気光学装置。3. The wiring pattern according to claim 1, wherein a wiring pattern is formed in a region from an inner portion of the sealing material to an effective display area inside a region surrounded by the sealing material. An electro-optical device according to claim 1.
を特徴とする請求項１から請求項３のうちいずれか１項
に記載の電気光学装置。4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the bonding material is a photocurable resin.
ることを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれ
か１項に記載の電気光学装置。5. The electro-optical device according to claim 1, wherein the bonding material has a refractive index of 1.4 or less.
μｍであることを特徴とする請求項１から請求項５のう
ちいずれか１項に記載の電気光学装置。6. A flat substrate having a thickness of 40 μm to 100 μm.
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 5, wherein the thickness is μm.
の光を変調して前記光学系に導く、請求項１から請求項
６のうちいずれか１項に記載の電気光学装置を有するラ
イトバルブとを具備したことを特徴とする電子機器。7. A light source, an optical system for projecting incident light, interposed between the light source and the optical system, modulating light from the light source and guiding the light to the optical system. An electronic apparatus comprising: a light valve having the electro-optical device according to claim 6.
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Cited By (1)
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| JP2009122685A (en) * | 2002-05-21 | 2009-06-04 | Seiko Epson Corp | Electrooptic device and electronic equipment |
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1999
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