JP3826649B2 - Electro-optical device and projection display device - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置、EL(Electro-Luminescence)装置等の電気光学装置及びその製造方法並びに投射型表示装置の技術分野に属する。
【0002】
【背景技術】
この種の電気光学装置は一般に、例えばTFTアレイ基板等の素子基板及びカバーガラス(或いは対向基板)といった一対の基板間に液晶等の電気光学物質を挟持してなる。そして、基板の外側(即ち、液晶に面する側と反対側の面)には、光の利用効率を向上させて明るい画像表示を行うためのマイクロレンズアレイ板、基板を埃や塵から守るための防塵ガラス板、当該電気光学装置の温度上昇を抑制するための放熱ガラス板、基板表面の塵や埃の影による表示画像への悪影響をデフォーカスにより低減するためのデフォーカス用ガラス板などの各種の板状部材が取り付けられる。
【0003】
例えば特開昭60−165621号〜165624号公報、特開平5−196926号公報等には、入射光の利用効率を向上するためのマイクロレンズが対向基板上に設けられた形式の液晶装置が開示されている。また例えば、特開平9−113906号公報には、放熱機能及びデフォーカス機能を有する透明ガラス板を液晶装置の透明基板の一方又は両方の外面に配置した液晶装置が開示されている。
【0004】
上述のようにマイクロレンズアレイ板等の各種の板状部材が取り付けられた電気光学装置の本体は、プラスチック等の遮光性のケースに納められ、表示光を透過したり反射したりする画像表示領域の縁を規定する額縁領域がケースの窓部の縁により規定される。或いはこのようなケースの窓部よりも一回り小さい額縁状の遮光膜が、一対の基板の少なくとも一方に設けられており、額縁領域が規定されている。
【0005】
このような各種板状部材を備えた電気光学装置の製造方法では、素子基板やカバーガラスの外側に、光硬化性接着剤や熱硬化性接着剤を用いてマイクロレンズアレイ板等の板状部材を貼り付ける。この際、接着剤は、液状のものがスピンコート等により素子基板やカバーガラスの全面に塗布され、貼り合わせ後に硬化されるのが一般的である。その後、この板状部材やその他の部材が取り付けられた基板を含む電気光学装置の本体を遮光性のケースに入れて、電気光学装置を完成させる。
【0006】
こうして製造される電気光学装置は、例えばプロジェクタのライトバルブ用の液晶装置であれば、ケースの窓部から覗く画像表示領域を表示光(投射光)が透過し、画像信号に応じて画素毎にコントラストが変調されて画像表示が行われる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述の電気光学装置の場合、プロジェクタのライトバルブ用などに使用しているうちに、額縁領域付近における画像表示領域で額縁領域に沿ってコントラスト異常が経時的に発生するという問題点がある。より具体的には、例えば黒表示の際に額縁に沿って白っぽい領域が発生して、コントラスト異常の不連続面が見えるようになってしまう。特にプロジェクタのライトバルブ用の液晶装置等のように比較的強力な光が透過する装置の場合には、このような経時劣化が顕著であり、更に本願発明の発明者による研究によれば、カラーのプロジェクタのライトバルブ用の液晶装置の場合に、R(赤色)G(緑色)B(青色)用の3個の液晶装置のうちB用の装置においてこのような経時劣化が最も顕著であることが判明している。例えば数百時間程度の使用後にこのようなコントラスト異常が現われたりするため、少なくとも数千時間の寿命が望まれるプロジェクタにおいてはこの問題は実用上極めて深刻である。
【0008】
更に、上述の電気光学装置の場合、素子基板やカバーガラスの外側にマイクロレンズアレイ板等の板状部材を貼り付けるために用いられる光硬化性接着剤や熱硬化性接着剤などに気泡や不純物が混入すると、画質低下に繋がるという問題点もある。また、このような接着剤としては、マイクロレンズアレイのレンズ機能を発揮させるためには、マイクロレンズアレイを構成する材料と比べて十分に低屈折率の接着剤を用いる必要があり、加えて特にプロジェクタのライトバルブ用の液晶装置等のように比較的強力な光が透過する装置の場合には光により劣化しない化学特性をも有する接着剤を用いる必要がある。しかも、このような接着剤は、光透過性である必要があり且つマイクロレンズアレイとの界面で光反射を起し難い性質であることも要求される。以上のように接着剤の材質及び塗布技術についての要求は極めて厳しいため、製造コストの上昇を招くか或いは接着剤に起因したある程度の画質劣化は犠牲にせざるを得ないという問題点もある。
【0009】
本発明は上述の問題点に鑑みなされたものであり、素子基板やカバーガラス(或いは対向基板)などの基板に、マイクロレンズアレイ板等の各種板状部材が接着されてなる電気光学装置であって、画像表示領域の額縁付近に発生する画質の経時劣化を低減し得る電気光学装置及びその製造方法並びに係る電気光学装置をライトバルブとして備えた投射型表示装置を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、表示領域及び表示領域の周辺に位置する周辺領域を有する透明な基板と、前記基板に所定間隙を隔てて対向配置された透明な板状部材とを備え、前記周辺領域において、前記板状部材と前記基板とが接着剤により接着されてなることを特徴とする。
【0011】
本発明の電気光学装置によれば、板状部材は、マイクロレンズアレイ板、防塵ガラス板、放熱ガラス板、デフォーカス用ガラス板等の各種機能を有する透明な板状部材であり、画像表示領域の周辺に位置する周辺領域で、光硬化性接着剤、熱硬化性接着剤等の接着剤により透明な基板(例えば、カバーガラス、対向基板、素子基板等)に接着されている。ここに「周辺領域」とは、画像表示領域の額縁を規定する額縁領域及び更にその周囲に位置する狭義の周辺領域を含む意味である。ここで、接着剤は、周辺領域に配置されているので、当該電気光学装置の使用中に画像表示領域に対して、紫外線、熱線等を含む表示光が入射される際に(特に、プロジェクタ用途のように強力な表示光が入射される際に)、表示光が接着剤に照射されて接着剤が劣化する事態を防ぐことが可能となる。従って、接着剤の劣化による画像表示領域と周辺領域との境界付近における応力集中や基板の変形は、殆ど又は全く起生じない。このため画像表示領域における高品位の画像表示が可能となる。特にこのような劣化は経時的に発生する(即ち経時劣化として起る)ので、装置寿命の延命も可能となるので有利である。更に、例えば周辺領域に配置された接着剤が劣化により変質して不透明になったり亀裂が入ったりしても、画像表示領域における表示品位を直接害することがない観点からも有利である。また製造当初から接着剤にボイドが入っていたり、接着剤が基板又は板状部材との界面で大きな光反射を起こすような材料からなっていても(特に表示光の光路から離して接着剤を設けるようにすれば)、表示品位を低下させる原因とはならない観点からも大変有利である。
【0012】
因みに本願発明者の研究によれば、マイクロレンズアレイ板等の板状部材を光硬化性接着剤で、周辺領域のみならず画像表示領域においても基板(例えば、カバーガラス)に接着すると、特にプロジェクタのライトバルブ用途のように強力な表示光が画像表示領域を透過する場合には、この光硬化性接着剤がヒケ(薄くなる変形)などの経時変形を起こすことが判明している。ここで通常は、画像表示領域の額縁を規定する額縁領域に遮光手段を設けた完成品の形で、投射光等の表示光が照射されるため、遮光手段により遮光されておらずその分だけ紫外線等を含む光による変形が大きい画像表示領域にある光硬化性接着剤の部分と、遮光手段により遮光されておりその分だけ紫外線等を含む光による変形が小さい額縁領域にある光硬化性接着剤の部分との間で、光硬化性接着剤の変形量に差が生じてしまう。この結果、板状部材が光硬化性接着剤により接着されている基板が、これらの2つの部分の境界付近において構造的な応力集中により径時的に変形して、最終的には、この付近における画質の経時劣化(コントラスト異常の経時的な増加)につながると考察される。
【0013】
しかるに本発明の電気光学装置では上述のように、接着剤は、周辺領域に配置されているので、光硬化性接着剤のエージングに起因した、画像表示領域と額縁領域との境界付近における応力集中や基板の変形は、殆ど又は全く起こらないで済む。従って、このような境界付近において局所的に発生する画質の経時劣化を低減し得る。
【0014】
以上の結果、本発明の電気光学装置によれば、板状部材の持つ各種機能に応じて高品位の画像表示を長期に亘り行える。しかも、接着剤としては、概ね安定した接着特性や汚染源とならないこと程度が要求されるのみであり、接着剤の光学特性は問題とならない。従って、当該電気光学装置の製造工程において利用可能な接着剤の材質や塗布技術についての自由度は格段に広がり、製造コストの削減も可能となる。
【0015】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記板状部材は、マイクロレンズアレイ板を含む。
【0016】
この態様によれば、マイクロレンズアレイ板が接着剤によりカバーガラス等の基板に接着されている。従って、マイクロレンズアレイ板が有する複数のマイクロレンズによって、表示光は各画素の開口領域に入るように集光される。ここで特に、接着剤は周辺領域に配置されているので、画像表示領域でマイクロレンズアレイ板と基板との間の所定間隙に空気、窒素等の低屈折率の気体や液体などを配置することにより、このような気体などと感光性樹脂材料等からなる各マイクロレンズとの界面における屈折率差を容易に大きくすることができる。これにより各マイクロレンズにおけるレンズ能力(集光能力)を高めることが可能となる。これらの結果、画像表示領域の額縁付近における画質の経時劣化を抑制しつつ、画素開口率が同じであっても各開口を通過する光の強度を極めて効率よく増加させることにより、電気光学装置により表示される画像をより明るく出来る。
【0017】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記板状部材は、防塵ガラス板を含む。
【0018】
この態様によれば、防塵ガラス板が接着剤により基板に接着されている。従って画像表示領域の額縁付近における画質の経時劣化を抑制しつつ、防塵ガラス板によって傷や埃等による画質劣化の防止を図ることができる。
【0019】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記板状部材は、放熱ガラス板を含む。
【0020】
この態様によれば、放熱ガラス板が、接着剤により基板に接着されている。従って画像表示領域の額縁付近における画質の経時劣化を抑制しつつ、同時に電気光学装置の温度上昇の防止を図ることができる。特に電気光学装置をプロジェクタにおけるライトバルブとして用いる場合、スクリーン上に拡大投射を行うために、電気光学装置には、例えばメタルハライドランプ等の光源からの強力な光源光が集光された状態で入射するが、当該放熱ガラスにより、温度上昇を効果的に抑制可能である。
【0021】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記板状部材は、デフォーカス用ガラス板を含む。
【0022】
この態様によれば、デフォーカス用ガラス板が、接着剤により基板に接着されている。従って画像表示領域の額縁付近における画質の経時劣化を抑制しつつ、同時に埃や塵による画像表示をデフォーカスにより目立た無くすることができる。特に、プロジェクタ用途のように小さな埃や塵が拡大投影される場合に、このようにデフォーカス用ガラス板を用いてデフォーカスすることは非常に有効である。
【0023】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記接着剤は前記画像表示領域の大半に存在しない。
【0024】
この態様によれば、画像表示領域の大半に接着剤が存在しない。ここに「大半に存在しない」とは、半分以下の面積のみに存在するという意味であり、全く存在しない場合をも含む意味である。このため、仮に当該電気光学装置の使用中に光照射等により接着剤に経時劣化が生じても、或いは製造当初から接着剤中にボイドや亀裂が生じていても、これらが画像品位に及ぼす悪影響は、画像表示領域中に占める接着剤の少なさに応じて軽微で済む。尚、画像表示領域内に接着剤が全く存在しないように構成したり、更に、その額縁を規定する額縁領域内にも接着剤が全く存在しないように構成してよいことは言うまでもない。
【0025】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記接着剤は、前記周辺領域における3個所以上に離散的に配置されている。
【0026】
この態様によれば、接着剤は、周辺領域で離散的に配置されているので、画像表示領域における基板と板状部材との間の空間は、接着剤により密封されることはない。従って、当該電気光学装置の使用中の温度変化により、当該画像表示領域における基板と板状部材との間の空間に密封された空気等が膨張したり収縮したりして基板や板状部材に応力を発生させたり変形させたりする事態を比較的簡易に未然防止できる。しかも、接着剤は、3個所以上に配置されているので、板状部材を基板に対して安定的に固定できる。
【0027】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記接着剤は、平面的に見て前記画像表示領域の周囲を包囲している。
【0028】
この態様によれば、画像表示領域の周囲を包囲する接着剤により、板状部材を基板に対して極めて安定的に固定でき、基板と板状部材との間の所定間隙を画像表示領域の全体に渡って極めて均一化することも可能となる。
【0029】
この接着剤で包囲する態様では、前記接着剤は、相互に連通する多数の微細孔が設けられた空気を通す材質からなってもよい。
【0030】
このように構成すれば、微細孔を通じて、画像表示領域における基板と板状部材との間の空間に装置外部から空気を導入することができる。特に、当該電気光学装置の使用中の温度変化により、当該画像表示領域における基板と板状部材との間の空間に密封された空気等が膨張したり収縮したりして基板や板状部材に応力を発生させたり変形させたりする事態を比較的簡易に未然防止できる。従って、基板や板状部材の変形を低減しつつ、板状部材を基板に対して極めて安定的に固定でき、基板と板状部材との間の所定間隙を画像表示領域の全体に渡って極めて均一化することも可能となる。
【0031】
或いはこの接着剤で包囲する態様では、前記接着剤は、空気を通さない材質からなり、前記接着剤により包囲された空間に対して空気を通すための開口が設けられてもよい。
【0032】
このように構成すれば、開口を通じて、画像表示領域における基板と板状部材との間の空間に装置外部から空気を導入することができる。特に、当該電気光学装置の使用中の温度変化により、当該画像表示領域における基板と板状部材との間の空間に密封された空気等が膨張したり収縮したりして基板や板状部材に応力を発生させたり変形させたりする事態を比較的簡易に未然防止できる。従って、基板や板状部材の変形を低減しつつ、板状部材を基板に対して極めて安定的に固定でき、基板と板状部材との間の所定間隙を画像表示領域の全体に渡って極めて均一化することも可能となる。
【0033】
或いはこの接着剤で包囲する態様では、前記接着剤は、空気を通さない材質からなり、前記接着剤により包囲された空間には所定種類の気体又は液体が封入されてもよい。
【0034】
このように構成すれば、密封空間内に外部から塵や埃が侵入することを防止し得る。この密封された空間には、窒素等の負活性ガス、化学的に安定した液体等を、従来の液晶装置における液晶封入技術を援用して封入すればよい。
【0035】
本発明の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(上述した各種態様も含む)を製造する電気光学装置の製造方法であって、前記基板上の前記周辺領域に硬化前の接着剤を配置する工程と、前記硬化前の接着剤が配置された基板上に前記板状部材を配置する工程と、前記硬化前の接着剤を硬化させる工程とを含む。
【0036】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば先ず、例えばカバーガラス、対向基板等の基板上の周辺領域に、硬化前の接着剤が配置される。この接着剤としては、シアンアクリレートの如く硬化時に汚染物質を発生するものを除けば、光学特性(屈折率等)の如何を問わずに公知の各種接着剤を使用可能である。例えばエポキシ系、アクリル系の接着剤を使用可能である。このような接着剤の配置方法としては、ディスペンサ、スクリーン印刷等の公知技術を利用できる。特に本発明では、接着剤中に気泡やボイドが入っても構わないため、なるべく低コストで基板上に接着剤を配置すればよい。次に、硬化前の接着剤が配置された基板上に、マイクロレンズアレイ板、防塵ガラス板、放熱ガラス板、デフォーカス用ガラス板等の各種機能を有する透明な板状部材が配置される。次に、これら板状部材と基板との所定間隙内に配置されている接着剤を硬化させる。例えば、光硬化性の接着剤であれば、基板及び板状部材のうち少なくとも一方を介して紫外線等の光を照射すればよく、熱硬化性接着剤であれば、熱線照射等により加熱すればよい。以上の結果、上述した本発明の電気光学装置を比較的容易に且つ安価に製造できる。
上記硬化前の接着剤を配置する工程は、上記基板と上記板状部材の間隙内に周辺領域から上記接着材を毛細管現象を利用して注入することを特徴とする。
かかる構成によれば、ディスペンサ、スクリーン印刷などの公知技術を利用しないで、低コストで接着材を配置できる。
【0037】
本発明の投射型表示装置は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(上述した各種態様も含む)からなるライトバルブと、該ライトバルブに投射光を入射する光源と、該ライトバルブから出射した前記投射光を投射する光学系とを備える。
【0038】
本発明の投射型表示装置によれば、上述した本発明の電気光学装置(その各種態様も含む)をライトバルブとして備えているので、長期に亘って高品位の画像表示が可能となる。
【0039】
本発明のこのような作用及び他の利得は次に説明する実施の形態から明らかにされる。
【0040】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
【0041】
(電気光学装置の全体構成)
先ず、本発明の各実施形態における電気光学装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここでは、駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
【0042】
図1は、TFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図であり、図2は、図1のH−H’断面図である。
【0043】
図1及び図2において、液晶装置は、TFTアレイ基板10と対向基板20が対向配置されており、対向基板20の下側の面には、多数のマイクロレンズが形成されており、対向基板20はマイクロレンズアレイ板として構成されている。このようにマイクロレンズが形成された対向基板20の下側の面には接着剤210により、基板の一例としてのカバーガラス200が接着されている。そしてTFTアレイ基板10とカバーガラス200との間に液晶層50が封入されており、TFTアレイ基板10とカバーガラス200とは、画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により相互に接着されている。
【0044】
シール材52は、両基板を貼り合わせるための、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、後述の製造プロセスにおいてTFTアレイ基板10上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、シール材52中には、当該液晶装置がプロジェクタ用途のように小型で拡大表示を行う液晶装置であれば、両基板間の距離(基板間ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材(スペーサ)が散布されてもよい。或いは、当該液晶装置が液晶ディスプレイや液晶テレビのように大型で等倍表示を行う液晶装置であれば、このようなギャップ材は、液晶層50中に含まれてよい。
【0045】
シール材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aを規定する遮光性の額縁53が対向基板20側に設けられている。
【0046】
シール材52が配置されたシール領域の外側の周辺領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路104が、この一辺に隣接する2辺に沿って設けられている。更にTFTアレイ基板10の残る一辺には、画像表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路104間をつなぐための複数の配線105が設けられている。また、対向基板20のコーナー部の少なくとも一個所において、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的導通をとるための上下導通材106が設けられている。
【0047】
図2において、TFTアレイ基板10上には、画素スイッチング用TFT30や走査線、データ線、容量線等の配線が形成された後の画素電極上に、ポリイミド系材料からなる配向膜が形成されている。他方、カバーガラス200上(図2において下側の面)には、対向電極の他、各画素毎に非開口領域を規定する遮光膜23、カラーフィルタ等が形成された最上層部分に、ポリイミド系材料からなる配向膜が形成されている。これらの一対の配向膜は夫々、ポリイミド系材料を塗布し、焼成した後、液晶層50中の液晶を所定方向に配向させると共に液晶に所定のプレチルト角を付与するように配向処理が施されている。尚、遮光膜23は、表示画像におけるコントラストの向上、カラーフィルタを形成した場合の色材の混色防止などの機能を有する。このような遮光膜23を対向基板20の側ではなく、TFTアレイ基板10上に形成してもよい。
【0048】
また、液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【0049】
図2において、破線で示すように、上述の如き構成を持つ液晶装置の本体は、プラスチック等からなる遮光性のケース300内に収容される。ケース300の中央には、画像表示領域10aに対応して窓が設けられており、ケース300の窓を規定する縁部分が額縁領域に対応して設けられている。
【0050】
本実施形態では特に、接着剤210は、対向基板20(マイクロレンズアレイ板)とカバーガラス200との間隙内に配置されており、画像表示領域10aの周囲に広がる周辺領域で、対向基板20とカバーガラス200とを接着している。従って、当該液晶装置の使用中に画像表示領域10aに対して、プロジェクタ用の強力な表示光が入射される際に、表示光が接着剤210に照射されて接着剤210が劣化する事態を防ぐことが可能となる。この結果、接着剤210の劣化による画像表示領域10aと周辺領域との境界付近における応力集中や対向基板20やカバーガラス200の変形は、殆ど又は全く起生じない。更に、接着剤210が劣化により変質して不透明になったり亀裂が入ったりしても、図2から明らかなように、画像表示領域10aにおける表示品位を直接害することはない。これに加えて、画像表示領域10aにおける対向基板20とカバーガラス200との間の空間220は、空気で満たされているので、従来の如く画像表示領域の全面に塗布された接着剤によりマイクロレンズアレイ板にカバーガラスを接着する場合と比較して、各マイクロレンズにおけるレンズ能力(集光能力)は顕著に高められている。
【0051】
更に本実施形態では、接着剤210は、図1の平面図上でシール剤52とほぼ同じ領域に形成されており、画像表示領域10aの周囲を包囲している。従って、接着剤210により、対向基板20にカバーガラス200を極めて安定的に固定でき、両者間の空間220を画像表示領域10aの全体に渡って均一化できる。
【0052】
本実施形態の如く接着剤210で画像表示領域10aを包囲する構成を採用する場合、接着剤210を、相互に連通する多数の微細孔が設けられた空気を通す材質から構成してもよい。このように構成すれば、微細孔を通じて画像表示領域10aにおける対向基板20とカバーガラス200との間の空間220に液晶装置外部から空気を導入することができる。特に、当該液晶装置の使用中の温度変化により、接着剤210で包囲された空間220内の空気が膨張したり収縮したりしても、対向基板20やカバーガラス200に応力を発生させたり変形させたりすることはなくなる。或いは、この接着剤210を空気を通さない材質から構成すると共に図1に示したシール材52の液晶注入口の場合と同様に、接着剤210の一部を欠如させることにより、接着剤210により包囲された空間に対して空気を通すための開口を設けても、同様の効果が得られる。
【0053】
但し、本実施形態の如く接着剤210で画像表示領域10aを包囲する構成を採用する場合、接着剤210を空気を通さない材質から構成すると共に、接着剤210により包囲された空間220には所定種類の気体又は液体を封入してもよい。このように構成すれば、密封された空間220内に外部から塵や埃が侵入することを防止し得る。この密封された空間220には、窒素等の負活性ガス、化学的に安定した液体等を、従来の液晶装置における液晶封入技術を援用して封入すればよい。特に各マイクロレンズによる集光機能を高めるべく、なるべく低屈折率の気体や液体を封入するのが好ましい。
【0054】
尚、図1及び図2に示した実施形態では、画像表示領域10aには、全く接着剤210が存在していないが、接着剤210の接着能力に鑑み、画像表示領域10a内にも若干の接着剤210が存在しても上述した本実施形態の効果は多少なりとも発揮される。いずれにせよ、画像表示領域10aの大半には、接着剤210が存在しない様に構成するとよい。
【0055】
また、以上説明した実施形態では、接着剤210は、額縁53に沿って画像表示領域10aを包囲するように配置されているが、接着剤210は、周辺領域における3個所以上に離散的に配置してもよい。このように3個所に配置すれば、対向基板20に対してカバーガラス200を安定的に接着固定できる。しかも、画像表示領域10aにおけるカバーガラス200と対向基板20との間の空間220は、接着剤210により密封されることはないので、当該液晶装置の使用中の温度変化により、画像表示領域10aにおける空間220に密封された空気等が膨張したり収縮したりして対向基板20やカバーガラス200に応力を発生させたり変形させたりする事態を比較的簡易に未然防止できる。例えば、接着剤210を額縁53の4辺に沿って4個所に離散的に配置してもよい。これにより、対向基板20をカバーガラス200に対して、より安定的に固定でき、同時に両者間の距離を、画像表示領域10aの全体に渡って均一化できる。
【0056】
(電気光学装置の製造方法)
次に図1及び図2に示した如き全体構成を有する液晶装置の製造プロセスの実施形態について図3を参照しながら説明する。
【0057】
先ず図3の工程(1)に示すように、図示しない額縁53、遮光膜23や更に対向電極、配向膜等が形成される前又は後におけるカバーガラス200に対して、マイクロレンズアレイが形成された対向基板20が光硬化前の光硬化性の接着剤210aにより接着される。ここで特に、接着剤210aは、額縁53に沿って周辺領域のみに塗布され、カバーガラス200と対向基板20との間には、空気で満たされた空間220が構築される。
【0058】
この際、接着剤210aとしては、シアノアクリレートの如く硬化時に汚染物質を発生するものを除けば、光学特性(屈折率等)の如何を問わずに公知の各種接着剤を使用可能である。例えばエポキシ系、アクリル系の接着剤を使用可能である。このような接着剤の配置方法としては、ディスペンサ、スクリーン印刷等の公知技術を利用できる。特に本実施形態では、接着剤210a中に気泡やボイドが入っても構わないため、なるべく低コストでカバーガラス200上に接着剤210aを配置すればよい。尚、対向基板20をカバーガラス200上に対向配置した後に、カバーガラス200と対向基板20との間隙内に周辺領域の脇から接着剤210aを毛細管現象を利用して注入することも可能である。
【0059】
次に図3の工程(2)に示すように、UV(Ultra-Violet:紫外線)光が対向基板20及びカバーガラス200のうち少なくとも一方を介して、光硬化前の光硬化性の接着剤210aに照射され、硬化後の接着剤210となる。
【0060】
次に図3の工程(3)に示すように、カバーガラス200が接着された対向基板20と、各種の素子や配線等が形成されたTFTアレイ基板10とを、シール材52により貼り合せる。尚この例では、TFTアレイ基板10の外側にも、偏光板や位相差板等の光学板10’が取り付けられている。
【0061】
次に図3の工程(4)に示すように、工程(3)により完成した液晶装置本体を、ケース300内に収容する。
【0062】
以上の結果、上述した本実施形態の液晶装置を比較的容易に且つ安価に製造できる。
【0063】
尚、工程(2)において、UV光に代えてまたは加えて、接着剤210に対して熱を照射して、接着剤210に対する硬化処理を行ってもよい。更に、図3の工程(4’)に示すように、ケース300の額縁で画像表示領域10aを規定するのではなく、幅広の額縁53’をカバーガラス200上に設けるようにしてもよい。
【0064】
(電気光学装置の画素部)
本発明による電気光学装置の画素部について、図4から図6を参照して説明する。図4は、電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。図5は、データ線、走査線、画素電極、遮光膜等が形成されたTFTアレイ基板の相隣接する複数の画素群並びに対向基板に形成された遮光膜及びマイクロレンズの平面図である。図6は、対向基板に形成されたマイクロレンズにより入射光が集光される様子を擬似断面にて示す模式図である。尚、図6においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてあり、更に、集光の様子を理解し易く描くために、マイクロレンズ及びTFTの配置関係を、実際の配置関係とは異ならしめてある。即ち、実際には、図5に示すように、マイクロレンズは、そのレンズ中心が各画素中心に一致するように配置されており、TFTは、遮光領域の交点にほぼ対応するように配置されている。
【0065】
図4において、本実施形態による電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素は、画素電極9aを制御するためのTFT30がマトリクス状に複数形成されており、画像信号が供給されるデータ線6aが当該TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、…、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしても良い。また、TFT30のゲートに走査線3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線3aにパルス的に走査信号G1、G2、…、Gmを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9aは、TFT30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。画素電極9aを介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、対向基板に形成された対向電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ノーマリーホワイトモードであれば、印加された電圧に応じて入射光が通過不可能とされ、ノーマリーブラックモードであれば、印加された電圧に応じて入射光が通過可能とされ、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストを持つ光が出射する。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9aと対向電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70を付加する。
【0066】
図5において、電気光学装置のTFTアレイ基板上には、マトリクス状に複数の透明な画素電極9a(点線により輪郭が示されている)が設けられており、画素電極9aの縦横の境界に各々沿ってデータ線6a、走査線3a及び容量線3bが設けられている。また、これらの配線の各交点にほぼ対応してTFT30が設けられている。図中、1点鎖線で示されており上下方向に伸びる各データ線6aは、コンタクトホール5を介してポリシリコン膜等からなる半導体層1aのうちTFT30のソース領域に電気的接続されている。画素電極9aは、コンタクトホール8を介して半導体層1aのうちTFT30のドレイン領域に電気的接続されている。また、図中左右方向に伸びる各走査線3aは、半導体層1aのうちチャネル領域1a’(図中右下りの斜線の領域)に対向するように配置されており、走査線3aはTFT30のゲート電極として機能する。
【0067】
容量線3bは、走査線3aに沿ってほぼ直線状に伸びる本線部と、データ線6aと交差する箇所からデータ線6aに沿って図中上向きに突出した突出部とを有する。そして、半導体層1aは、TFT30から容量線3bに沿って蓄積容量電極1fとして延設されており、この蓄積容量電極1fと容量線3bとが誘電体としての絶縁膜(ゲート絶縁膜)を介して対向配置されることにより、蓄積容量が形成されている。
【0068】
図中、1点鎖線で示されており走査線3a及び容量線3bに沿って左右方向に伸びる領域には、複数の縞状部分からなる第1遮光膜11aが設けられている。これにより、半導体層1aのチャネル領域1a’を含むTFT30をTFTアレイ基板側から夫々覆うように構成されている。このようにTFTの下側にも遮光膜を設ければ、TFTアレイ基板10の側からの裏面反射(戻り光)や複数の液晶装置をプリズム等を介して組み合わせて一つの光学系を構成する場合に、他の液晶装置からプリズム等を突き抜けて来る投射光部分等が当該液晶装置のTFTに入射するのを未然に防ぐことができる。
【0069】
図5には更に、対向基板に、各画素電極11aに夫々対向して形成される複数のマイクロレンズのマイクロレンズ端500aと、対向基板上において複数のマイクロレンズ端500aに夫々対向配置された網目状の遮光膜23(図中、右上がりの斜線領域)とが示されている。
【0070】
図6に示すように、TFTアレイ基板10と対向基板20(カバーガラス200)とは対向配置され、両基板間に液晶層50が挟持される。TFTアレイ基板10は、例えば石英基板からなり、対向基板20は、例えばガラス基板や石英基板からなる。
【0071】
図6の模式図の上半分の断面図部分に示すように、電気光学装置の対向基板20には、対向基板20の側から入射される入射光を複数の画素電極9aに夫々集光するマトリクス状に配置された複数のマイクロレンズ500と、複数のマイクロレンズ500の相互の境界に夫々対向する位置に形成された第2遮光膜23とを備える。マイクロレンズ500の表面には、図6では図示されていない周辺領域で接着剤210により貼り付けられたカバーガラス200が空間220を介して対向配置されている。この上に(図中下側に)更に第2遮光膜23及び対向電極21が形成されている。マイクロレンズ500は、後述のように、感光性樹脂からなり、空間220に満たされた空気とマイクロレンズ500を構成する感光性樹脂材料との間における屈折率の違いにより、レンズ効率の極めて高い集光レンズとしての機能を果たす。
【0072】
図6の模式図の下半分の断面図部分において、TFTアレイ基板10には、画素電極9aが設けられており、その上側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜16が設けられている。画素電極9aは例えば、ITO膜(インジウム・ティン・オキサイド膜)などの透明導電性薄膜からなる。また配向膜16は例えば、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる。
【0073】
他方、図6の模式図の上半分の断面図部分に示すように、カバーガラス200上には、その全面に渡って対向電極(共通電極)21が設けられており、その下側には、ラビング処理等の所定の配向処理が施された配向膜22が設けられている。対向電極21は例えば、ITO膜などの透明導電性薄膜からなる。また配向膜22は、ポリイミド薄膜などの有機薄膜からなる。
【0074】
以上のように構成されているため、本実施形態の電気光学装置によれば、対向基板20とカバーガラス200との間に備えられた複数のマイクロレンズ500により、対向基板20側からの入射光は、複数の画素電極9a上に夫々集光される。従って、マイクロレンズ500が無い場合と比較して、各画素における実効開口率が高められている。
【0075】
そして、マイクロレンズ500により、対向基板20側からの入射光は画素電極9a上の集光領域500bに夫々集光されるので(図5参照)、入射光の利用効率は高められると同時に、第2遮光膜23の存在により、カバーガラス200における機械的強度及び熱遮断性能は夫々、第2遮光膜23が無かった場合と比較して顕著に高められる。
【0076】
(マイクロレンズの製造方法)
次に、本実施形態に用いられるマイクロレンズ500の製造方法について、図7乃至図9を参照して3つの製造方法について説明する。
【0077】
先ず最初の製造方法について、図7を用いて説明する。図7(a)に示すように、基板20上に、感光性を有するとともに、熱変形性を有するレジスト層711を形成する。次に、図7(b)に示すように、基板20上のうち、エッチングすべき領域をポジ像として有するマスク層610をレジスト層711に重なるように位置合わせにし、マスク層610を介して紫外線を照射してレジスト層711の露光を行う。次に、図7(c)に示すように、露光後のマスク層610を現像して露光された部分を除去する。その結果、マイクロレンズが形成される部分にレジスト層711が残り、図7(c)に示す状態で、加熱工程を行う。その結果、レジスト層711は軟化し、図7(d)に示すように、レジスト層711の角の部分が丸められる。次に図7(e)に示すように、レジスト層711が凸面としてマトリクス状に配列した面からドライエッチングを行い、基板20の表面にマイクロレンズ500が形成されることになる。次に図7(f)に示すように、マイクロレンズ500の表面に光硬化性の接着剤210を塗布してネオセラム等からなるカバーガラス200を押し付けて接着する。
【0078】
最後に図7(g)に示すように、第2遮光膜23、対向電極21及び配向膜22をスパッタリング、コーティング等によりこの順に成膜して、図6に示した如きマイクロレンズ500及び第2遮光膜23を備えた対向基板20を完成させる。
【0079】
次に、別のマイクロレンズの製造方法に関して図8を用いて説明する。
【0080】
図8(a)に示すように、成形型となるガラス基板1の表面にマスク層611を形成する。次に図8(b)に示すように、マスク層611に所定の平面配列で開口部611aをフォトリソグラフィ法のパターニング処理により形成する。次に図8(c)に示すように、マスク層611で被覆した面をフッ酸系のエッチャントに入れてウェットエッチングを行う。次に図8(d)に示すように、マスク層611を除去し、凹部3が形成された面を再度ウェットエッチングし、次にガラス基板1の表面にフッ酸系またはシリコン系材料からなる離型剤層4を形成する。次に図8(e)に示すように、離型剤層4を形成した表面に光硬化性あるいは熱硬化性の高屈折率樹脂材料5を塗布し、さらに、図9(f)に示すように、基板20を高屈折率樹脂材料5の上から押しつけ、高屈折率樹脂材料5を展開せしめる。高屈折率樹脂材料5の上に基板20を重ねた状態で、紫外線を照射するか加熱することで高屈折率樹脂材料5を硬化せしめ、図8(g)に示すように、基板6と高屈折率樹脂材料5からなる凸状のマイクロレンズ500をガラス基板1から剥離する。次に、図8(h)に示すように、凸状のマイクロレンズ500の上に光硬化性の低屈折率樹脂材料からなる接着剤210を塗布する。次に、カバーガラス200をマイクロレンズ500上の接着剤210上から押し付けて硬化させる。
【0081】
次にさらに別のマイクロレンズの製造方法について図9を用いて説明する。上述の2つのマイクロレンズの製造方法は、凸型のレンズを形成しているが、図9に示すマイクロレンズは、凹型のレンズの形成方法を示すものである。
【0082】
先ず図9(a)に示すように、ネオセラム等からなる基板20上に、マスク層612を形成する。次に図9(b)に示すように、マスク層612に所定の平面配列で開口部612aをフォトリソグラフィ法のパターニング処理により形成する。この時、開口部612aの開口径は実際に形成しようとする凹曲面部の径よりも小さいことが望ましい。次に図9(c)に示すように、マスク層612の開口部612aから対向基板20の表面を等方的にエッチング処理し、凹曲面部600を形成する。このエッッチング処理は、フッ酸を主体とするエッチング液を用いた湿式エッチングで行う。次に、図9(d)に示すようにマスク層612をエッチング処理によって除去する。
【0083】
次に図9(e)に示すように、マイクロレンズ500の表面に熱硬化性の接着剤210を塗布してネオセラム等からなるカバーガラス200gを押し付けて硬化させる。
【0084】
次に図9(f)に示すように、カバーガラス200gを研磨して、図6に示した如き、所定の厚みを有するカバーガラス200とする。
【0085】
最後に図9(g)に示すように、第2遮光膜23、対向電極21及び配向膜22をスパッタリング、コーティング等によりこの順に成膜して、図6に示した如きマイクロレンズ500及び第2遮光膜23を備えた対向基板20を完成させる。
【0086】
上記のマイクロレンズの製造方法においては夫々、接着剤210は額縁53に沿って周辺領域にのみ塗布される(画像表示領域10aには塗布されない)。このため、接着剤210の経時劣化による弊害を効率良く防止でき、安価な接着剤210を用いることも可能となる。これに加えてマイクロレンズ500の前面に空間220を構築することにより、レンズ効率が非常に高いマイクロレンズ500を製造できる。
【0087】
(電気光学装置の変形形態)
次に、上述した電気光学装置の変形形態について図10及び図11を参照して説明する。
【0088】
第1に、図6に示したマイクロレンズ500については、図10に示すように構成されてもよい。即ち、予め各レンズの凸面が形成された透明板(マイクロレンズアレイ)を対向基板20の表面(図中、上面)に貼り付けてマイクロレンズ500’付きの対向基板20を構成するようにしてもよい。この場合、光硬化性の接着剤210’により周辺領域でカバーガラス200’を接着することにより、空間220’に面するマイクロレンズアレイを構築する。更に、対向基板20の液晶層50に対面する側の面上に、このようなマイクロレンズアレイを貼り付けてもよい。
【0089】
第2に、図6に示したマイクロレンズ500に代えて、板状部材の他の例として図11に示すように防塵ガラス202を光硬化性の接着剤により対向基板20の表面(図中、上面)に接着してもよい。或いは、放熱ガラス、デフォーカス用ガラス板等を光硬化性の接着剤により対向基板20の表面に接着してもよい。いずれの構成においても、接着剤を周辺領域にのみ塗布する(画像表示領域10aには塗布しない)ことにより、接着剤の経時劣化による弊害を効率良く防止でき、安価な接着剤を用いることも可能となる。
【0090】
このように、本実施形態によれば、プロジェクタ用途のライトバルブやそのうち特にB(青色)用のライトバルブのように強力な投射光が透過する電気光学装置の場合に、マイクロレンズアレイ板等を接着する接着剤が当該投射光により経時劣化して悪影響を及ぼす事態を抑制可能となるので大変有利である。
【0091】
尚、本願発明を、TFTアクティブマトリクス駆動方式以外の、TFDアクティブマトリクス方式、パッシブマトリクス駆動方式などいずれの方式の液晶装置に適用しても、上述の実施形態の如く接着処理を施すことにより、同様の効果を期待できる。
【0092】
さらに、上述の実施形態では、電気光学装置毎にマイクロレンズ500等を有する基板20と接着剤210を介してカバーガラス200に貼り合わせる構成について説明したが、カバーガラス200が接着された対向基板20を複数個まとめて形成してもよい。即ち、図12に示すように、複数の電気光学装置用のマイクロレンズを有する大型基板(マザー基板)20’と大型カバーガラス200’とを接着剤210aで貼り合わせて押し付ける。次に、UV光が大型基板20’及び大型カバーガラス200’のうち少なくとも一方を介して、光硬化前の光硬化性の接着剤210aに照射され、硬化後の接着剤210となる。その後、ダイシングライン80に沿ってダイシングすることにより、個々の電気光学装置用にカバーガラス200が接着された対向基板20が得られる。その後、カバーガラス200が接着された対向基板20と各種の素子や配線等が形成されたTFTアレイ基板10とを、シール材52により貼り合わせる。このような製造方法を用いることにより、工程時間及び工程数を短縮することができる。
【0093】
以上説明した実施形態における液晶装置では、対向基板20の外面及びTFTアレイ基板10の外面には各々、例えば、TN(Twisted Nematic)モード、VA(Vertically Aligned)モード、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)モード等の動作モードや、ノーマリーホワイトモード/ノーマリーブラックモードの別に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板などが所定の方向で配置される。また、対向基板20上に、何層もの屈折率の相違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、RGB色を作り出すダイクロイックフィルタを形成してもよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によれば、より明るいカラー液晶装置が実現できる。
【0094】
(電子機器)
次に、以上詳細に説明した実施形態における電気光学装置を備えた電子機器の実施の形態について図13及び図14を参照して説明する。
【0095】
先ず図13に、上述の実施形態の電気光学装置からなる液晶装置100及びその駆動回路1004を備えた電子機器の概略構成を示す。
【0096】
図13において、電子機器は、表示情報出力源1000、表示情報処理回路1002、駆動回路1004、液晶装置100、クロック発生回路1008並びに電源回路1010を備えて構成されている。表示情報出力源1000は、ROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)、光ディスク装置などのメモリ、画像信号を同調して出力する同調回路等を含み、クロック発生回路1008からのクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの表示情報を表示情報処理回路1002に出力する。表示情報処理回路1002は、増幅・極性反転回路、相展開回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種処理回路を含んで構成されており、クロック信号に基づいて入力された表示情報からデジタル信号を順次生成し、クロック信号CLKと共に駆動回路1004に出力する。駆動回路1004は、液晶装置100を駆動する。電源回路1010は、上述の各回路に所定電源を供給する。尚、液晶装置100を構成するTFTアレイ基板の上に、駆動回路1004を搭載してもよく、これに加えて表示情報処理回路1002を搭載してもよい。
【0097】
次に図14に、このように構成された電子機器の具体例を示す。
【0098】
図14において、電子機器の一例たる液晶プロジェクタ(投射型表示装置)1100は、上述した駆動回路1004がTFTアレイ基板上に搭載された液晶装置100を含む液晶モジュールを3個用意し、夫々RGB用のライトバルブ100R、100G及び100Bとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ1100では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミラー1106及び2枚のダイクロイックミラー1108によって、RGBの3原色に対応する光成分R、G、Bに分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、100G及び100Bに夫々導かれる。この際特にB光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そして、ライトバルブ100R、100G及び100Bにより夫々変調された3原色に対応する光成分は、ダイクロイックプリズム1112により再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー画像として投射される。
【0099】
本発明は、上述した各実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴なう電気光学装置或いはその製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態の液晶装置の全体構成を示す平面図である。
【図2】図1のH−H’断面図である。
【図3】実施形態における製造方法を示す工程図である。
【図4】実施形態の液晶装置の画像表示領域を構成するマトリクス状の複数の画素に設けられた各種素子、配線等の等価回路である。
【図5】実施形態の液晶装置におけるTFTアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図である。
【図6】実施形態の液晶装置において、対向基板に設けられたマイクロレンズにより入射光を集光する様子を示す模式図である。
【図7】図6に示したマイクロレンズの製造方法を順を追って示す工程図である。
【図8】別のマイクロレンズの製造方法を順を追って示す工程図である。
【図9】さらに別のマイクロレンズの製造方法を順を追って示す工程図である。
【図10】実施形態におけるマイクロレンズの他の一例が形成された画素部における対向基板の拡大断面図である。
【図11】本発明の他の実施形態における防塵ガラス板が接着された画素部における対向基板の拡大断面図である。
【図12】本実施形態の対向基板とカバーガラスとを接着する構成を示す斜視図である。
【図13】本発明による電子機器の実施の形態の概略構成を示すブロック図である。
【図14】電子機器の一例としての液晶プロジェクタを示す断面図である。
【符号の説明】
3a…走査線
3b…容量線
6a…データ線
9a…画素電極
10…TFTアレイ基板
20…対向基板
23…第2遮光膜
30…画素スイッチング用TFT
50…液晶層
52…シール材
101…データ線駆動回路
104…走査線駆動回路
200…カバーガラス
210…接着剤
220…空間
300…遮光性のケース
500…マイクロレンズ
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention belongs to the technical field of electro-optical devices such as liquid crystal devices and EL (Electro-Luminescence) devices, methods for manufacturing the same, and projection display devices.
[0002]
[Background]
In general, this type of electro-optical device is formed by sandwiching an electro-optical material such as liquid crystal between a pair of substrates such as an element substrate such as a TFT array substrate and a cover glass (or a counter substrate). On the outside of the substrate (that is, the surface opposite to the side facing the liquid crystal), a microlens array plate for improving light utilization efficiency and displaying a bright image, and protecting the substrate from dust and dirt. Such as a dust-proof glass plate, a heat-dissipating glass plate for suppressing the temperature rise of the electro-optical device, a defocusing glass plate for reducing adverse effects on the display image due to dust and shadows on the substrate surface by defocusing, etc. Various plate-like members are attached.
[0003]
For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-165621 to 165624, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-196926 disclose liquid crystal devices of a type in which microlenses for improving the utilization efficiency of incident light are provided on a counter substrate. Has been. Further, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 9-113906 discloses a liquid crystal device in which a transparent glass plate having a heat dissipation function and a defocus function is disposed on one or both outer surfaces of a transparent substrate of the liquid crystal device.
[0004]
As described above, the main body of the electro-optical device to which various plate-like members such as a microlens array plate are attached is housed in a light-shielding case such as plastic, and an image display area that transmits and reflects display light. A frame region defining the edge of the case is defined by the edge of the window portion of the case. Alternatively, a frame-shaped light shielding film that is slightly smaller than the window portion of such a case is provided on at least one of the pair of substrates to define a frame region.
[0005]
In the manufacturing method of the electro-optical device provided with such various plate-like members, a plate-like member such as a microlens array plate using a photocurable adhesive or a thermosetting adhesive on the outside of the element substrate or the cover glass. Paste. In this case, a liquid adhesive is generally applied to the entire surface of the element substrate or cover glass by spin coating or the like, and is cured after being bonded. Thereafter, the main body of the electro-optical device including the substrate on which the plate-like member and other members are attached is placed in a light-shielding case, thereby completing the electro-optical device.
[0006]
If the electro-optical device manufactured in this way is, for example, a liquid crystal device for a light valve of a projector, display light (projection light) is transmitted through an image display region viewed from the window of the case, and is displayed for each pixel according to an image signal. The contrast is modulated and image display is performed.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the case of the above-described electro-optical device, there is a problem that a contrast abnormality occurs along the frame region in the image display region in the vicinity of the frame region while being used for a light bulb of a projector or the like. . More specifically, for example, a whitish region is generated along the frame during black display, and a discontinuous surface with abnormal contrast becomes visible. In particular, in the case of a device that transmits relatively strong light, such as a liquid crystal device for a light valve of a projector, such deterioration with time is remarkable. Further, according to research by the inventors of the present invention, color In the case of the liquid crystal device for the light valve of the projector, the deterioration over time is most remarkable in the B device among the three liquid crystal devices for R (red), G (green), and B (blue). Is known. For example, since such a contrast abnormality appears after use for about several hundred hours, this problem is extremely serious in practice in a projector that requires a lifetime of at least several thousand hours.
[0008]
Further, in the case of the above-described electro-optical device, bubbles or impurities are added to the photo-curing adhesive or thermosetting adhesive used for attaching a plate-like member such as a microlens array plate to the outside of the element substrate or the cover glass. There is also a problem that the image quality is deteriorated if mixed. Further, as such an adhesive, in order to exert the lens function of the microlens array, it is necessary to use an adhesive having a sufficiently low refractive index as compared with the material constituting the microlens array. In the case of a device that transmits relatively strong light, such as a liquid crystal device for a light valve of a projector, it is necessary to use an adhesive having chemical characteristics that do not deteriorate due to light. In addition, such an adhesive is required to be light transmissive and have a property of hardly causing light reflection at the interface with the microlens array. As described above, since the requirements for the adhesive material and the coating technique are extremely severe, there is a problem that the manufacturing cost is increased or a certain degree of image quality deterioration due to the adhesive must be sacrificed.
[0009]
The present invention has been made in view of the above problems, and is an electro-optical device in which various plate-like members such as a microlens array plate are bonded to a substrate such as an element substrate or a cover glass (or a counter substrate). Thus, it is an object of the present invention to provide an electro-optical device that can reduce deterioration with time of image quality that occurs near the frame of an image display region, a manufacturing method thereof, and a projection display device that includes the electro-optical device as a light valve.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to solve the above problems, an electro-optical device of the present invention has a transparent substrate having a display region and a peripheral region located around the display region, and a transparent plate-like member disposed to face the substrate with a predetermined gap therebetween. The plate-like member and the substrate are bonded with an adhesive in the peripheral region.
[0011]
According to the electro-optical device of the present invention, the plate-like member is a transparent plate-like member having various functions such as a microlens array plate, a dustproof glass plate, a heat radiating glass plate, and a defocusing glass plate, and an image display area Is bonded to a transparent substrate (for example, a cover glass, a counter substrate, an element substrate, etc.) with an adhesive such as a photocurable adhesive or a thermosetting adhesive. Here, the “peripheral region” means a frame region that defines the frame of the image display region and a narrowly defined peripheral region located around the frame region. Here, since the adhesive is disposed in the peripheral region, when display light including ultraviolet rays, heat rays, etc. is incident on the image display region during use of the electro-optical device (particularly for projector use). Thus, it is possible to prevent a situation where the adhesive is deteriorated due to the display light being irradiated onto the adhesive. Therefore, little or no stress concentration or deformation of the substrate occurs near the boundary between the image display area and the peripheral area due to deterioration of the adhesive. For this reason, it is possible to display a high-quality image in the image display area. In particular, since such deterioration occurs with time (that is, occurs as deterioration with time), the life of the apparatus can be extended, which is advantageous. Furthermore, for example, even if the adhesive disposed in the peripheral region is deteriorated due to deterioration and becomes opaque or cracked, it is advantageous from the viewpoint that the display quality in the image display region is not directly harmed. Even if there is a void in the adhesive from the beginning of manufacture, or the adhesive is made of a material that causes a large light reflection at the interface with the substrate or plate-like member (especially the adhesive should be separated from the optical path of the display light). If provided, this is very advantageous from the viewpoint of not causing the display quality to deteriorate.
[0012]
Incidentally, according to the research of the present inventor, when a plate-like member such as a microlens array plate is adhered to a substrate (for example, a cover glass) not only in a peripheral area but also in an image display area by using a photocurable adhesive, particularly a projector. It has been found that when strong display light is transmitted through the image display area as in the case of the light valve, the photo-curable adhesive causes deformation with time such as sink (deformation that becomes thinner). Here, normally, display light such as projection light is irradiated in the form of a finished product in which light shielding means is provided in the frame area that defines the frame of the image display area, so that it is not shielded by the light shielding means. The photo-curing adhesive part in the image display area that is largely deformed by light including ultraviolet rays and the like, and the photo-curing adhesive in the frame area that is shielded by the light shielding means and is less deformed by light containing ultraviolet light. A difference occurs in the amount of deformation of the photocurable adhesive between the part of the agent. As a result, the substrate to which the plate-like member is bonded with the photo-curing adhesive is deformed with time due to structural stress concentration near the boundary between these two parts, and finally this vicinity It is considered that this leads to deterioration of image quality with time (an increase in contrast abnormality over time).
[0013]
However, in the electro-optical device of the present invention, as described above, since the adhesive is disposed in the peripheral region, the stress concentration near the boundary between the image display region and the frame region due to the aging of the photocurable adhesive. And little or no deformation of the substrate. Accordingly, it is possible to reduce deterioration of image quality with time that occurs locally in the vicinity of such a boundary.
[0014]
As a result, according to the electro-optical device of the present invention, high-quality image display can be performed over a long period of time according to various functions of the plate-like member. In addition, the adhesive is only required to have a generally stable adhesive property and a level that does not become a contamination source, and the optical properties of the adhesive are not a problem. Accordingly, the degree of freedom regarding the material and coating technique of the adhesive that can be used in the manufacturing process of the electro-optical device is greatly expanded, and the manufacturing cost can be reduced.
[0015]
In one aspect of the electro-optical device of the present invention, the plate-like member includes a microlens array plate.
[0016]
According to this aspect, the microlens array plate is bonded to the substrate such as the cover glass with the adhesive. Accordingly, the display light is condensed so as to enter the opening area of each pixel by the plurality of microlenses of the microlens array plate. In particular, since the adhesive is disposed in the peripheral region, a low refractive index gas or liquid such as air or nitrogen is disposed in a predetermined gap between the microlens array plate and the substrate in the image display region. Thus, the difference in refractive index at the interface between such a gas and each microlens made of a photosensitive resin material can be easily increased. As a result, it is possible to increase the lens capability (condensing capability) of each microlens. As a result, the electro-optical device increases the intensity of light passing through each aperture extremely efficiently even if the pixel aperture ratio is the same, while suppressing deterioration of image quality over time near the frame of the image display area. The displayed image can be brighter.
[0017]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the plate-like member includes a dust-proof glass plate.
[0018]
According to this aspect, the dust-proof glass plate is bonded to the substrate with the adhesive. Accordingly, it is possible to prevent image quality deterioration due to scratches, dust and the like by the dust-proof glass plate while suppressing deterioration of image quality over time in the vicinity of the frame of the image display area.
[0019]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the plate-like member includes a heat dissipation glass plate.
[0020]
According to this aspect, the heat dissipation glass plate is bonded to the substrate with the adhesive. Therefore, it is possible to prevent the temperature of the electro-optical device from increasing while suppressing deterioration of the image quality over time in the vicinity of the frame of the image display area. In particular, when an electro-optical device is used as a light valve in a projector, a strong light source from a light source such as a metal halide lamp is incident on the electro-optical device in a condensed state in order to perform enlarged projection on a screen. However, temperature rise can be effectively suppressed by the heat dissipation glass.
[0021]
In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the plate-like member includes a defocus glass plate.
[0022]
According to this aspect, the glass plate for defocusing is adhere | attached on the board | substrate with the adhesive agent. Accordingly, it is possible to suppress the deterioration of the image quality in the vicinity of the frame of the image display area and to make the image display due to dust or dust at the same time inconspicuous by defocusing. In particular, when small dust or dust is enlarged and projected as in a projector application, it is very effective to defocus using the defocus glass plate in this way.
[0023]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the adhesive is not present in most of the image display area.
[0024]
According to this aspect, no adhesive is present in the majority of the image display area. Here, “not present in most” means that it exists only in an area of less than half, and includes the case where it does not exist at all. For this reason, even if the adhesive deteriorates over time due to light irradiation or the like during use of the electro-optical device, or even if voids or cracks occur in the adhesive from the beginning of manufacture, these adversely affect the image quality. Is small depending on the amount of adhesive in the image display area. Needless to say, it may be configured such that no adhesive is present in the image display area, or may be configured such that no adhesive is present in the frame area defining the frame.
[0025]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the adhesive is discretely arranged at three or more locations in the peripheral region.
[0026]
According to this aspect, since the adhesive is discretely arranged in the peripheral region, the space between the substrate and the plate member in the image display region is not sealed by the adhesive. Therefore, due to a temperature change during use of the electro-optical device, air or the like sealed in the space between the substrate and the plate-like member in the image display region expands or contracts to the substrate or plate-like member. A situation in which stress is generated or deformed can be prevented relatively easily. And since the adhesive agent is arrange | positioned at three or more places, a plate-shaped member can be stably fixed with respect to a board | substrate.
[0027]
In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the adhesive surrounds the periphery of the image display region in a plan view.
[0028]
According to this aspect, the plate-like member can be fixed to the substrate very stably by the adhesive surrounding the periphery of the image display region, and the predetermined gap between the substrate and the plate-like member is set to the entire image display region. It is also possible to make it extremely uniform over the range.
[0029]
In the embodiment surrounded by the adhesive, the adhesive may be made of an air-permeable material provided with a number of fine holes communicating with each other.
[0030]
If comprised in this way, air can be introduce | transduced from the apparatus exterior to the space between the board | substrate and plate-shaped member in an image display area through a micropore. In particular, due to a temperature change during use of the electro-optical device, air or the like sealed in a space between the substrate and the plate-like member in the image display region expands or contracts, and the substrate or the plate-like member A situation in which stress is generated or deformed can be prevented relatively easily. Accordingly, the plate-like member can be fixed to the substrate very stably while reducing the deformation of the substrate and the plate-like member, and the predetermined gap between the substrate and the plate-like member can be extremely extended over the entire image display area. It is also possible to make uniform.
[0031]
Or in the aspect surrounded by this adhesive, the said adhesive consists of a material which does not let air pass, and the opening for letting air pass to the space surrounded by the said adhesive may be provided.
[0032]
If comprised in this way, air can be introduce | transduced from the apparatus exterior to the space between the board | substrate and plate-shaped member in an image display area through opening. In particular, due to a temperature change during use of the electro-optical device, air or the like sealed in a space between the substrate and the plate-like member in the image display region expands or contracts, and the substrate or the plate-like member A situation in which stress is generated or deformed can be prevented relatively easily. Accordingly, the plate-like member can be fixed to the substrate very stably while reducing the deformation of the substrate and the plate-like member, and the predetermined gap between the substrate and the plate-like member can be extremely extended over the entire image display area. It is also possible to make uniform.
[0033]
Alternatively, in the aspect surrounded by the adhesive, the adhesive may be made of a material that does not allow air to pass, and a predetermined type of gas or liquid may be sealed in the space surrounded by the adhesive.
[0034]
If comprised in this way, it can prevent that a dust and dust penetrate | invade from the exterior in sealed space. In this sealed space, a negative active gas such as nitrogen, a chemically stable liquid, or the like may be sealed with the aid of a liquid crystal sealing technique in a conventional liquid crystal device.
[0035]
In order to solve the above-described problems, a method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention is a method for manufacturing the above-described electro-optical device (including the various aspects described above). A step of disposing an adhesive before curing in the peripheral region, a step of disposing the plate-like member on a substrate on which the adhesive before curing is disposed, and a step of curing the adhesive before curing. including.
[0036]
  According to the method for manufacturing an electro-optical device of the present invention, first, an adhesive before curing is disposed in a peripheral region on a substrate such as a cover glass or a counter substrate. As the adhesive, any known adhesive can be used regardless of the optical characteristics (refractive index, etc.) except for those which generate contaminants during curing, such as cyan acrylate. For example, an epoxy or acrylic adhesive can be used. As a method for arranging such an adhesive, known techniques such as dispenser and screen printing can be used. In particular, in the present invention, air bubbles and voids may be included in the adhesive, and therefore the adhesive may be disposed on the substrate as low as possible. Next, a transparent plate-like member having various functions such as a microlens array plate, a dustproof glass plate, a heat radiating glass plate, and a defocusing glass plate is arranged on the substrate on which the adhesive before curing is arranged. Next, the adhesive disposed in a predetermined gap between the plate-like member and the substrate is cured. For example, if it is a photo-curing adhesive, it suffices to irradiate light such as ultraviolet rays through at least one of the substrate and the plate-like member, and if it is a thermosetting adhesive, it can be heated by heat ray irradiation or the like. Good. As a result, the above-described electro-optical device of the present invention can be manufactured relatively easily and inexpensively.
The step of disposing the adhesive before curing is characterized by injecting the adhesive from a peripheral region into the gap between the substrate and the plate-like member using a capillary phenomenon.
According to such a configuration, the adhesive can be disposed at low cost without using a known technique such as dispenser or screen printing.
[0037]
In order to solve the above problems, the projection display device of the present invention includes a light valve composed of the above-described electro-optical device of the present invention (including the above-described various aspects), a light source that makes projection light incident on the light valve, An optical system that projects the projection light emitted from the light valve.
[0038]
According to the projection type display device of the present invention, the above-described electro-optical device (including various aspects thereof) of the present invention is provided as a light valve, so that high-quality image display can be performed over a long period of time.
[0039]
Such an operation and other advantages of the present invention will become apparent from the embodiments described below.
[0040]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0041]
(Overall configuration of electro-optical device)
First, the overall configuration of the electro-optical device according to each embodiment of the invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. Here, a TFT active matrix driving type liquid crystal device with a built-in driving circuit is taken as an example.
[0042]
FIG. 1 is a plan view of a TFT array substrate as viewed from the counter substrate side together with the components formed thereon, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line H-H ′ of FIG. 1.
[0043]
1 and 2, in the liquid crystal device, the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are arranged to face each other, and a large number of microlenses are formed on the lower surface of the counter substrate 20. Is configured as a microlens array plate. Thus, a cover glass 200 as an example of a substrate is bonded to the lower surface of the counter substrate 20 on which the microlenses are formed by an adhesive 210. A liquid crystal layer 50 is sealed between the TFT array substrate 10 and the cover glass 200, and the TFT array substrate 10 and the cover glass 200 are provided with a sealing material provided in a seal region located around the image display region 10a. 52 are bonded to each other.
[0044]
The sealing material 52 is made of, for example, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or the like for bonding both substrates, and after being applied on the TFT array substrate 10 in a manufacturing process described later, is cured by ultraviolet irradiation, heating, or the like. It is a thing. Further, in the sealing material 52, if the liquid crystal device is a small-sized liquid crystal device that performs enlarged display as in a projector application, a glass fiber or a glass fiber for setting a distance between the two substrates (inter-substrate gap) to a predetermined value is used. Gap materials (spacers) such as glass beads may be dispersed. Alternatively, such a gap material may be included in the liquid crystal layer 50 as long as the liquid crystal device is a large-sized liquid crystal device that performs the same size display as a liquid crystal display or a liquid crystal television.
[0045]
A light-shielding frame 53 that defines the image display area 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal area where the seal material 52 is disposed.
[0046]
A data line driving circuit 101 and an external circuit connection terminal 102 are provided along one side of the TFT array substrate 10 in a peripheral area outside the sealing area where the sealing material 52 is disposed. It is provided along two sides adjacent to this one side. Further, on the remaining side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 105 are provided for connecting between the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display area. In addition, at least one corner of the counter substrate 20 is provided with a vertical conductive material 106 for establishing electrical continuity between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20.
[0047]
In FIG. 2, an alignment film made of a polyimide material is formed on the TFT array substrate 10 on the pixel electrode after the pixel switching TFT 30 and the wiring such as the scanning line, the data line, and the capacitor line are formed. Yes. On the other hand, on the cover glass 200 (the lower surface in FIG. 2), in addition to the counter electrode, a light shielding film 23 that defines a non-opening region for each pixel, a color filter, and the like are formed on the uppermost layer portion. An alignment film made of a system material is formed. Each of the pair of alignment films is subjected to an alignment treatment so as to align the liquid crystal in the liquid crystal layer 50 in a predetermined direction and to give a predetermined pretilt angle to the liquid crystal after applying and baking a polyimide material. Yes. The light shielding film 23 has a function of improving contrast in a display image and preventing color mixture of color materials when a color filter is formed. Such a light shielding film 23 may be formed not on the counter substrate 20 side but on the TFT array substrate 10.
[0048]
The liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several types of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between a pair of alignment films.
[0049]
2, the main body of the liquid crystal device having the above-described configuration is accommodated in a light-shielding case 300 made of plastic or the like. In the center of the case 300, a window is provided corresponding to the image display area 10a, and an edge portion defining the window of the case 300 is provided corresponding to the frame area.
[0050]
In the present embodiment, in particular, the adhesive 210 is disposed in the gap between the counter substrate 20 (microlens array plate) and the cover glass 200, and in the peripheral region spreading around the image display region 10a, The cover glass 200 is bonded. Accordingly, when powerful display light for a projector is incident on the image display area 10a during use of the liquid crystal device, the adhesive 210 is prevented from being deteriorated due to the display light being applied to the adhesive 210. It becomes possible. As a result, the stress concentration near the boundary between the image display region 10a and the peripheral region due to the deterioration of the adhesive 210 and the deformation of the counter substrate 20 and the cover glass 200 hardly occur at all. Furthermore, even if the adhesive 210 is deteriorated due to deterioration and becomes opaque or cracked, the display quality in the image display area 10a is not directly harmed, as is apparent from FIG. In addition, since the space 220 between the counter substrate 20 and the cover glass 200 in the image display region 10a is filled with air, the microlens is formed by an adhesive applied to the entire surface of the image display region as in the prior art. Compared with the case where a cover glass is bonded to the array plate, the lens ability (light collecting ability) of each microlens is remarkably enhanced.
[0051]
Furthermore, in the present embodiment, the adhesive 210 is formed in substantially the same area as the sealant 52 on the plan view of FIG. 1 and surrounds the periphery of the image display area 10a. Therefore, the cover glass 200 can be fixed to the counter substrate 20 very stably by the adhesive 210, and the space 220 between them can be made uniform over the entire image display area 10a.
[0052]
When adopting a configuration in which the image display region 10a is surrounded by the adhesive 210 as in the present embodiment, the adhesive 210 may be made of a material that allows air to pass therethrough in which a large number of micropores communicate with each other. With this configuration, air can be introduced from the outside of the liquid crystal device into the space 220 between the counter substrate 20 and the cover glass 200 in the image display region 10a through the fine holes. In particular, even if the air in the space 220 surrounded by the adhesive 210 expands or contracts due to a temperature change during use of the liquid crystal device, stress or deformation occurs in the counter substrate 20 or the cover glass 200. You wo n’t be letting it go. Alternatively, the adhesive 210 is made of a material that does not allow air to pass through, and, similar to the liquid crystal injection port of the sealing material 52 shown in FIG. The same effect can be obtained by providing an opening for allowing air to pass through the enclosed space.
[0053]
However, when the configuration in which the image display area 10a is surrounded by the adhesive 210 as in the present embodiment is adopted, the adhesive 210 is made of a material that does not allow air to pass, and the space 220 surrounded by the adhesive 210 has a predetermined amount. A kind of gas or liquid may be enclosed. With this configuration, it is possible to prevent dust and dirt from entering the sealed space 220 from the outside. In this sealed space 220, a negative active gas such as nitrogen, a chemically stable liquid, or the like may be sealed with the aid of a liquid crystal sealing technique in a conventional liquid crystal device. In particular, it is preferable to enclose a gas or liquid having a low refractive index as much as possible in order to enhance the light collecting function of each microlens.
[0054]
In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the adhesive 210 is not present at all in the image display area 10a. However, in view of the adhesive capability of the adhesive 210, there is a slight amount in the image display area 10a. Even if the adhesive 210 is present, the above-described effect of the present embodiment is exhibited to some extent. In any case, it is preferable that the adhesive 210 is not present in most of the image display area 10a.
[0055]
In the embodiment described above, the adhesive 210 is disposed so as to surround the image display region 10a along the frame 53, but the adhesive 210 is discretely disposed at three or more locations in the peripheral region. May be. Thus, if it arrange | positions in three places, the cover glass 200 can be adhere | attached and fixed stably with respect to the opposing board | substrate 20. FIG. In addition, since the space 220 between the cover glass 200 and the counter substrate 20 in the image display area 10a is not sealed by the adhesive 210, the temperature change in use of the liquid crystal device causes a change in the image display area 10a. A situation in which the air sealed in the space 220 expands or contracts to generate stress or deform the counter substrate 20 or the cover glass 200 can be prevented relatively easily. For example, the adhesive 210 may be discretely arranged at four locations along the four sides of the frame 53. Thereby, the counter substrate 20 can be more stably fixed to the cover glass 200, and at the same time, the distance between the two can be made uniform over the entire image display region 10a.
[0056]
(Method for manufacturing electro-optical device)
Next, an embodiment of a manufacturing process of a liquid crystal device having the overall configuration as shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIG.
[0057]
First, as shown in step (1) of FIG. 3, a microlens array is formed on the cover glass 200 before or after the frame 53, the light shielding film 23, the counter electrode, the alignment film, and the like (not shown) are formed. The counter substrate 20 is bonded by a photo-curable adhesive 210a before photo-curing. Here, in particular, the adhesive 210 a is applied only to the peripheral region along the frame 53, and a space 220 filled with air is constructed between the cover glass 200 and the counter substrate 20.
[0058]
At this time, as the adhesive 210a, various known adhesives can be used regardless of optical characteristics (refractive index, etc.) except for those that generate contaminants during curing, such as cyanoacrylate. For example, an epoxy or acrylic adhesive can be used. As a method for arranging such an adhesive, known techniques such as dispenser and screen printing can be used. In particular, in the present embodiment, air bubbles and voids may be included in the adhesive 210a. Therefore, the adhesive 210a may be disposed on the cover glass 200 as low as possible. It is also possible to inject the adhesive 210a from the side of the peripheral region into the gap between the cover glass 200 and the counter substrate 20 by using a capillary phenomenon after the counter substrate 20 is disposed opposite to the cover glass 200. .
[0059]
Next, as shown in step (2) of FIG. 3, UV (Ultra-Violet) light passes through at least one of the counter substrate 20 and the cover glass 200, and is a photocurable adhesive 210a before photocuring. To become an adhesive 210 after curing.
[0060]
Next, as shown in step (3) in FIG. 3, the counter substrate 20 to which the cover glass 200 is bonded and the TFT array substrate 10 on which various elements, wirings, and the like are formed are bonded together with a sealing material 52. In this example, an optical plate 10 ′ such as a polarizing plate or a retardation plate is also attached to the outside of the TFT array substrate 10.
[0061]
Next, as shown in step (4) of FIG. 3, the liquid crystal device main body completed in step (3) is accommodated in case 300.
[0062]
As a result, the above-described liquid crystal device of the present embodiment can be manufactured relatively easily and inexpensively.
[0063]
In step (2), instead of or in addition to UV light, the adhesive 210 may be irradiated with heat to perform a curing process on the adhesive 210. Further, as shown in step (4 ′) of FIG. 3, instead of defining the image display region 10 a with the frame of the case 300, a wide frame 53 ′ may be provided on the cover glass 200.
[0064]
(Pixel part of electro-optical device)
The pixel portion of the electro-optical device according to the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is an equivalent circuit of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix that forms an image display region of the electro-optical device. FIG. 5 is a plan view of a plurality of adjacent pixel groups of a TFT array substrate on which data lines, scanning lines, pixel electrodes, a light shielding film, and the like are formed, and a light shielding film and a microlens formed on the counter substrate. FIG. 6 is a schematic diagram showing, in a pseudo section, how incident light is collected by the microlens formed on the counter substrate. In FIG. 6, each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing, so that the scale is different for each layer and each member. The arrangement relationship between the microlens and the TFT is different from the actual arrangement relationship. That is, actually, as shown in FIG. 5, the microlens is arranged so that its lens center coincides with the center of each pixel, and the TFT is arranged so as to substantially correspond to the intersection of the light shielding regions. Yes.
[0065]
In FIG. 4, the plurality of pixels formed in a matrix that forms the image display region of the electro-optical device according to the present embodiment includes a plurality of TFTs 30 for controlling the pixel electrodes 9 a in a matrix. Is electrically connected to the source of the TFT 30. The image signals S1, S2,..., Sn written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a. good. Further, the scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the scanning signals G1, G2,..., Gm are applied to the scanning line 3a in a pulse-sequential manner in this order at a predetermined timing. It is configured. The pixel electrode 9a is electrically connected to the drain of the TFT 30, and the image signal S1, S2,..., Sn supplied from the data line 6a is obtained by closing the switch of the TFT 30 as a switching element for a certain period. Write at a predetermined timing. A predetermined level of image signals S1, S2,..., Sn written to the liquid crystal via the pixel electrode 9a is held for a certain period with the counter electrode formed on the counter substrate. The liquid crystal modulates light by changing the orientation and order of the molecular assembly according to the applied voltage level, thereby enabling gradation display. In the normally white mode, incident light cannot pass according to the applied voltage, and in the normally black mode, incident light can pass according to the applied voltage. Light having a contrast corresponding to the image signal is emitted from the optical device. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9a and the counter electrode.
[0066]
In FIG. 5, a plurality of transparent pixel electrodes 9a (outlined by dotted lines) are provided in a matrix on the TFT array substrate of the electro-optical device, and the vertical and horizontal boundaries of the pixel electrodes 9a are respectively provided. A data line 6a, a scanning line 3a, and a capacitor line 3b are provided along the line. A TFT 30 is provided substantially corresponding to each intersection of these wirings. In the figure, each data line 6 a shown by a one-dot chain line and extending in the vertical direction is electrically connected to the source region of the TFT 30 in the semiconductor layer 1 a made of a polysilicon film or the like via the contact hole 5. The pixel electrode 9 a is electrically connected to the drain region of the TFT 30 in the semiconductor layer 1 a through the contact hole 8. Further, each scanning line 3a extending in the left-right direction in the figure is arranged so as to face the channel region 1a ′ (the hatched area in the right-down direction in the figure) in the semiconductor layer 1a, and the scanning line 3a is the gate of the TFT 30. Functions as an electrode.
[0067]
The capacitor line 3b has a main line portion extending substantially linearly along the scanning line 3a, and a protruding portion protruding upward in the figure along the data line 6a from a location intersecting the data line 6a. The semiconductor layer 1a extends from the TFT 30 along the capacitor line 3b as a storage capacitor electrode 1f, and the storage capacitor electrode 1f and the capacitor line 3b pass through an insulating film (gate insulating film) as a dielectric. Thus, a storage capacitor is formed.
[0068]
In the drawing, a first light-shielding film 11a composed of a plurality of striped portions is provided in a region indicated by an alternate long and short dash line and extending in the left-right direction along the scanning line 3a and the capacitance line 3b. Thus, the TFT 30 including the channel region 1a 'of the semiconductor layer 1a is configured to cover the TFT array substrate side. If a light-shielding film is also provided on the lower side of the TFT as described above, one optical system is configured by combining back surface reflection (return light) from the TFT array substrate 10 side and a plurality of liquid crystal devices via a prism or the like. In this case, it is possible to prevent a projection light portion or the like that penetrates a prism or the like from another liquid crystal device from entering the TFT of the liquid crystal device.
[0069]
Further, in FIG. 5, a microlens end 500a of a plurality of microlenses formed on the counter substrate so as to oppose each pixel electrode 11a, and a mesh disposed on the counter substrate so as to oppose the plurality of microlens ends 500a, respectively. A light-shielding film 23 (in the drawing, a slanting area rising to the right) is shown.
[0070]
As shown in FIG. 6, the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 (cover glass 200) are disposed to face each other, and the liquid crystal layer 50 is sandwiched between the two substrates. The TFT array substrate 10 is made of, for example, a quartz substrate, and the counter substrate 20 is made of, for example, a glass substrate or a quartz substrate.
[0071]
As shown in the cross-sectional view of the upper half of the schematic diagram of FIG. 6, the counter substrate 20 of the electro-optical device has a matrix that collects incident light incident from the counter substrate 20 side on the plurality of pixel electrodes 9 a, respectively. A plurality of microlenses 500 arranged in a shape, and a second light shielding film 23 formed at a position facing each other's boundary between the plurality of microlenses 500. On the surface of the microlens 500, a cover glass 200 affixed with an adhesive 210 in a peripheral region not shown in FIG. A second light shielding film 23 and a counter electrode 21 are further formed thereon (on the lower side in the figure). As will be described later, the microlens 500 is made of a photosensitive resin, and has a very high lens efficiency due to a difference in refractive index between the air filled in the space 220 and the photosensitive resin material constituting the microlens 500. Acts as a light lens.
[0072]
6, the TFT array substrate 10 is provided with a pixel electrode 9a on the upper half of the cross-sectional view of the schematic diagram, and an alignment film 16 that has been subjected to a predetermined alignment process such as a rubbing process is provided above it. Is provided. The pixel electrode 9a is made of a transparent conductive thin film such as an ITO film (indium tin oxide film). The alignment film 16 is made of an organic thin film such as a polyimide thin film.
[0073]
On the other hand, as shown in the cross-sectional view of the upper half of the schematic diagram of FIG. 6, a counter electrode (common electrode) 21 is provided over the entire surface of the cover glass 200. An alignment film 22 subjected to a predetermined alignment process such as a rubbing process is provided. The counter electrode 21 is made of a transparent conductive thin film such as an ITO film. The alignment film 22 is made of an organic thin film such as a polyimide thin film.
[0074]
Since it is configured as described above, according to the electro-optical device of the present embodiment, incident light from the counter substrate 20 side is provided by the plurality of microlenses 500 provided between the counter substrate 20 and the cover glass 200. Are respectively condensed on the plurality of pixel electrodes 9a. Therefore, the effective aperture ratio in each pixel is increased as compared with the case where the microlens 500 is not provided.
[0075]
Since the incident light from the counter substrate 20 side is condensed by the microlens 500 on the condensing region 500b on the pixel electrode 9a (see FIG. 5), the utilization efficiency of the incident light is enhanced and Due to the presence of the two light shielding films 23, the mechanical strength and the heat shielding performance of the cover glass 200 are remarkably enhanced as compared with the case where the second light shielding film 23 is not provided.
[0076]
(Microlens manufacturing method)
Next, a manufacturing method of the microlens 500 used in the present embodiment will be described with reference to FIGS. 7 to 9.
[0077]
First, the first manufacturing method will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7A, a resist layer 711 having photosensitivity and heat deformability is formed on the substrate 20. Next, as shown in FIG. 7B, a mask layer 610 having a positive image of a region to be etched on the substrate 20 is aligned so as to overlap the resist layer 711, and ultraviolet rays are passed through the mask layer 610. To expose the resist layer 711. Next, as shown in FIG. 7C, the exposed mask layer 610 is developed to remove the exposed portion. As a result, the resist layer 711 remains in the portion where the microlens is formed, and the heating step is performed in the state shown in FIG. As a result, the resist layer 711 is softened, and the corner portions of the resist layer 711 are rounded as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 7E, the microlens 500 is formed on the surface of the substrate 20 by performing dry etching from the surface where the resist layer 711 is arranged in a matrix as a convex surface. Next, as shown in FIG. 7F, a photocurable adhesive 210 is applied to the surface of the microlens 500, and a cover glass 200 made of neo-ceram or the like is pressed and bonded.
[0078]
Finally, as shown in FIG. 7G, the second light-shielding film 23, the counter electrode 21 and the alignment film 22 are formed in this order by sputtering, coating or the like, and the microlens 500 and the second lens as shown in FIG. The counter substrate 20 provided with the light shielding film 23 is completed.
[0079]
Next, another microlens manufacturing method will be described with reference to FIG.
[0080]
As shown in FIG. 8A, a mask layer 611 is formed on the surface of the glass substrate 1 serving as a mold. Next, as shown in FIG. 8B, openings 611a are formed in the mask layer 611 in a predetermined planar arrangement by a patterning process using a photolithography method. Next, as shown in FIG. 8C, the surface covered with the mask layer 611 is put into a hydrofluoric acid-based etchant and wet etching is performed. Next, as shown in FIG. 8D, the mask layer 611 is removed, the surface on which the recess 3 is formed is wet-etched again, and then the surface of the glass substrate 1 is separated from a hydrofluoric acid-based or silicon-based material. The mold agent layer 4 is formed. Next, as shown in FIG. 8 (e), a photocurable or thermosetting high refractive index resin material 5 is applied to the surface on which the release agent layer 4 is formed, and further, as shown in FIG. 9 (f). Then, the substrate 20 is pressed from above the high refractive index resin material 5 to unfold the high refractive index resin material 5. In a state where the substrate 20 is superimposed on the high refractive index resin material 5, the high refractive index resin material 5 is cured by irradiating with ultraviolet rays or heating, and as shown in FIG. The convex microlens 500 made of the refractive index resin material 5 is peeled from the glass substrate 1. Next, as shown in FIG. 8H, an adhesive 210 made of a photocurable low refractive index resin material is applied on the convex microlens 500. Next, the cover glass 200 is pressed from the adhesive 210 on the microlens 500 and cured.
[0081]
Next, still another microlens manufacturing method will be described with reference to FIG. Although the above-described two microlens manufacturing methods form a convex lens, the microlens shown in FIG. 9 shows a method of forming a concave lens.
[0082]
First, as shown in FIG. 9A, a mask layer 612 is formed on a substrate 20 made of neo-serum or the like. Next, as shown in FIG. 9B, openings 612a are formed in the mask layer 612 in a predetermined planar arrangement by a patterning process using a photolithography method. At this time, it is desirable that the opening diameter of the opening 612a is smaller than the diameter of the concave curved surface portion to be actually formed. Next, as shown in FIG. 9C, the surface of the counter substrate 20 is isotropically etched from the opening 612 a of the mask layer 612 to form a concave curved surface portion 600. This etching process is performed by wet etching using an etchant mainly composed of hydrofluoric acid. Next, as shown in FIG. 9D, the mask layer 612 is removed by etching.
[0083]
Next, as shown in FIG. 9E, a thermosetting adhesive 210 is applied to the surface of the microlens 500, and a cover glass 200g made of neoceram or the like is pressed and cured.
[0084]
Next, as shown in FIG. 9F, the cover glass 200g is polished to obtain a cover glass 200 having a predetermined thickness as shown in FIG.
[0085]
Finally, as shown in FIG. 9G, the second light-shielding film 23, the counter electrode 21 and the alignment film 22 are formed in this order by sputtering, coating or the like, and the microlens 500 and the second as shown in FIG. The counter substrate 20 provided with the light shielding film 23 is completed.
[0086]
In each of the above-described microlens manufacturing methods, the adhesive 210 is applied only to the peripheral area along the frame 53 (not applied to the image display area 10a). For this reason, it is possible to efficiently prevent adverse effects due to deterioration of the adhesive 210 over time, and it is possible to use an inexpensive adhesive 210. In addition, by constructing the space 220 in front of the microlens 500, the microlens 500 having very high lens efficiency can be manufactured.
[0087]
(Deformation of electro-optical device)
Next, a modification of the above-described electro-optical device will be described with reference to FIGS.
[0088]
First, the microlens 500 shown in FIG. 6 may be configured as shown in FIG. That is, a transparent plate (a microlens array) on which the convex surface of each lens is formed in advance is attached to the surface (upper surface in the drawing) of the counter substrate 20 to constitute the counter substrate 20 with the microlens 500 ′. Good. In this case, a microlens array facing the space 220 'is constructed by adhering the cover glass 200' in the peripheral region with a photo-curable adhesive 210 '. Further, such a microlens array may be attached on the surface of the counter substrate 20 facing the liquid crystal layer 50.
[0089]
Second, instead of the microlens 500 shown in FIG. 6, as another example of the plate-like member, as shown in FIG. 11, the dust-proof glass 202 is bonded to the surface of the counter substrate 20 with a photocurable adhesive (in the drawing, It may be adhered to the upper surface. Alternatively, a heat radiating glass, a defocusing glass plate, or the like may be bonded to the surface of the counter substrate 20 with a photocurable adhesive. In any configuration, by applying the adhesive only to the peripheral area (not to the image display area 10a), it is possible to efficiently prevent the adverse effects caused by the deterioration of the adhesive over time, and it is also possible to use an inexpensive adhesive It becomes.
[0090]
As described above, according to the present embodiment, in the case of an electro-optical device that transmits strong projection light, such as a light valve for projectors, and particularly a light valve for B (blue), a microlens array plate or the like is provided. This is very advantageous because it is possible to suppress the situation where the adhesive to be bonded deteriorates with time due to the projection light and has an adverse effect.
[0091]
Note that the present invention can be applied to any type of liquid crystal device other than the TFT active matrix driving method, such as the TFD active matrix driving method and the passive matrix driving method. The effect of can be expected.
[0092]
Further, in the above-described embodiment, the configuration in which the substrate 20 having the microlens 500 and the like is bonded to the cover glass 200 via the adhesive 210 for each electro-optical device has been described. However, the counter substrate 20 to which the cover glass 200 is bonded. May be formed together. That is, as shown in FIG. 12, a large substrate (mother substrate) 20 'having a plurality of microlenses for an electro-optical device and a large cover glass 200' are bonded together with an adhesive 210a and pressed. Next, UV light is irradiated to the photocurable adhesive 210a before photocuring through at least one of the large substrate 20 'and the large cover glass 200' to become the cured adhesive 210. Thereafter, by dicing along the dicing line 80, the counter substrate 20 to which the cover glass 200 is bonded for each electro-optical device is obtained. Thereafter, the counter substrate 20 to which the cover glass 200 is bonded and the TFT array substrate 10 on which various elements, wirings, and the like are formed are bonded together with a sealing material 52. By using such a manufacturing method, the process time and the number of processes can be shortened.
[0093]
In the liquid crystal device according to the embodiment described above, the outer surface of the counter substrate 20 and the outer surface of the TFT array substrate 10 are respectively provided with, for example, a TN (Twisted Nematic) mode, a VA (Vertically Aligned) mode, and a PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal) mode. The polarizing film, the retardation film, the polarizing plate, and the like are arranged in a predetermined direction according to the operation mode such as normal white mode / normally black mode. Further, a dichroic filter that creates RGB colors by using interference of light may be formed by depositing multiple layers of interference layers having different refractive indexes on the counter substrate 20. According to this counter substrate with a dichroic filter, a brighter color liquid crystal device can be realized.
[0094]
(Electronics)
Next, an embodiment of an electronic apparatus including the electro-optical device according to the embodiment described in detail above will be described with reference to FIGS.
[0095]
First, FIG. 13 illustrates a schematic configuration of an electronic apparatus including the liquid crystal device 100 including the electro-optical device according to the above-described embodiment and the driving circuit 1004.
[0096]
In FIG. 13, the electronic apparatus includes a display information output source 1000, a display information processing circuit 1002, a drive circuit 1004, a liquid crystal device 100, a clock generation circuit 1008, and a power supply circuit 1010. The display information output source 1000 includes a ROM (Read Only Memory), a RAM (Random Access Memory), a memory such as an optical disk device, a tuning circuit that tunes and outputs an image signal, and the like. Based on this, display information such as an image signal in a predetermined format is output to the display information processing circuit 1002. The display information processing circuit 1002 is configured to include various known processing circuits such as an amplification / polarity inversion circuit, a phase expansion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and a display input based on a clock signal. A digital signal is sequentially generated from the information and is output to the drive circuit 1004 together with the clock signal CLK. The drive circuit 1004 drives the liquid crystal device 100. The power supply circuit 1010 supplies predetermined power to the above-described circuits. Note that the drive circuit 1004 may be mounted on the TFT array substrate constituting the liquid crystal device 100, and in addition to this, the display information processing circuit 1002 may be mounted.
[0097]
Next, FIG. 14 shows a specific example of the electronic apparatus configured as described above.
[0098]
Referring to FIG. 14, a liquid crystal projector (projection display device) 1100 as an example of an electronic device prepares three liquid crystal modules including the liquid crystal device 100 in which the above-described drive circuit 1004 is mounted on a TFT array substrate, each for RGB. It is configured as a projector used as the light valves 100R, 100G, and 100B. In the liquid crystal projector 1100, when projection light is emitted from a lamp unit 1102 of a white light source such as a metal halide lamp, light components R, G, and R corresponding to the three primary colors of RGB are obtained by three mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108. B is divided into the light valves 100R, 100G and 100B corresponding to the respective colors. At this time, in particular, the B light is guided through a relay lens system 1121 including an incident lens 1122, a relay lens 1123, and an exit lens 1124 in order to prevent light loss due to a long optical path. The light components corresponding to the three primary colors modulated by the light valves 100R, 100G, and 100B are synthesized again by the dichroic prism 1112 and then projected as a color image on the screen 1120 via the projection lens 1114.
[0099]
The present invention is not limited to each of the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification. An optical device or a manufacturing method thereof is also included in the technical scope of the present invention.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view showing an overall configuration of a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line H-H ′ of FIG.
FIG. 3 is a process diagram showing a manufacturing method in an embodiment.
FIG. 4 is an equivalent circuit of various elements, wirings, and the like provided in a plurality of pixels in a matrix that form an image display area of the liquid crystal device according to the embodiment.
FIG. 5 is a plan view of the TFT array substrate in the liquid crystal device according to the embodiment as viewed from the side of the counter substrate together with each component formed thereon.
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a state in which incident light is collected by a microlens provided on a counter substrate in the liquid crystal device according to the embodiment.
7 is a process chart sequentially illustrating a manufacturing method of the microlens illustrated in FIG. 6;
FIG. 8 is a process chart showing another microlens manufacturing method in order.
FIGS. 9A and 9B are process diagrams sequentially showing another method for manufacturing a microlens. FIGS.
FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of a counter substrate in a pixel portion where another example of a microlens in the embodiment is formed.
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a counter substrate in a pixel portion to which a dustproof glass plate is bonded according to another embodiment of the present invention.
FIG. 12 is a perspective view showing a configuration for bonding a counter substrate and a cover glass of the present embodiment.
FIG. 13 is a block diagram showing a schematic configuration of an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention.
FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a liquid crystal projector as an example of an electronic apparatus.
[Explanation of symbols]
3a ... scan line
3b ... Capacity line
6a ... Data line
9a: Pixel electrode
10 ... TFT array substrate
20 ... Counter substrate
23. Second light shielding film
30 ... TFT for pixel switching
50 ... Liquid crystal layer
52 ... Sealing material
101: Data line driving circuit
104: Scanning line driving circuit
200 ... cover glass
210 ... Adhesive
220 ... space
300 ... Light-shielding case
500 ... Microlens

Claims (8)

表示領域及び表示領域の周辺に位置する周辺領域を有する透明な基板と、
前記基板に所定間隙を隔てて対向配置された透明な板状部材とを備え、
前記周辺領域において、前記板状部材と前記基板とが接着剤により接着されてなり、
前記接着剤は、前記表示領域の周囲を包囲して形成され、外部から空気を導入することができるように、多数の微細孔が設けられることにより空気を通す材質からなることを特徴とする電気光学装置。
A transparent substrate having a display area and a peripheral area located around the display area;
A transparent plate-like member disposed opposite to the substrate with a predetermined gap therebetween,
In the peripheral region, the plate member and the substrate are bonded by an adhesive,
The adhesive is formed so as to surround the display area and is made of a material that allows air to pass therethrough by providing a large number of fine holes so that air can be introduced from the outside. Optical device.
前記板状部材は、マイクロレンズアレイ板を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置の製造方法。  The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the plate-like member includes a microlens array plate. 前記板状部材は、防塵ガラス板を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置の製造方法。  The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the plate-like member includes a dust-proof glass plate. 前記板状部材は、放熱ガラス板を含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。  The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the plate-like member includes a heat radiating glass plate. 前記板状部材は、デフォーカス用ガラス板を含むことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。  5. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 1, wherein the plate-shaped member includes a glass plate for defocusing. 前記接着剤は前記表示領域の大半に存在しないことを特徴とする
電気光学装置。
The electro-optical device is characterized in that the adhesive is not present in most of the display area.
前記接着剤は、前記周辺領域における3個所以上に離散的に配置されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の電気光学装置。  The electro-optical device according to claim 1, wherein the adhesive is discretely arranged at three or more locations in the peripheral region. 請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置からなるライトバルブと、
該ライトバルブに投射光を入射する光源と、
該ライトバルブから出射した前記投射光を投射する光学系と
を備えたことを特徴とする投射型表示装置。
A light valve comprising the electro-optical device according to any one of claims 1 to 7,
A light source for projecting light into the light valve;
And an optical system for projecting the projection light emitted from the light valve.
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JP5358204B2 (en) * 2009-01-28 2013-12-04 株式会社ジャパンディスプレイ Stereoscopic image display device and method for bonding substrate of stereoscopic image display device
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