JP2000246868A - Transfer method and apparatus - Google Patents
Transfer method and apparatusInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体、液晶表示
装置、カラーフィルタ等の製造において、基板上に高精
細パターンを形成するための技術分野に属する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to a technical field for forming a high-definition pattern on a substrate in the manufacture of a semiconductor, a liquid crystal display, a color filter and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、カラーフィルタの製造工程は、
ガラス基板上に真空成膜法等を用いてクロムを成膜する
工程と、フォトレジストを塗布しフォトマスクを配置し
て露光、現像、クロムエッチング、フォトレジスト剥離
を行いストライプ状パターンあるいは格子状パターン等
からなるブラックマトリックスを形成する工程と、ブラ
ックマトリックスの上から着色用感材を塗布した後、フ
ォトマスクを配置し露光し現像を行い着色パターンを形
成し、この着色パターンをＲ、Ｇ、Ｂ３色について繰り
返して複数の着色層を形成する工程と、これら着色層の
上に必要に応じて保護層（オーバーコート層）を形成す
る工程と、酸化インジウム錫を成膜し透明導電層（ＩＴ
Ｏ）を形成する工程とからなる。2. Description of the Related Art For example, the manufacturing process of a color filter is as follows.
A step of forming chromium on a glass substrate using a vacuum film forming method, etc., a step of applying a photoresist and arranging a photomask, exposing, developing, chromium etching, and stripping the photoresist to form a stripe pattern or a lattice pattern And a step of forming a black matrix consisting of: a photosensitive material for coloring from above the black matrix, a photomask is arranged, exposed and developed to form a colored pattern, and the colored pattern is formed into R, G, B3 A step of repeatedly forming a plurality of colored layers for each color, a step of forming a protective layer (overcoat layer) on these colored layers as necessary, and a step of forming indium tin oxide to form a transparent conductive layer (IT
O).
【０００３】上記のようにカラーフィルタの高精細着色
パターンの形成には、フォトリソグラフィー法が用いら
れているが、この方法は、多数の工程を経て製造され、
また、量産には大がかりな装置を必要としている。これ
に対して、フォトリソグラフィー法によりフィルム面に
パターンを形成し、これをガラス基板に転写する方法
が、米国特許第５４６３４８４号、米国特許第５６７３
０９３号により知られている。また、本出願人は、別
途、表面に粘弾性を有する層を設けた連続フィルム状の
印刷基材に凹版内のインキを移転させ、得られた印刷基
材に形成されたインキパターンをガラス基板等に転写す
る高精細印刷方法を特願平１０−２１８９３１号により
出願している。As described above, a photolithography method is used to form a high-definition colored pattern of a color filter. However, this method is manufactured through a number of steps.
Mass production requires a large-scale device. On the other hand, a method of forming a pattern on a film surface by photolithography and transferring the pattern to a glass substrate is disclosed in US Pat. No. 5,463,484 and US Pat. No. 5,673.
No. 093. Further, the present applicant separately transfers the ink in the intaglio to a continuous film-shaped printing substrate provided with a layer having viscoelasticity on the surface, and transfers the ink pattern formed on the obtained printing substrate to a glass substrate. An application for a high-definition printing method for transferring images to a printer or the like is disclosed in Japanese Patent Application No. 10-218931.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記のようにフィルム
からなる転写基材に形成されたパターンをガラス基板等
の被転写基材に転写する方法は、フィルムをロールに巻
き付けて連続して流すことができるため、大がかりな装
置を用いることなく高精細パターンの量産が可能になる
と考えられる。しかしながら、フィルムへのパターン形
成時にはフィルムに所定のテンションをかけ、また、フ
ィルムをロールに巻き付ける際にも所定のテンションを
かけているため、転写前における転写基材と被転写基材
の仮固定工程において、フィルムにパターン形成時とは
異なるテンションが作用し、その結果、フィルムの伸び
縮みの影響により所望の精度で転写基材を被転写基材に
仮固定することができず、高精度の転写ができないとい
う問題を有している。The method of transferring the pattern formed on the transfer substrate made of a film as described above to a substrate to be transferred such as a glass substrate is performed by winding the film around a roll and continuously flowing the film. Therefore, it is considered that mass production of high-definition patterns becomes possible without using a large-scale device. However, since a predetermined tension is applied to the film when forming a pattern on the film, and a predetermined tension is also applied when the film is wound around a roll, a temporary fixing step of the transfer base material and the transfer-receiving base material before transfer is performed. In the above, a tension different from that at the time of pattern formation acts on the film, and as a result, the transfer base material cannot be temporarily fixed to the base material to be transferred with a desired accuracy due to the influence of the expansion and contraction of the film. There is a problem that can not be.
【０００５】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
であって、転写基材上に形成された高精細パターンを高
精度で被転写基材に転写することができる転写方法およ
び転写装置を提供することを目的とする。The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a transfer method and a transfer apparatus capable of transferring a high-definition pattern formed on a transfer substrate to a transfer substrate with high accuracy. The purpose is to provide.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】そのために、本発明の請
求項１記載の転写方法は、高精細パターンを転写する方
法において、連続して搬送される表面に高精細パターン
が形成されたフィルム状の転写基材を被転写基材に密着
させ仮固定するときの該転写基材のテンションを、パタ
ーン形成時の該転写基材のテンションと同一もしくは略
同一に調整し、その後、熱および圧力を加えることによ
り高精細パターンを転写基材から被転写基材へ転写する
ことを特徴とし、本発明の請求項２記載の転写装置は、
表面に高精細パターンが形成され、連続して搬送される
フィルム状の転写基材９と、被転写基材が配設された仮
固定ステージ３２とを備え、前記仮固定ステージの両側
に転写基材のテンションを調節可能にするテンション調
整ローラ２３を設け、前記テンションをパターン形成時
のテンションと略同一にし、転写基材９と被転写基材３
５を密着、仮固定することを特徴とし、請求項３記載の
発明は、前記テンション調整ローラは、転写基材を吸着
しながら回動されることを特徴とし、請求項４記載の発
明は、前記転写装置が、転写基材の表面に形成された高
精細パターンを被転写基材に転写させる転写ロールを有
することを特徴とし、請求項５記載の発明は、前記テン
ション調整ローラは、転写基材を挟着するニップローラ
３７と、該ニップローラの間に配設され上下方向に移動
されるダンサーローラ３８であることを特徴とし、請求
項６記載の発明は、前記テンション調整ローラの一方
は、転写基材を挟着可能に配設されたニップローラ３７
および電磁ブレーキ付きローラ４３であり、他方は転写
基材を挟着可能に配設されたニップローラ３７およびト
ルクモータ付きローラ４４であることを特徴とし、請求
項７記載の発明は、請求項１〜４において、前記仮固定
ステージ３２の転写基材９と反対側に、パターンのサイ
ズを検出するサイズ検出器４２を配設し、パターンのサ
イズが所定値以上の場合にテンション調整ローラにより
テンションを調整することを特徴とする。なお、上記構
成に付加した番号は、本発明の理解を容易にするために
図面と対比させるもので、これにより本発明が何ら限定
されるものではない。According to the present invention, there is provided a transfer method for transferring a high-definition pattern, comprising the steps of: The tension of the transfer base material when the transfer base material is brought into close contact with the transfer base material and temporarily fixed is adjusted to be the same or substantially the same as the tension of the transfer base material at the time of pattern formation, and then heat and pressure are adjusted. The transfer device according to claim 2 of the present invention is characterized in that the high-definition pattern is transferred from the transfer base material to the transfer base material by the addition.
A high-definition pattern is formed on the surface and a film-shaped transfer substrate 9 that is continuously conveyed, and a temporary fixing stage 32 on which a substrate to be transferred is disposed, and transfer substrates are provided on both sides of the temporary fixing stage. A tension adjusting roller 23 for adjusting the tension of the material is provided. The tension is made substantially the same as the tension at the time of pattern formation.
The invention according to claim 3 is characterized in that the tension adjusting roller is rotated while adsorbing the transfer base material, and the invention according to claim 4 is characterized in that 6. The transfer device according to claim 5, wherein the transfer device includes a transfer roll that transfers a high-definition pattern formed on the surface of the transfer base material to the transfer target base material. 7. The invention according to claim 6, wherein a nip roller 37 for sandwiching the material, and a dancer roller 38 disposed between the nip rollers and moved in a vertical direction are provided. Nip roller 37 disposed so as to hold a substrate
And a roller 43 with an electromagnetic brake, and the other is a nip roller 37 and a roller 44 with a torque motor arranged so as to be able to clamp the transfer base material. In 4, the size detector 42 for detecting the size of the pattern is disposed on the side opposite to the transfer base material 9 of the temporary fixing stage 32, and when the size of the pattern is equal to or larger than a predetermined value, the tension is adjusted by a tension adjusting roller. It is characterized by doing. It should be noted that the numbers added to the above configuration are compared with the drawings to facilitate understanding of the present invention, and the present invention is not limited thereto.
【０００７】[0007]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図５は、本発明で採用される転写
基材の製造例を示し、図（Ａ）は印刷装置の模式図、図
（Ｂ）、図（Ｃ）はグラビア胴から印刷基材にインキが
転移される過程を示す図である。なお、本発明において
は、上記したフォトリソグラフィー法によりパターンが
形成された転写基材を採用することも可能である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 5A and 5B show an example of manufacturing a transfer base material used in the present invention. FIG. 5A is a schematic view of a printing apparatus, and FIGS. 5B and 5C show transfer of ink from the gravure cylinder to the print base material. It is a figure showing a process performed. In the present invention, it is also possible to employ a transfer substrate on which a pattern is formed by the above-described photolithography method.
【０００８】図（Ａ）において、インキ２は回転するフ
ァニッシャーローラ３に均一に付着され、次いで、ファ
ニッシャーローラ３と接触して回転するグラビア胴４上
に形成された印刷パターン５にインキが充填され、さら
に、印刷パターン５のインキの表面がドクター６によっ
て整形される。次いで、連続フィルム状の印刷基材７が
連続的にグラビア胴４の表面に供給され、グラビア胴４
と反対の面から回転する圧胴８によって押圧され、印刷
基材７の面上にグラビア胴４の印刷パターン５が印刷さ
れたフィルム状の転写基材９が製造される。なお、Ｆは
印刷基材７に作用させるテンションを示す。In FIG. 1A, the ink 2 is uniformly adhered to a rotating furnisher roller 3 and then formed into a print pattern 5 formed on a rotating gravure cylinder 4 in contact with the furnisher roller 3. The ink is filled, and the surface of the printing pattern 5 is shaped by the doctor 6. Next, the printing substrate 7 in the form of a continuous film is continuously supplied to the surface of the gravure cylinder 4.
A transfer substrate 9 in the form of a film in which the printing pattern 5 of the gravure cylinder 4 is printed on the surface of the printing substrate 7 by being pressed by the impression cylinder 8 rotating from the opposite side. F indicates the tension applied to the printing substrate 7.
【０００９】図（Ｂ）において、印刷基材７は、圧胴８
によってグラビア胴４の表面に所定の圧力によって密着
させられるが、印刷基材７が背面から圧胴８により加圧
されてグラビア胴４のパターン非形成部１０に接触させ
られると、印刷基材７の支持体１１の表面に形成された
粘弾層１２がパターン非形成部１０に密着する。粘弾層
１２は、グラビア胴４の回転に伴って、接触部を変えな
がら移動する。図（Ｂ）に示すように、印刷基材７の表
面が印刷パターン５と接触して印刷基材７側へのインキ
の転移が始まった段階では、印刷パターン形成部の近傍
１３では、印刷基材７の表面の粘弾層１２は、依然とし
てグラビア胴４のパターン非形成部１０と密着してい
る。回転に伴って移動した印刷基材７は、図（Ｃ）に示
すように、印刷パターン５の近傍のパターン非形成部１
４に一部が接触した状態で転移が進むので、正確に位置
決めが行われた状態で印刷が完了することになる。In FIG. 1B, a printing base material 7 includes an impression cylinder 8.
The printing substrate 7 is brought into close contact with the surface of the gravure cylinder 4 by a predetermined pressure. The viscoelastic layer 12 formed on the surface of the support 11 adheres to the pattern non-formed portion 10. The viscoelastic layer 12 moves while changing the contact portion as the gravure cylinder 4 rotates. As shown in FIG. 2B, at the stage where the surface of the printing base material 7 comes into contact with the printing pattern 5 and the transfer of the ink to the printing base material 7 side starts, the printing base material 13 near the printing pattern forming portion is used. The viscoelastic layer 12 on the surface of the material 7 is still in close contact with the pattern non-formed portion 10 of the gravure cylinder 4. As shown in FIG. 4C, the printing base material 7 moved with the rotation is the pattern non-forming portion 1 near the printing pattern 5.
Since the transfer proceeds in a state where a part is in contact with 4, the printing is completed in a state where the positioning is performed accurately.
【００１０】上記印刷基材７の支持体１１は、厚さが１
０〜５０μｍで、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、ポリエーテルサルホン、ポリフェ
ニレンスルフィド、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、芳香族ポリアミド等の合成樹脂製フィルム等
の強度が大きくまたヤング率も大きな合成樹脂フィルム
等が好適である。また、粘弾層１２は、厚さが２０〜２
００μｍで、粘弾性もしくはタック性を有し、具体的に
はグラビア胴への粘着性、インキの転移の際に溶剤を吸
収してインキに増粘特性をもたせるとともに、加熱によ
ってインキが粘弾層から容易に剥離する剥離性を有する
材料、例えばシリコン系コポリマーとしてジメチルポリ
シロキサン、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシル
アクリレート、ブチルメタクリレート、２−イソシアネ
ートエチル、メタクリレートのいずれか一種以上からな
る共重合物、またはジメチルポリシロキサンまたはメチ
ルフェニルポリシロキサンまたはメチルフロロポリシロ
キサン、アクリル系コポリマーとしてステアリル（メ
タ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、
ラウリル（メタ）アクリレート、ｎ−ブキル（メタ）ア
クリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート
のいずれか一種以上からなる共重合物が好ましい。な
お、（メタ）アクリレートは、アクリレート、メタクリ
レートの少なくともいずれか一方を含むものを意味す
る。この粘弾層１２は、インキの転移の際に表面の粘弾
性もしくはタック性により、転移されたインキパターン
の形状が正確に再現されるという特徴を有している。The support 11 of the printing substrate 7 has a thickness of 1
A synthetic resin film having a large strength and a large Young's modulus, such as a synthetic resin film of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyamide, polyimide, polyamide imide, aromatic polyamide, etc. Is preferred. The viscoelastic layer 12 has a thickness of 20 to 2
It has a viscoelasticity or tackiness at a thickness of 00 μm. Specifically, it has an adhesive property to the gravure cylinder, absorbs the solvent when the ink is transferred, and gives the ink a thickening property. A material having a releasability that easily peels off from, for example, a copolymer containing at least one of dimethylpolysiloxane, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, butyl methacrylate, 2-isocyanate ethyl, and methacrylate as a silicone copolymer, or dimethyl Polysiloxane or methylphenylpolysiloxane or methylfluoropolysiloxane, stearyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate as an acrylic copolymer,
A copolymer comprising at least one of lauryl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate is preferable. In addition, (meth) acrylate means one containing at least one of acrylate and methacrylate. The viscoelastic layer 12 has a feature that the shape of the transferred ink pattern is accurately reproduced by the viscoelasticity or tackiness of the surface when the ink is transferred.
【００１１】図１および図２は、本発明の転写装置の１
実施形態を示し、図１は全体構成図、図２は図１の転写
基材の位置制御を説明するための図である。FIGS. 1 and 2 show one embodiment of the transfer apparatus of the present invention.
1 shows an embodiment, FIG. 1 is an overall configuration diagram, and FIG. 2 is a diagram for explaining position control of a transfer base material in FIG.
【００１２】図１において、転写装置４０は、パターン
が形成された転写基材９が巻回された巻取ロール２０
と、パターン転写後の転写基材９が巻回された巻取ロー
ル２１を備え、巻取ロール２０、２１間に、搬送ローラ
２２、テンション調整ローラ２３、仮固定ローラ２４が
配設され、巻取ロール２０、２１の図示矢印に示す回転
により、転写基材９は送り出される。In FIG. 1, a transfer device 40 includes a take-up roll 20 on which a transfer base material 9 on which a pattern is formed is wound.
And a take-up roll 21 around which the transfer base material 9 after the pattern transfer is wound, and a transport roller 22, a tension adjusting roller 23, and a temporary fixing roller 24 are disposed between the take-up rolls 20, 21. The transfer base material 9 is sent out by the rotation of the take-up rolls 20 and 21 as shown by arrows in the figure.
【００１３】送り出された転写基材９は、除電器２５に
より静電気が除去され、蛇行防止制御装置２６により搬
送ローラ２２を図示矢印に示す如く搬送方向と直角方向
に移動させ、転写基材９の蛇行防止を行う。搬送ローラ
２２の下流側には、転写基材９の上面に対向して一対の
位置検出器２７が配設されている。この位置検出器２７
は、ＣＣＤカメラまたはラインセンサから構成されてい
る。The transferred transfer base material 9 is subjected to static elimination by a static eliminator 25, and the meandering prevention control device 26 moves the transfer roller 22 in a direction perpendicular to the transfer direction as shown by an arrow in the drawing. Prevent meandering. A pair of position detectors 27 are disposed downstream of the transport roller 22 so as to face the upper surface of the transfer substrate 9. This position detector 27
Is composed of a CCD camera or a line sensor.
【００１４】位置検出器２７の下流側で転写基材９の上
面には一対のテンション調整ローラ２３が配設され、一
対のテンション調整ローラ２３の間には、仮固定ローラ
２４とテンション検出ローラ２９が配設されている。テ
ンション調整ローラ２３は、図示矢印に示す如く、搬送
方向と直角方向Ａに移動可能にされるとともに、正逆回
転方向Ｂに回動するように構成されている。また、テン
ション調整ローラ２３の表面には多数のエア吸引孔が形
成されている。テンション制御装置３０には、位置検出
器２７およびテンション検出ローラ２９の検出信号が入
力され、この信号に基づいてテンション調整ローラ２３
が駆動される。A pair of tension adjusting rollers 23 is disposed on the upper surface of the transfer substrate 9 on the downstream side of the position detector 27, and a temporary fixing roller 24 and a tension detecting roller 29 are provided between the pair of tension adjusting rollers 23. Are arranged. The tension adjusting roller 23 is configured to be movable in a direction A perpendicular to the transport direction and to rotate in a forward / reverse rotation direction B as indicated by an arrow in the drawing. Also, a number of air suction holes are formed on the surface of the tension adjusting roller 23. The detection signals of the position detector 27 and the tension detection roller 29 are input to the tension control device 30, and the tension adjustment roller 23 is
Is driven.
【００１５】また、転写基材９の側方には、基板搬送装
置３１が配設され、この基板搬送装置３１の支持アーム
３１ａは、転写基材９の下面に入り込めるように移動可
能にされている。また、転写基材９の下側には仮固定ス
テージ３２が入り込めるように移動可能に配設されてい
る。テンション調整ローラ２３の下流側には、転写基材
９の下側に転写ステージ３３が設置され、転写基材９の
上側に転写ロール３４が配設されている。なお、転写ロ
ール３２は、揺動可能に配設されることが好ましいが、
図１の形状に限定されるものではなく、また、平板状の
ものでもよい。A substrate transfer device 31 is provided on the side of the transfer substrate 9, and a support arm 31 a of the substrate transfer device 31 is movable so as to be able to enter the lower surface of the transfer substrate 9. I have. In addition, a temporary fixing stage 32 is movably disposed below the transfer base material 9 so as to enter therein. A transfer stage 33 is provided below the transfer base material 9 on the downstream side of the tension adjusting roller 23, and a transfer roll 34 is provided above the transfer base material 9. It is preferable that the transfer roll 32 is provided so as to be swingable,
The shape is not limited to the shape shown in FIG. 1 and may be a flat plate.
【００１６】図２は、図１の位置検出器２７による転写
基材９の位置制御を説明するための図である。図（Ａ）
の例は、高精細パターンＰが連続して形成された転写基
材９の場合であって、高精細パターンＰの両側に位置検
出用ラインＬが形成されており、位置検出器２７は位置
検出用ラインＬを読みとり、その位置情報を図示しない
アクチュエータに送り、テンション調整ローラ２３、２
３を図１の矢印Ａに示すように、転写基材９の流れと直
交する方向に移動させることにより、高精細パターンＰ
が所定の位置にセットされるようにする。図（Ｂ）の例
は、高精細パターンＰが分割形成された転写基材９の場
合であって、この場合には、位置検出器２７によりパタ
ーンＰのエッジを検出することにより同様に行う。FIG. 2 is a diagram for explaining the position control of the transfer substrate 9 by the position detector 27 of FIG. Figure (A)
Is an example of the transfer base material 9 in which the high-definition patterns P are continuously formed. The position detection lines L are formed on both sides of the high-definition patterns P, and the position detector 27 detects the position. Line L, and sends the position information to an actuator (not shown).
3 is moved in a direction orthogonal to the flow of the transfer substrate 9 as shown by an arrow A in FIG.
Is set to a predetermined position. The example of FIG. 9B is a case of the transfer base material 9 in which the high-definition pattern P is divided and formed. In this case, the same operation is performed by detecting the edge of the pattern P by the position detector 27.
【００１７】図１に戻り、仮固定工程について説明す
る。被転写基材である基板３５は、図示しない搬送ロボ
ットにより仮ステージ３２上に配置される。なお、基板
３５は、ガラスプレート、金属プレート、樹脂プレート
からなっている。基板３５が配置されると基板３５の上
方に位置検出器３６が移動し、位置検出器３６は、基板
３５と仮固定ステージ３２のアライメントマーク＋を検
出し、両者が合致するように基板３５の位置を調整し、
これにより基板３５が所定の位置に位置決めされる。基
板３５が所定の位置にセットされると、転写基材９の搬
送を停止させ仮固定ステージ３２を図示矢印で示すよう
に、転写基材９の下面に接触させるように移動させる。Returning to FIG. 1, the temporary fixing step will be described. The substrate 35 as the base material to be transferred is placed on the temporary stage 32 by a transfer robot (not shown). The substrate 35 is made of a glass plate, a metal plate, and a resin plate. When the substrate 35 is disposed, the position detector 36 moves above the substrate 35, and the position detector 36 detects the alignment mark + of the substrate 35 and the temporary fixed stage 32, and detects the alignment mark + of the substrate 35 so that they match. Adjust the position,
As a result, the substrate 35 is positioned at a predetermined position. When the substrate 35 is set at a predetermined position, the transfer of the transfer base material 9 is stopped, and the temporary fixing stage 32 is moved so as to come into contact with the lower surface of the transfer base material 9 as shown by the arrow in the figure.
【００１８】次いで、図示しないエアポンプを駆動して
テンション調整ローラ２３内を吸引し転写基材９をテン
ション調整ローラ２３に吸着させた後、テンション調整
ローラ２３を図示Ｂ方向に回動させ、テンション検出ロ
ーラ２９により、検出するテンションの値がパターン形
成時の転写基材９にかけた張力Ｆと略同一条件となった
時点でテンション調整ローラ２３の回動を停止する。な
お、略同一条件とは、仮固定後のパターン寸法が±２０
μｍ／ｍ以内に収まるテンションを意味する。通常、パ
ターン形成時には転写基材９にかけるテンションと仮固
定時に転写基材９にかけるテンションを同一にするが、
パターン寸法が得られない場合には略同一条件とする。
そして、転写基材９の搬送を開始させるとともに仮固定
ローラ２４を図示矢印に示すように回動させ、転写基材
９上への基板３５の仮固定を行う。なお、テンション調
整ローラ２３の一方のみを回動させるようにしてもよ
い。また、この仮固定時には、粘弾層が基板に接触し、
粘弾層の粘着性により転写基材と基板は密着している。
このとき、高精細パターンは基板上に密着するが、転写
されていない。その後、パターン形成時に熱および圧力
が加えられ、高精細パターンが基板に移動し、転写が行
われるものである。Next, an air pump (not shown) is driven to suck the inside of the tension adjusting roller 23 to attract the transfer base material 9 to the tension adjusting roller 23, and then the tension adjusting roller 23 is rotated in the direction B shown in FIG. The rotation of the tension adjusting roller 23 is stopped when the tension value detected by the roller 29 becomes substantially the same as the tension F applied to the transfer base material 9 during pattern formation. In addition, the substantially same condition means that the pattern dimension after temporary fixing is ± 20.
It means a tension within μm / m. Usually, the tension applied to the transfer substrate 9 at the time of pattern formation is the same as the tension applied to the transfer substrate 9 at the time of temporary fixing.
If the pattern dimensions cannot be obtained, the conditions are substantially the same.
Then, the transfer of the transfer base material 9 is started, and the temporary fixing roller 24 is rotated as shown by the arrow in the figure, thereby temporarily fixing the substrate 35 on the transfer base material 9. Note that only one of the tension adjusting rollers 23 may be rotated. At the time of this temporary fixing, the viscoelastic layer comes into contact with the substrate,
The transfer substrate and the substrate are in close contact with each other due to the adhesiveness of the viscoelastic layer.
At this time, the high definition pattern adheres to the substrate but is not transferred. Thereafter, heat and pressure are applied at the time of pattern formation, the high-definition pattern moves to the substrate, and transfer is performed.
【００１９】基板３５と転写基材９の仮固定が終了する
と、仮固定ステージ３２が下降し、基板搬送装置３１の
アーム２９ａが基板３５の下面に入り込み基板３５を支
持し、次の転写ステージ３３まで搬送、支持する。次
に、転写ロール３４で所定の圧力及び温度に加圧、加熱
され、転写基材９から所定のサイズの高精細パターンが
基板３５に転写され、基板３５は次の処理工程に送ら
れ、転写基材９は巻取ロール２１に巻き取られる。When the temporary fixing of the substrate 35 and the transfer base material 9 is completed, the temporary fixing stage 32 is lowered, and the arm 29a of the substrate transfer device 31 enters the lower surface of the substrate 35 to support the substrate 35. Transport and support up to. Next, the transfer roll 34 is pressed and heated to a predetermined pressure and temperature, and a high-definition pattern of a predetermined size is transferred from the transfer base material 9 to the substrate 35. The substrate 35 is sent to the next processing step, and is transferred. The substrate 9 is taken up by a take-up roll 21.
【００２０】図３および図４は、本発明の転写装置の他
に実施形態を示す模式図である。図３の実施形態は、ニ
ップローラ３７、ダンサーローラ３８が図１のテンショ
ン調整ローラ２３の役割を果たす例である。転写基材９
の仮固定ステージ３２の両側に、転写基材９の上下に接
触し転写基材９を固定する２組のニップローラ３７を配
設するとともに、２組のニップローラ３７の間にテンシ
ョン検出ローラ２９、ダンサーローラ３８およびガイド
ローラ３９を配設し、ダンサーローラ３８を１軸用精密
駆動モータ４０により駆動されるボールネジ機構４１に
連結している。本実施形態においては、ダンサーローラ
３８をミクロン単位で下へ移動させることによりテンシ
ョンを２０ｇ／ｍ単位で制御することが可能となる。ま
た、仮固定ステージ３２の上方にサイズ検出器４２を設
置し、転写基材９上に形成された基準マーク９ａを検出
することにより、パターンのサイズを検出し、サイズが
所定値（±２０μｍ）以上ずれている場合には、さらに
ダンサーローラ３８を下へ移動させて、テンションを増
減するようにしている。なお、仮固定後の基板の搬送時
には、各ローラは転写基材９から退避される。FIGS. 3 and 4 are schematic views showing another embodiment of the transfer apparatus of the present invention. The embodiment in FIG. 3 is an example in which the nip roller 37 and the dancer roller 38 play the role of the tension adjusting roller 23 in FIG. Transfer substrate 9
On both sides of the temporary fixing stage 32, two sets of nip rollers 37 that contact the upper and lower sides of the transfer base material 9 to fix the transfer base material 9 are arranged, and the tension detection roller 29, the dancer A roller 38 and a guide roller 39 are provided, and the dancer roller 38 is connected to a ball screw mechanism 41 driven by a single-axis precision drive motor 40. In the present embodiment, the tension can be controlled in units of 20 g / m by moving the dancer roller 38 downward in units of microns. Further, the size of the pattern is detected by setting the size detector 42 above the temporary fixing stage 32 and detecting the reference mark 9a formed on the transfer base material 9, and the size is determined to be a predetermined value (± 20 μm). If there is a deviation, the dancer roller 38 is further moved downward to increase or decrease the tension. Each roller is retracted from the transfer base material 9 when transporting the substrate after the temporary fixing.
【００２１】図４の実施形態においては、仮固定ステー
ジ３２の上流側に転写基材９を挟着可能にニップローラ
３７と電磁ブレーキ付きローラ４３を配設し、仮固定ス
テージ３２の下流側に転写基材９を挟着可能にニップロ
ーラ３７とトルクモータ付きローラ４４を配設し、電磁
ブレーキ付きローラ４３を駆動させて転写基材９を固定
し、トルクモータ付きローラ４４を駆動することにより
テンションを制御可能にしている。その他の構成は図３
と同様である。In the embodiment shown in FIG. 4, a nip roller 37 and a roller 43 with an electromagnetic brake are arranged on the upstream side of the temporary fixing stage 32 so as to be able to sandwich the transfer substrate 9, and the transfer is performed on the downstream side of the temporary fixing stage 32. The nip roller 37 and the roller 44 with a torque motor are arranged so that the substrate 9 can be sandwiched, the roller 43 with an electromagnetic brake is driven to fix the transfer substrate 9, and the tension is achieved by driving the roller 44 with a torque motor. Controllable. Other configurations are shown in FIG.
Is the same as
【００２２】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく種々の変
更が可能である。例えば、上記実施形態においては、仮
固定工程の前段で高精細パターンの位置決めを行ってい
るが、基板３５が位置決めされた仮固定ステージ３２が
転写基材９の下方に移動したときアライメントを行い、
その後、仮固定ステージ３２を転写基材９に接触させる
ようにしてもよい。また、上記実施形態においては、転
写工程を仮固定工程の下流側で行っているが、仮固定の
位置で転写を行うようにしてもよい。Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made. For example, in the above embodiment, the high-definition pattern is positioned before the temporary fixing step. However, when the temporary fixing stage 32 on which the substrate 35 is positioned moves below the transfer base material 9, alignment is performed.
Thereafter, the temporary fixing stage 32 may be brought into contact with the transfer substrate 9. Further, in the above embodiment, the transfer step is performed on the downstream side of the temporary fixing step, but the transfer may be performed at the temporary fixing position.
【００２３】[0023]
【実施例】以下に本発明の印刷方法による具体的な実施
例について説明する。１００μｍのセルを３００μｍの
間隔で形成した直径１９１ｍｍのグラビア胴を有する印
刷装置において、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタ
レートからなる支持体上に、２−エチルヘキシルアクリ
レートからなる粘弾層を５０μｍの厚さに形成した印刷
基材を用いた。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments according to the printing method of the present invention will be described below. In a printing apparatus having a 191 mm diameter gravure cylinder in which 100 μm cells are formed at intervals of 300 μm, a viscoelastic layer made of 2-ethylhexyl acrylate is formed in a thickness of 50 μm on a support made of polyethylene terephthalate having a thickness of 50 μm. The printed base material used was used.
【００２４】この印刷基材上に、有機顔料１５重量％、
ポリウレタン樹脂１５重量％、トルエン−メチルエチル
ケトン混合溶剤７０重量％からなる各種インキを凹版印
刷用として使用し、５０ｍ／分の速度で印刷した。印刷
パターンとして、１００μｍ幅のストライブパターン
が、赤、緑、青３色周期的に配列された３００μｍピッ
チの液晶用カラーフィルタであり、赤、緑、青のストラ
イブパターンは凹版により印刷して形成した。On the printing substrate, 15% by weight of an organic pigment,
Various inks composed of 15% by weight of a polyurethane resin and 70% by weight of a mixed solvent of toluene and methyl ethyl ketone were used for intaglio printing, and printing was performed at a speed of 50 m / min. As a printing pattern, a stripe pattern of 100 μm width is a color filter for a liquid crystal of 300 μm pitch in which three colors of red, green and blue are periodically arranged. The stripe pattern of red, green and blue is printed by intaglio. Formed.
【００２５】このときの印刷装置としては、各色の印刷
ユニットが独立しているスタック型を使用したが、各色
の見当精度を高めるために、単胴のサテライト型を使用
することもできる。印刷条件としては、テンション２ｋ
ｇ／ｍ、印圧２ｋｇ／ｍ2、ドクター線圧１ｋｇ／ｃ
ｍ、ドクター角度４５度、乾燥温度１００℃の熱風乾燥
であり、得られた印刷基材に形成された印刷パターン
は、長寸法精度縦方向＋９６μ／ｍ、横方向−１５μ／
ｍの精度が得られた。As the printing apparatus at this time, a stack type in which the printing units of each color are independent is used, but a single-cylinder satellite type may be used in order to increase the registration accuracy of each color. As printing conditions, tension 2k
g / m, printing pressure 2 kg / m 2 , doctor linear pressure 1 kg / c
m, doctor angle 45 °, hot air drying at a drying temperature of 100 ° C., and the print pattern formed on the obtained printing base material has a long dimension accuracy of +96 μm in the vertical direction and −15 μ / m in the horizontal direction.
m accuracy was obtained.
【００２６】上記のパターンが印刷形成された転写基材
をガラス基板上に仮固定する際に、印刷時のテンション
を再現できる機構を設置し、テンション２ｋｇ／ｍでテ
ンション方向、温湿度を同条件にて仮固定した。その
後、本転写を、温度１００℃、圧力１ｋｇ／ｍ2、転写
時間１０秒の平プレス方式にて行った。この転写パター
ンについて同様に寸法を測定した結果、得られた転写パ
ターンは、設計寸法に対して長寸法精度縦方向＋１２μ
／ｍ、横方向−２μ／ｍの精度が得られた。When the transfer substrate on which the above pattern is printed is temporarily fixed on a glass substrate, a mechanism capable of reproducing the tension at the time of printing is installed, and the tension direction, temperature and humidity are adjusted under the same conditions at a tension of 2 kg / m. Was temporarily fixed. Thereafter, the main transfer was performed by a flat press method at a temperature of 100 ° C., a pressure of 1 kg / m 2 , and a transfer time of 10 seconds. As a result of measuring the dimensions of this transfer pattern in the same manner, the obtained transfer pattern has a long dimension accuracy of +12 μm with respect to the design dimension.
/ M and an accuracy of −2 μ / m in the horizontal direction.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の転写方法によれば、高精度に転写することができ、ま
た本発明の転写装置によれば、転写基材のテンションを
調節可能にするテンション調整ローラを設け、転写基材
にかかるテンションをパターン形成時のテンションと略
同一にして仮固定するので、転写基材に形成された高精
細パターンを高精度で被転写基材に転写することができ
る。As is clear from the above description, according to the transfer method of the present invention, transfer can be performed with high accuracy, and according to the transfer apparatus of the present invention, the tension of the transfer substrate can be adjusted. A tension adjustment roller is provided to temporarily fix the tension applied to the transfer substrate substantially the same as the tension at the time of pattern formation, so the high-definition pattern formed on the transfer substrate is transferred to the transfer substrate with high precision can do.
【図１】本発明の転写装置の１実施形態を示す全体構成
図である。FIG. 1 is an overall configuration diagram showing one embodiment of a transfer device of the present invention.
【図２】図１の転写基材の位置制御を説明するための図
である。FIG. 2 is a view for explaining position control of a transfer base material in FIG. 1;
【図３】本発明の転写装置の他に実施形態を示す模式図
である。FIG. 3 is a schematic diagram showing another embodiment of the transfer device of the present invention.
【図４】本発明の転写装置の他に実施形態を示す模式図
である。FIG. 4 is a schematic diagram showing another embodiment of the transfer device of the present invention.
【図５】本発明で採用される転写基材の製造例を示し、
図（Ａ）は印刷装置の模式図、図（Ｂ）、図（Ｃ）はグ
ラビア胴から印刷基材にインキが転移される過程を示す
図である。FIG. 5 shows a production example of a transfer substrate employed in the present invention,
FIG. 1A is a schematic view of a printing apparatus, and FIGS. 2B and 2C are views showing a process in which ink is transferred from a gravure cylinder to a printing substrate.
９…転写基材 ３２…仮固定ステージ ２３…テンション調整ローラ ３５…被転写基材 ３７…ニップローラ ３８…ダンサーローラ ４２…サイズ検出器 ４３…電磁ブレーキ付きローラ ４４…トルクモータ付きローラ 9 Transfer substrate 32 Temporary fixed stage 23 Tension adjustment roller 35 Transfer substrate 37 Nip roller 38 Dancer roller 42 Size detector 43 Roller with electromagnetic brake 44 Roller with torque motor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中原 法彦 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 曽根原 章夫 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 牧野 美生 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 BA55 BB02 BB14 BB37 BB44 2H088 FA16 FA17 FA18 FA30 HA01 MA20 3B005 EA08 EB07 EC15 FA02 FB03 FB25 FB34 FC08X FC09Z FD01X FD06Z FE04 FG04X GA05 GB05 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (72) Inventor Norihiko Nakahara 1-1-1 Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Akio Sonehara 1-chome, Ichigaya-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1-1 Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Mio Makino 1-1-1 Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. 2H048 BA55 BB02 BB14 BB37 BB44 2H088 FA16 FA17 FA18 FA30 HA01 MA20 3B005 EA08 EB07 EC15 FA02 FB03 FB25 FB34 FC08X FC09Z FD01X FD06Z FE04 FG04X GA05 GB05
Claims (7)
連続して搬送される表面に高精細パターンが形成された
フィルム状の転写基材を被転写基材に密着させ仮固定す
るときの該転写基材のテンションを、パターン形成時の
該転写基材のテンションと同一もしくは略同一に調整
し、その後、熱および圧力を加えることにより高精細パ
ターンを転写基材から被転写基材へ転写することを特徴
とする転写方法。1. A method for transferring a high-definition pattern, comprising:
The tension of the transfer base when the film-like transfer base having a high-definition pattern formed on the surface to be continuously conveyed is closely adhered to the base to be transferred and temporarily fixed, and the transfer base during pattern formation A transfer method wherein the high-definition pattern is transferred from the transfer base material to the transfer base material by adjusting the tension to the same or substantially the same as that described above, and then applying heat and pressure.
て搬送されるフィルム状の転写基材と、被転写基材が配
設された仮固定ステージとを備え、前記仮固定ステージ
の両側に転写基材のテンションを調節可能にするテンシ
ョン調整ローラを設け、前記テンションをパターン形成
時のテンションと略同一にし、転写基材と被転写基材を
密着、仮固定することを特徴とする転写装置。2. A temporary fixing stage having a film-shaped transfer substrate having a high-definition pattern formed on its surface and being conveyed continuously and a transfer-receiving substrate disposed thereon, wherein both sides of the temporary fixing stage are provided. A tension adjusting roller for adjusting the tension of the transfer base material, making the tension substantially the same as the tension at the time of pattern formation, and closely contacting and temporarily fixing the transfer base material and the transferred base material. apparatus.
れた高精細パターンを被転写基材に転写させる転写ロー
ルを有することを特徴とする請求項２記載の転写装置。3. The transfer device according to claim 2, wherein the transfer device has a transfer roll for transferring a high-definition pattern formed on the surface of the transfer substrate to the substrate to be transferred.
吸着しながら回動されることを特徴とする請求項２また
は３記載の転写装置。4. The transfer device according to claim 2, wherein the tension adjusting roller is rotated while adsorbing the transfer base material.
挟着するニップローラと、該ニップローラの間に配設さ
れ上下方向に移動されるダンサーローラであることを特
徴とする請求項２または３記載の転写装置。5. The tension adjusting roller according to claim 2, wherein the tension adjusting roller comprises a nip roller for sandwiching the transfer base material, and a dancer roller disposed between the nip rollers and moved in a vertical direction. Transfer device.
基材を挟着可能に配設されたニップローラおよび電磁ブ
レーキ付きローラであり、他方は転写基材を挟着可能に
配設されたニップローラおよびトルクモータ付きローラ
であることを特徴とする請求項２または３記載の転写装
置。6. One of the tension adjusting rollers is a nip roller and a roller with an electromagnetic brake provided so as to be able to sandwich the transfer substrate, and the other is a nip roller and a roller provided so as to be able to sandwich the transfer substrate. 4. The transfer device according to claim 2, wherein the transfer device is a roller with a torque motor.
に、パターンのサイズを検出するサイズ検出器を配設
し、パターンのサイズが所定値以上の場合にテンション
調整ローラによりテンションを調整することを特徴とす
る請求項２ないし６のいずれかに記載の転写装置。7. A size detector for detecting the size of a pattern is provided on the side of the temporary fixing stage opposite to the transfer substrate, and the tension is adjusted by a tension adjusting roller when the size of the pattern is a predetermined value or more. The transfer device according to any one of claims 2 to 6, wherein:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5122899A JP2000246868A (en) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | Transfer method and apparatus |
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| JP (1) | JP2000246868A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003104622A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | Suction attracting method and device for transcription film, and cartridge for supplying transcription film |
| WO2018030357A1 (en) * | 2016-08-08 | 2018-02-15 | 株式会社ニコン | Substrate processing device and substrate processing method |
| KR20180099471A (en) | 2017-02-28 | 2018-09-05 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | Web processing device |
-
1999
- 1999-02-26 JP JP5122899A patent/JP2000246868A/en active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003104622A (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Dainippon Printing Co Ltd | Suction attracting method and device for transcription film, and cartridge for supplying transcription film |
| JP4562967B2 (en) * | 2001-09-28 | 2010-10-13 | 大日本印刷株式会社 | Transfer film adsorption method and adsorption device |
| KR20220093004A (en) * | 2016-08-08 | 2022-07-04 | 가부시키가이샤 니콘 | Substrate processing device and substrate processing method |
| CN109562902A (en) * | 2016-08-08 | 2019-04-02 | 株式会社尼康 | Substrate board treatment and substrate processing method using same |
| KR20190035879A (en) * | 2016-08-08 | 2019-04-03 | 가부시키가이샤 니콘 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| CN109562902B (en) * | 2016-08-08 | 2020-08-21 | 株式会社尼康 | Substrate processing apparatus |
| CN114408654A (en) * | 2016-08-08 | 2022-04-29 | 株式会社尼康 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| KR102412451B1 (en) | 2016-08-08 | 2022-06-24 | 가부시키가이샤 니콘 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
| WO2018030357A1 (en) * | 2016-08-08 | 2018-02-15 | 株式会社ニコン | Substrate processing device and substrate processing method |
| KR20220093003A (en) * | 2016-08-08 | 2022-07-04 | 가부시키가이샤 니콘 | Substrate processing device and substrate processing method |
| KR102472595B1 (en) | 2016-08-08 | 2022-12-01 | 가부시키가이샤 니콘 | Substrate processing device and substrate processing method |
| KR102500771B1 (en) | 2016-08-08 | 2023-02-17 | 가부시키가이샤 니콘 | Substrate processing device and substrate processing method |
| KR20180099471A (en) | 2017-02-28 | 2018-09-05 | 가부시키가이샤 무라타 세이사쿠쇼 | Web processing device |
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