JP2000231194A5 - - Google Patents
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- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims 1
Claims (2)
- 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び
一般式（Ｉ） −ＳＯ2−Ｏ−Ｒ
（ここでＲは、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状アルキル基又はアルケニル基を表す。）で表される基を含む繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 請求項１に記載のポジ型フォトレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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1999
- 1999-08-26 JP JP24060099A patent/JP3995369B2/ja not_active Expired - Fee Related