JP2000223886A - 透視性電磁波シールド材及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、ディスプレイ装置前面等に設置
し電磁波を遮蔽する透視性電磁波シールド材に関するも
ので、ディスプレイに対面する側が金属光沢である場合
の反射による視認性が悪い課題と、電磁波シールド材使
用（空気中）時の金属層の酸化により導電性（電磁波シ
ールド性能）が低下する課題を解決するものである。 【解決手段】 本発明は、透明基材上に直接又は透明
接着剤層を介して、第１黒色層、金属層、第２黒色層が
順に一致して積層されてなる透視性電磁波シールド材で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、ディスプレイ装置前面等に設置
し電磁波を遮蔽する透視性電磁波シールド材及びその製
造方法に関するものである。特に大型のプラズマディス
プレイ用パネルに好適である。

【０００２】

【従来の技術】ディスプレイ装置前面等に設置される電
磁波シールド材は、優れた電磁波シールド性能の他に、
透視性（光透過率）に優れ、視認性（塗膜黒化度等）が
良好且つ視野角が広いことなどが要求されている。この
要求をある程度みたす電磁波シールド材として特開平９
−２９８３８４号又は特開平１０−４１６８２号に記載
された発明が知られている。

【０００３】すなわち、特開平９−２９８３８４の発明
は、「透明基体上に黒染色層を設ける工程、黒染色層上
に金属層を設ける工程、金属層上にレジスト層をパター
ン状に設ける工程、レジスト層で覆われていない部分の
金属層をエッチング液により除去する工程を順次行い、
エッチング工程においてパターン化された金属層で覆わ
れていない部分の黒染色層をエッチング液により脱色す
る。」ものである。

【０００４】一方、特開平１０−４１６８２の発明は、
「透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた
幾何学図形を構成するライン幅が４０μ以下、ライン問
隔が２００μ以上、ライン厚みが４０μ以下であり、そ
の幾何学図形を含む基材の一部または全面を接着剤で被
覆し、幾何学図形を被覆する接着剤と透明プラスチック
基材との屈折率の差を０．１４以下、または透明プラス
チック基材が接着層を介して導電性材料と積層されてい
る場合においては接着層と幾何学図形を被覆する接着剤
との屈折率の差を０．１４以下とする電磁波シールド性
と透明性を有する接着フィルムを得、それをディスプレ
イ、電磁波遮蔽構成体に用いる。」ものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
９−２９８３８４号の発明は、黒色樹脂層に黒色染料を
用いた場合、一般的に、十分な黒化度を得にくく、良好
な視認性が得られにくく、そのため染料の含有量を多く
したり、樹脂層の厚さを厚くする必要がある。

【０００６】又黒色染料の脱色、抽出に際し、金属層の
エッチング液を使った際、脱色に時間がかかりすぎて、
金属層がオーバーエッチングされることがある。

【０００７】しかも、通常レジスト層は、はく離して用
いるため、ディスプレイに対面する側は金属光沢を呈し
ており、ディスプレイを反射し見づらい。更に、金属層
は空気中で酸化されやすく、導電性（電磁波シールド性
能）が低下しやすい（シールド性能の安定性が低い）。

【０００８】これに対し、特願平９−２７９４２２号の
発明では、黒色染料に代えて、黒色顔料を分散含有した
黒色樹脂層を用いることで十分且つ安定した黒化度が確
保され大幅な視認性の向上が見られたが、ディスプレイ
に対面する側が金属光沢である点は同じであり、反射に
よる見ずらさは残った（反射の有無等を考慮した総合的
な視認性の評価では必ずしも十分ではなかった）。

【０００９】一方、特開平１０−４１６８２の発明は、
電磁波シールド性能が低い。又、ケミカルエッチングプ
ロセスにて、パターニング（描画）するため、導電性材
料が銅（箔）の場合の黒色層にはエッチング液で溶解可
能な黒色金属層とするしかないが、この黒色金属層は通
常プリント配線板分野で銅（箔）の粗化目的で多用され
る湿式化学処理法（亜塩素酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、りん酸三ナトリウムの水溶液等で処理し、結果と
して銅色が茶色又は黒色となるため、通常ブラウン処理
又は黒化処理といわれる）にて形成されるため極めて長
時間を要しコスト高となる。

【００１０】しかも、この黒色金属層は銅（箔）の表層
を酸化することで形成されるため金属銅（箔）はその分
薄くなり導電性（電磁波シールド性能）は低下する。

【００１１】又、黒色金属層の表面は粗いためエッチン
グ加工性が極めて悪い（ライン間隔２００μ未満のパタ
ーン形成は困難である）だけでなく、エッチング部の接
着剤層は黒色金属層の表面粗さが転写されるため不透明
（すりガラス状）である。このままでは使えないため透
明性を発現させるため接着剤層を溶融・圧着する（同時
に基板に貼合する）が、１１０℃程度の高温で処理する
ため、適用できる基板が限定される（汎用性アクリル板
等の耐熱性の低い基板は反りが著しく実質上使えな
い）。更に、ディスプレイに対面する側は金属光沢であ
り反射により視認性が悪い。又、接着剤で被覆されてい
ない部分の金属層は空気中で酸化されやすく、導電性
（電磁波シールド性能）が低下しやすい。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記、ディス
プレイに対面する側が金属光沢である場合の反射による
視認性が悪い課題と、電磁波シールド材使用（空気中）
時の金属層の酸化により導電性（電磁波シールド性能）
が低下する課題を解決するものであり、金属層の上に、
さらに第２黒色層を積層することを特徴とする。

【００１３】すなわち、（１）透明基材上に直接又は透
明接着剤層を介して、同一メッシュ状の第１黒色層・金
属層・第２黒色層が順に一致して積層され、必要に応じ
て第２黒色層の一部が除去されたことを特徴とする透視
性電磁波シールド材、（２）メッシュが格子状であり、
該格子状パターンのライン幅が５０μ以下、ライン間隔
（開口幅）が２００μ未満、ライン厚みが５０μ以下で
あることを特徴とする（１）記載の透視性電磁波シール
ド材、（３）第１黒色層及び第２黒色層が黒色金属酸化
物層であることを特徴とする（１）記載の透視性電磁波
シールド材、（４）透明基材上に直接又は透明接着剤層
を形成後、順に黒色樹脂層、黒色無機層、黒色金属酸
化物層のいずれかである第１黒色層、金属層、黒色
樹脂層、黒色無機層、黒色金属酸化物層のいずれかであ
る第２黒色層を形成し、更にメッシュ状のレジスト層を
設け、レジスト層で保護されていない第１黒色層、金属
層、第２黒色層をサンドブラスト法及び／又はエッチン
グ液による溶解、により除去しレジスト層に対応したメ
ッシュ状パターンとし、必要に応じてレジスト層を剥離
しメッシュ状パターン側（透明基材の反対側）を透明樹
脂で被覆することを特徴とする透視性電磁波シールド材
の製造方法、（５）金属層が、表面抵抗１０Ω／□以下
の第１黒色層を直接電気めっきして形成されたことを特
徴とする（４）記載の透視性電磁波シールド材の製造方
法、（６）黒色金属酸化物層が、イオンプレーティン
グ、スパッター、真空蒸着、無電解めっき、電気めっ
き、のいずれか又は２つ以上を組合せた方法で形成され
たことを特徴とする（４）記載の透視性電磁波シールド
材の製造方法、（７）透明基材上にメッシュ状とは逆の
レジストパターンを形成し、その上（透明基材部及びレ
ジスト部表面）に順に第１黒色層・金属層・第２黒色層
を形成後、レジストを剥離することでレジスト部表面の
第１黒色層・金属層・第２黒色層だけを除去する（リフ
トオフ法）ことを特徴とする透視性電磁波シールド材の
製造方法、（８）第１黒色層及び第２黒色層が黒色金属
酸化物層であることを特徴とする請求項７記載の透視性
電磁波シールド材の製造方法、（９）第１黒色層・金属
層・第２黒色層をあわせた厚さ（ライン厚み）が５μ以
下であることを特徴とする（７）記載の透視性電磁波シ
ールド材の製造方法、である。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明の基材は用途によって選択
され、透明であることが要求され、たとえば、ガラス
板、プラスチックフィルム、プラスチックシート、プラ
スチック板等が挙げられる。また基材の形状も特に限定
されない。

【００１５】しかし、透明基材が長尺物（ロール状）フ
ィルムである場合、得られた透視性電磁波シールドフィ
ルムから欠陥部分を回避しながら各種サイズを切出すこ
とが容易なため、歩留りが高く、経済的である。しかも
ロール状フィルムを連続処理にて製造するため、透明基
材が長尺物でない基板である場合に比べ生産性が高い。
又、フィルムで柔軟性があるから曲面のシールドも可能
である。

【００１６】又、本発明は、透視性電磁波シールドフィ
ルムを電磁波シールド層の面に透明粘着剤層を介してデ
ィスプレイパネル又は透明基板に貼り合せて透視性電磁
波シールドパネルを製造することができる。

【００１７】基材に使用されるプラスチックとしては透
明性の高い樹脂が好ましく、アクリル樹脂、ポリカーボ
ネート、ポリエチレン、ＡＳ樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリサル
ホン、ポリエーテルサルホン、ポリ塩化ビニル、オレフ
ィン・マレイミド共重合体、ノルボルネン系樹脂等が適
当であるが、なかでも耐熱性の高い、オレフィン・マレ
イミド共重合体、ノルボルネン系樹脂が好ましい。

【００１８】プラスチックの熱変形温度は １４０〜３
６０℃、熱線膨張係数は６．２×１０^−５ｃｍ／ｃｍ・
℃以下、鉛筆硬度は２Ｈ以上、曲げ強度は１，２００〜
２，０００ｋｇｆ／ｃｍ^２、曲げ弾性率は３０，０００
〜５０，０００ｋｇｆ／ｃｍ^２、引張強度は７００〜
１，２００ｋｇｆ／ｃｍ^２であることが好ましい。この
ようなプラスチックは、高温下でも反りにくく、傷つき
にくいため広範な環境下で使用できる。

【００１９】又、プラスチックの光線透過率は９０％以
上、アッベ数は５０〜７０、光弾性定数（ガラス領域）
の絶対値は１０×１０^−１３ｃｍ^２／ｄｙｎｅ以下であ
ることが好ましい。このようなプラスチックは、透明性
が高く（明るく）、複屈折が小さい（２重像となりにく
い）ため、ディスプレイの本来の画質、輝度等を損なわ
ない。

【００２０】本発明の第１黒色層と第２黒色層との中間
に積層される金属層は、電磁波シールド性能を付与する
ものでエッチングが可能であれば種類・色・厚さ・形成
方法等は問わない。比抵抗が１．０×１０^−４Ωｃｍ以
下の銅、ニッケル、鉄、ステンレススチール、チタン、
アルミニウム、金、銀等が適当であるが、なかでもシー
ルド性能（比抵抗）、エッチング加工性、価格の点で銅
が好ましい。一般に金属層は、導電性が高く（比抵抗が
小さく）、厚い程シールド性能は高く、薄い程エッチン
グ加工性は高い。

【００２１】比抵抗が１．０×１０^−４Ωｃｍ超では、
良好なシールド性能及びエッチング加工性を同時に満た
すことが困難である。

【００２２】金属層は必要とする厚さ・密着性等に応じ
て、イオンプレーティング、スパッター、真空蒸着、無
電解めっき、電気めっきの１つ又は２つ以上を組合せた
方法で形成するか、金属箔を利用すればよい。銅の場
合、特にシールド性能、価格の点で銅箔が好ましく使用
される。

【００２３】銅箔は、５μ（現状、開発品で最も薄い。
市販品では９μが最も薄い。）以上ではシールド性能が
大差ないこと、取扱い性、単位面積当たりの価格（現状
１８μが最安価）等を考慮し、通常５〜３５μが使用さ
れる。さらに好ましくは９〜１８μが使用される。

【００２４】又、金属層のパターン形状及び開口率も、
十分な電磁波シールド性能及び光透過率が確保される範
囲であれば問わない。パターン形状としては、例えば平
行線状でもシールド効果は得られる（近接界においては
方向性が生じる）が、十分ではないため通常はメッシュ
状（網目状）とする。メッシュ状パターンには、基本的
には、格子状（四角形）、三角形、多角乃至円形、長円
形等種々のものがある。

【００２５】一方、開口率（パターンのくり返し単位の
面積に占める非金属層部面積の割合）は金属層パターン
のライン幅及び間隔（開口幅）によって決まる。同じ開
口率の各種パターンにおいては、光透過率は同じである
が、電磁波シールド性能は、開口幅が狭い程高いため、
通常は開口幅を狭くする方が望ましい。

【００２６】格子状の場合、開口幅は好ましくは２００
μ未満である。更に好ましくは、１００μ以下である。
開口幅の下限はパターニング加工ができる限り限定され
ないが、ライン幅下限及び開口率等を考慮し通常は１０
μ程度とされる。

【００２７】開口幅を広げる場合では、開口率（光透過
率）を上げればシールド性能は必ず低下するが、開口幅
を狭める場合では、開口率（光透過率）を上げ同時にシ
ールド性能を上げることも可能である。

【００２８】又、ライン幅は好ましくは５０μ以下、更
に好ましくは２５μ以下であり、開口幅及び開口率を設
定すれば自ずと決まる。下限は特に限定されないが、パ
ターニング加工性等を考慮し通常は２μ程度とされる。

【００２９】又、ライン厚みは好ましくは５０μ以下、
更に好ましくは２５μ以下であり、通常はパターニング
加工性、視野角等を考慮し、ライン厚み／ライン幅のア
スペクト比は１以下に設定される（アスペクト比が高い
程、パターニング加工性は低下し、視野角は狭くなるた
め）。下限は特に限定されないが、シールド性能等を考
慮し通常は１μ程度とされる。

【００３０】ただし最終的には、ディスプレイパネルの
前面に配置し、モアレ縞が発生しない範囲で決められ
る。

【００３１】本発明の黒色層は、（１）黒色樹脂層、
（２）黒色無機層、（３）黒色金属酸化物層の１つ又は
２つ以上を組合せたものから成る。

【００３２】黒色層は反射防止等を含む視認性（見やす
さ）確保を図るために形成されるが、透明基材がディス
プレイの外側に配置される場合（第１図参照）におい
て、透明基材を通して見ることのできる第１黒色層は十
分な黒化度が必要であるが、第２黒色層は金属光沢がな
く反射しない程度の黒化度で十分である（詳細は後
述）。

【００３３】尚、黒色層は、第１黒色層を直接電気めっ
きする場合において第１黒色層の導電性が表面抵抗で１
０Ω／□以下を必要とされる（後述）が、これを除けば
上述の黒化度があれば十分であり導電性を必要としない
（導電性はあっても不都合はない）。 （１）黒色樹脂層の場合は、第１黒色樹脂層（透明基材
に近い側）は黒色顔料を含有する樹脂層、第２黒色樹脂
層（透明基材に遠い側）は黒色顔料及び／又は黒色染料
を含有する樹脂層である。

【００３４】第１黒色樹脂層には十分な黒色層黒化度を
確保するため、黒さのレベル及び安定性の高い黒色顔料
が使われる（黒色染料は、黒さのレベル及び安定性が低
く使えない）。

【００３５】第２黒色樹脂層には反射を防げる程度で十
分であるため、黒色顔料又は黒色染料のいずれも使え
る。

【００３６】使用される黒色顔料は、当然、黒色を呈す
るもので、還元金属粒子、金属酸化物粒子、カーボン粒
子等がある。還元金属粒子としては、還元金属コロイド
分散液中のコロイド粒子、あるいは該分散液から得られ
る還元金属粉であって、塗布液（塗膜）内に均一に分散
できる限り、金属の種類、粒径は問わないが良好な分散
安定性を得るため、粒径は好ましくは１μ以下である。
かかる還元金属粒子は、空気、特に湿気に対して安定で
あることが望ましい。

【００３７】具体例としては、周期律表第Ｉｂ族又は、
第ＶＩＩＩ族の金属（Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄな
ど）を含むコロイドで、還元Ｎｉコロイド粒子、あるい
は、これより得られる還元Ｎｉ粉が特に好ましい。還元
金属コロイド粒子は、特開平１−３１５３３４号公報に
記載の方法で製造できる。すなわち、低級アルコール類
と非プロトン極性化合物とからなる混合溶液中で金属の
塩を還元することによりコロイド分散液が得られる。

【００３８】又、金属酸化物粒子は、還元金属粒子同
様、塗布液（塗膜）内に均一に分散できる限り、金属の
種類、粒径は問わないが良好な分散安定性を得るため、
粒径は好ましくは１μ以下である。具体例としては、
鉄、銅、ニッケル、コバルト、パラジウム等の元素周期
律表の第Ｉｂ族、又は第ＶＩＩＩ族に属する金属の酸化
物が挙げられる。

【００３９】又、カーボン粒子は、還元金属粒子又は金
属酸化物粒子同様、塗布液（塗膜）内に均一に分散でき
る限り、種類・粒径は問わないが、良好な分散安定性を
得るため粒径は好ましくは１μ以下である。具体例とし
ては、カーボンブラック、天然又は人造の黒鉛粒子等が
挙げられる。

【００４０】使用される黒色染料は、塗膜中に均一に分
散又は溶解できる限り種類・含有量は問わない。かかる
黒色染料は、塗膜中で、大気、湿気、光、熱に対して安
定であることが望ましい。具体例としては、酸性染料、
分散染料、直接染料、反応染料、硫化染料、硫化建染染
料、等が挙げられる。なかでも酸性染料が好ましい。

【００４１】これらの黒色顔料又は黒色染料は黒色樹脂
層中の含有量が１〜８０重量％であることが望ましく、
さらに好ましくは５〜７０重量％の範囲である。１重量
％末満では黒色層黒化度に乏しく、８０重量％超では塗
膜物性が低下する。

【００４２】黒色樹脂層に使用される樹脂は、黒色顔料
又は黒色染料を分散又は溶解した樹脂溶液（黒色塗布
液）及びこの塗布液を塗布・乾燥して得られた塗膜（黒
色樹脂層）の状態で、黒色顔料又は黒系染料を良好に分
散又は溶解できればその種類を問わない。

【００４３】又、黒色樹脂層の黒さ（黒色層黒化度）が
損なわれない限り、透明性、色等も問わない。

【００４４】具体例としては、ポリビニルアセタール
系、アクリル系、ポリエステル系、セルロース系、ポリ
イミド系、ゼラチン等が好ましい。

【００４５】尚、ここで言う黒色樹脂層は、黒色顔料又
は黒色染料以外（マトリックス又はバインダー）の成分
が全て樹脂である黒色層のことである。可塑剤、界面活
性剤等の添加剤は、黒色樹脂層の物性を損わない範囲内
で加えてもよい。

【００４６】当然導電性を有するカーボン粒子（すす・
カーボンブラック又はグラファイトなど）、還元金属コ
ロイド粒子（又はこれより得られる還元金属粉）等の黒
色顔料を多く含む第１黒色樹脂層は、黒色であるだけで
なく導電性を有するため、直接電気めっきすることがで
きる。このための、黒色樹脂層の導電性は表面抵抗で１
０Ω／□以下、好ましくは５Ω／□以下である。１０Ω
／□超では、めっきの析出が不均一となる。

【００４７】この目的には、カーボン粒子を樹脂溶液中
に分散含有する墨汁（乾燥塗膜中、カーボン含有量約９
０％）、導電性カーボン塗料、又はパラジウムコロイド
粒子等を分散含有する樹脂溶液が好ましく使用できる。

【００４８】尚、還元金属コロイド粒子の場合、透明樹
指層を形成後、これを還元金属コロイド粒子分散液中に
浸漬する（還元金属コロイド粒子を透明樹脂層に浸透・
吸着させる）ことでも、直接電気めっき可能な（導電性
を有する）黒色樹脂層が形成できる。樹脂層厚さ方向で
還元金属コロイド粒子含有量は傾斜をもつ（表層で最も
多い）が、良好な電気めっき析出性及び密着性を得るの
に極めて有効である。

【００４９】処理条件は、還元金属コロイド分散液の金
属の種類・濃度・コロイド粒子径等によって異なるが、
市販の標準的なパラジウムコロイド分散液（ＰｄＣｌ_２
として約１％のＰｄを含有する）の場合、常温で１〜６
０分間、好ましくは５〜３０分間浸漬する。１分未満で
は、黒化度及び導電性が低く（めっき析出が不均一）、
６０分超では黒化度及び導電性に大差がない。

【００５０】これまでも、導電性の黒色層を直接電気め
っきする例はあったが、いずれも導電性のみを必要とす
る（黒さを必要としない）用途（例えばプリント配線板
スルーホールめっき等）であった。

【００５１】ここでは、あくまでも黒色層（黒さ）を必
要とする用途を対象とし、導電性の黒色層を直接電気め
っきすることを利用し、製造工程の簡略化、製造コスト
の削減等を図ったものであり、透視性電磁波シールド材
の製造方法としては、全く新しい。この方法は、安価且
つ高性能な透視性電磁波シールド材を製造する上で極め
て有効である。

【００５２】本発明の黒色塗布液用樹脂溶液をつくる溶
媒は、樹脂及び黒色顔料又は黒色染料を分散又は溶解可
能であればその種類を問わない。

【００５３】例えば、水、メタノール、エタノール、ク
ロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テト
ラクロロエチレン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ア
セトン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロ
リドン等の単独又は混合溶媒が好ましく用いられる。用
いる樹脂と黒色顔料又は黒色染料との組合せに応じて適
宜に選択する。

【００５４】溶媒の使用量は、適当な粘性、流動性を有
するように、かつ基材に塗布するのに適するように選ば
れる。

【００５５】樹脂及び黒色顔料又は黒色染料からなる溶
液（黒色塗布液）を透明基材又は金属層上に塗布し、乾
燥することにより、黒色顔料又は黒色染料を含む塗膜
（黒色樹脂層）を形成する。塗布は、ハケ塗り、スプレ
ー塗装、ディップコート、ロール塗装、カレンダー塗
装、スピンコート、バーコート、スクリーン印刷等の通
常の塗布方法を透明基材又は金属層の形状に応じて選択
する。

【００５６】また、塗膜形成は、樹脂の種類、濃度、塗
膜厚さ等に応じて条件（温度、時間等）が決定される。
通常、不揮発分濃度が０．０５〜２０ｗｔ％で塗布され
る。乾燥塗膜厚は０．５〜５０μ、好ましくは１〜２５
μとする。０．５μ未満では黒さが確保できず視認性が
悪い。５０μ超では視野角が狭い。 （２）又、黒色無機層の場合、第１黒色層、第２黒色層
とも黒色顔料を含有する無機層である。

【００５７】使用される黒色顔料は黒色無機層中で均一
に分散できる限り、その種類・粒径等を問わないが、良
好な分散安定性を得るために粒径は好ましくは１μ以下
である。黒色樹脂層の場合で例示したものが同様に使用
できる。

【００５８】黒色顔料は、黒色無機層中の含有量が１〜
５０重量％であることが望ましく、更に好ましくは５〜
２５重量％である。１重量％未満では黒色層黒化度に乏
しく５０重量％超では黒色層物性が低下する。

【００５９】黒色無機層は、黒色顔料を含有する無機粒
子及び／又は黒色顔料と無機粒子の混合物を液状物とと
もに液状又はペースト状の黒色塗布液とし、塗布・乾燥
して塗膜形成後、必要に応じて加熱処理を行ない、上記
粒子を溶融又は焼結あるいはバインダーにより結合する
ことで形成される。

【００６０】使用される無機粒子は、液状又はペースト
状の黒色塗布液中で均一に分散でき、黒色無機層の黒さ
が損なわれない限り、種類・粒径・透明性・色等は問わ
ないが、良好な分散安定性を得るために粒径は好ましく
は１μ以下である。尚、無機粒子は、主にマトリックス
形成のために使われるが、黒色塗布液の増粘・チキソ性
付与のためにも使われる。

【００６１】具体例としては、１成分乃至多成分系の酸
化物としてケイ酸ガラス（ＳｉＯ_２）、ケイ酸アルカリ
ガラス（Ｎａ_２Ｏ−ＳｉＯ_２）、ソーダ石灰ガラス（Ｎ
ａＯ−ＣａＯ−ＳｉＯ_２）、カリ石灰ガラス（Ｋ_２Ｏ−
ＣａＯ−ＳｉＯ_２）、鉛ガラス（Ｋ_２Ｏ−ＰｂＯ−Ｓｉ
Ｏ_２）、バリウムガラス（ＢａＯ−Ｂ_２Ｏ_３−Ｓｉ
Ｏ_２）、ホウケイ酸ガラス（Ｎａ_２Ｏ−Ｂ_２Ｏ_３−Ｓｉ
Ｏ_２）等のガラス類（括弧内は主要成分）やＡｌ
_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＭｇＯ等、又炭化物とし
てＳｉＣ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、Ｚｒｃ、Ｂ_４Ｃ等、
又窒化物としてＳｉ_３Ｎ_４、ＢＮ、ＴｉＮ、ＺｒＮ、Ａ
ｌＮ等、酸窒化物としてサイアロン等が、好ましくは１
種又は２種以上組合せで、使用される。なかでも、ソー
ダ石灰ガラスが好ましく使用される。

【００６２】液状物は、溶剤のみの場合もあるが、通常
は溶剤及び黒色無機層形成後に固形分として残存するバ
インダーから成る。

【００６３】バインダーは、液状物中で溶けた状態の樹
脂或いは分散した状態の樹脂粒子又は無機粒子である。
バインダー用無機粒子は、マトリックス用無機粒子に比
べ融点が低く、含有量が少ない点以外ではマトリックス
用無機粒子と区別されない。

【００６４】一方、使用されるバインダー用樹脂は、黒
色塗布液及び黒色無機層の状態で黒色顔料、無機粒子を
良好に分散できる限り、その種類を問わない。黒色樹脂
層の場合のマトリックス又はバインダー用樹脂として例
示したものが、同様に使用できる。ただし、無機層とし
ての物性（硬さ等）及び加工性を確保するため、黒色無
機層中含有量が１０重量％以下で使用される。

【００６５】黒色樹脂層は塗膜形成性（特に薄膜の場
合）が高いが、ブラスト法等によるパターニング加工性
が低い（塗膜が黒色無機層に比べ柔らかい）のに対し、
黒色無機層はその逆であり黒色樹脂層とは特徴が大きく
異なる。そのため、要求されるメッシュ形状やライン幅
／ライン間隔（開口幅）、視野角、加工精度、加工コス
ト等によって使い分けるとよい。

【００６６】使用される溶剤は、黒色顔料、無機粒子、
バインダーを分散又は溶解できる限り、その種類を問わ
ない。黒色樹脂層の場合で例示したものが同様に使用で
きる。

【００６７】その他、黒色塗布液の不揮発分濃度、黒色
無機層の厚さ及び塗布方法等は黒色樹脂層の場合と同様
である。

【００６８】尚、ここで言う黒色無機層は、黒色顔料以
外（マトリックス又はバインダー）の成分の中で無機成
分が５０重量％超である黒色層のことである。又、黒色
顔料以外の成分は黒色無機層中の含有量に関わらず、海
島構造の「海」となっている場合をマトリックス、そう
でない場合をバインダーとして区別した。可塑剤、界面
活性剤等の添加剤は黒色樹脂層の物性を損わない範囲内
で加えてもよい。 （３）黒色金属酸化物（‘黒色金属の酸化物’でなく
‘黒色の金属酸化物’という意味で使用）層の場合も黒
色樹脂層及び黒色無機層の場合同様、金属層に付加（積
層）されたものであり、金属層の一部（表層）を酸化処
理により黒色化したものではない。

【００６９】使用される黒色金属酸化物は、十分な黒さ
を有しエッチングが可能であれば、種類・厚さ・形成方
法は問わない。′銅、ニッケル、コバルト、鉄、パラジ
ウム、白金、インジウム、すず、チタン、クロム等の金
属の酸化物の１つ又は２つ以上を組合せたものが適当で
あるが、なかでもエッチング加工性・価格の点で酸化銅
又は酸化すずが好ましい。

【００７０】金属酸化物層（多くは絶縁性である）のな
かには、低い導電性を有するもの（酸化すず等）もある
が、良好なシールド性能を得るのは困難であり、金属層
とは目的及び導電性の点で明らかに区別される。

【００７１】黒色金属酸化物層の厚さは０．０１〜１
μ、好ましくは０．０５〜０．５μである。０．０１μ
未満ではピンホールも多く黒さも不十分であり、１μ超
では処理コストが高い。

【００７２】黒色金属酸化物層は真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、無電解めっき法、
電気めっき法等の１つ又は２つ以上を組合せた方法で形
成できる。

【００７３】第１黒色層を透明接着剤を介して透明基材
に積層する場合、透明接着剤としては、ポリビニルアセ
タール系、アクリル糸、ポリエステル系、エポキシ系、
セルロース系、酢酸ビニル系等の樹脂が拳げられる。接
着剤層の厚みは一般的には１μ以上、好ましくは５〜５
００μ程度である。

【００７４】この積層品の透明基材（厚さ２ｍｍ、屈折
率１．４９、光透過率９３％、平均粗さＲａ４０Å）側
から見た第１黒色層の黒化度は、光学濃度（入射角７
゜、正反射を含まない場合）で２．９以上であることが
好ましい。光学濃度が２．９未満では、黒化度が低く最
終的な透視性電磁波シールド材の視認性が悪い（光学濃
度が低いほど金属光沢が強くまぶしい）。光学濃度が
２．９以上では、黒化度は十分高いが、これだけでは視
認性は十分でない。あくまでも、光学濃度２．７以上の
第２黒色層が積層されてはじめて十分な視認性は得られ
る。第２黒色層まで積層された積層品において第１黒色
層の黒化度が光学濃度で４．０を超えると実質的に肉眼
では視認性がそれ以上向上しない。

【００７５】透明基材上に直接又は透明接着剤層を介し
て積層された３層（第１黒色層・金属層・第２黒色層）
を同一形状で一致したメッシュ状とするには、３層積層
後にレーザー等で直接加工することもできるが、次のよ
うに通常は（Ａ）ブラスト及び／又はエッチング法、又
は（Ｂ）リフトオフ法で加工する。 （Ａ）３層積層後まず、第２黒色層上にメッシュ状のレ
ジスト部を形成する。レジスト部は印刷法、フォトリソ
法等の一般に知られている方法で形成するとよい。

【００７６】次に、第２黒色層をレジスト部に対応した
メッシュ状とするが、黒色層の種類に応じた例えば、黒
色樹脂層及び黒色無機層の場合はブラスト法等、黒色金
属層の場合はエッチング（エッチング液にて溶解）等の
方法で加工（非レジスト部を除去）するとよい。尚、メ
ッシュ状の第２黒色樹脂層は、黒色レジストを直接メ
ッシュ状に印刷する、感光性黒色レジストを露光・現
像してメッシュ状とする、ことでも形成できる。 次
に、金属層をレジスト部に対応したメッシュ状とする
が、黒色金属層と同様エッチングにて加工すればよい。

【００７７】次に、第１黒色層をレジスト部に対応した
メッシェ状とするが、第２黒色層と同様ブラスト法、エ
ッチング等にて加工すればよい。第１黒色層がカーボン
粒子を含有する第１黒色樹脂層で陽極酸化可能な導電性
（表面抵抗）を有し、金属層が陽極酸化により金属表層
に酸化皮膜が形成される金属（Ａｌ等）である場合、第
１黒色樹脂層中のカーボン粒子は陽極酸化により脆くな
り脱落する（これに伴ない樹脂も脱落する）ため、非レ
ジスト部の第１黒色樹脂層の除去法として陽極酸化も有
効である。

【００７８】最後に、レジスト部をアルカリ水溶液等の
剥離液に浸漬する等して除去する。

【００７９】尚、第１黒色層をブラスト加工した場合
は、非レジスト部の透明基材又は透明接着剤層の表層が
粗化（白化）するため、透明樹脂で被覆し透明化すると
よい。

【００８０】ブラスト及びエッチングによる加工条件は
特に限定されず、黒色層及び金属層の種類に応じて適宜
選択すればよい。 （Ｂ）３層積層前に透明基材上にメッシュ状とは逆のレ
ジストパターン部を形成し、透明基材及びレジスト上に
３層を積層後、レジスト（及びその上の３層）を剥離す
ることで、透明基材上にメッシュ状の３層だけ残す。レ
ジストパターン部の形成方法・条件及び剥離方法・条件
は（Ａ）の場合と同様である。

【００８１】この方法では、３層をメッシュ状に加工す
るのにメッシュ状とは逆パターンのレジスト（及びその
上の３層）を剥離するだけで達成できるため、ブラス
ト、エッチング等の加工が不要となり工程数は大幅に削
減される。その結果（Ａ）よりも加工精度・歩留りが高
くなる。

【００８２】但し、レジスト（及びその上の３層）だけ
を剥離、除去するためには、３層の厚さは５μ以下、好
ましくは３μ以下が望ましい。５μ超では加工性が低下
する（非レジスト部透明基材上の３層が一部剥離す
る）。厚さの下限は、加工上は存在せず（薄い程加工性
は高い）、要求されるシールド性能によって決定され
る。尚、この厚さ（５μ以下）にするには第１及び第２
黒色層が薄くても十分な黒化度を確保しやすい黒色金属
酸化物層であることが好ましい。黒色金属酸化物層は、
通常、イオンプレーティング、スパッター、真空蒸着等
の乾式で積層されるが、無電解めっき、電気めっき等の
湿式で行なってもよい。

【００８３】このようにして、金属層を黒色層で挟んだ
構成のメッシュ状パターン（アース部は金属層が露出）
を有する透視性電磁波シールド材が作製できる。尚、シ
ールド材をディスプレイ等に設置し使用するにあたって
は、アース部を設ける必要があるが、そのためには第２
黒色層の一部（多くは枠部）を広く知られた方法（ブラ
スト法等）にて除き、金属層（導電部）を露出させれば
よい。

【００８４】透視性電磁波シールド材の光透過率は６５
％以上、シールド性能は３０〜１，０００ＭＨｚにおい
て４０ｄＢ以上（５００ＭＨｚにおいて５０ｄＢ以上）
であることが好ましい。光透過率が６５％未満では暗
く、シールド性能が４０ｄＢ未満（３０〜１０００ＭＨ
ｚ）では実用レベルでない。

【００８５】上記製造方法を透明フィルムに適用し透視
性電磁波シールドフィルムを作製後、必要に応じて透明
接着剤を介してディスプレイパネル又は透明基板に貼り
合わせ透視性電磁波シールドパネルを作製することがで
きる。この際、使用される透明フィルムとしては、長尺
物として、ロール状に連続処理できるものが望ましい。
たとえばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ
イミド（ＰＩ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、
ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボ
ネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリアミ
ド、アクリル、セルロースプロピオネート（ＣＰ）、セ
ルロースアセテート（ＣＡ）などの厚みが５〜３００μ
程度のプラスチックフィルムなどが好ましく用いられ
る。

【００８６】次に、本発明で得られる透視性電磁波シー
ルド材の一例（第１黒色層が黒色顔料を分散含有する第
１黒色樹脂層、金属層が金属箔層、第２黒色層が黒色顔
料又は黒色染料を分散又は溶解含有する第２黒色樹脂層
である場合）を第１図で説明する。

【００８７】第１図はシールド材の断面構成を示したも
ので、第１黒色樹脂層３と第２黒色樹脂層５が金属箔層
４を挟んで相対し同一で一致したメッシュ状となってい
る。

【００８８】透明基材１と第１黒色樹脂層３とが透明な
接着剤２を介して貼着されている。接着剤を用いないで
透明基材と第１黒色樹脂層とが直接貼着されていてもよ
い。この場合は、たとえば透明基材上に溶融した又は溶
液状の黒色樹脂をロール、スプレー等の手段で塗布、乾
燥することによって達成される。

【００８９】以下実施例をもって具体的に説明する。

【００９０】

【実施例１】大同化成工業（株）製黒色顔料（酸化鉄微
粉）「鉄黒Ｐ００２３」を、電気化学工業（株）製ポリ
ビニルブチラール（ＰＶＢ）「＃６０００−Ｃ」のアル
コール（エタノール）溶液中に均一分散し黒色塗布液と
した（塗布液組成（重量部）；酸化鉄／ＰＶＢ／エタノ
ール＝５０／１００／１８５０）。

【００９１】この塗布液を福田金属箔粉工業（株）製電
解銅箔「ＣＦ Ｔ９ ＳＶ」（１２μ）の一方の面上に
塗布、乾燥して第１黒色樹脂層（１０μ）とし、この塗
膜面と東レ（株）製ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム「ルミラー」をアクリル系接着剤を介して
貼り合せ積層品とした。

【００９２】この積層品（銅箔側）に第１黒色層及び金
属層を加工するためのレジストである日本ポリテック
（株）製黒色フォトレジスト「ＮＰＲ−６０／５ＣＥ
Ｒ」を塗布後（酸化鉄、乾燥塗膜中１３％）、プリベー
ク、露光、現像、ポストベークして、レジストパターン
（第２黒色樹脂層、厚さ２０μ、格子状、ライン幅２０
μ、ライン間隔１８０μ）を形成した。

【００９３】この黒色レジストパターン形成品をエッチ
ング液（２０％塩化第二鉄／１．７５％塩酸水溶液）中
に浸漬し、非レジスト部の銅箔層を溶解除去、更にサン
ドブラスト法にて第１黒色樹脂層を除去後、アクリル系
塗料を塗布乾燥して透視性電磁波シールド材（パターン
形状及びライン幅、間隔はレジストパターンと同じ）を
作製した。

【００９４】この電磁波シールド材は、シールド性能が
６５ｄＢ（５００ＭＨｚ）であり、透視性は光透過率が
７５％であり、第１黒色層及び第２黒色層の黒化度が高
く、ディスプレイに対面した側の反射もなく視認性は極
めて良好であった。

【００９５】

【実施例２】実施例１の第２黒色層において、黒色レジ
ストパターン（第２黒色樹脂層）の代りに酸化鉄微粉を
分散含有するソーダ石灰ガラス系無機層（第２黒色無機
層、１０μ）、更にレジストパターン（厚さ１０μ）を
形成し、サンドブラスト法にて第２黒色無機層を加工
（パターニング）した。

【００９６】その後、金属層及ぴ第１黒色樹脂層を実施
例１同様にエッチング及びサンドブラスト法にて加工
（パターニング）し透視性電磁波シールド材を作製し
た。この電磁波シールド材は、実施例１同様各性能とも
良好であった。

【００９７】

【実施例３】実施例１の第２黒色層において、黒色レジ
ストパターン（第２黒色樹脂層）の代りに酸化銅層（第
２黒色金属酸化物層、更にレジストパターンを形成し、
エッチングにて第２黒色金属酸化物層及び金属層を加工
（パターニング）した。

【００９８】その後、第１黒色樹脂層を実施例１同様に
サンドブラスト法にて加工（パターニング）し透視性電
磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材は、
実施例１同様各性能とも良好であった。

【００９９】

【実施例４〜６】実施例１〜３の第１黒色層において、
黒色顔料を含有する樹脂層（第１黒色樹脂層）の代り
に、酸化鉄微粉を含有するソーダ石灰ガラス系無機層
（第１黒色無機層）を形成した。

【０１００】それ以外は、実施例１〜３同様に加工（パ
ターニング）し透規性電磁波シールド材を作製した。こ
の電磁波シールド材は、実施例１同様各性能とも良好で
あった。

【０１０１】

【実施例７〜９】実施例１〜３の第１黒色層において、
黒色顔料を含有する樹脂層（第１黒色樹脂層）の代り
に、酸化銅層（第１黒色金属酸化物層）を形成した。
又、実施例１〜６の第１黒色層（第１黒色樹脂層又は第
１黒色無機層）の加工（パターニング）法において、サ
ンドブラスト法の代りにエッチングにて加工し透視性電
磁波シールド材を作製した。この電磁波シールド材は、
実施例１同様各性能とも良好であった。

【０１０２】尚、実施例４〜９の第１黒色層、金属層、
第２黒色層の組合せについては表１に示した。

【０１０３】

【実施例１０】実施例１の第２黒色層において、第２黒
色樹脂層に含まれる黒色顔料（酸化鉄徴粉）の代りに黒
色染料（含金属酸性染料）を用いて透視性電磁波シール
ド材を作製した。

【０１０４】この電磁波シールド材は、実施例１に比べ
視認性が若干劣った（実施例１が‘極めて良好’であっ
たのに対し、‘良好’であった）が、それ以外の各性能
は同等であった。

【０１０５】

【実施例１１】実施例１の金属層において、銅箔（１２
μ）の代りにアルミ箔（１５μ）を用いて透視性電磁波
シールド材を作製した。

【０１０６】この電磁波シールド材は、実施例１に比べ
シールド性能が若干劣った（実施例１が‘極めて良好’
であったのに対し、‘良好’であった）が、それ以外の
各性能は同等であった。これにより、軽量且つ安価な電
磁波シールド材とすることができた。

【０１０７】

【実施例１２】実施例１の基材において、ＰＥＴフィル
ムの代りにアクリル（ＰＭＭＡ）板を用いて透視性電磁
波シールド材を作製した。この電磁波シールド材は、実
施例１同様各性能とも良好であった。

【０１０８】

【実施例１３】ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム上
に、イオンプレーティング（ＩＰ）法にて順にＩＰ酸化
銅（第１黒色金属酸化物層０．５μ）、ＩＰ銅（金属層
２μ）、ＩＰ酸化銅（第２黒色金属酸化物層０．５μ）
を形成し、更にレジストパターンを形成後エッチングに
て３層ごと加工（パターニング）し透視性電磁波シール
ド材を作製した。

【０１０９】この電磁波シールド材は、実施例１に比べ
シールド性能が若干劣った（実施例１が‘極めて良好’
であったのに対し、‘良好’であった）が、それ以外の
各性能は同等であった。

【０１１０】これにより、パターン解像度及び外観完成
度の高い電磁波シールド材を高い歩留りで作製できるよ
うになった。

【０１１１】

【実施例１４】実施例１の金属層において、銅箔（１２
μ）の代りに無電解銅めっきにて無電解銅（金属層２
μ）を形成し透視性電磁波シールド材を作製した。
（尚、無電解銅は、ＰＥＴフィルムの片面に形成してお
いた第１黒色樹脂層に対しめっき触媒を付与後無電解銅
めっきにて形成した。）この電磁波シールド材は、実施
例１に比べシールド性能が若干劣った（実施例１が‘極
めて良好’であったのに対し、‘良好’であった）が、
それ以外の各性能は同等であった。

【０１１２】

【実施例１５】実施例１の第１黒色層において、酸化鉄
微粉を分散含有する黒色樹脂層の代りに、カーボン
（主にグラファイト）粒子を樹脂溶液中に分散した導電
性塗料（日本黒鉛工業製「エブリオーム１０１Ｓ」）を
塗布・乾燥、又は透明樹脂（電気化学工業（株）製ポ
リビニルブチラール（ＰＶＢ）「＃６０００−Ｃ」塗膜
を形成、この塗膜を黒色の還元パラジウム（Ｐｄ）コロ
イド分散液（奥野製薬工業（株）「ＯＰＣ８０キャタリ
ストＭ」）中に浸漬（常温で３０分間）して黒色化、更
に導体化処理（奥野製薬工業（株）「セレクターＡ」及
び「セレクターＢ」の混合水溶液中に常温で１５分間浸
漬した）、必要に応じて乾燥して導電性黒色樹脂層（第
１黒色樹脂層）を形成後、銅箔（１２μ）の代りに直接
電気銅めっきにて電気銅（金属層２μ）を形成し透視性
電磁波シールド材を作製した。

【０１１３】これらの電磁波シールド材は、実施例１に
比べシールド性能が若干劣った（実施例１が‘極めて良
長好’であったのに対し、‘良好’であった）が、それ
以外の各性能は同等であった。

【０１１４】尚、の場合は、第１黒色樹脂層中の黒色
成分（Ｐｄコロイド粒子）だけをエッチング液等で抽出
除去することでも、（抽出除去部のみ透明化するため）
同様の透視性電磁波シールド材が作製できる。

【０１１５】

【実施例１６、１７】実施例１３の格子状パターン（ラ
イン幅２０μ、ライン間隔１８０μ、開口率８１％）の
開口率をそのままにしてライン幅及びライン問隔を１／
２倍（実施例１６）、１／４倍（実施例１７）と狭くし
て、透視性電磁波シールド材を作製した。

【０１１６】これらの電磁波シールド材（実施例１３、
１６、１７）には、「ライン間隔（開口幅）が狭い程、
シールド性能は高い」傾向が見られた。

【０１１７】

【実施例１８】実施例１３の格子状パターンの開口率を
上げ、ライン間隔・幅を狭くして透視性電磁波シールド
材（ライン幅３μ、ライン間隔４５μ、開口率８７％）
を作製した。

【０１１８】この電磁波シールド材は、実施例１３に比
べ透視性（光透過率）及びシールド性能が優れていた。

【０１１９】

【実施例１９】実施例１３と同一の透規性電磁波シール
ド材をリフトオフ法にて作製すべく、フィルム上にメッ
シュ状とは逆のレジストパターンを形成してから実施例
１３と同様に３層を積層後、剥離液中に浸漬しレジスト
（及びその上の３層）を剥離、除去した。

【０１２０】この電磁波シールド材は、実施例１３より
外観完成度（加工精度）が優れていた（それ以外の各性
能は同等であった）。更に、実施例１３より工程数が大
幅に減り歩留りも向上したことで安価品とすることがで
きた。

【０１２１】

【比較例１】実施例１の第２黒色樹脂層を形成しない揚
合で、ディスブレイに対面する側は金属光沢をしており
ディスプレイへの若干の反射が見られた。結果として、
実施例１に比べ視認性が劣っていた。

【０１２２】

【比較例２】比較例１の第１黒色樹脂層に含まれる黒色
顔料（酸化鉄微粉）の代わりに黒色染料（含金属酸性染
料）を用いた揚合で、比較例１同様の問題があるばかり
か、比較例１より第１黒色樹脂層の黒化度が劣ってい
た。結果として、実施例１に比べ、視認性が著しく劣っ
ていた。

【０１２３】

【比較例３】実施例１３の格子状パターンの開口率をそ
のままにして、ライン幅及びライン間隔を２倍に広くし
た（ライン幅４０μ、ライン間隔３６０μ、開口率８１
％）場合で、実施例１３に比べシールド性能が著しく劣
っていた。

【０１２４】

【比較例４、５】実施例１の格子状パターンの開口率を
そのままにして、ライン幅及びライン間隔を２倍（比較
例４）、２０倍（比較例５）に広くした場合で、これら
のシールド材（実施例１、比較例４、５）には、「ライ
ン間隔（開口幅）が広い程、シールド性能は低い」傾向
が見られた。

【０１２５】

【表１】

【０１２６】

【表２】

【０１２７】

【表３】 注１）：島津製作所製 分光分析装置「ＵＶ−２４０」
波長５５０ｎｍにおける光透過率（％）；８０％以上
（◎）、８０％未満６５％以上（○）、６５％未満５０
％以上（△）、５０％未満（×） 注２）：村上色彩技術研究所製 測色分光光度計「ＣＭ
Ｓ−３５ＳＰ」光学濃度（入射角７゜、正反射を含まな
い場合）；２．９以上（○）、２．９未満２．７以上
（△）、２．７未満（×） 注３）：黒化度や実際にディスプレイの前面に配置した
（第２黒色層がディスプレイに対面するように）際の反
射等を総合評価した。 極めて良好（◎）；第１黒色層及び第２黒色層の黒化度
は十分高く、反射は全く気にならない。 良好 （○）；第１黒色層の黒化度は十分高く、第
２黒色層の黒化度はやや低いが、反射は殆ど気にならな
い。 やや不良 （△）；第１黒色層の黒化度は十分高いが、
第２黒色層の黒化度がかなり低いため、反射は多少気に
なる。 不良 （×）；第１黒色層及び第２黒色層の黒化度
はかなり低いため、反射はかなり気になる。 注４）：アドバンテスト製 電磁波シールド性能測定装
置「ＴＲ−１７３０１」５００ＭＨｚにおける電界シー
ルド性能（ｄＢ）；６０ｄＢ以上（◎）、６０ｄＢ未満
５０ｄＢ以上（○）、５０ｄＢ未満３０ｄＢ以上
（△）、３０ｄＢ未満（×）

【０１２８】

【発明の効果】本発明は次の効果を有する。 （１）パターン設計の制約が小さい。 （２）透明基材側の黒色パターン（第１黒色層）の黒化
度及び解像度が高く、又反対側（第２黒色層）も金属光
沢がないため視認性が極めて良好。長期的にも安定。 （３）アースリード線との接続が容易。 （４）金属層が金属箔の場合特に導電性が高く、シール
ド効果が高い（開口率を高く設定できるため、光透過率
が高い）。長期的にも安定。 （５）金属層を黒色層でサンドイッチした構成であるた
め、保護効果により高温高湿下でも金属層の性能低下が
ない（電磁波シールド性能が安定）。 （６）視野角が広い。 （７）長尺物（ロール状）の透視性電磁波シールドフィ
ルムから欠陥部分を回避しながら各種サイズを切出し透
明基板に貼り合せる為歩留りが高い。 （８）曲面のシールドも可能。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の透視性電磁波シールド材の１例を示す
断面図である。

【符号の説明】

１ 透明基材 ２ 接着剤（透明） ３ 第１黒色層（第１黒色樹脂層） ４ 金属層（金属箔層） ５ 第２黒色層（第２黒色樹脂層） ６ ディスプレイ

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１１年１２月１０日（１９９９．１２．
１０）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００６８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００６８】尚、ここで言う黒色無機層は、黒色顔料以
外（マトリックス又はバインダー）の成分の中で無機成
分が５０重量％超である黒色層のことである。又、黒色
顔料以外の成分は黒色無機層中の含有量に関わらず、海
島構造の「海」となっている場合をマトリックス、そう
でない場合をバインダーとして区別した。可塑剤、界面
活性剤等の添加剤は黒色無機層の物性を損わない範囲内
で加えてもよい。 （３）黒色金属酸化物（‘黒色金属の酸化物’でなく
‘黒色の金属酸化物’という意味で使用）層の場合も黒
色樹脂層及び黒色無機層の場合同様、金属層に付加（積
層）されたものであり、金属層の一部（表層）を酸化処
理により黒色化したものではない。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA00B AA00D AA17B AA17D AA23 AB01C AB17 AB33 AK01B AK01D AK25G AK42 AT00A BA04 BA07 BA10A BA10D CA13 CB00 DC16B DC16D EC182 EH46 EH662 EH712 EJ152 EJ52 GB41 HB00B HB00D JA20 JD08 JG01 JL10B JL10D JN01 JN01A YY00 YY00B YY00D 5E321 BB23 BB25 BB41 CC16 GG05 GH01

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基材上に直接又は透明接着剤層を介
   して、同一メッシュ状の第１黒色層・金属層・第２黒色
   層が順に一致して積層され，必要に応じて第２黒色層の
   一部が除去されたことを特徴とする透視性電磁波シール
   ド材。
2. 【請求項２】 メッシュが格子状であり、該格子状パタ
   ーンのライン幅が５０μ以下、ライン間隔（開口幅）が
   ２００μ未満、ライン厚みが５０μ以下であることを特
   徴とする請求項１記載の透視性電磁波シールド材。
3. 【請求項３】 第１黒色層及び第２黒色層が黒色金属酸
   化物層であることを特徴とする請求項１記載の透視性電
   磁波シールド材。
4. 【請求項４】 透明基材上に直接又は透明接着剤層を形
   成後、順に黒色樹脂層、黒色無機層、黒色金属酸化物
   層のいずれかである第１黒色層、金属層、黒色樹脂
   層、黒色無機層、黒色金属酸化物層のいずれかである第
   ２黒色層を形成し、更にメッシュ状のレジスト層を設
   け、レジスト層で保護されていない第１黒色層、金属
   層、第２黒色層をサンドブラスト法及び／又はエッチン
   グ液による溶解、により除去しレジスト層に対応したメ
   ッシュ状パターンとし、必要に応じてレジスト層を剥離
   及び／又はメッシュ状パターン側（透明基材の反対側）
   を透明樹脂で被覆することを特徴とする透視性電磁波シ
   ールド材の製造方法。
5. 【請求項５】 金属層が、表面抵抗１０Ω／□以下の第
   １黒色層を直接電気めっきして形成されたことを特徴と
   する請求項４記載の透視性電磁波シールド材の製造方
   法。
6. 【請求項６】 黒色金属酸化物層が、イオンプレーティ
   ング、スパッター、真空蒸着、無電解めっき、電気めっ
   き、のいずれか又は２つ以上を組合せた方法で形成され
   たことを特徴とする請求項４記載の透視性電磁波シール
   ド材の製造方法。
7. 【請求項７】 透明基材上にメッシュ状とは逆のレジス
   トパターンを形成し、その上（透明基材部及びレジスト
   部表面）に順に第１黒色層・金属層・第２黒色層を形成
   後、レジストを剥離することでレジスト部表面の第１黒
   色層・金属層・第２黒色層だけを除去する（リフトオフ
   法）ことを特徴とする透視性電磁波シールド材の製造方
   法。
8. 【請求項８】 第１黒色層及び第２黒色層が黒色金属酸
   化物層であることを特徴とする請求項７記載の透視性電
   磁波シールド材の製造方法。
9. 【請求項９】 第１黒色層・金属層・第２黒色層をあわ
   せた厚さ（ライン厚み）が５μ以下であることを特徴と
   する請求項７記載の透視性電磁波シールド材の製造方
   法。