JP2000223661A - メモリ回路/ロジック回路集積システム - Google Patents
メモリ回路/ロジック回路集積システムInfo
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- JP2000223661A JP2000223661A JP11020346A JP2034699A JP2000223661A JP 2000223661 A JP2000223661 A JP 2000223661A JP 11020346 A JP11020346 A JP 11020346A JP 2034699 A JP2034699 A JP 2034699A JP 2000223661 A JP2000223661 A JP 2000223661A
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
が容易なメモリ回路/ロジック回路集積システムを提供
する。 【解決手段】 ロジック回路3000にメモリ回路10
00をフリップチップ構成で接続する。メモリ回路は、
複数のチップに渡っての受けられたインターフェース層
1200によって、ロジック回路との電気的接続をと
る。インターフェース1200のパターン変更のみで、
ロジック回路3000に接続するメモリの容量を容易に
変更可能で、メモリ回路/ロジック回路集積システムの
開発期間が短縮される。
Description
に関し、より特定的には、ロジック回路とを組合せたシ
ステムデバイスの製造に適した半導体記憶装置の構成に
関する。
列処理を必要とされるシステムが増加している。
プロセッサ(以下、MPUと称す)の動作速度の向上に
伴い、主記憶装置として用いられるダイナミックランダ
ムアクセスメモリ(以下、DRAMと称す)等の高速ア
クセスを実現するために、クロック信号に同期して動作
する同期型DRAM(シンクロナスDRAM:以下、S
DRAMと称す)等が用いられている。
の高速動作を可能とするために、メモリセルアレイを互
いに独立動作が可能なバンクに分割したバンク構成が用
いられている。すなわち、各バンクごとに、その動作
は、ロウ系動作およびコラム系動作について独立に制御
されている。このようなバンクをインターリーブ動作さ
せ、プリチャージ時間等を低減させることで、より高速
なアクセスが実現される。
より一層の多機能化やデータ処理速度の向上等の目的の
ために、ワンチップ上に記録回路とロジック回路とを集
積化させた、たとえばDRAM/ロジック回路混載チッ
プが開発されている。この場合、ワンチップ上に集積化
されているDRAM等の記憶回路とロジック回路との間
でデータの授受を行なうデータバスの幅(一度にやり取
りされるデータのビット数)は、高速処理を行なうため
に増加される傾向にある。
の幅を大きくすることで、高速処理を実現することが可
能となるものの、システムによっては、少量多品種生産
を行なうことが必要となる場合があり、このようなシス
テムでは、上述したようなDRAM/ロジック回路混載
チップの構成では、以下のような問題点がある。
て、記憶回路に要求される記憶容量や、ロジック回路と
の間でデータのやり取りを行なう際の語構成(1ワード
のビット数等)はさまざまなに変化する。したがって、
このような半導体デバイスを製造する際に、各々のシス
テムに応じて、これらの仕様に適合するようにその都度
ワンチップ上の回路設計を行なっていたのでは、製品開
発に要する期間が長くなってしまうという問題がある。
えば、特開平10−111864号公報には、半導体集
積回路装置の開発期間を短縮するとともに、回路の高性
能化かつ低コスト化を図るために、LSIコアとしての
RAM基板とMPU基板とを半導体チップの貼合わせ技
術を用いて、互いに対向して接続することにより、ロジ
ック回路および記憶回路からなるシステムを一体のデバ
イスとして製造する技術が開示されている。
して貼合わせる各基板において、それぞれ相互に電気的
な接続を得るためのパッドを正確な位置決めをもって形
成しておくことが必要であり、このことは、RAM基板
側の回路設計においても、またMPU基板の回路設計に
おいても、その自由度が制限されてしまうという問題点
がある。
ンターフェイス回路まで読出データを伝達する入出力線
(I/O線ペア)は、動作速度の向上等の観点から階層
化される構成となっていることが多い。この場合、階層
化しているI/O線ペアを経由して、メモリセルからの
読出データを伝達するためには、途中に、読出時に選択
されたメモリセルが接続するビット線対とデータ伝達を
行なうI/O線ペアとを選択的に接続するためのゲート
回路が設けられる。このようなゲート回路も、多バンク
型のメモリセルアレイにおいては、その素子数が増大す
る傾向にある。
でデータを入出力するためには、独立に動作可能なI/
O線ペアの本数を多くすることが必要となり、そのこと
は、また上述したゲート回路の個数およびそれを構成す
る素子数の増加を招く原因となる。
ためになされたものであって、記憶回路とロジック回路
とを含むシステムを、半導体基板上に形成された集積回
路を用いて構成するシステムにおいて、その開発期間を
短縮することが可能な半導体記憶装置を提供することで
ある。
間で大きなデータバス幅でデータを授受することが、効
率的に行なうことが可能な半導体記憶装置を提供するこ
とである。
路との間での大きなデータバス幅でのデータ授受を可能
とするとともに、冗長救済の効率を高めることが可能な
半導体記憶装置を提供することである。
路/ロジック回路集積システムは、第1の半導体基板の
第1の主表面に形成されるロジック回路チップを備え、
ロジック回路チップは、外部との電気的インターフェー
スを取るための複数の第1の入出力パッドを含み、第2
の半導体基板の第2の主表面上に分離可能な間隔を有す
るように形成される複数のメモリ回路のうちから一体と
して分離され、少なくとも2つのメモリ回路を含むメモ
リチップをさらに備え、メモリチップは、最表面に設け
られる絶縁層と、絶縁層の直下に、メモリ回路に共通に
設けられるインターフェース配線層を含み、インターフ
ェース配線層は、メモリ回路のそれぞれの入出力ノード
を接続する配線部と、外部との電気的インターフェース
を取るために、絶縁層の開口部に対応する位置に設けら
れる複数の第2の入出力パッド部とを有し、ロジック回
路チップの第1の主表面とメモリチップの第2の主表面
とを対向させた状態で、複数の第1の入出力パッドと対
応する第2の入出力パッド部とをそれぞれ接続する複数
の接続部材とを備える。
集積システムは、請求項1記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、複数のメモリ回路の
各々は、互いに同一の回路構成を有する。
集積システムは、請求項1記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、複数の第2の入出力
パッド部は、それぞれ対応する第1の入出力パッドと、
第1の主表面と第2の主表面とを対向させた状態で、整
合する位置に配置される。
集積システムは、請求項1記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、メモリ回路の各々
は、複数のメモリセルが行列状に配列されたメモリセル
アレイを備え、メモリセルアレイの行方向に沿って配置
される複数のワード線と、メモリセルアレイに対応して
設けられ、アドレス信号に応じてワードを選択的に活性
化する行選択回路と、メモリセルブロックのメモリセル
列に対応して設けられる複数のビット線対と、第1複数
個のビット線対ごとに設けられ、選択されたメモリセル
とデータの授受を行うための複数のデータ線対と、デー
タ線対と対応する第1複数個のビット線対との間で、選
択的にデータ伝達を可能とする複数の選択回路をさらに
備える。
集積システムは、請求項4記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、第2複数個のデータ
線対からなるデータ線グループごとに設けられる複数の
選択ゲート回路と、複数の選択ゲート回路に共通に設け
られるデータバスと、選択ゲート回路ごとに設けられ、
選択ゲート回路を選択的に活性化し、対応するデータ線
グループからのデータをデータバスに伝達させる複数の
デコード回路とをさらに備える。
集積システムは、請求項5記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、デコード回路を制御
するプリデコード回路をさらに備え、プリデコード回路
は、複数のデコード回路のうち、少なくとも2つを同時
に活性化する。
集積システムは、請求項4記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、選択回路は、第1複
数個のビット線対にそれぞれ対応して設けられ、選択的
に導通状態とされる第1複数個の第1のスイッチ回路
と、第1複数個の第1のスイッチ回路からの出力を受け
て、選択されたビット線対の電位レベルに応じて、対応
するデータ線対の電位を駆動するデータ伝達ゲートとを
含み、データ伝達ゲートは、データ線対のうちの一方と
所定の電源電位との間に結合され、ゲート電位が選択さ
れたビット線対のうちの一方により駆動される第1のM
OSトランジスタと、データ線対のうちの他方と所定の
電源電位との間に結合され、ゲート電位が選択されたビ
ット線対のうちの他方により駆動される第2のMOSト
ランジスタとを有する。
集積システムは、請求項7記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、選択回路とデータ伝
達ゲートとを結合する複数のセグメントデータ線対と、
待機状態において、セグメントデータ線対を第1のプリ
チャージレベルにプリチャージする第1のプリチャージ
回路と、待機状態において、ビット線対を第2のプリチ
ャージレベルにプリチャージする第2のプリチャージ回
路とをさらに備える。
集積システムは、請求項4記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システムの構成に加えて、メモリセルアレイ端
部に設けられる冗長メモリセル行をさらに備え、冗長メ
モリセル行は、メモリセル列に対応する個数であって、
記憶データを保持するためのラッチ回路を有する。
路集積システムは、請求項9記載のメモリ回路/ロジッ
ク回路集積システムの構成に加えて、メモリセルアレイ
に対応して、第1複数個を単位として設けられる、複数
の冗長メモリセル列と、第1複数個の冗長メモリセル列
ごとに設けられ、選択された冗長メモリセルとデータの
授受を行うための複数の冗長データ線対と、メモリセル
アレイとの間でデータの授受を行うためのデータバス
と、冗長メモリセル列への置換が行なわれているかに応
じて、データ線対および冗長データ線対とデータバスと
の接続を切換えるデータ伝達切換回路とをさらに備え
る。
路集積システムは、請求項9記載のメモリ回路/ロジッ
ク回路集積システムの構成に加えて、メモリセルアレイ
に対応して、第1複数個を単位として設けられる、複数
の冗長メモリセル列と、第1複数個の冗長メモリセル列
ごとに設けられ、選択された冗長メモリセルとデータの
授受を行うための複数の冗長データ線対と、データ線対
ごとに設けられ、冗長メモリセル行からの読出データと
データ線対を介して伝達された読出データとを受けて、
冗長メモリセル行への置換が行なわれているかに応じ
て、いずれかを出力する複数のマルチプレクサと、冗長
メモリセル列への置換が行なわれているかに応じて、デ
ータ線対とマルチプレクサとの接続を切換えるデータ伝
達切換回路と、マルチプレクサとの間でデータの授受を
行うためのデータバスとをさらに備える。
路集積システムは、請求項11記載のメモリ回路/ロジ
ック回路集積システムの構成に加えて、データ伝達切換
回路の動作を制御するための冗長列置換制御回路をさら
に備え、冗長列置換制御回路は、予め記憶された冗長置
換が行なわれるべき行アドレスと行アドレス信号とが一
致する場合、第1のヒット信号を活性化し保持する行ア
ドレス比較回路と、予め記憶された冗長置換が行なわれ
るべき列アドレスと列アドレス信号とが一致する場合、
第2のヒット信号を活性化する列アドレス比較回路と、
第1および第2のヒット信号の活性化に応じて、データ
伝達切換回路の動作を制御するための切換制御信号を生
成する、列置換信号生成回路とを含む。
路集積システムは、請求項12記載のメモリ回路/ロジ
ック回路集積システムの構成に加えて、列置換信号生成
回路は、読出動作モードおよび書込動作モードに応じ
て、アドレス信号が与えられてから、切換制御信号をデ
ータ伝達切換回路に与えるまでのタイミングを調整する
ためのシフト回路をさらに含む。
路集積システムは、請求項11記載のメモリ回路/ロジ
ック回路集積システムの構成に加えて、データ伝達切換
回路は、冗長メモリセル置換が行なわれない場合におけ
る対応するデータ線対の各データ伝達経路上に直列に配
置される第1および第2のシフト回路を含み、第1のシ
フト回路は、対応するデータ線対からのデータを受け
て、切換制御信号に制御されて、対応するデータ線対に
隣接する左右いずれかのデータ線対の冗長メモリセル置
換が行なわれない場合におけるデータ伝達経路に与え、
第2のシフト回路は、第1シフト回路からのデータを受
けて、切換制御信号に制御されて、対応するデータ線対
に隣接する左右いずれかのデータ線対の冗長メモリセル
置換が行なわれない場合におけるデータ伝達経路に与え
る。
の実施の形態1の同期型半導体記憶装置1000の回路
構成を説明するための概略ブロック図である。なお、以
下に説明するように、本発明は必ずしもこのような同期
型半導体記憶装置に限定されることなく、より一般的な
半導体記憶装置のメモリセルアレイの構成に適用するこ
とが可能である。
外部から与えられる相補なクロック信号ext.CLK
およびext./CLKを受ける外部クロック信号入力
端子1002と、外部クロック端子1002に与えられ
たクロック信号をバッファ処理するクロック入力バッフ
ァ150および152と、クロックバッファ150およ
び152の出力を受けて、内部クロック信号int.C
LKを生成する内部制御クロック信号生成回路1008
と、外部制御信号入力端子1010を介して与えられる
外部制御信号を、内部クロック信号int.CLKに応
じて動作する入力バッファ1012〜1020を介して
受けるモードデコーダ1022とを備える。
CKEと、チップセレクト信号/CSと、行アドレスス
トローブ信号/RASと、列アドレスストローブ信号/
CASと書込制御信号/WEと、データマスク信号DM
0〜DM3が与えられる。
を可能とすることを指示するための信号であり、この信
号が活性化されないと、制御信号の入力が許可されずチ
ップとして動作しない。
いるか否かを識別するための信号であり、この信号が活
性化している状態(“L”レベル)において、クロック
信号の立上がりのエッジにおいて、他の制御信号のレベ
ルの組合せに応じてコマンドの識別が行なわれる。
るための信号であり、信号/CASは列系回路の動作の
活性化を指示するための信号である。信号/WEは、書
込動作あるいは読出動作の識別をするための信号であ
る。
データ入出力端子DQ0〜DQ7、DQ8〜DQ15、
DQ16〜DQ23、DQ24からDQ31に対するデ
ータ授受のマスク動作を指示する信号である。
御信号に応じて、SDRAM1000の内部回路の動作
を制御するための内部制御信号を出力する。モードデコ
ーダ1022は、たとえば内部制御信号として、信号R
OWA、信号COLA、信号ACD、信号PC、信号R
EAD、信号WRIDE、信号APCおよび信号SRを
出力する。信号ROWAは、ロウ系のアクセスが行なわ
れることを示す信号であり、信号COLAはコラム系ア
クセスが行なわれることを示す信号であり、信号ACT
はワード線の活性化を指示する信号である。
行系の回路動作の終了を指示する信号である。信号RE
ADは列系の回路に対して読出動作を指示するための信
号であり、信号WRITEは列系の回路に対して書込動
作を指示するための信号である。
示する信号であり、オートプリチャージ動作が指定され
ると、バーストサイクルの終了とともに、プリチャージ
動作が自動的に開始される。信号SRはセルフリフレッ
シュ動作を指示するための信号であり、セルフリフレッ
シュ動作が開始されると、セルフリフレッシュタイマが
動作し、一定時間が経過すると、ワード線を活性化させ
て、リフレッシュ動作を開始する。
フレッシュモードが信号SRにより指定されると、動作
を開始し、一定時間が経過するとワード線の活性化、す
なわちリフレッシュ動作の開始を指示するためのセルフ
リフレッシュタイマ1054と、セルフリフレッシュタ
イマ1054からの指示に従って、リフレッシュ動作を
行なうアドレスを発生するためのリフレッシュカウンタ
1056を含む。
の“H”レベルまたは“L”レベルの判定の基準となる
信号VREFを受ける参照電位入力端子1022と、ア
ドレス信号入力端子1030を介して与えられるアドレ
ス信号と、上述した外部制御信号との組合せに応じて、
所定の動作モードに対する情報、たとえばバースト長に
対するデータや、シングルデータレート動作およびダブ
ルデータレート動作のいずれが指定されているかに関す
る情報を保持するモードレジスタ1046と、内部クロ
ック信号int.CLKに応じて動作するアドレス信号
入力バッファ1032〜1038を介してアドレス信号
を受けて、行アドレスが入力されるタイミングにおい
て、入力された行アドレスを保持するロウアドレスラッ
チ1048と、アドレス信号A0〜A12を受けて、列
アドレスが入力されるタイミングにおいてこの列アドレ
スを保持するコラムアドレスラッチ1050と、リフレ
ッシュアドレスカウンタ1056からの出力とロウアド
レスラッチ1048からの出力とを受けて、通常動作に
おいてはロウアドレスラッチ1048からの出力を、セ
ルフリフレッシュ動作中はリフレッシュアドレスカウン
タ1056からの出力を選択して出力するマルチプレク
サ1058と、マルチプレクサ1058からの出力を受
けて行アドレスをプリデコードするためのロウプリデコ
ーダ1062と、コラムアドレスラッチ1050に保持
された列アドレスを基準として、モードレジスタ104
6からのバースト長のデータに応じて内部列アドレスを
生成するバーストアドレスカウンタ1060と、バース
トアドレスカウンタ1060の出力を受けて、対応する
列アドレスのプリデコードを行なうコラムプリデコーダ
1064と、アドレス入力端子に与えられるバンクアド
レスBA0〜BA3を、内部クロック信号int.CL
Kに応じて動作する入力バッファ1040〜1044を
介して受け、指定されたバンクアドレス値を保持するバ
ンクアドレスラッチ1052と、バンクアドレスラッチ
1052の出力を受けて、バンクアドレスをデコードす
るバンクデコーダ1066とを備える。
は、ロウ系のアクセス時、およびコラム系のアクセス時
のそれぞれにおいてアクセスバンクを指示する。すなわ
ち、ロウ系のアクセス時、およびコラム系のアクセス時
のそれぞれにおいて、アドレス信号入力端子1030に
与えられたバンクアドレス信号BA0〜BA3は、バン
クアドレスラッチ1052に取込まれた後、バンクデコ
ーダ1066によりデコードされた後、各メモリアレイ
ブロック(バンク)に伝達される。
が読出/書込動作を独立に行なうことが可能な単位であ
るバンク0〜バンク15として動作するメモリアレイブ
ロックを含むメモリセルアレイ1100と、バンクデコ
ーダ1066からの出力およびロウプリデコーダ106
2からの出力に応じて、対応するバンク中の行(ワード
線)を選択するためのメインロウデコーダ2142と、
コラムプリデコーダ1064からの出力に応じて対応す
るバンク中の列(ビット線対)を選択するためのメイン
コラムデコーダ2104と、読出動作においては選択さ
れたバンク中の選択されたメモリセルから読出されたデ
ータをグローバルI/OバスG−I/Oに与え、書込動
作においては、バスG−I/Oにより伝達された書込デ
ータを対応するバンクに与えるI/Oポート2152
と、書込動作において、外部から与えられた書込データ
を保持し、バーストG−I/Oに与え、読出動作におい
て、バスG−I/Oにより伝達された読出データを保持
するデータ入出力回路1086と、データ入出力回路1
086とデータ入出力端子1070との間で入出力デー
タDQ0〜DQ31のやり取りを行なうための双方向入
出力バッファ1072〜1082とを含む。
ク0〜15は、4行4列の行列状に配置されている。な
お、バンクの配置はこのような場合に限定されず、たと
えば、より個数が多くなっても構わない。より一般的に
は、バンクは、m×n(m、n:自然数)の行列状に配
置されていても構わない。
置1000(以下、メモリコアと呼ぶ)をシリコンウェ
ハ10上に形成していく場合の配置の例を示す概念図で
ある。
において、メモリコア1000は、複数のロウ系のメモ
リコアを同時に写真製版工程においてパターン転写する
ことを繰返すことで、各工程(成膜工程、エッチング工
程等)を経て形成される。図2に示した例においては、
このように同時にパターン転写されるロウ系のメモリコ
アは8チップである場合を示しており、たとえば、ステ
ッパ露光においては、図2中の領域12がワンショット
分の露光領域となる。
コアを用いて、ロジック回路とを組合せたシステムを構
成する場合のデバイス形成工程を概念的に示す図であ
る。
ット分の、たとえば、8チップ分のメモリコアに対し
て、さらに露光工程等を繰返すことで、メモリコアのデ
バイスの最上層に配線層パターン14を追加形成する。
このようにして形成されたメモリコア1000には、ロ
ジック回路との電気的な接続を実現するためのインター
フェイス層1200が形成されている。
するように、メモリコア1000は、互いの主表面を対
向するように、インターフェイス層1200を介しては
んだバンプ等により接続される。
000は、リード3002を介して、外部との間で信号
の授受を行なう。
0と、ロジックコア3000とを互いに貼合わせた状態
におけるP−P′断面を示す断面図である。
ス層1200およびはんだバンプ1202を介してロジ
ックコア3000と接続している。ロジックコア300
0は、さらに、バンプ3004およびリード3002を
介して外部との間で信号の授受を行なう。
版工程のワンショットの領域12で形成されるメモリコ
ア1000の配置の様子をより詳細に説明するための拡
大図である。
2内には、たとえば8チップ分のメモリコア1000が
配置されており、各メモリコア1000においては、メ
モリアレイ1100と、周辺回路1102とが設けられ
る。
02とメモリコア1000の短辺側の外周との間に、さ
らに内部信号入力端子1002、制御信号入力端子10
10、アドレス信号入力端子1030およびデータ入出
力端子1070に対応する入出力パッド群1104が設
けられている。
版工程のワンショット分の領域に形成されるインターフ
ェイス層1200のパターンを説明するための拡大図で
ある。
するように、はんだバンプ1202等でロジックコア3
000との接続を形成するためのパッド部1202と、
このパッド部1202とメモリコアの入出力パッド群1
104のうちの対応する入出力パッドとの接続を形成す
るための配線部1204とを含む。
ド群1104のうち、近接する入出力パッドにそれぞれ
対応するパッド部1202は、互いに密に配置可能なよ
うに、入出力パッド群1104からの距離が交互に変化
するように配置されている。
モリコアに対して、図6で示したようなインターフェイ
ス層1200を形成した場合の、ワンショットのメモリ
コアの構成をより詳細に説明するための拡大図である。
1104の各入出力パッドに対応して設けられるインタ
ーフェイス層1200のパッド1202は、互いに交互
に配置され、入出力パッド群1104から比較的遠い位
置に配置されるパッド1202aと、比較的近い位置に
配置されるパッド1202bとを含む。
ド群1104の各パッドよりも大きな面積を有するパッ
ド1202を密に配置することが可能となる。
んだバンプ等で電気的接続を取る際の位置合わせの余裕
を大きく取ることが可能となる。
リコア1000の1チップを単位として、ロジックコア
3000と接続することで、メモリ/ロジックシステム
を構成する場合について説明した。
して接続するメモリ容量の単位はより大きなものとする
ことが必要になる場合も存在する。図8は、このような
場合のメモリ/ロジックシステムの構成を行なう場合
の、形成プロセスを説明するためのフロー図である。
チップ分で単位メモリコアを形成するために、2メモリ
コア分をインターフェイス層1200で接続する。
を形成する際のマスクパターン14としては、たとえ
ば、横方向に並んだ2つのメモリコア1000を接続す
るようなインターフェイス層に対応するパターンとなっ
ている。
たメモリを、この2チップ単位でチップ分にする。この
ようにして形成された単位メモリコアをロジックコアと
パッド位置を合わせながら裏向きで貼合わせる。このよ
うな位置合わせは、元々メモリコアの主表面側に存在す
るマーク位置を、たとえばシリコン基板を透過する光等
を用いて認識し、その位置合わせを行なうことで、メモ
リコアとロジックコアとのパッド位置を把握し、両者の
パッド位置合わせを行なうことが可能となる。
を形成するためのマスクパターン14を示す拡大図であ
る。
ーフェイス層のパッド部1202a、1202bは、ロ
ジックチップのパッド位置と貼り付けの際にその位置が
合うように配置されている。メモリコアの入出力パッド
群1104aとパッド1202a、1202bとは、ス
ルーホール1106aおよび配線1204を介して接続
されている。さらに、インターフェイス層1200のパ
ッド1202a、1202bは、左側のチップのみなら
ず右側のチップとも、スルーホール1106bを介して
接続している。
チップとで各々独立して制御する必要がある入出力パッ
ド、たとえばチップセレクト信号/CSに対応したパッ
ドは、右側のチップと左側のチップとで配線1204に
より共通に接続することなく、各々独立した配線120
4および独立したパッド1202c、1202dが設け
られる構成となっている。
いて、左右に並んだ2つのチップ1000aおよび10
00bに対して、インターフェイス層1200を形成し
た場合の構成を示す拡大図である。
イス層1200中のパッド1202は、左チップ100
0aの入出力パッド1104aに対して、比較的遠い距
離に設けられるパッド1202aと、比較的近い距離に
設けられるパッド1202bとを含む。
左側のチップ1000aの入出力パッド1104aとは
スルーホール1106aを介して、右側のチップ100
0bの入出力パッド1104bとは、スルーホール11
06bを介して、それぞれ配線1204により接続され
ている。
側のチップ1000aの入出力パッド1104aのう
ち、右側のチップとは独立に制御する必要がある入出力
パッド、たとえば、チップセレクタ信号/CSを受ける
パッドに対しては、左側のチップについてはパッド12
02cが、右のチップ1000bについてはパッド12
02dがそれぞれ設けられ、それぞれ独立に対応する入
出力パッドと接続される構成となっている。
ロジックシステムを形成する際に、システムに要求され
るメモリ容量に応じて、一定のメモリ容量を有するメモ
リコア1000を単位として、ロジックコア3000に
接続されるメモリ容量を柔軟に変化させることが可能と
なる。
3000と対向して貼合わすためのメモリコア1000
の構造を説明するための断面図である。
メモリセルを有するメモリについての断面構造を示す。
トキャパシタのストレージノードとストレージノードコ
ンタクトを介して接続し、このストレージノードとビッ
ト線との接続をワード線電位レベルに応じて開閉する。
込プラグ金属、第1層アルミ配線、第2層配線を介し
て、最終的に、第3層配線により、外部と電気的に接続
する。すなわち、この第3層配線が、入出力パッド11
04に相当する。
して、さらにインターフェイス層1200を形成した場
合の断面構造を示す断面図である。
第3層配線(たとえば銅配線)と接続している。インタ
ーフェイス層1200の上面には、さらにパッシベーシ
ョン膜が形成され、インターフェイス層のパッド120
2上において、このパッシベーション膜が開口してい
る。
ア1000をロジックコア3000にフリップチップ上
で接続した場合の断面構造を示す図である。
と、メモリコア1000のパッド1202とが、はんだ
バンプ1201により接続される。
00の構成を説明するための概略ブロック図である。
00は、センスアンプ帯とサブワードドライバ帯に囲ま
れたメモリセルアレイ単位(バンク)に細分化されてい
る。メモリセルアレイ1100は、このようなメモリセ
ルアレイ単位ごとに活性化される。
レイ単位を跨いで設けられ、活性化させる必要のあるサ
ブワードドライバSWDを活性化させる。サブワードド
ライバSWDの活性化に応じて、対応するサブワード線
SWLが活性化される。センスアンプは、メモリセルア
レイ単位を挟んで交互に配置される構成となっている。
線とセンス選択線が交差する領域に属するセンスアンプ
が活性化される。
って、センスアンプ帯を横切るようにセグメントYS線
が配置される。
においては、セグメントYS線SGYSが活性化される
ことにより、セグメントYS線SGYSと活性化される
バンク選択線が交差する領域(バンク)が活性化され
る。活性化された領域(バンク)からは、たとえば、4
センスアンプごとに1データが読出される構成となって
いる。
ワード線とは直交する方向に走るデータ線ペアを通じ
て、読出/書込アンプ(以下、R/Wアンプ)2154
に伝達される。
して、データ出力部に読出データが伝達される。あるい
は、メモリ/ロジック混載チップである場合は、データ
バス領域を介して、ロジック部にデータが伝達される。
1100は、4行4列に配列されたメモリマット(バン
ク)を有し、各行に対応してメインロウデコーダ214
2に含まれるメインワードドライバ群が設けられ、各列
に対応してI/Oセレクタ2152が設けられている。
各メモリマット(バンク)にはセンスアンプ帯2148
とサブワードドライバ帯2150とが設けられている。
ドレス信号に応じてメインワードドライバ2156によ
りメインワード線MWLが選択的に活性化される。ま
た、SDドライバ2144によってセグメントデコード
線SGDL(バンク選択線BSLおよび選択線SLなら
びにリセット線RSLを含む)が活性化される。メイン
ワード線MWLとセグメントデコード線SGDLとによ
り対応するサブワードドライバ2168が活性化され、
それに応じてサブワード線2170が活性化され、選択
されたメモリセルに接続されているアクセストランジス
タが導通状態となる。ここで、選択線SLは、4本の選
択線SL0〜SL3を総称する。
ト線RSL0〜RSL3を総称するものとする。
対応して設けられるビット線対2158にデータが出力
される。
と、セグメントYSドライバ2160によってセグメン
トYS線SGYSが活性化される。ここで、セグメント
YS線SGYSは、4本のリードソース線RGL0〜R
GL3と、4本のライト活性化線WRL0〜WRL3と
を含む。このSGYS線が活性化することにより、選択
的に対応するI/Oゲート2162が活性状態となっ
て、4つのセンスアンプの出力信号のうちのひとつが、
I/O線2164を介して外部に読出される。
を総称して、リードソース線RGLと総称し、ライト活
性化線WRL0〜WRL3を総称して、ライト活性化線
WRLと総称することとする。
イバ帯BSDRnの詳細な構成を示すための回路図であ
る。
選択線BSLにより制御され、メインワード線と内部ノ
ードn1との間に設けられる選択トランジスタ8100
と、ノードn1にゲートが接続し、選択線SLのうちの
1つのSL0とサブワード線SWLとの間に接続される
トランジスタ8102と、ゲート電位がトランジスタ8
102と同じ選択線SL0により制御され、サブワード
線SWLとノードn1との間に接続されるトランジスタ
8104とを含む。また、リセット線RSL0によりゲ
ート電位が制御され、サブワード線と接地電位との間に
設けられるトランジスタ8106をさらに含む。
ついても同様の構成が存在する。このような構成とする
ことで、メインワード線MWLが活性化し、バンク選択
線BSLが活性化して、かつ選択線SLのいずれかが活
性化することで、対応するワード線SWLが活性状態
(高電位)とされ、リセット線RSLが選択的に活性化
することで、対応するサブワード線SWLが接地電位に
放電される。
ンワード線MWLが各バンクにおいて4本のサブワード
線SWLを制御し、いずれのサブワード線SWLが選択
されるかは、選択線SLのうちのひとつの活性化により
指定される。
電圧Vppのレベルとなり、サブワード線SWLが活性
化した後は、接地電位レベルVssレベルに変化する。
この場合、トランジスタ8102および8104により
構成されるラッチ回路により、このバンク選択線BSL
の活性化の状態が保持されることになる。選択線SLと
リセット線RSLとの電位レベルは互いに相補となるよ
うに制御される。
Lが接地電位(GND)レベルであり、選択線SLが接
地電位(GND)レベルであり、リセット線RSLは電
源電位(Vcc)レベルとなっている。
リセット線を接地電位(GND)とし、活性化すべきサ
ブワード線SWLに対応するバンク選択線BSLが活性
化されて、その電位レベルは昇圧電位Vppレベルとな
る。
れ電源電位(Vcc)レベルとなる。このメインワード
線MWLの活性化とほぼ同時に、選択線SLのうちの1
つが電源電位(Vcc)レベルとなり、サブワード線S
WLは(Vcc−Vth)レベルとなる。その後、バン
ク選択線BSLは、接地電位(GND)レベルに変化
し、ドライバ回路発生中のラッチ回路に電荷が閉込めら
れることになる。
104により閉込められている状態で、選択線SLのう
ちの選択されている1つの電位レベルを昇圧電位(Vp
p)レベルまで上昇させれば、サブワード線SWLのレ
ベルは、昇圧電位(Vpp)レベルまで変化することに
なる。
電位(Vcc)レベルまで上昇させ、かつ選択線SLを
接地電位(GND)レベルとする。さらに、リセット線
を電源電位(Vcc)レベルとすることで、サブワード
線SWLに蓄えられた電荷を放電する。
線ドライバ8000を構成する素子数は、NチャネルM
OSトランジスタの4素子のみとすることが可能で、素
子数を削減することができる。
ド線の活性化はワンショットパルス信号として行なわれ
る。すなわち、選択されたサブワード線に対応するサブ
ワードドライバ8000中の、トランジスタ8102お
よび8104によりメインワード線の活性状態が一度保
持されると、メインワード線の電位レベルはリセットさ
れることになる。このような構成では、図14に示した
ように、複数のバンクがメインワード線方向に並んでい
る場合においても、バンク選択線BSLが活性化されな
い限り、メインワード線の電位レベルは、サブワードド
ライバ8000に影響を与えることがない。したがっ
て、図14に示したように行方向に互いに隣接する2つ
のバンクを独立に動作させることが可能となる。
の接続を行なう構成を示す回路図である。
トランジスタ8400および8402を介してデータ線
ペアDL,/DLを介してデータ信号が伝達される構成
となっている。
402のソースはリードソース線RGLにより選択的に
接地電位とされ、トランジスタ8400および8402
のゲートは、それぞれ対応するセンスアンプS/Aの入
出力ノードと接続し、トランジスタ8400および84
02のドレインは、それぞれ対応するデータ線ペアD
L,/DLに接続する構成となっている。
ンスアンプが1つのデータ線ペアDL,/DLを共有す
る構成となっている。
動作時には、対応するビット線BLとデータ線DLとの
間およびビット線/BLと対応するデータ線/DLとの
間にそれぞれ接続されるトランジスタ8500および8
502により、選択的に接続される構成となっている。
BL3,/BL3にそれぞれ対応するセンスアンプS/
A0〜S/A3の入出力ノードは、それぞれ対応するラ
イト活性化線WRL0〜WRL3によりゲート電位が制
御されるトランジスタ8500および8502により、
選択的にデータ線ペアDL,/DLに接続される構成と
なっている。
したとおり、リードソース線RGL(リードソース線R
GL0〜RGL3を総称)、ライト活性化線WRL(ラ
イト活性化線WRL0〜WRL3を総称)等が含まれ
る。
読出動作においては、データ線ペアDL,/DLと対応
するセンスアンプの入出力ノードとは直接接続されず、
トランジスタ8400および8402のゲートが、セン
スアンプの入出力ノードの電位レベルにより駆動される
ことで、データ線ペアDL,/DLのレベルが変化する
構成となっているので、列アドレス信号によるメモリセ
ル列の選択、すなわち、リードソース線RGL0〜RG
L3のうちのいずれかの選択動作がセンスアンプによる
増幅動作とオーバーラップし、あるいはそれに先行する
場合でも、データが破壊されることなく読出動作が可能
である。
速化が可能となることを意味する。さらに、センスアン
プも限定された領域ごとに活性化すればよいため、動作
電流ピーク値を抑制でき、消費電力の低下、雑音の低下
等の効果を得ることができる。
0の動作を説明するためのタイミングチャートである。
クロック信号Ext.CLKの活性化のエッジにおい
て、図14に示した4×4に配置されたバンクのうちの
縦方向のアドレスを示す信号VBAと水平方向のアドレ
ス示す信号HBAが与えられる。
向のバンクアドレス信号HBAに応じて、バンク選択線
BSLがワンショット信号として活性化され、垂直方向
のバンクアドレスVBAに応じて、セグメントYS線S
GYSが活性化され、書くバンク後とに設けられたロー
カル制御回路中において選択されたバンクの活性化を示
すFLAG信号が活性化する。バンク選択線BSLが活
性化するのに応じてトランジスタ8100が導通状態と
なる。
/O線対のイコライズ動作を指示するイコライズ信号E
Qと、サブワード線レベルをリセットするためのリセッ
ト信号RSLのレベルが不活性化(”L”レベル)す
る。
て、メインワード線MWLが選択的に電源電位Vccに
活性化され、ほぼ同時に選択線SLのうちのひとつが選
択的にVccレベルに活性化される。
不活性レベル(GNDレベル)となり、一方で選択線S
Lは、昇圧電位レベル(Vppレベル)にまで駆動され
る。これに応じて、選択されたサブワード線SWLも昇
圧電位レベルまで駆動される。
性化信号SEも活性状態となり、選択されたサブワード
線SWLに接続するメモリセルからの読出データが増幅
される。
不活性状態となり、時刻t6において選択線SLが不活
性状態となるが、選択されたサブワード線SWLのレベ
ルは、活性レベル(Vppレベル)に維持される。
スアンプ活性化信号SEは、時刻t6において不活性状
態となるものの、選択されたバンクにおけるセンスアン
プ活性化信号lSEはは活性状態を維持する。
t.CLKの活性化のエッジにおいて、4×4に配置さ
れたバンクのうち、上述した時刻t1に与えられたのと
は別の縦方向のアドレスを示す信号VBAと水平方向の
アドレス示す信号HBAが与えられる。以後は、この選
択されたバンクについて、時刻t1〜t6と同様の動作
により、読出動作が行なわれる。
号Ext.CLKの活性化のエッジにおいて、4×4に
配置されたバンクのうち、上述した時刻t1およびt7
に与えられたのとは別の縦方向のアドレスを示す信号V
BAと水平方向のアドレス示す信号HBAが与えられ
る。以後は、この選択されたバンクについて、時刻t1
〜t6と同様の動作により、読出動作が行なわれる。
バンクを指定するために縦方向のアドレスを示す信号V
BAと水平方向のアドレス示す信号HBAが与えられ
る。これに応じて、時刻t11において選択されたバン
ク選択線BSLが活性状態になるとともに、バンクの活
性化を指示していたフラグ信号FLAGが不活性化す
る。
SLのレベルが活性状態となるのに応じて、サブワード
線SWLのレベルが不活性状態となる。一方で、センス
アンプ活性化信号が不活性化し、その後、イコライズ信
号EQが活性化してリセット動作が完了する。
信号に応じて、バンクの選択および活性化が行なわれ
る。
ルアレイが行方向および列方向に分割された各メモリセ
ルアレイ単位がバンクとして動作し、ワード線が階層化
されて動作する場合において、サブワードドライバを構
成するトランジスタ数を削減することが可能である。
の形態2の半導体記憶装置のメモリアレイ2000の構
成を説明するための概略ブロック図である。
1の半導体記憶装置1000の構成と同様であるので、
その説明は繰返さない。
おいては、データ入出力におけるインターフェイス部分
のデータの授受を行なうビット数(以下、I/O数と呼
ぶ)は、所定の値、たとえば32ビットに補正されてい
た。
明したように、ロジックコア3000に対して、メモリ
コア1000を接続する際に、ロジックコア3000の
仕様によっては、このI/O数を変更する必要が生じる
場合がある。
えばメモリセルアレイ部分の設計まで全面的に変更する
ことが必要であるとすると、製品開発期間に長時間を要
することとなり好ましくない。
メモリアレイ2000においては、メモリアレイの主要
な構成部分は変更することなく、一部回路の変更のみ
で、上記I/O数を柔軟に変更可能な構成とすることを
目的とする。
アレイ2000は、4つのビット線対BLP1〜BLP
4およびそれらビット線対にそれぞれ接続するセンスア
ンプSA1〜SA4を1つの繰返し単位として構成され
る。
A1〜SA4は、ビット線対BLP1〜BLP4に対し
て同一の側に配列される構成となっているが、センスア
ンプSA1およびSA3と、センスアンプSA2とSA
4とが、ビット線対を挟んで対向する側に配置される構
成としてもよい。
トランジスタTG1〜TG4を介して、ゲート回路RG
と接続している。
のセンスアンプがゲート回路RGと接続するかは、バン
クアドレスBAおよびサブバンクアドレスSBAを受け
て、デコードする、デコード回路2600.1〜260
0.n(n:自然数)からのデコード信号に応じて制御
される。
0.1〜2600.nのうち、対応するデコード回路に
より選択されたセンスアンプと、メインI/O線とを接
続する。
SA1等と、ゲート回路RGとの接続は、1本の接続さ
れるように表現されているが、たとえば、相補の信号対
により接続されており、ゲート回路RGを介して、セン
スアンプSA1〜SA4のうち選択された1つと、メイ
ンI/O線対M−I/Oとの間でデータの授受が行なわ
れる構成としてもよい。以下では、このようにデータの
伝達がメインI/O線対により行なわれるものとして説
明する。
対方向に配列された、上述したようなセンスアンプ4個
からなる繰返し単位について、共通に設けられている。
スアンプと結合されたメインI/O線対M−I/Oは、
データ書込時においては、外部から与えられた書込デー
タをラッチするラッチ回路LWおよび書込ドライバ回路
WAを介して書込データが与えられる。読出動作におい
ては、メインI/O線対M−I/Oに読出されたデータ
は、一旦読出用ラッチ回路LRに保持された後、リード
ドライバRAにより増幅される。
ドライバRAの出力は、ゲート回路2700を介して、
グローバルI/OバスG−I/Oと接続している。
スアンプを含む繰返し単位4つごとに、ゲート回路27
00が設けられ、このゲート回路2700が、データデ
コード回路2100により選択されることで、対応する
グローバルI/OバスG−I/Oと接続する。
路2700と接続する4つの繰返し単位から読出された
4つのデータが、グローバルI/OデータバスG−I/
Oを介して、4つのI/OポートI/O0〜I/O3に
出力される。
択アドレスDSA0〜DAS1を受けるプリデコーダ2
110と、データ選択アドレスDSA2〜DSA3を受
けるプリデコーダ2210と、データ選択アドレスDS
A4〜DSA5を受けるプリデコーダ2310と、プリ
デコーダ2110からのデコード信号を伝達するデコー
ド信号バスDDB0と、プリデコーダ2210からのデ
コード信号を伝達するデコードデータバスDDB1と、
プリデコーダ2310からのデコード信号を伝達するデ
コードデータバスDDB2と、デコードデータバスDD
B0〜DDB2に応じて、選択されたゲート回路270
0を活性化するためのデコードゲート2400.1〜2
400.mを含む。
それぞれ入力されるデータ選択アドレスが異なるのみ
で、その構成は同様であるものとする。
路2700の選択にあたっては、いずれか1つのゲート
回路2700のみが活性化される構成となっているの
で、データ選択アドレスDSA0〜DSA5は、そのす
べての値がゲート回路2700の選択のために有効に用
いられる。
たとえばデータ選択アドレスDSA0およびDSA1を
入力として受けるAND回路2114と、AND回路2
114の出力を一方に受け、他方の入力として接地電位
(“L”レベル)を受けて、第1のデコード信号をデコ
ードデータバスDDB0に出力するOR回路2112と
を含む。
して、信号DSA0、信号DSA0をインバータ210
2が反転した信号、信号DSA1、信号DSA1をイン
バータ2104が反転した信号のうち、2つの信号をそ
れぞれ受けるAND回路と、これらAND回路の出力を
一方に、他方に接地電位を受けるOR回路とを含む。
ノードに、“L”レベルを受けているので、図18にお
いては、AND回路2114等から出力された信号が、
そのままデコードデータバスDDB0に伝達される。
DSA1との組合せにより生じる4ビット分のデータ
が、デコードされた結果がデコードデータバスDDB0
により伝達されることになる。
10についても同様である。以上のような構成とするこ
とで、メモリアレイ2000については、図18に示し
たようなデータ選択デコーダ2100の構成を用いれ
ば、4ビット分のI/O数を有するメモリコアを実現す
ることができる。
アの動作を説明するためのタイミングチャートである。
Kの時刻t1における立上がりのエッジにおいて、コマ
ンド信号といてバンクアクト信号BAACT信号が入力
されることにより、たとえば、バンク1中のセンスアン
プが活性化される。
t.CLKの立上がりのエッジにおいて、サブバンクア
クト信号SBACTが入力されることにより、センスア
ンプのデータが読出用ラッチ回路LRに転送される。
600.nからの出力信号に応じて、センスアンプが選
択され、選択的にメインI/O線対M−I/Oに読出デ
ータが出力されて、ラッチ回路LRにデータが取込まれ
る。
たデータは、ライト用のラッチ回路LWにも転送されて
保持される。
TEが与えられ、同時に1ビット目の書込データD0が
与えられる。
ータD0がデコード回路2400.1〜2400.mの
うち、いずれか活性化したデコード回路に対応するゲー
ト回路を介して、I/Oポートから選択的に書込用ラッ
チ回路LWに伝達される。以後、バースト長(たとえば
8ビット分)だけ、順次デコード回路2400.1〜2
400.mの選択が行なわれ、対応する書込用ラッチ回
路にI/Oポートからデータの伝達が行なわれる。
0.1〜2400.mの出力する信号を信号YSで表わ
す。
WBACKが与えられ、これに応じて、時刻t3以後に
書込用ラッチLWに与えられたデータが、一括してサブ
バンクアドレスSBAにより選択されたセンスアンプに
メインI/O線対M−I/Oを介して伝達される。
様である。時刻t6において、ライトバックコマンドW
BACKが与えられた後、時刻t7において、書込が行
なわれたとは異なるバンクからデータを読出すものとす
る。
じて、サブバンクアドレスSBAが選択的に活性化さ
れ、これに応じて、選択されたセンスアンプからメイン
I/O線対M−I/Oにデータの読出が行なわれ、対応
するリード用ラッチ回路LRに読出データが蓄えられ
る。
ADが与えられると、これに応じて、順次デコーダ回路
2400.1〜2400.mの選択が行なわれ、バース
ト長分のデータ出力が、時刻t9以後行なわれていく。
データ選択デコーダ2100をデータ選択デコーダ28
00に置き換えた構成である。
デコーダ2100と異なる点は、グローバルI/Oバス
G−I/Oが8本となり、I/Oポートも8ビット分の
I/O0〜I/O7となっていることである。
〜2310において、OR回路2112等の他方入力入
力ノードには、マルチ選択アドレス信号MSAまたは信
号MSAをインバータ2106により反転した信号が入
力する構成となっている。
択アドレスのうち、1ビット分のデータを不能化し、1
つのプリデコーダ当り、デコードデータバスのうち、2
つのデコードラインが同時に活性化される構成となって
いる。
示した構成においては、1組のデータ選択アドレスによ
って、4ビット分のデータが出力されていたのに対し、
図20に示した構成においては、一度に8ビット分のデ
ータの入出力が行なわれることになる。
レイ2000の構成と同様であるので、同一部分には同
一符号を付してその説明は繰返さない。
変形例を示す概略ブロック図である。
タ入出力を行なう構成としたが、図21においては、さ
らにすべてのメインI/O線対M−I/Oが同時に活性
化され、I/Oポート数も、このメインI/O線対分の
数だけ設けられる構成となっている。
は、プリデコーダ2110〜2310のいずれにおいて
も、OR回路2112等の他方の入力ノードには、電源
電位Vcc(“H”レベル)が与えられ、データ選択ア
ドレスの値にかかわらず、すべてのデコーダ2400.
1〜2400.mの出力がすべて“H”レベルとなる構
成となっている。
に、メモリアレイ2000においては、その主要部分は
変更することなく、データ選択デコーダ部分の配線パタ
ーンのみを変更することで、I/O数を柔軟に変更させ
ることが可能である。
えば、データの読出時に用いられるラッチの個数をNL
Rとするとき、以下のような関係式が成り立つ。
0.mの個数)×(I/O数)/(マルチセレクション
の縮退度) ここでマルチセレクションの縮退度とは、たとえば、デ
ータ選択アドレスについて、1ビット分のデータを不能
化することで、同時に2つのゲート回路2700が選択
される場合には、その縮退度は2であるということにな
る。
変形例を示す回路図である。図22に示した構成では、
図21に示した構成のうち、読出用のメインI/O線対
と書込用のメインI/O線対とを分離する構成となって
いる。
タとライトデータの衝突を回避することが可能となる。
いては、I/O線、バス配線等は図面の簡単のために単
線で示しているが、実際の構成としては、単線でも相補
線で構成される構成としても構わない。
の形態3のビット線対、センスアンプおよびゲート回路
M−I/O線対との間のゲート回路の構成を説明する回
路図である。
いて示したデコード回路2600.1等からの出力信号
はセグメントデコード線SG0〜SG3により伝達され
る構成となっている。その他の基本的な構成は、以下に
説明する点を除いて、実施の形態2の構成と同様であ
る。
L0,/BLL0〜BLL3,/BLL3およびBLR
0,/BLR0〜BLR3,/BLR3が一対のI/O
線対を共有する構成を示している。ただし、本発明はこ
のような場合に限定されることなく、より多くのビット
線対がI/O線対を共有する構成とすることも可能であ
る。
路EQCKT0は、図23中、左側のビット線対BLL
0,/BLL0と右側のビット線対BLR0,BLR0
とに共有されている。ここで、センスアンプS/A0お
よびイコライズ回路EQCKT0は、信号BLILによ
り制御されるトランジスタTRL10およびTRL20
により、選択的にビット線対BLL0,/BLL0に結
合され、信号BLIRにより制御されるトランジスタT
RR10およびTRR20により、選択的にビット線対
BLR0,/BLR0に結合される。
れぞれセグメントデコード線SG0により制御されるト
ランジスタTRG1,TRG2を介してセグメントI/
O線対SGI/Oと結合される。
タは、読出/書込ゲートR/WCKTを介して、選択的
にI/O線対に伝達される。
ントI/O線対のうちの一方のセグメントI/O線SG
I/O1とゲートが接続し、ソースが接地電位GNDと
結合するトランジスタTDC1と、セグメントI/O線
対SGI/Oのうちの他方のセグメントI/O線SGI
/O2とゲートが接続し、ソースが接地電位GNDと結
合するトランジスタTDC2と、トランジスタTDC1
のドレインとI/O線対のうちの一方のI/O線I/O
2との間に設けられ、ゲート電位が信号R−CSLによ
り制御されるトランジスタTRI1と、トランジスタT
DC2のドレインとI/O線対のうちの他方のI/O線
I/O1との間に設けられ、ゲート電位が信号R−CS
Lにより制御されるトランジスタTRI2と、I/O線
対のうちの一方のI/O線I/O1とゲートが接続し、
ソースが接地電位GNDと結合するトランジスタTWC
2と、I/O線対I/Oのうちの他方のI/O線I/O
2とゲートが接続し、ソースが接地電位GNDと結合す
るトランジスタTWC1と、トランジスタTWC1のド
レインとセグメントI/O線SGI/O線I/O1との
間に設けられ、ゲート電位が信号W−CSLにより制御
されるトランジスタTWI1と、トランジスタTWC2
のドレインとセグメントI/O線SGI/O2との間に
設けられ、ゲート電位が信号W−CSLにより制御され
るトランジスタTWI2と、セグメントI/O線SGI
/O1と接地電位GNDとの間に設けられ、ゲート電位
がイコライズ信号IOEQにより制御されるトランジス
タTPC1と、セグメントI/O線SGI/O2と接地
電位GNDとの間に設けられ、ゲート電位がイコライズ
信号IOEQにより制御されるトランジスタTPC2と
を含む。
びBLR1,/BLR1〜BLL3,/BLL3および
BLR3,/BLR3に対しても、ビット線対BLL
0,/BLL0と同様のセンスアンプ、イコライズ回
路、ゲートトランジスタ等が設けられている。
したセンスアンプ部とデータ線部との接続を行なう回路
の動作を説明するためのタイミングチャートである。
おいては、ビット線対は1/2Vccレベルにプリチャ
ージされている。一方、セグメントI/O線対SGI/
Oは、信号IOEQが活性状態(”H”レベル)である
ことに応じて、GNDレベルにプリチャージされてい
る。すべてのセグメントデコード線SG0〜SG3は、
接地電位GNDであって、すべてのビット線対について
のトランジスタTRG1,TRG2は遮断状態である。
っているセンスアンプS/Aとビット線対との接続を開
閉するするための信号BLIL,信号BLIRは、中間
電位(電源電位Vccと昇圧電位Vppとの中間の電
位)に保持されている。
H”レベル)であって、I/O線対は電源電位Vccに
プリチャージされている。
が、中間電位に保持されているのは、これら信号により
制御されるトランジスタTRL1,TRL2,TRR1
およびTRR2のゲートに印加される電位を小さくする
ためである。ただし、ビット線対の電位がイコライズさ
れる必要があるために、電源電位Vcc以上の中間電位
に設定されている。
位レベルのVppに、信号BLIRが接地電位GNDへ
と変化し、左側のビット線対BLL0,/BLL0から
BLL3,/BLL3が選択される。
よびIOEQが接地電位GNDに向かって変化し始め、
時刻t3においてセグメントデコード線SG0のレベル
がトランジスタTRG1,TRG2のしきい値を超える
と、ビット線対BLL0,/BLL0とセグメントI/
O線対SGI/O1,SGI/O2が接続され、ビット
線対の電位レベルは、プリチャージレベルの1/2Vc
cよりも低下し、セグメントI/O線対の電位レベル
は、プリチャージレベルの電位GNDよりも上昇し始め
る。
電位レベルとワード線WLの電位レベルの差が、アクセ
ストランジスタTAのしきい値を超えると、メモリセル
キャパシタMCに保持されていたデータに応じて、ビッ
ト線BLL0の電位レベルと相補ビット線/BLL0の
電位レベルとの間に差が生じる。同様にセグメントI/
O線対SGI/Oにも電位差が生じる。時刻t5におい
て、ワード線の電位レベルは、中間電位まで上昇する。
ここで、メモリセルキャパシタからのデータ読出の直前
のビット線対の電位レベルが1/2Vccよりも小さく
なっているので、ワード線の電位レベルは、昇圧電位V
ppまで上昇させる必要がない。言いかえると、ワード
線の電位レベルが、ビット線対の電位レベルが1/2V
ccの状態から出発して、データを読み出す場合に比べ
て、より低いレベルでビット線対にデータが読み出され
るので、読出速度を向上させることが可能である。
状態に変化すると、プリチャージレベルにあったI/O
線対の電位レベルは、セグメントI/O線対の電位レベ
ルに応じて、トランジスタTDC1およびTDC2によ
り駆動され、変化することになる。以上のようにして、
データのI/O線対への読出が行なわれる。
イミングは、時刻t6よりももっと以前であってもよ
い。これは、セグメントI/O線対SGI/OとI/O
線対とが直接接続される構成とはなっていないため、こ
のような場合でも、I/O線対の電位レベルにより、メ
モリセルに保持されているデータを破壊することがない
からである。
時刻t7において、センスアンプが活性化されることに
より増幅される。これにより、メモリセルへのリストア
動作が行われる。しかし、上述したとおり、データをI
/O線対に読み出す際には、センスアンプで増幅された
データを用いる必要がないため、センスアンプの動作速
度はゆっくりとしたものであっても、読出速度に影響を
与えない。したがって、センスアンプのサイズは、デー
タをリストアできることを保証できるだけのサイズであ
れば十分で、センスアンプのレイアウト面積を小さくす
ることが可能である。なお、時刻t7以降のセンスアン
プの増幅電位の振幅は、電源電位Vccまでフルスイン
グさせずに、電源電位Vccと接地電位GNDとの中間
の電位としておけば、ビット線対に生じるノイズによ
り、このビット線対に接続する他の非選択状態のメモリ
セルに保持された電荷が失われることがない。
について説明する。図25は、書込み動作とプリチャー
ジ動作において、図23に示したセンスアンプ部とデー
タ線部との接続を行なう回路の動作を説明するためのタ
イミングチャートである。
セグメントデコード線SG0が活性状態(”H”レベ
ル)であって、センスアンプS/Aが活性化することに
より、選択されているメモリセル中の記憶データに応じ
て、ビット線対およびセグメントI/O線対SGI/O
に電位差が生じている。
化することにより、トランジスタTWI1およびTWI
2が導通状態となり、I/O線対により伝達された書込
みデータが、セグメントI/O線対SGI/Oに伝達さ
れる。このとき、I/O線対の電位は、I/O線対が直
接セグメントI/O線対SGI/Oと接続されることで
伝達されるのではなく、I/O線対の電位がトランジス
タTWC1およびTWC2の電位を駆動することにより
伝達される。
相補レベルでフルスイングさせなくても、セグメントI
/O線対SGI/Oに伝達することが可能である。この
ため、データをセグメントI/O線対SGI/Oに伝達
後、I/O線対のプリチャージに要する時間を短縮する
ことができ、高速動作が可能である。
まで伝達された書込みデータが、センスアンプにより増
幅され始める。
性状態となり、I/O線対からセグメントI/O線対へ
のデータ伝達は遮断される。これに応じて、I/O線対
は、電源電位Vccレベルにプリチャージされる。
と信号のBLILのレベルが、ともに昇圧電位Vppま
で駆動される駆動される。これに応じて、センスアンプ
の感知ノードと選択されたメモリセルとが結合される。
さらに、時刻t5において、センスアンプの駆動信号の
うち、PチャネルMOSトランジスタを駆動する信号S
Pのレベルがさらに上昇し、かつ、NチャネルMOSト
ランジスタを駆動する信号SNのレベルがさらに低下す
ることで、ビット線対の電位レベルがフルスイングす
る。ワード線の電位レベルが昇圧レベルまで上昇してい
るので、”H”レベルのデータまたは”L”レベルのデ
ータのいずれも十分なマージンをもってメモリセルに書
込まれる。
SG0のレベルが不活性状態へと遷移し始め、セグメン
トI/O線対とビット線対とが分離される。その後、ワ
ード線も不活性レベルとなる。
態へと遷移し、セグメントI/O線対SGI/Oは、接
地電位GNDにプリチャージされる。
活性状態へと遷移し、ビット線対の電位レベルは、たと
えば、1/2Vccレベルにプリチャージされる。時刻
t10において、信号BLILおよびBLIRのレベル
が中間電位とされる。
は、イコライズ信号EQのレベルは、電源電位Vcc以
下の所定の電位とすることもできる。このようにする
と、待機時において、たとえば、イコライズ回路EQC
KT0中のトランジスタの電流供給能力を低くすること
で、ビット線が何らかの配線とショートした際にも、1
/2Vcc電位を供給する電源からビット線を介して流
れるリーク電流を抑制し、メモリセルアレイの消費電力
を抑制することが可能となるからである。
の形態3の変形例の半導体記憶装置のセンスアンプ部と
データ線部との接続を行なう構成を示す回路図である。
ントI/O線対をプリチャージするためのトランジスタ
TPC1’およびTPC2’が、ともにPチャネルトラ
ンジスタであって、セグメントI/O線対SGI/Oの
プリチャージ電位レベルが電源電位Vccとなっている
ことである。
であるので、同一部分には沿ういつ符号を付して、説明
は繰り返さない。
したセンスアンプ部とデータ線部との接続を行なう回路
の動作を説明するためのタイミングチャートである。
時刻t0において、セグメントI/O線対SGI/O
は、電源電位Vccにプリチャージされていることであ
る。
0の活性化により、ビット線対とセグメントI/O線対
の電位レベルは、ビット線対のプリチャージレベルの電
位1/2Vccよりも高い電位となる。したがって、図
24の場合のように、ワード線の電位レベルの変化の開
始からデータが読み出しのまでの時間が短縮されること
はないが、たとえば、センスアンプへの接地電位の供給
がトランジスタを介して行なわれ、センスアンプのソー
ス側の寄生抵抗が無視できない場合などにおいては、図
27に示した方式の方が、センスアンプを高速に駆動で
きるという利点がある。
作において、図26に示したセンスアンプ部とデータ線
部との接続を行なう回路の動作を説明するためのタイミ
ングチャートである。
ャージレベルが、電源電位Vccとなっている点を除い
ては、基本的に図25に示した動作と同様である。
の形態4のメモリアレイ4000の構成を示す概略ブロ
ック図であり、実施の形態1の図14と対比される図で
ある。
モリセルアレイ部分を除いて、その基本的な構成は、実
施の形態1の半導体記憶装置1000の構成と基本的に
同様である。
00が、図14に示したメモリセルアレイ1100との
構成と異なる点は、以下のとおりである。
メモリセルの接続するビット線対の電位レベルを増幅す
るセンスアンプとメインI/O線対との接続を選択的に
開閉するゲート回路2162の制御を行なうセグメント
YS線が、階層構造を有する点である。
ンセグメントYS線SGYSのレベルと、YSセグメン
トデコーダからの信号とに応じて制御されるサブYSデ
コーダ2210により、サブYS線が活性化され、これ
に応じて、ゲート回路2162が制御される構成となっ
ている点である。
アレイ4000においては、行方向の冗長構成は、メモ
リセルアレイの端部に配置された行冗長部2300にま
とめて配置される構成となっている点である。
たメモリセルアレイ単位MCAUとは別個の領域のスペ
アコラム領域SPCLに設けられる構成となっている点
である。
ルアレイ単位MCAU0のすぐ右横に配置されている冗
長列の構成のみを示しているが、実際には、同様の構成
が、サブI/O線対SM−I/Oに沿って配置されてい
る。
の冗長列領域SPCLを挟んで、対称にメモリセルアレ
イ単位MCAUがさらに配置される構成となっていても
よい。
アレイ単位領域MCAUと同様に、メインワード線MW
Lの活性化と、バンク選択線の活性化に応じて活性化さ
れるサブワードドライバ2168bに応じて、サブワー
ド線SWLが活性化される構成となっている。
ル列とサブI/O線対との接続を選択的に制御するゲー
ト回路2210bも、正規のメモリセルアレイ単位領域
と同様に、階層的なセグメントYS線により制御される
構成となっている。
00のサブワードドライバ部8000の構成を説明する
ための拡大図である。
において、4本のサブワード線を制御する。4本のサブ
ワード線SWLのうちのいずれが選択されるかは、選択
線SLのいずれかが選択的に活性化することにより行な
われる。
バ部8000の構成は、基本的には図15に示した構成
と同様であるものとする。
示した構成においては、トランジスタ8100および8
102により構成され、ドライバ回路WDCは、図15
の構成では、トランジスタ8104および8106によ
り構成されている。
は、昇圧電位Vppレベル(内部電源電位Vccよりも
昇圧された電位レベル)にあり、サブワード線SWLが
活性化した後は、接地電位レベルVssに保持される。
これに応じて、ラッチ回路LTWが、サブワード線SW
Lの活性状態に対応する電位レベルをラッチする。ここ
で、選択線SLとリセット線RSLの電位レベルは互い
に相補に変化する。
レベルは接地電位Vssに、選択線SLの電位レベルも
接地電位Vssに、リセット線の電位レベルは電源電位
Vccレベルに保持される。コレクタにより、待機動作
中は、サブワード線SWLは、接地電位レベルVssと
結合している。
リセット線RSLが接地電位レベルVssとなり、活性
化すべきサブワード線SWLに対応するバンク選択線B
SLが活性化されて、電位Vppレベルになる。メイン
ワード線MWLが選択的に活性化され、電位レベルVc
cレベルとなるのとほぼ同時に、選択線SLも選択的に
電位Vccレベルとされる。これに応じて、選択された
サブワード線SWLの電位レベルは、電位Vcc−Vt
hレベルとなる。ここで、電位Vthは、トランジスタ
8102のしきい値電圧である。その後、バンク選択線
BSLは、接地電位レベルVssレベルとされ、ラッチ
回路中に電荷が閉じ込められ、活性電位レベルが保持さ
れる。
線SLの電位レベルをさらに昇圧電位Vppレベルまで
上昇させれば、サブワード線SWLのレベルも昇圧電位
Vppレベルまで上昇する。
線SWLの電位レベルが、昇圧電位まで昇圧される。
を電源電位Vccレベルまで上昇させ、かつ選択線SL
を接地電位Vssとする。一方、リセット線は電位レベ
ルVccとされ、これに応じて、サブワード線の電荷が
接地に放電される。
各バンクは、図30において斜線部分で示したように、
交互に配置されるサブワード線ごとに区切られているも
のとする。
内のみのサブワード線を活性化させることが可能であ
る。
センスアンプを選択的に活性化させる構成を示す図であ
る。
スアンプ選択線SASLおよびプリチャージ選択線PC
SLが配置される。一方、列方向に沿って、バンク選択
線BSLが配置されている。
BSLの電位レベルを受けるAND回路に応じて、フリ
ップフロップ2404の出力レベルはセットされ、プリ
チャージ選択線PCSLとバンク選択線BSLのレベル
を入力として受けるAND回路2402の出力レベルに
応じて、フリップフロップ回路2404の出力レベルが
リセットされる。フリップフロップ回路2404の出力
レベルに応じて、センスアンプ2166が活性化され
る。
択線により、選択されたバンク中のセンスアンプのみが
活性化され、プリチャージ選択線PCSLおよびバンク
選択線BSLにより、選択されたバンク内のセンスアン
プのみがプリチャージされることになる。
ンプ帯に配置されたセンスアンプのうち、活性化された
バンク内のセンスアンプのみを活性化することが可能と
なり、消費電力の低減を図ることが可能となる。
イにおいて、行冗長部2300の構成を示す概略ブロッ
ク図である。
イ単位の端部に冗長素子としてラッチ回路が設けられて
いる。バンクアドレスとロウアドレスが冗長比較判定部
において比較され、一致した場合は、このラッチ回路が
アクセスされる。このとき、上述したのと同様に、冗長
判定動作と並行してノーマル領域のメモリセルに対する
アクセス動作を行う構成としても良い。冗長判定結果が
出るのを待ってから、ノーマル領域のメモリセルにアク
セス動作を開始するのに比べて、アクセス時間を短縮す
ることが可能である。
保持されているために、アクセスを行う際にワード線を
活性化させる必要はない。
たアドレスと入力アドレスとが一致すると、対応する列
選択信号CSLが活性化されることでデータの読出およ
び書込を行うことができる。
路により構成することは、DRAMのメモリセルでの構
成とは異なり、ワード線を活性化させる必要が無いた
め、ロウアクセス時には、正規メモリセル領域に対し
て、そのアクセスされる部位の正常/不良に関係無く、
アクセス動作を実施すれば良い。つまり、冗長判定動作
がロウアクセス時には不要となるため、ロウアクセス時
間の高速化を図ることができる。
(または、メモリセルマット)をアクセスするか、ラッ
チ回路で構成された冗長部をアクセスするかを判定する
ためには、不良アドレスのバンクアドレス、または、マ
ットアドレスのみを判定することで十分なため、アクセ
ス時間が増加することがない。
間でデータを授受するためのメインI/O線対M−I/
Oとは独立に冗長行との間でデータを授受するための冗
長用メインI/O線対M−I/ORが設けられる。
イ4000の構成のうち、行冗長領域(ロウスペア領
域)および列方向の冗長領域(スペアセル領域)の配置
を説明するための概略ブロック図である。
るためのロウスペア領域は、メモリセルアレイの最外周
に設けられている。
アレイのバンク間の境界部分に設けられる。I/O線対
にそれぞれ読みだされたデータは、アンプ5010によ
り増幅され、ラッチ回路5020に保持される。ラッチ
回路5020のデータは、ラッチ回路5020にそれぞ
れ対応して設けられているドライバ回路5030によ
り、シフトスイッチ回路5040により選択されたデー
タバスDBSのうちのいずれかに伝達される。
フトスイッチ回路5040の構成を説明するための概念
図である。
示すように、たとえば2段のシフト部から構成される。
すなわち、第1シフト部5050および第2シフト部5
060は、互いに独立に制御されて、メインI/O線対
とデータバスDBSとの接続状態を切換える。
インI/O線対に対応する部分には、いずれも不良メモ
リセルが存在せず、正規のメインI/O線対が、そのま
まデータバスDBSに接続される状態を示している。
不良メモリセルが存在する場合に、シフト動作した場合
の状態を示す概念図である。
O線対のうち、M−I/O1およびM−I/O2に対応
するメモリセル中に不良が存在しているとする。
2シフト部5060がそれぞれシフト動作を行なうこと
で、データバスDBSには、これら2つのメインI/O
線対M−I/O1およびM−I/O2はいずれも接続さ
れない。これに代わって、メインI/O線対M−I/O
3が本来メインI/O線対M−I/O1が接続していた
データバスと接続されている。さらに、本来メインI/
O線対M−I/O2が接続されていたデータバスには、
メインI/O線対M−I/O4が接続されている。
次シフト部によりシフトされ、対応するデータバスと接
続される。
ルが存在するメインI/O線対はデータバスとは接続さ
れることなく、冗長置換を行なうことが可能である。
から読出されたデータが、いずれのデータバスと接続さ
れるかは、マルチプレクサ5100により選択される構
成とすることも可能である。
の他の例]図36は、シフトスイッチ回路5040によ
る、冗長列との置換を行うための他の構成および動作を
より詳しく説明する。
のシフトスイッチ回路5040の構成を示す概略ブロッ
ク図である。
本備える構成が示されている。ここでは、データバス側
とリード/ライトアンプ側の間に存在するシフト部の構
成を、上述したスペアI/O部を中心として示してい
る。
上側のI/Oに対応するメモリセル列の救済にも図中下
側のI/O線に対するメモリセルの救済にも対応するこ
とが可能である。さらに、シフト動作を2段分行なうこ
とで、図中上側のI/O線群に対応して2個の欠陥があ
る場合でも、下側に2個の欠陥がある場合でも、各々救
済を行なうことが可能となる。
うための第1シフト部5050と続いて、単方向1段シ
フトするための第2シフト部5060とが配置される構
成となっている。これに対して、後に説明するように、
スペアI/O−AおよびスペアI/O−Bの第2シフト
部5060bは双方向シフトを行う。
線については上側に1段シフトさせ、図中下側のI/O
線については下側に1段シフトさせる。
シフト部と同様の動作を行なうが、2本のスペアI/O
に対する第2シフト部5060bは、各々上側にも下側
にもシフトする構成となっている。
ている。救済前、もしくは救済する必要がなければ、初
期の接続状態が維持される。つまり、正規I/O線、ス
ペアI/O線ともに、元々対応していたちょうど左側の
接続ノードに接続することとなり、スペアI/Oは、い
ずれのデータバスにも接続されない。
で、スペアI/Oを2本とも上側にシフトさせる必要が
ある場合は、まず、第2シフト部5060および506
0bをスペアI/O−A、スペアI/O−Bともに上側
にシフトさせる。同様に、第1シフト部5050におい
ても上側にシフトを行なうことで、このような冗長置換
が実現される。
アI/Oを2本とも下側にシフトさせる必要がある場合
は、まず、第2シフト部5060および5060bをス
ペアI/O−A、スペアI/O−Bとも下側にシフトさ
せる。同様に、第1シフト部5050においても下側に
シフト動作を行なうことでこのような冗長置換が実現さ
れる。
アI/O線を1本は上側にシフトし、1本は下側にシフ
トする必要がある場合、第1シフト部はシフト動作を行
なわず、第2シフト部5060および5060bにおい
て上側は各々1つずつ上側にシフト動作を行ない、下側
は各々下側に1つずつシフト動作を行なう。
図40は、シフトスイッチ回路5040のヒューズ素子
を用いた構成をより詳しく示す概略ブロック図である。
シフト部の下側のスペアI/Oを含む部分の構成に注目
し、接続のためのトランジスタをNチャネルMOSトラ
ンジスタとした上で、かつ、並列配置するヒューズリン
クのレーザブローによる固定的な接続変更を行なう構成
としている。
合は、初期の接続(右側の相補I/Oと左側の相補I/
Oとが1対1に接続されている状態)で維持されてい
る。リダンダンシ接続判定時には、信号TRが“H”レ
ベルとなり、リダンダンシコントロール回路の制御で電
流を制御されるトランジスタを介して電流が流される。
と称する)はブローされていない状態では、ヒューズリ
ンクのうちヒューズ73から79の系列が接地電位GN
Dに、ヒューズ72から78の系列が“H”レベルとな
り、上記のような接続状態を維持する。(ここで点線が
接続状態を示している。) この場合、図中において、一番上のI/Oでは、トラン
ジスタ56、57がオン状態となり、直鎖の接続ノード
に接続されている。また、トランジスタ58、59はオ
フ状態となっており、1段下への接続は遮断状態とされ
ている。
する場合の救済を行なう構成を示す。
場合、不良箇所に該当するヒューズリンク部76および
77をレーザブローすることで、不良箇所への接続を行
なわず、1段下にシフトする構成変更が行なわれる(点
線が接続状態を示している)。
で構成されていた切換回路を、CMOSトランジスタで
構成することで、ヒューズリンク部を1列にする構成で
ある。リダンダンシコントロール回路の代わりに、単に
抵抗素子を配置して電流制限を行なっている。また、接
続部のトランスファーゲートをCMOS化することで、
I/O線の抵抗を低減している(点線が接続状態を示し
ている)。
22をレーザブローしたことで、1段シフトされた状態
を示す図である。
示している。以上の説明では、I/O線対の接続の切換
は、ヒューズ素子を用いる構成としていた。しかしなが
ら、図33の構成において、ヒューズ素子により接続を
開閉している部分をシフトトランジスタにより接続を開
閉する構成とすることも可能である。この場合、このシ
フトトランジスタは、スペアI/O線対による置き換え
に応じて、エンコード信号により制御されることにな
る。
は、上述したように、ヒューズ素子をシフトトランジス
タに置き換える構成とすればよい。
フト部は、上側にも下側にも切換が可能である必要があ
る。これを満足させる動作としては、たとえば、スペア
I/O−Aは、上側のシフト場所のエンコード信号がす
べて“L”レベルなら直左に接続する状態を維持する
か、下側に向かってシフトされる。逆に、スペアI/O
−Bは、下側のシフト箇所のエンコード信号がすべて
“L”レベルなら、直左に接続する状態を維持するか、
上側に向かってシフトされる。
す。下側からのエンコード信号をNORゲート540
0.0で処理し、このNORゲート5400.0に入力
する信号のすべてが“L”レベルであると判定された場
合は、スペアI/O−Bは、1段上、つまり、スペアI
/O−Aの直左のターミナルに接続される。
で、多数I/O出力構成である冗長構成を実現すること
が可能となる。また、2段シフトさせる構成とすること
で、複数の不良箇所に対して対応することが可能とな
り、効率のよい置換動作を行なうことが可能となる。こ
こでは、2段の場合について説明したが、より多くの段
数とすることで、さらに多くのI/O線の冗長置換を行
なうことも可能である。
行なう構成]図45は、シフトリダンダンシの他の構成
を示す概略ブロック図である。
とおりである。まず、スペアI/Oの設けられている領
域には、冗長行に対応する構成が存在しない。
は、トランジスタを、デコード信号に応じて開閉するこ
とでその接続を切換える構成となっている。
正規のメインI/O線対からのデータは、シフトスイッ
チ回路5040によりシフトされるのに対し、ロウスペ
ア領域から読出されたデータはシフトスイッチ回路によ
ってはシフトされない構成となっている。
らの読出データと、ロウスペア領域からの読出データ
は、マルチプレクサ回路5100により、選択的にラッ
チ回路5020に与えられる。
このようなメモリアレイ端に2つのスペアI/O線対S
−I/O−AおよびS−I/O−Bとが配置されてい
る。
ータは、リード動作時には、ロウスペア領域から読出さ
れたデータとマルチプレクスされて、ラッチ回路502
0に取込まれ、増幅された後、リードアンプ5030で
データバスに接続される。
ル使用であれば、そのデータをフラグとして保持し、コ
ラムアクセス時にバンクにアクセスした際に、ノーマル
使用であることを認識して、そのままノーマルI/O上
のデータをラッチに取込んで増幅する。
ば、そのデータをフラグとして保持し、コラムアクセス
時にバンクにアクセスした際に、スペア使用であること
を認識して、そのままロウスペアから読出されたデータ
をラッチに取込んで増幅する。
ス動作の当初は判定結果に関係せずアクセス動作を行な
うものの、判定結果により、そのままアクセス動作を継
続するのか中止するのかが決定される。
ンプ回路5030で受けた後、ラッチ回路5020に取
込まれたデータにより、ライトドライバ5110は、ノ
ーマルI/O線対M−I/Oをドライブすると同時に、
ライトドライバ5110の出力を受けるシフトドライバ
回路5120は、ロウスペア上のI/O線対をドライブ
する。
ドレスに対する冗長判定結果をもとに、ノーマルの列選
択線を活性化してデータを書込むのか、ノーマルの列選
択線の活性化を中止して、データ書込を中止し、スペア
のロウに接続して、データの書込が行なうかが決定され
る。このとき、スペアのロウとスペアのロウ上のI/O
線対とは、行アドレスの冗長判定時の結果を保持するフ
ラグと、コラムアクセス時のバンクの対応とに応じて、
コラムアクセスを行なうバンクのフラグが冗長使用であ
れば、その冗長に対応するサブYS線が活性化される。
に、それ自体はワード線の活性化を必要としない。ま
た、ロウスペア部に結果が発生する可能性も低いことに
より、コラムの冗長が不要となるため、ロウスペア(行
冗長)部においては、I/O線対M−I/ORとリード
/ライトアンプとを1対1に対応させればよい。
線対S−I/O−A、S−I/O−Bは、コラム系のシ
フトリダンダンシにより2段のシフトでノーマルI/O
線対の接続関係がシフトされ、端のI/O線対とデータ
バスDBSN、DBSN−1の接続が非接続になること
に応じて、そのデータバス部分DBSN、DBSN−1
に接続されるように活性化される。
回路は存在せず、データバスとの接続の取換え回路60
00および6100が存在する。リード動作時には、2
つのスペアI/Oは、ラッチ5020bにデータを伝達
する。
応する取換ロジック回路6000および6100は、い
ずれのデータバスにデータを接続するかを、冗長判定結
果に応じて決定する。これは、いずれかのI/O線対
が、既に、他のバンクのI/O線対と置換されるように
設定されている場合、残りのスペアI/O線対で対応す
るためである。このような構成とすれば、異なるバンク
間で、同一のスペアで救済を行なうことが可能となるた
め、全体で配置するスペアの数が少なくとも、冗長置換
の自由度が向上し、ひいては歩留りが向上することにな
る。
不良アドレスとの置換が可能なため、所定数のビット線
ペアを含むビット線ペア単位で救済を行なうことが可能
となる。このことも、歩留りの向上に寄与する。なお、
図44に示した例では、シフト回路は2段のシフト回路
となっているが、たとえば、3段以上のシフト回路とす
ることも可能である。
のメモリセルの動作試験を行なう際には、たとえば、不
良アドレスが不揮発性の記憶回路に書き換え可能に保持
されている構成ならば、不良アドレスの値を自動的に任
意アドレスに設定するだけで、スペアI/O部のメモリ
セルのリード/ライトを行なうことが可能である。ま
た、一度プログラムした不良アドレスをクリアすれば、
不良箇所を再度リード/ライトすることが可能でもあ
る。
/ライトアンプ用のI/O線側の接続のシフト位置を決
定するためのデコード信号SDSに応じて、シフト動作
を行なう構成を示す概略ブロック図である。
シフト回路のみを示しているが、このような構成を2段
設けることで、図45に示したような2段のシフト回路
を構成することが可能である。
0の出力を一方の入力ノードに受け、他方の入力ノード
に接地電位を受けるOR回路5310.0からの出力に
応じて、インバータ5320.0および5330.0の
信号により、シフトトランジスタSTR01およびST
R02が開閉され、OR回路5310.0からの出力に
応じてシフトトランジスタSTR03およびSTR04
が開閉される。
00.1の出力を一方の入力ノードに受け、他方の入力
ノードにOR回路5310.0を受けるOR回路531
0.1からの出力に応じて、インバータ5320.1お
よび5330.1の信号により、シフトトランジスタS
TR11およびSTR12が開閉され、OR回路531
0.1からの出力に応じてシフトトランジスタSTR1
3およびSTR14る。
の構成が設けられる。以上は、第1シフト分について説
明したが、第2シフト部も基本的には同様の構成であ
る。
で、多数I/O出力構成である冗長構成を実現すること
が可能となる。これに対して、従来のブロックあたりn
個の冗長を配置する構成では、このI/Oごとに冗長を
配置しなければならず、冗長部が不必要に多くなり、面
積が無駄となる。
で、複数の不良箇所に対して対応することが可能とな
り、効率のよい置換動作を行なうことが可能となる。こ
こでは、2段の場合について説明したが、より多くの段
数とすることで、さらに多くのI/O線の冗長置換を行
なうことも可能である。さらに、ダイナミックに接続形
態を変更することで、マルチバンク構成の場合のバンク
ごと、マットごとに不良箇所を置換できるため、より救
済効率を高めることが可能である。
すデコード信号を生成するための回路7000の構成を
示す。
ドレスと、コラムのアドレス、およびこのアドレスの入
力時に対応するI/Oのシフト位置の場所を示す情報が
比較回路7010.1〜7010.p(p:所定の自然
数)にプログラムされている。
スとの両者が不良アドレスと一致した場合は、まず、比
較回路7010.1〜7010.pの出力を受けるOR
回路7200からの出力に応じて、プリチャージ回路7
210が、マルチプレクサ7330の出力ノードのプリ
チャージを解除する(プリチャージレベルは”L”レベ
ルとする)。一方、マルチプレクサ7300を介してI
/Oの切換位置を示すデコード信号が出力される。この
デコード信号は、予め、それぞれ比較回路7010.1
〜7010.pに保持される不良アドレスに対応して、
プログラム回路7100.1〜7100.pに保持され
ている。
コード信号は、リード用ラッチ回路7400、ライト用
ラッチ回路7500にとりあえず保持される。
分コマンド信号よりも先読みされるモードでは、アドレ
スの判定期間においては、リード動作であるのかライト
動作であるのかの区別がつかないため、このようなラッ
チ回路が設けられている。
500は、通常動作においては、データをシフト動作に
よりタイミングを遅らせることなく、そのまま出力す
る。
になっているマルチプレクサ7600から、シフトリダ
ンダンシを制御するデコード信号として伝達される。
ド信号よりも先読みされるモードでは、リード動作では
ラッチ回路7400は1サイクルクロック分だけデコー
ド信号をシフト動作する。このモードでは、ライト動作
時におけるライト用のラッチ回路7500は、ライトコ
マンドの入力を、ライトレイテンシに従ってシフトした
後、シフトリダンダンシのデコードを行なうために出力
する。
フロー図である。通常モードでは、コマンドデータとも
にロウアドレスが取りこまれると、冗長判定とプリデコ
ードが平行して行なわれる。冗長判定結果はラッチ回路
に保持されるとともにロウアドレスに対するプリデコー
ド結果が出た後、最終的に選択を行うためのプリデコー
ドアドレスがラッチされ、これに基づいて行選択が行な
われる。このモードでは、コラムアドレスがコマンドデ
ータとともに取りこまれると、バーストアドレスが発生
され、冗長判定とプリデコードが平行して行なわれる。
冗長判定結果はラッチ回路に保持されるとともにロウア
ドレスに対するプリデコード結果が出た後、最終的に選
択を行うためのリードプリデコードアドレスまたはライ
トプリデコードアドレスがラッチされ、これに基づいて
列選択が行なわれる。
よりも先読みされるモードでは、ロウアドレスが取りこ
まれると、冗長判定とプリデコードが平行して行なわれ
る。冗長判定結果はラッチ回路に保持されるとともにロ
ウアドレスに対するプリデコード結果が出た後、コマン
ドデータが入力されると、最終的に選択を行うためのプ
リデコードアドレスがラッチされ、これに基づいて行選
択が行なわれる。このモードでは、コラムアドレスが取
りこまれると、バーストアドレスが発生され、冗長判定
とプリデコードが平行して行なわれる。冗長判定結果は
ラッチ回路に保持されるとともにロウアドレスに対する
プリデコード結果が出た後、コマンドデータが入力され
ていれば、これがリードコマンドであるかライトコマン
ドであるかに応じて、最終的に選択を行うためのリード
プリデコードアドレスまたはライトプリデコードアドレ
スがラッチされ、これに基づいて列選択が行なわれる。
ロジック回路6000の構成を示す概略ブロック図であ
る。
ジック回路6000のうちリード側のみを表示してい
る。
は、既にスペアI/O−Aに不良が存在することが、冗
長部の試験で発覚しているから、一度スペアI/O−A
を使って救済を行なったが、その後、スペアI/O−A
が使用不可能状態に陥った場合に使用不可能の認識を行
なって、さらにスペアI/O−Aと、スペアI/O−B
との接続を切換えるための回路である。
定結果において、冗長を使用するか否かの信号がそれぞ
れ必要とされる。また、同時にスペアI/O−Aおよび
I/O−Bのうち、スペアI/O−Aが優先的に使用さ
れるが、もしも、I/O−Aが使用不可能の状態にある
場合、たとえば、初期不良チェックにおいて、I/O−
Aの中に不良セルが存在する場合、または、一度、I/
O−Aを用いて救済を行なったが再度チェックを実施す
ると、I/O−Aの中に不良が発生して、再度I/O−
Bを用いて救済を行なわなければならないような場合、
I/O−Aを使用不可能とみなすための情報が出力され
る。
否の判定を行い、冗長使用不可なら”H”レベルの信号
を、冗長使用可能なら”L”レベルの信号を出力する。
長判定に応じて、冗長使用なら”H”レベルの信号を、
冗長非使用なら”L”レベルの信号を出力する。
長判定に応じて、冗長使用なら”H”レベルの信号を、
冗長非使用なら”L”レベルの信号を出力する。
テンシの大きさが異なるので、判定回路6020および
6030は、それぞれ、リード動作用とライト動作用と
で別々のラッチ回路を有している。
/O−A、スペアI/O−Bのいずれかの冗長列を使用
しており、しかも、スペアI/O−Aは、使用可能状態
である場合、スペアI/O−Aからの読出データは、ス
イッチ回路SW11を介して、データバスDBSNに伝
達される。
スペアI/O−Bのいずれかの冗長列を使用しており、
しかも、スペアI/O−Aは、使用不可能状態である場
合、スペアI/O−Bからの読出データは、スイッチ回
路SW12を介して、データバスDBSNに伝達され
る。
スペアI/O−Bのいずれ冗長列も使用されている場
合、スペアI/O−Bからの読出データは、スイッチ回
路SW13を介して、データバスDBSN−1に伝達さ
れる。
100を示す概略ブロック図である。
示されている。ライト動作において、少なくともスペア
I/O−A、スペアI/O−Bのいずれかの冗長列を使
用しており、しかも、スペアI/O−Aは、使用可能状
態である場合、データバスDBSNからの書込データ
は、スイッチ回路SW21を介して、スペアI/O−A
に伝達される。
スペアI/O−Bのいずれ冗長列も使用されている場
合、データバスDBSN−1からの書込データは、スイ
ッチ回路SW22を介して、スペアI/O−Bに伝達さ
れる。
スペアI/O−Bのいずれかの冗長列を使用しており、
しかも、スペアI/O−Aは、使用不可能状態である場
合、データバスDBSNからの書込データは、スイッチ
回路SW23を介して、スペアI/O−Bに伝達され
る。
接続状態が変更可能となるようにした制御の構成例を示
す図である。すなわち、マルチバンク構成の場合のバン
クごと、マットごとに不良箇所を置換する構成の場合の
制御のフローを示す。
合、I/O線が他のバンク(マット)上を跨いで配置さ
れる。そのため、バンクごと(マットごと)で救済する
I/Oが異なる場合には、接続形態を変更する必要があ
る。
(マットアドレス)に従って、第1シフト部のシフト情
報、第2シフト部のシフト情報を変更する。
グラム素子は、強誘電体膜を用いた不揮発メモリや、フ
ラッシュROM等による不揮発型RAM構造によるもの
など種々の構造が可能である。
で、不良アドレスを保持する構成となっている。
時に比較部に配置されるラッチに転送される。転送され
るタイミングは、パワーオンリセットが発生された時点
から、比較動作が必要となるコラムの動作までの間に行
なわれる構成となっている。上述したような転送を行な
う構成としては、並列に転送する手法や、シフトレジス
タを用いてシリアルに転送する場合などがある。
部のラッチも含めてシフトレジスタの一部とすること
で、転送作業を容易にする。転送クロックは、内部にて
適当な周期のリングオシレータで発生する構成としても
よいし、外部クロックをもとに発生する構成としてもよ
い。
ス)の入力を、ROM部から読出された情報と比較し
て、一致/不一致の結果に従って、救済情報を出力す
る。救済情報は、シフト場所のエンコード信号として出
力され、この信号をさらにデコードすることでシフト状
態を変更する。このとき、上記シフト構成でのデータブ
ローでのヒューズリンク部は、MOSトランジスタで構
成され、デコード信号はスイッチとして機能するMOS
トランジスタのオン/オフを制御する。
り詳しく説明するフローチャートである。
行アドレスと不良行アドレスとの比較が行なわれるとと
もに、並行して、バンクアドレス、列アドレスのデコー
ドが行なわれる。正規メモリアレイにおいては、このデ
コード結果に基づいて、列選択のための信号YSが生成
される。
比較も行なわれる。この比較結果により、スペアコラム
I/Oが選択される場合、第1に正規のメモリアレイで
の信号YSによる列選択が中止される。第2に、シフタ
の設定が完了することにより第2シフト部5060のシ
フト動作が行なわれ、つづいて、第1シフト部5050
のシフト動作が行なわれる。
とスペアI/Oからのデータとがマルチプレクサ510
0により、選択されてデータバスDBSに与えられる。
行アドレスと不良行アドレスとの比較が行なわれるとと
もに、並行して、バンクアドレス、列アドレスのデコー
ドが行なわれる。
比較も行なわれる。これと並行して書込データはデータ
バスDBSを介してラッチ回路5020に伝達され、ラ
イトドライバ5110により増幅される。これにより、
書込みデータは、シフトスイッチ回路5040およびス
ペア行のI/O部に伝達される。
じて、スペア行が選択される場合、スペア行の列選択信
号YS(CSL)が活性化され、正規のメモリアレイ領
域に対する列選択動作が中止される。
較結果により、スペアコラムI/Oが選択される場合、
第1シフト部5050のシフト動作が行なわれ、つづい
て、第2シフト部5060のシフト動作が行なわれる。
を介してデータの書き込みが行われ、スペアI/O線対
S−I/Oによりスペアコラムにデータが書きこまれ
る。
コマンド、データ処理について示す図である。
され、冗長判定処理が行なわれる。冗長判定は、アドレ
スのプリデコードと並行して実施される。
に従って、メモリアレイにアクセスするアドレスを通常
アドレスを用いるのか、冗長アドレスを用いるのかの決
定が行なわれる。コマンド信号は、バーストサイクルの
終了まで保持される。メモリアレイでの動作は、アドレ
スの処理(冗長判定結果)を待ってから開始され、コラ
ム選択線の活性化等の処理が行なわれる。次のサイクル
以降は、バーストアドレスの発生に従って、同様の動作
が繰返される。
ンドに対して1サイクル分早く取込んで処理を行なう動
作を示すタイミングチャートである。
ごとに取込むことになる。取込まれたアドレス信号は、
冗長判定とプリデコード処理が行なわれ、半導体記憶装
置はコマンド入力待ち状態になる。もしも、コマンド入
力がなければ、次のサイクルにおいて、再び取込まれた
新規アドレスに対して処理が行なわれ内容が更新され
る。コマンド入力がなされると、冗長判定結果が活性化
されてラッチされ、その結果に従って、メモリアレイに
アクセスするアドレスを通常アドレスを用いるのか、冗
長アドレスを用いるのかが決定される。
までその値が保持される。メモリアレイでの動作は、既
にアドレスの処理(冗長判定結果)が終了しているた
め、コマンドの転送とともに開始され、コラム選択線の
活性化等の処理が行なわれる。
レスの発生に従って、同様の動作が繰返される。バース
トの終了までは、バーストアドレスでアドレス処理を行
ない、バースト終了とともに、再び、外部アドレスによ
り冗長判定処理が実施される。
コマンド、データ処理について示す図である。
ある。ただし、取りこまれたアドレスが、ライト時の内
部レイテンシ(この場合、1クロック)分だけ、最終プ
リデコードアドレスとしてラッチされ、シフト動作が行
われると言う動作が加わる。
ンドに対して1サイクル分早く取込んで処理を行なう動
作を示すタイミングチャートである。
レスの処理が終了していることから、ライトレイテンシ
の値としては、たとえば、0.5クロック分有れば、メ
モリアレイのアクセスを開始することが可能である。
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
回路/ロジック回路集積システムは、メモリ回路の設計
期間や製造工程を短縮することが可能で、メモリ回路/
ロジック回路集積システムの開発期間を短縮することが
可能である。
集積システムは、複数のメモリセル列がデータの入出力
の構成を共有できるので、ロジック回路との間で大きな
データバス幅でデータを授受する構成を効率的に実現で
きる。
回路集積システムは、データ入出力の速度を向上できる
ので、ロジック回路との間で大きなデータバス幅でデー
タを授受する動作を効率的に実現できる。
路集積システムは、メモリセルアレイとは独立に設けた
冗長メモリセルブロック内の冗長メモリセルと不良メモ
リセルとを置換する構成としたので冗長置換の効率を向
上させることが可能である。
00の構成を示す概略ブロック図である。
0上に形成していく場合の配置の例を示す概念図であ
る。
せたシステムを構成する場合のデバイス形成工程を概念
的に示す図である。
0とを互いに貼合わせた状態におけるP−P′断面を示
す断面図である。
成されるメモリコア1000の配置の様子をより詳細に
説明するための拡大図である。
されるインターフェイス層1200のパターンを説明す
るための拡大図である。
00を形成した場合のメモリコアの構成をより詳細に説
明するための拡大図である。
ロセスを説明するためのフロー図である。
ためのマスクパターン14を示す拡大図である。
び1000bに対してインターフェイス層1200を形
成した場合の構成を示す拡大図である。
めのメモリコア1000の構造を説明するための断面図
である。
にインターフェイス層1200を形成した場合の断面構
造を示す断面図である。
をロジックコア3000にフリップチップ上で接続した
場合の断面構造を示す図である。
を説明するための概略ブロック図である。
DRnの詳細な構成を示すための回路図である。
なう構成を示す回路図である。
のタイミングチャートである。
メモリアレイ2000の構成を説明するための概略ブロ
ック図である。
説明するためのタイミングチャートである。
デコーダ2100をデータ選択デコーダ2800に置き
換えた構成を示す図である。
す概略ブロック図である。
回路図である。
スアンプおよびゲート回路M−I/O線対との間のゲー
ト回路の構成を説明する回路図である。
アンプ部とデータ線部との接続を行なう回路の動作を説
明するためのタイミングチャートである。
部との接続を行なう回路の動作を説明するためのタイミ
ングチャートである。
センスアンプ部とデータ線部との接続を行なう構成を示
す回路図である。
アンプ部とデータ線部との接続を行なう回路の動作を説
明するためのタイミングチャートである。
ンプ部とデータ線部との接続を行なう回路の動作を説明
するためのタイミングチャートである。
00の構成を示す概略ブロック図である。
ワードドライバ部8000の構成を説明するための拡大
図である。
プを選択的に活性化させる構成を示す図である。
て、行冗長部2300の構成を示す概略ブロック図であ
る。
行冗長領域および列方向の冗長領域の配置を説明するた
めの概略ブロック図である。
チ回路5040の構成を説明するための概念図である。
存在する場合に、シフト動作した場合の状態を示す概念
図である。
列との置換を行うための他の構成および動作をより詳し
く説明する図である。
も上側にシフトさせる必要がある場合の構成を示す概念
図である。
も下側にシフトさせる必要がある場合の構成を示す概念
図である。
上側にシフトし、1本は下側にシフトする必要がある場
合の構成を示す概念図である。
子を用いた構成をより詳しく示す概略ブロック図であ
る。
救済を行なう構成を示す図である。
ることで、ヒューズリンク部を1列にする構成を示す図
である。
ザブローしたことで、1段シフトされた状態を示す図で
ある。
図である。
を行なう構成を示す概略ブロック図である。
基本的には同様の構成を示す図である。
信号を生成するための回路7000の構成を示す図であ
る。
ある。
成を示す概略ブロック図である。
す概略ブロック図である。
ようにした制御の構成例を示す図である。
ャートである。
データ処理について示す図である。
て1サイクル分早く取込んで処理を行なう動作を示すタ
イミングチャートである。
データ処理について示す図である。
て1サイクル分早く取込んで処理を行なう動作を示すタ
イミングチャートである。
ロック信号入力端子、1010 外部制御信号入力端子
群、1012、1014、1016、1018、102
0 制御信号入力バッファ、1022 モードデコー
ダ、1030 アドレス信号入力端子群、1032〜1
044 入力バッファ、1046 モードレジスタ、1
048 ロウアドレスラッチ、1050 コラムアドレ
スラッチ、1052 バンクアドレスラッチ、1054
セルフリフレッシュタイマ、1056 リフレッシュ
アドレスカウンタ、1058 マルチプレクサ、106
0バーストアドレスカウンタ、1062 ロウプリデコ
ーダ、1064 コラムプリデコーダ、1066 バン
クデコーダ、1070 データ入出力端子、1072〜
1082 入出力バッファ回路、1086 データ入出
力回路、1100メモリアレイブロック、2142 メ
インロウデコーダ、2104、コラムデコーダ、215
2 I/Oポート、1000 同期型半導体記憶装置。
Claims (14)
- 【請求項1】 第1の半導体基板の第1の主表面に形成
されるロジック回路チップを備え、 前記ロジック回路チップは、外部との電気的インターフ
ェースを取るための複数の第1の入出力パッドを含み、 第2の半導体基板の第2の主表面上に分離可能な間隔を
有するように形成される複数のメモリ回路のうちから一
体として分離され、少なくとも2つの前記メモリ回路を
含むメモリチップをさらに備え、 前記メモリチップは、 最表面に設けられる絶縁層と、 前記絶縁層の直下に、前記メモリ回路に共通に設けられ
るインターフェース配線層を含み、 前記インターフェース配線層は、 前記メモリ回路のそれぞれの入出力ノードを接続する配
線部と、 外部との電気的インターフェースを取るために、前記絶
縁層の開口部に対応する位置に設けられる複数の第2の
入出力パッド部とを有し、 前記ロジック回路チップの第1の主表面と前記メモリチ
ップの第2の主表面とを対向させた状態で、前記複数の
第1の入出力パッドと対応する前記第2の入出力パッド
部とをそれぞれ接続する複数の接続部材とを備える、メ
モリ回路/ロジック回路集積システム。 - 【請求項2】 前記複数のメモリ回路の各々は、互いに
同一の回路構成を有する、請求項1記載のメモリ回路/
ロジック回路集積システム。 - 【請求項3】 前記複数の第2の入出力パッド部は、そ
れぞれ対応する前記第1の入出力パッドと、前記第1の
主表面と前記第2の主表面とを対向させた状態で、整合
する位置に配置される、請求項1記載のメモリ回路/ロ
ジック回路集積システム。 - 【請求項4】 前記メモリ回路の各々は、 複数のメモリセルが行列状に配列されたメモリセルアレ
イを備え、 前記メモリセルアレイの行方向に沿って配置される複数
のワード線と、 前記メモリセルアレイに対応して設けられ、アドレス信
号に応じて前記ワードを選択的に活性化する行選択回路
と、 前記メモリセルブロックのメモリセル列に対応して設け
られる複数のビット線対と、 第1複数個の前記ビット線対ごとに設けられ、選択され
たメモリセルとデータの授受を行うための複数のデータ
線対と、 前記データ線対と対応する前記第1複数個のビット線対
との間で、選択的にデータ伝達を可能とする複数の選択
回路をさらに備える、請求項1記載のメモリ回路/ロジ
ック回路集積システム。 - 【請求項5】 第2複数個の前記データ線対からなるデ
ータ線グループごとに設けられる複数の選択ゲート回路
と、 前記複数の選択ゲート回路に共通に設けられるデータバ
スと、 前記選択ゲート回路ごとに設けられ、前記選択ゲート回
路を選択的に活性化し、対応する前記データ線グループ
からのデータを前記データバスに伝達させる複数のデコ
ード回路とをさらに備える、請求項4記載のメモリ回路
/ロジック回路集積システム。 - 【請求項6】 前記デコード回路を制御するプリデコー
ド回路をさらに備え、 前記プリデコード回路は、前記複数のデコード回路のう
ち、少なくとも2つを同時に活性化する、請求項5記載
のメモリ回路/ロジック回路集積システム。 - 【請求項7】 前記選択回路は、 前記第1複数個のビット線対にそれぞれ対応して設けら
れ、選択的に導通状態とされる第1複数個の第1のスイ
ッチ回路と、 前記第1複数個の第1のスイッチ回路からの出力を受け
て、選択されたビット線対の電位レベルに応じて、対応
する前記データ線対の電位を駆動するデータ伝達ゲート
とを含み、 前記データ伝達ゲートは、 前記データ線対のうちの一方と所定の電源電位との間に
結合され、ゲート電位が前記選択されたビット線対のう
ちの一方により駆動される第1のMOSトランジスタ
と、 前記データ線対のうちの他方と前記所定の電源電位との
間に結合され、ゲート電位が前記選択されたビット線対
のうちの他方により駆動される第2のMOSトランジス
タとを有する、請求項4記載のメモリ回路/ロジック回
路集積システム。 - 【請求項8】 前記選択回路と前記データ伝達ゲートと
を結合する複数のセグメントデータ線対と、 待機状態において、前記セグメントデータ線対を第1の
プリチャージレベルにプリチャージする第1のプリチャ
ージ回路と、 待機状態において、前記ビット線対を第2のプリチャー
ジレベルにプリチャージする第2のプリチャージ回路と
をさらに備える、請求項7記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システム。 - 【請求項9】 前記メモリセルアレイ端部に設けられる
冗長メモリセル行をさらに備え、 前記冗長メモリセル行は、前記メモリセル列に対応する
個数であって、記憶データを保持するためのラッチ回路
を有する、請求項4記載のメモリ回路/ロジック回路集
積システム。 - 【請求項10】 前記メモリセルアレイに対応して、前
記第1複数個を単位として設けられる、複数の冗長メモ
リセル列と、 前記第1複数個の冗長メモリセル列ごとに設けられ、選
択された冗長メモリセルとデータの授受を行うための複
数の冗長データ線対と、 前記メモリセルアレイとの間でデータの授受を行うため
のデータバスと、 前記冗長メモリセル列への置換が行なわれているかに応
じて、前記データ線対および前記冗長データ線対と前記
データバスとの接続を切換える、データ伝達切換回路と
をさらに備える、請求項9記載のメモリ回路/ロジック
回路集積システム。 - 【請求項11】 前記メモリセルアレイに対応して、前
記第1複数個を単位として設けられる、複数の冗長メモ
リセル列と、 前記第1複数個の冗長メモリセル列ごとに設けられ、選
択された冗長メモリセルとデータの授受を行うための複
数の冗長データ線対と、 前記データ線対ごとに設けられ、前記冗長メモリセル行
からの読出データと前記データ線対を介して伝達された
読出データとを受けて、前記冗長メモリセル行への置換
が行なわれているかに応じて、いずれかを出力する複数
のマルチプレクサと、 前記冗長メモリセル列への置換が行なわれているかに応
じて、前記データ線対と前記マルチプレクサとの接続を
切換えるデータ伝達切換回路と、 前記マルチプレクサとの間でデータの授受を行うための
データバスとをさらに備える、請求項9記載のメモリ回
路/ロジック回路集積システム。 - 【請求項12】 前記データ伝達切換回路の動作を制御
するための冗長列置換制御回路をさらに備え、 前記冗長列置換制御回路は、 予め記憶された冗長置換が行なわれるべき行アドレスと
行アドレス信号とが一致する場合、第1のヒット信号を
活性化し保持する行アドレス比較回路と、 予め記憶された冗長置換が行なわれるべき列アドレスと
列アドレス信号とが一致する場合、第2のヒット信号を
活性化する列アドレス比較回路と、 前記第1および第2のヒット信号の活性化に応じて、前
記データ伝達切換回路の動作を制御するための切換制御
信号を生成する、列置換信号生成回路とを含む、請求項
11記載のメモリ回路/ロジック回路集積システム。 - 【請求項13】 列置換信号生成回路は、読出動作モー
ドおよび書込動作モードに応じて、アドレス信号が与え
られてから、前記切換制御信号を前記データ伝達切換回
路に与えるまでのタイミングを調整するためのシフト回
路をさらに含む、請求項12記載のメモリ回路/ロジッ
ク回路集積システム。 - 【請求項14】 前記データ伝達切換回路は、 前記冗長メモリセル置換が行なわれない場合における対
応するデータ線対の各データ伝達経路上に直列に配置さ
れる第1および第2のシフト回路を含み、 前記第1のシフト回路は、前記対応する前記データ線対
からのデータを受けて、前記切換制御信号に制御され
て、前記対応するデータ線対に隣接する左右いずれかの
前記データ線対の前記冗長メモリセル置換が行なわれな
い場合におけるデータ伝達経路に与え、 前記第2のシフト回路は、前記第1シフト回路からのデ
ータを受けて、前記切換制御信号に制御されて、前記対
応するデータ線対に隣接する左右いずれかの前記データ
線対の前記冗長メモリセル置換が行なわれない場合にお
けるデータ伝達経路に与える、請求項11記載のメモリ
回路/ロジック回路集積システム。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001006389A (ja) * | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JP2002334937A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Id実装可能なlsi、機密鍵実装方法、lsiテスト方法およびlsi開発方法 |
US7072241B2 (en) | 2002-02-19 | 2006-07-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device and multi-chip module comprising the semiconductor memory device |
JP2009055007A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Honda Motor Co Ltd | 半導体装置 |
WO2010021410A1 (ja) * | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 日本電気株式会社 | 積層メモリチップ、それを用いた半導体集積回路装置及びその製造方法 |
JP2011081887A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-04-21 | Elpida Memory Inc | 半導体装置 |
JP2022529564A (ja) * | 2019-04-15 | 2022-06-23 | 長江存儲科技有限責任公司 | 半導体デバイス及び方法 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7388289B1 (en) * | 1999-09-02 | 2008-06-17 | Micron Technology, Inc. | Local multilayered metallization |
TW546664B (en) * | 2001-01-17 | 2003-08-11 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device formed to optimize test technique and redundancy technology |
JP2002237188A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
US7088604B2 (en) * | 2001-03-15 | 2006-08-08 | Micron Technology, Inc. | Multi-bank memory |
JP3872320B2 (ja) * | 2001-08-22 | 2007-01-24 | 松下電器産業株式会社 | 半導体記憶装置およびその貼り合わせ方法 |
KR100424178B1 (ko) | 2001-09-20 | 2004-03-24 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치의 내부어드레스 발생회로 |
KR100580635B1 (ko) * | 2003-12-30 | 2006-05-16 | 삼성전자주식회사 | 전자소자 및 그 제조방법 |
US7739545B2 (en) | 2006-09-13 | 2010-06-15 | International Business Machines Corporation | System and method to support use of bus spare wires in connection modules |
KR100761382B1 (ko) * | 2006-09-29 | 2007-09-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 메모리 장치 |
JP2009059735A (ja) | 2007-08-29 | 2009-03-19 | Elpida Memory Inc | 半導体記憶装置 |
US8194489B2 (en) * | 2010-01-21 | 2012-06-05 | International Business Machines Corporation | Paired programmable fuses |
KR20170052712A (ko) * | 2015-11-03 | 2017-05-15 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 |
US10127971B1 (en) * | 2017-05-01 | 2018-11-13 | Micron Technology, Inc. | Systems and methods for memory cell array initialization |
JP2020141100A (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-03 | キオクシア株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2020145231A (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | キオクシア株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5140550A (en) * | 1987-03-16 | 1992-08-18 | Hitachi Ltd. | Semiconductor memory device |
JPH07114259B2 (ja) * | 1989-10-19 | 1995-12-06 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP2600018B2 (ja) * | 1990-09-29 | 1997-04-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体記憶装置 |
US5289423A (en) * | 1990-11-16 | 1994-02-22 | Sgs-Thomson Microelectronics S.R.L. | Bank erasable, flash-EPROM memory |
US5838603A (en) * | 1994-10-11 | 1998-11-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device and method for fabricating the same, memory core chip and memory peripheral circuit chip |
US5731945A (en) * | 1995-02-22 | 1998-03-24 | International Business Machines Corporation | Multichip semiconductor structures with consolidated circuitry and programmable ESD protection for input/output nodes |
JP2757849B2 (ja) * | 1996-01-25 | 1998-05-25 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
TW318933B (en) * | 1996-03-08 | 1997-11-01 | Hitachi Ltd | Semiconductor IC device having a memory and a logic circuit implemented with a single chip |
JPH1050958A (ja) * | 1996-08-05 | 1998-02-20 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置、半導体記憶装置のレイアウト方法、半導体記憶装置の動作方法および半導体記憶装置の回路配置パターン |
JPH10111864A (ja) | 1996-10-09 | 1998-04-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体集積回路装置及びその製造方法 |
JP3720945B2 (ja) * | 1997-04-04 | 2005-11-30 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP3737276B2 (ja) * | 1997-04-25 | 2006-01-18 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP3828249B2 (ja) * | 1997-07-29 | 2006-10-04 | 株式会社東芝 | ダイナミック型半導体記憶装置 |
JP4154020B2 (ja) * | 1998-02-17 | 2008-09-24 | キヤノン株式会社 | 現像装置 |
JPH11274424A (ja) * | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
US6329712B1 (en) * | 1998-03-25 | 2001-12-11 | Micron Technology, Inc. | High density flip chip memory arrays |
JP2000150820A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
-
1999
- 1999-01-28 JP JP02034699A patent/JP4212171B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-07-21 US US09/357,973 patent/US6208547B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-01-26 US US09/769,390 patent/US6335875B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-12-06 US US10/003,255 patent/US6477075B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001006389A (ja) * | 1999-06-17 | 2001-01-12 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
JP4603111B2 (ja) * | 1999-06-17 | 2010-12-22 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2002334937A (ja) * | 2001-05-10 | 2002-11-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Id実装可能なlsi、機密鍵実装方法、lsiテスト方法およびlsi開発方法 |
US7284134B2 (en) | 2001-05-10 | 2007-10-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | ID installable LSI, secret key installation method, LSI test method, and LSI development method |
US7072241B2 (en) | 2002-02-19 | 2006-07-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device and multi-chip module comprising the semiconductor memory device |
JP2009055007A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Honda Motor Co Ltd | 半導体装置 |
WO2010021410A1 (ja) * | 2008-08-22 | 2010-02-25 | 日本電気株式会社 | 積層メモリチップ、それを用いた半導体集積回路装置及びその製造方法 |
JP2011081887A (ja) * | 2009-10-09 | 2011-04-21 | Elpida Memory Inc | 半導体装置 |
JP2022529564A (ja) * | 2019-04-15 | 2022-06-23 | 長江存儲科技有限責任公司 | 半導体デバイス及び方法 |
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