JP2000206431A - 走査光学装置のモニタ―光学系 - Google Patents
走査光学装置のモニタ―光学系Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザー光が偏向器に対して副走査方向に角
度を持って入射する場合にも、モニターセンサ上でのス
ポット形状の劣化を防ぐことを課題とする。 【解決手段】 半導体レーザー１０から発したレーザー
光は、副走査方向に角度を持ってポリゴンミラー１４に
入射し、反射・偏向されて曲面ミラー１５により反射さ
れ、アナモフィックレンズ１６、光路偏向ミラー１７を
介して感光体ドラム１８に達する。アナモフィックレン
ズ１６の手前には、走査範囲外の光束を分離する分離ミ
ラー４０が配置され、これにより反射されたモニター光
は、モニター用シリンドリカルレンズ４１ａを介してモ
ニターセンサ４２ａ上に集光する。モニター用シリンド
リカルレンズ４１ａは、モニター光に対してほぼ垂直な
平面Ｐに投影された主たるパワーを示す主経線Ｍがモニ
ター光が走査するｙ方向に直交するｚ方向に対して角度
θ3傾くよう配置されている。
度を持って入射する場合にも、モニターセンサ上でのス
ポット形状の劣化を防ぐことを課題とする。 【解決手段】 半導体レーザー１０から発したレーザー
光は、副走査方向に角度を持ってポリゴンミラー１４に
入射し、反射・偏向されて曲面ミラー１５により反射さ
れ、アナモフィックレンズ１６、光路偏向ミラー１７を
介して感光体ドラム１８に達する。アナモフィックレン
ズ１６の手前には、走査範囲外の光束を分離する分離ミ
ラー４０が配置され、これにより反射されたモニター光
は、モニター用シリンドリカルレンズ４１ａを介してモ
ニターセンサ４２ａ上に集光する。モニター用シリンド
リカルレンズ４１ａは、モニター光に対してほぼ垂直な
平面Ｐに投影された主たるパワーを示す主経線Ｍがモニ
ター光が走査するｙ方向に直交するｚ方向に対して角度
θ3傾くよう配置されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザープリン
ター等の走査光学装置に用いられ、一走査の書き始め、
または書き終わりのタイミングを検出するモニター光学
系に関し、特に光源からの光束が偏向器に対して副走査
方向に角度を持って入射するタイプの走査光学装置に適
したモニター光学系に関する。
ター等の走査光学装置に用いられ、一走査の書き始め、
または書き終わりのタイミングを検出するモニター光学
系に関し、特に光源からの光束が偏向器に対して副走査
方向に角度を持って入射するタイプの走査光学装置に適
したモニター光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、光学系の小型化を目的とし
て、光束が偏向器に対して副走査方向に角度を持つタイ
プの走査光学装置が設計されている。例えば特開平８−
１２２６８５号公報には、この種の走査光学装置が開示
されている。
て、光束が偏向器に対して副走査方向に角度を持つタイ
プの走査光学装置が設計されている。例えば特開平８−
１２２６８５号公報には、この種の走査光学装置が開示
されている。
【０００３】図４は、上記の公報に開示された走査光学
装置の光学系の構成を示す斜視図である。半導体レーザ
ー１０から発したレーザー光は、コリメートレンズ１
１、シリンドリカルレンズ１２を介し、平面ミラー１３
により反射されて副走査方向(ここでは回転軸１４ｂの
方向)に角度を持ってポリゴンミラー１４に入射する。
ポリゴンミラー１４の反射面１４ａで反射されたレーザ
ー光は、曲面ミラー１５により再度反射され、アナモフ
ィックレンズ１６、光路偏向ミラー１７を介して二点鎖
線で示した感光体ドラム１８に達する。
装置の光学系の構成を示す斜視図である。半導体レーザ
ー１０から発したレーザー光は、コリメートレンズ１
１、シリンドリカルレンズ１２を介し、平面ミラー１３
により反射されて副走査方向(ここでは回転軸１４ｂの
方向)に角度を持ってポリゴンミラー１４に入射する。
ポリゴンミラー１４の反射面１４ａで反射されたレーザ
ー光は、曲面ミラー１５により再度反射され、アナモフ
ィックレンズ１６、光路偏向ミラー１７を介して二点鎖
線で示した感光体ドラム１８に達する。
【０００４】なお、この明細書では、感光体ドラム１８
に達したレーザー光を基準とし、光路上の任意の位置
で、感光体ドラム１８上におけるレーザー光の走査方
向、及びこの走査方向に直交する方向のそれぞれに対応
する方向を、主走査方向、副走査方向として定義する。
に達したレーザー光を基準とし、光路上の任意の位置
で、感光体ドラム１８上におけるレーザー光の走査方
向、及びこの走査方向に直交する方向のそれぞれに対応
する方向を、主走査方向、副走査方向として定義する。
【０００５】シリンドリカルレンズ１２は、副走査方向
にのみ収束パワーを有し、曲面ミラー１５は主として主
走査方向に収束パワーを持つ。また、アナモフィックレ
ンズ１６は主として副走査方向の収束パワーを持つ。
にのみ収束パワーを有し、曲面ミラー１５は主として主
走査方向に収束パワーを持つ。また、アナモフィックレ
ンズ１６は主として副走査方向の収束パワーを持つ。
【０００６】曲面ミラー１５とアナモフィックレンズ１
６との間には、走査範囲外の光束を分離する分離ミラー
４０が配置されており、この分離ミラー４０により反射
されたレーザー光は、モニター光としてシリンドリカル
レンズ４１を介してモニターセンサ４２上に集光する。
モニター光は、レーザー光が入射するポリゴンミラー１
４の反射面が切り替わる毎に、ドラム上のレーザー光が
走査範囲に入る手前でモニターセンサー４２に入射し、
モニターセンサー４２からは一走査毎の書き始めタイミ
ングを決める同期信号が出力される。
６との間には、走査範囲外の光束を分離する分離ミラー
４０が配置されており、この分離ミラー４０により反射
されたレーザー光は、モニター光としてシリンドリカル
レンズ４１を介してモニターセンサ４２上に集光する。
モニター光は、レーザー光が入射するポリゴンミラー１
４の反射面が切り替わる毎に、ドラム上のレーザー光が
走査範囲に入る手前でモニターセンサー４２に入射し、
モニターセンサー４２からは一走査毎の書き始めタイミ
ングを決める同期信号が出力される。
【０００７】モニター光学系のシリンドリカルレンズ４
１は、アナモフィックレンズ１６を介さずに分離された
モニター光をモニターセンサ４２上に集光させるため、
副走査方向に収束パワーを有している。ここで、図４に
示すようにモニターセンサ４２に入射するモニター光に
対してほぼ垂直な平面Ｐを定義し、この平面Ｐ内でモニ
ター光が走査するｙ方向とこれに直交するｚ方向とを定
義する。シリンドリカルレンズ４１の主たるパワーを示
す主経線(母線に対して垂直)を平面Ｐに投影すると、投
影された主経線Ｍの方向はｚ方向に対して平行となる。
１は、アナモフィックレンズ１６を介さずに分離された
モニター光をモニターセンサ４２上に集光させるため、
副走査方向に収束パワーを有している。ここで、図４に
示すようにモニターセンサ４２に入射するモニター光に
対してほぼ垂直な平面Ｐを定義し、この平面Ｐ内でモニ
ター光が走査するｙ方向とこれに直交するｚ方向とを定
義する。シリンドリカルレンズ４１の主たるパワーを示
す主経線(母線に対して垂直)を平面Ｐに投影すると、投
影された主経線Ｍの方向はｚ方向に対して平行となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来例のよう
にレーザー光がポリゴンミラー１４に対して副走査方向
に角度を持って入射する場合、画角が大きくなるにした
がい、すなわちレーザー光が感光体ドラム１８の周辺部
に向かうにしたがい、ポリゴンミラー１４からの反射光
にねじれ(スキュー歪み)が生じる。
にレーザー光がポリゴンミラー１４に対して副走査方向
に角度を持って入射する場合、画角が大きくなるにした
がい、すなわちレーザー光が感光体ドラム１８の周辺部
に向かうにしたがい、ポリゴンミラー１４からの反射光
にねじれ(スキュー歪み)が生じる。
【０００９】図５(Ａ)は画角Ｗ＝０．０゜、(Ｂ)はＷ＝
２０．０゜、(Ｃ)はＷ＝４３．０゜、(Ｄ)はＷ＝４７．
０゜の各画角での光束のねじれを示し、各図中の横軸が
主走査方向(ｙ)、縦軸が副走査方向(ｚ)を示す。なお、
画角Ｗは、感光体ドラム１８上での走査範囲の中心に達
する光線を基準光線として、ポリゴンミラー１４からの
反射光が基準光線となす角度をいい、図５では基準光線
より分離ミラー４０側への反射光のねじれを光束に対向
する方向から観察した結果を示している。画角４７．０
゜の光束は、分離ミラー４０により反射されてモニター
センサ４２に入射する。
２０．０゜、(Ｃ)はＷ＝４３．０゜、(Ｄ)はＷ＝４７．
０゜の各画角での光束のねじれを示し、各図中の横軸が
主走査方向(ｙ)、縦軸が副走査方向(ｚ)を示す。なお、
画角Ｗは、感光体ドラム１８上での走査範囲の中心に達
する光線を基準光線として、ポリゴンミラー１４からの
反射光が基準光線となす角度をいい、図５では基準光線
より分離ミラー４０側への反射光のねじれを光束に対向
する方向から観察した結果を示している。画角４７．０
゜の光束は、分離ミラー４０により反射されてモニター
センサ４２に入射する。
【００１０】アナモフィックレンズ１６は、ポリゴンミ
ラー１４により発生した光束のねじれによる影響を補正
する補正光学系としての機能を有しており、このレンズ
を介して感光体ドラム１８に達するレーザー光に関して
は光束のねじれは影響ない。
ラー１４により発生した光束のねじれによる影響を補正
する補正光学系としての機能を有しており、このレンズ
を介して感光体ドラム１８に達するレーザー光に関して
は光束のねじれは影響ない。
【００１１】しかしながら、このようなねじれを含むモ
ニター光を補正光学系を介さずに分離して上記のように
設定されたシリンドリカルレンズ４１により集光する
と、モニターセンサ４２上でのモニター光の波面は図６
に示すように大きく乱れる。また、この波面の乱れによ
りモニターセンサ４２の前後でのスポット形状は図７に
示すように歪む。図７は、モニター光に沿うセンサ前後
位置でのモニター光の集光状態を示し、(Ａ)はモニター
センサ４２より手前(シリンドリカルレンズ４１側)２ｍ
ｍの位置、(Ｂ)はモニターセンサ４２上、(Ｃ)はモニタ
ーセンサ４２の後方２ｍｍの位置でのビーム形状をそれ
ぞれ示している。このようにモニター光がモニターセン
サ４２上で十分に収束しないため、モニターセンサ４２
から出力される信号の立ち上がりが鈍る。この結果、モ
ニター信号に基づいて定められる各走査線の書き出し位
置を正確に揃えることができず、印刷品質が低下する。
ニター光を補正光学系を介さずに分離して上記のように
設定されたシリンドリカルレンズ４１により集光する
と、モニターセンサ４２上でのモニター光の波面は図６
に示すように大きく乱れる。また、この波面の乱れによ
りモニターセンサ４２の前後でのスポット形状は図７に
示すように歪む。図７は、モニター光に沿うセンサ前後
位置でのモニター光の集光状態を示し、(Ａ)はモニター
センサ４２より手前(シリンドリカルレンズ４１側)２ｍ
ｍの位置、(Ｂ)はモニターセンサ４２上、(Ｃ)はモニタ
ーセンサ４２の後方２ｍｍの位置でのビーム形状をそれ
ぞれ示している。このようにモニター光がモニターセン
サ４２上で十分に収束しないため、モニターセンサ４２
から出力される信号の立ち上がりが鈍る。この結果、モ
ニター信号に基づいて定められる各走査線の書き出し位
置を正確に揃えることができず、印刷品質が低下する。
【００１２】この発明は、上述した従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、レーザー光が偏向器に対し
て副走査方向に角度を持って入射する構成を前提とし
て、モニター光を補正光学系を介さずに分離した場合に
も、光束のねじれに起因するモニターセンサ上でのスポ
ット形状の劣化を防ぐことができるモニター光学系の提
供を課題とする。
鑑みてなされたものであり、レーザー光が偏向器に対し
て副走査方向に角度を持って入射する構成を前提とし
て、モニター光を補正光学系を介さずに分離した場合に
も、光束のねじれに起因するモニターセンサ上でのスポ
ット形状の劣化を防ぐことができるモニター光学系の提
供を課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる走査光
学装置のモニター光学系は、上記の目的を達成させるた
め、光源から発する光束を第１のアナモフィック光学系
を介して反射型の偏向器に対して副走査方向に角度を持
たせて入射させ、光束のねじれによる影響を補正する補
正光学系を含む第２のアナモフィック光学系を介して走
査対象面上に導く走査光学装置において、偏向器と補正
光学系との間で分離された走査範囲外の光束をモニター
光として集光させるモニター用アナモフィックレンズ
と、このモニター用アナモフィックレンズにより集光さ
れたモニター光を受光して信号を発するモニターセンサ
とを有し、モニター用アナモフィックレンズは、モニタ
ーセンサに入射するモニター光にほぼ垂直な平面内でモ
ニター光が走査するｙ方向とこれに直交するｚ方向とを
定義して、この平面にモニター用アナモフィックレンズ
の主たるパワーの方向を示す主経線を投影した際に、投
影された主経線が、モニターセンサ上での波面収差の発
生を抑えるように、ｚ方向に対して所定角度傾くよう配
置されていることを特徴とする。
学装置のモニター光学系は、上記の目的を達成させるた
め、光源から発する光束を第１のアナモフィック光学系
を介して反射型の偏向器に対して副走査方向に角度を持
たせて入射させ、光束のねじれによる影響を補正する補
正光学系を含む第２のアナモフィック光学系を介して走
査対象面上に導く走査光学装置において、偏向器と補正
光学系との間で分離された走査範囲外の光束をモニター
光として集光させるモニター用アナモフィックレンズ
と、このモニター用アナモフィックレンズにより集光さ
れたモニター光を受光して信号を発するモニターセンサ
とを有し、モニター用アナモフィックレンズは、モニタ
ーセンサに入射するモニター光にほぼ垂直な平面内でモ
ニター光が走査するｙ方向とこれに直交するｚ方向とを
定義して、この平面にモニター用アナモフィックレンズ
の主たるパワーの方向を示す主経線を投影した際に、投
影された主経線が、モニターセンサ上での波面収差の発
生を抑えるように、ｚ方向に対して所定角度傾くよう配
置されていることを特徴とする。
【００１４】上記の構成によれば、モニター光の持つね
じれがモニター用アナモフィックレンズの傾きにより補
正され、モニター光をモニターセンサ上で十分に集光す
ることができる。したがって、出力されるモニター信号
の立ち上がりを鋭くし、各走査線の書き出し位置を正確
に揃えることができる。
じれがモニター用アナモフィックレンズの傾きにより補
正され、モニター光をモニターセンサ上で十分に集光す
ることができる。したがって、出力されるモニター信号
の立ち上がりを鋭くし、各走査線の書き出し位置を正確
に揃えることができる。
【００１５】なお、モニター用アナモフィックレンズと
しては、シリンドリカルレンズを用いることができる。
しては、シリンドリカルレンズを用いることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、この発明にかかるモニター
光学系が適用された走査光学装置の実施形態を説明す
る。実施形態の装置は、レーザープリンターに使用され
る露光ユニットであり、入力される描画信号にしたがっ
てON/OFF変調されたレーザー光を感光体ドラム上で走査
させ、静電潜像を形成する。
光学系が適用された走査光学装置の実施形態を説明す
る。実施形態の装置は、レーザープリンターに使用され
る露光ユニットであり、入力される描画信号にしたがっ
てON/OFF変調されたレーザー光を感光体ドラム上で走査
させ、静電潜像を形成する。
【００１７】図１は、実施形態にかかる走査光学装置の
光学系の構成を示す斜視図である。半導体レーザー１０
から発した発散光であるレーザー光は、コリメートレン
ズ１１により平行光とされ、第１のアナモフィック光学
系であるシリンドリカルレンズ１２により副走査方向に
のみ収束される。シリンドリカルレンズ１２を介したレ
ーザー光は、平面ミラー１３により反射されて副走査方
向に角度を持ってポリゴンミラー１４に入射する。
光学系の構成を示す斜視図である。半導体レーザー１０
から発した発散光であるレーザー光は、コリメートレン
ズ１１により平行光とされ、第１のアナモフィック光学
系であるシリンドリカルレンズ１２により副走査方向に
のみ収束される。シリンドリカルレンズ１２を介したレ
ーザー光は、平面ミラー１３により反射されて副走査方
向に角度を持ってポリゴンミラー１４に入射する。
【００１８】ポリゴンミラー１４の反射面１４ａで副走
査方向に第１の分離角度θ1をもって反射、偏向された
レーザー光は、曲面ミラー１５により副走査方向に第２
の分離角度θ2をもって再びポリゴンミラー１４側に反
射され、ポリゴンミラー１４の図中上側に配置されたア
ナモフィックレンズ１６を透過する。
査方向に第１の分離角度θ1をもって反射、偏向された
レーザー光は、曲面ミラー１５により副走査方向に第２
の分離角度θ2をもって再びポリゴンミラー１４側に反
射され、ポリゴンミラー１４の図中上側に配置されたア
ナモフィックレンズ１６を透過する。
【００１９】アナモフィックレンズ１６を透過したレー
ザー光は、光路偏向ミラー１７により反射され、二点鎖
線で示した感光体ドラム１８上にドラムの母線方向であ
る主走査方向に走査するスポットを形成する。
ザー光は、光路偏向ミラー１７により反射され、二点鎖
線で示した感光体ドラム１８上にドラムの母線方向であ
る主走査方向に走査するスポットを形成する。
【００２０】レーザー光は、副走査方向においては、シ
リンドリカルレンズ１２によりポリゴンミラー１４の反
射面１４ａの近傍で一旦結像し、主としてアナモフィッ
クレンズ１６のパワーにより感光体ドラム１８上に再結
像する。この構成により、反射面１４ａの面倒れ誤差に
よる感光体ドラム１８上での走査線のずれを防止するこ
とができる。
リンドリカルレンズ１２によりポリゴンミラー１４の反
射面１４ａの近傍で一旦結像し、主としてアナモフィッ
クレンズ１６のパワーにより感光体ドラム１８上に再結
像する。この構成により、反射面１４ａの面倒れ誤差に
よる感光体ドラム１８上での走査線のずれを防止するこ
とができる。
【００２１】曲面ミラー１５は主として主走査方向の収
束パワー、アナモフィックレンズ１６は主として副走査
方向の収束パワーを有し、これら２つの素子で第２のア
ナモフィック光学系を構成している。なお、アナモフィ
ックレンズ１６は、レーザー光をポリゴンミラー１４へ
対して副走査方向に角度を持たせて入射させたことによ
り生じる光束のねじれによる影響を補正する補正光学系
としての機能を備えている。すなわち、アナモフィック
レンズ１６は、その光軸が基準光線に対してほぼ平行に
ポリゴンミラー１４側にシフトするよう偏心して配置さ
れており、レーザー光に対して副走査方向に関して非対
称な屈折作用を与える。この作用を利用することによ
り、レーザー光のねじれによる影響(スキュー歪み)を補
正することができる。したがって、このレンズを介して
感光体ドラム１８に達するレーザー光に関しては光束の
ねじれは影響ない。
束パワー、アナモフィックレンズ１６は主として副走査
方向の収束パワーを有し、これら２つの素子で第２のア
ナモフィック光学系を構成している。なお、アナモフィ
ックレンズ１６は、レーザー光をポリゴンミラー１４へ
対して副走査方向に角度を持たせて入射させたことによ
り生じる光束のねじれによる影響を補正する補正光学系
としての機能を備えている。すなわち、アナモフィック
レンズ１６は、その光軸が基準光線に対してほぼ平行に
ポリゴンミラー１４側にシフトするよう偏心して配置さ
れており、レーザー光に対して副走査方向に関して非対
称な屈折作用を与える。この作用を利用することによ
り、レーザー光のねじれによる影響(スキュー歪み)を補
正することができる。したがって、このレンズを介して
感光体ドラム１８に達するレーザー光に関しては光束の
ねじれは影響ない。
【００２２】曲面ミラー１５とアナモフィックレンズ１
６との間には、走査範囲外の光束をモニター光として分
離する分離ミラー４０が配置されており、この分離ミラ
ー４０により反射されたモニター光は、モニター用アナ
モフィックレンズであるモニター用シリンドリカルレン
ズ４１ａを介してモニターセンサ４２ａ上に集光する。
モニター光は、レーザー光が入射するポリゴンミラー１
４の反射面が切り替わる毎に、ドラム１８上のレーザー
光が走査範囲に入る手前でモニターセンサー４２ａに入
射し、モニターセンサー４２ａからは一走査毎の書き始
めタイミングを決める同期信号が出力される。
６との間には、走査範囲外の光束をモニター光として分
離する分離ミラー４０が配置されており、この分離ミラ
ー４０により反射されたモニター光は、モニター用アナ
モフィックレンズであるモニター用シリンドリカルレン
ズ４１ａを介してモニターセンサ４２ａ上に集光する。
モニター光は、レーザー光が入射するポリゴンミラー１
４の反射面が切り替わる毎に、ドラム１８上のレーザー
光が走査範囲に入る手前でモニターセンサー４２ａに入
射し、モニターセンサー４２ａからは一走査毎の書き始
めタイミングを決める同期信号が出力される。
【００２３】モニター用シリンドリカルレンズ４１ａ
は、補正光学系であるアナモフィックレンズ１６を介さ
ずに分離されたモニター光をモニターセンサ４２ａ上に
集光させるため、副走査方向に収束パワーを有してい
る。ここで、図１に示すようにモニターセンサ４２ａに
入射するモニター光に対してほぼ垂直な平面Ｐを定義
し、この平面Ｐ内でモニター光が走査するｙ方向とこれ
に直交するｚ方向とを定義する。モニター用シリンドリ
カルレンズ４１ａは、その主たるパワーを示す主経線
(母線に対して垂直)を平面Ｐに投影したときに、投影さ
れた主経線Ｍがｚ方向に対して所定角度θ3傾くよう配
置されている。
は、補正光学系であるアナモフィックレンズ１６を介さ
ずに分離されたモニター光をモニターセンサ４２ａ上に
集光させるため、副走査方向に収束パワーを有してい
る。ここで、図１に示すようにモニターセンサ４２ａに
入射するモニター光に対してほぼ垂直な平面Ｐを定義
し、この平面Ｐ内でモニター光が走査するｙ方向とこれ
に直交するｚ方向とを定義する。モニター用シリンドリ
カルレンズ４１ａは、その主たるパワーを示す主経線
(母線に対して垂直)を平面Ｐに投影したときに、投影さ
れた主経線Ｍがｚ方向に対して所定角度θ3傾くよう配
置されている。
【００２４】このように、モニター用シリンドリカルレ
ンズ４１ａを所定角度傾けて配置し、モニター用シリン
ドリカルレンズ４１ａのパワーをモニター光の持つねじ
れに合わせることにより、集光されるモニター光中のね
じれによる影響を補正することができ、モニター光をモ
ニターセンサ４２ａ上で十分に集光させることができ
る。
ンズ４１ａを所定角度傾けて配置し、モニター用シリン
ドリカルレンズ４１ａのパワーをモニター光の持つねじ
れに合わせることにより、集光されるモニター光中のね
じれによる影響を補正することができ、モニター光をモ
ニターセンサ４２ａ上で十分に集光させることができ
る。
【００２５】傾き角度θ3は、第１，第２の分離角度θ
1、θ2、モニター光がモニターセンサに入射する際のレ
ーザー光の画角Ｗmにより決定される。例えば、この例
では、θ1＝８．０゜、θ2＝１０゜、Ｗm＝４７．０゜
であり、この場合にはθ3＝４．８゜とすることによ
り、光束のねじれによる影響を最も小さくすることがで
きる。
1、θ2、モニター光がモニターセンサに入射する際のレ
ーザー光の画角Ｗmにより決定される。例えば、この例
では、θ1＝８．０゜、θ2＝１０゜、Ｗm＝４７．０゜
であり、この場合にはθ3＝４．８゜とすることによ
り、光束のねじれによる影響を最も小さくすることがで
きる。
【００２６】このような設定によると、モニターセンサ
４２ａ上でのモニター光の波面は図２に示すようにほぼ
平坦になり、モニターセンサ４２ａの前後でのスポット
形状も図３に示すように歪みなく集光することができ
る。図３は、モニター光に沿うセンサ前後位置でのモニ
ター光の集光状態を示し、(Ａ)はモニターセンサ４２ａ
より手前２ｍｍの位置、(Ｂ)はモニターセンサ４２ａ
上、(Ｃ)はモニターセンサ４２ａの後方２ｍｍの位置で
のビーム形状をそれぞれ示している。
４２ａ上でのモニター光の波面は図２に示すようにほぼ
平坦になり、モニターセンサ４２ａの前後でのスポット
形状も図３に示すように歪みなく集光することができ
る。図３は、モニター光に沿うセンサ前後位置でのモニ
ター光の集光状態を示し、(Ａ)はモニターセンサ４２ａ
より手前２ｍｍの位置、(Ｂ)はモニターセンサ４２ａ
上、(Ｃ)はモニターセンサ４２ａの後方２ｍｍの位置で
のビーム形状をそれぞれ示している。
【００２７】このようにモニター光がモニターセンサ４
２ａ上で十分に収束するため、モニターセンサ４２ａか
ら出力される信号の立ち上がりが鋭くなる。この結果、
モニター信号に基づいて定められる各走査線の書き出し
位置を正確に揃えることができ、印刷品質を向上させる
ことができる。
２ａ上で十分に収束するため、モニターセンサ４２ａか
ら出力される信号の立ち上がりが鋭くなる。この結果、
モニター信号に基づいて定められる各走査線の書き出し
位置を正確に揃えることができ、印刷品質を向上させる
ことができる。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、モニター光に対してほぼ垂直な平面に投影されたモ
ニター用アナモフィックレンズの主たるパワーを示す主
経線をモニター光の走査方向に直交する方向に対して所
定角度傾けて配置することにより、レーザー光が偏向器
に対して副走査方向に角度をもって入射することにより
発生する光束のねじれによる波面の乱れを防ぐことがで
き、モニター光をモニターセンサ上で十分に小さいスポ
ット径に集光させることができる。このため、モニター
センサから出力されるモニター信号の立ち上がりを急峻
にすることができ、モニター信号に基づいて定められる
各走査線の書き出し位置、あるいは書き終わり位置を正
確に揃え、印刷品質を向上させることができる。
ば、モニター光に対してほぼ垂直な平面に投影されたモ
ニター用アナモフィックレンズの主たるパワーを示す主
経線をモニター光の走査方向に直交する方向に対して所
定角度傾けて配置することにより、レーザー光が偏向器
に対して副走査方向に角度をもって入射することにより
発生する光束のねじれによる波面の乱れを防ぐことがで
き、モニター光をモニターセンサ上で十分に小さいスポ
ット径に集光させることができる。このため、モニター
センサから出力されるモニター信号の立ち上がりを急峻
にすることができ、モニター信号に基づいて定められる
各走査線の書き出し位置、あるいは書き終わり位置を正
確に揃え、印刷品質を向上させることができる。
【図１】 この発明の実施形態にかかるモニター光学系
を備えた走査光学装置の光学素子の配置を示す斜視図。
を備えた走査光学装置の光学素子の配置を示す斜視図。
【図２】 図１の装置におけるモニターセンサ上でのモ
ニター光の波面を示す説明図。
ニター光の波面を示す説明図。
【図３】 図１の装置におけるモニターセンサ前後、及
びモニターセンサ上のスポットダイアグラム。
びモニターセンサ上のスポットダイアグラム。
【図４】 従来のモニター光学系を備えた走査光学装置
の光学素子の配置を示す斜視図。
の光学素子の配置を示す斜視図。
【図５】 図４の装置におけるポリゴンミラーからの反
射光のスポットダイアグラムを異なる画角について示す
説明図。
射光のスポットダイアグラムを異なる画角について示す
説明図。
【図６】 図４の装置におけるモニターセンサ上でのモ
ニター光の波面を示す説明図。
ニター光の波面を示す説明図。
【図７】 図４の装置におけるモニターセンサ前後、及
びモニターセンサ上のスポットダイアグラム。
びモニターセンサ上のスポットダイアグラム。
１０ 半導体レーザー １４ ポリゴンミラー １５ 曲面ミラー １６ アナモフィックレンズ １８ 感光体ドラム ４０ 分離ミラー ４１ａ モニター用シリンドリカルレンズ ４２ａ モニターセンサ
Claims (2)
- 【請求項１】 光源から発する光束を第１のアナモフィ
ック光学系を介して反射型の偏向器に対して副走査方向
に角度を持たせて入射させ、光束のねじれによる影響を
補正する補正光学系を含む第２のアナモフィック光学系
を介して走査対象面上に導く走査光学装置において、 前記偏向器と前記補正光学系との間で分離された走査範
囲外の光束をモニター光として集光させるモニター用ア
ナモフィックレンズと、該モニター用アナモフィックレ
ンズにより集光されたモニター光を受光して信号を発す
るモニターセンサとを有し、前記モニター用アナモフィ
ックレンズは、前記モニターセンサに入射するモニター
光にほぼ垂直な平面内でモニター光が走査するｙ方向と
これに直交するｚ方向とを定義して、この平面に前記モ
ニター用アナモフィックレンズの主たるパワーの方向を
示す主経線を投影した際に、投影された主経線が、前記
モニターセンサ上での波面収差の発生を抑えるように、
ｚ方向に対して所定角度傾くよう配置されていることを
特徴とする走査光学装置のモニター光学系。 - 【請求項２】 前記モニター用アナモフィックレンズは
シリンドリカルレンズであることを特徴とする請求項１
に記載の走査光学装置のモニター光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11010546A JP2000206431A (ja) | 1999-01-19 | 1999-01-19 | 走査光学装置のモニタ―光学系 |
| US09/484,438 US6185027B1 (en) | 1999-01-19 | 2000-01-18 | Monitoring optical system for scanning optical device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11010546A JP2000206431A (ja) | 1999-01-19 | 1999-01-19 | 走査光学装置のモニタ―光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000206431A true JP2000206431A (ja) | 2000-07-28 |
Family
ID=11753270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11010546A Pending JP2000206431A (ja) | 1999-01-19 | 1999-01-19 | 走査光学装置のモニタ―光学系 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6185027B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000206431A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20070171499A1 (en) * | 2006-01-23 | 2007-07-26 | Mckinnon Austin | Reflective member |
| KR101940294B1 (ko) * | 2012-11-01 | 2019-01-28 | 에이치피프린팅코리아 유한회사 | 광 주사 장치 및 이를 채용한 화상 형성 장치 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3193546B2 (ja) | 1993-01-14 | 2001-07-30 | 旭光学工業株式会社 | 反射型走査光学系 |
| JP3335259B2 (ja) | 1994-10-27 | 2002-10-15 | 旭光学工業株式会社 | 反射型走査光学装置 |
| JPH08262323A (ja) | 1995-03-24 | 1996-10-11 | Asahi Optical Co Ltd | 走査光学系 |
| JP3222754B2 (ja) | 1996-02-05 | 2001-10-29 | 旭光学工業株式会社 | 反射型走査光学系 |
| JP3375488B2 (ja) | 1996-06-11 | 2003-02-10 | ペンタックス株式会社 | 走査光学装置 |
-
1999
- 1999-01-19 JP JP11010546A patent/JP2000206431A/ja active Pending
-
2000
- 2000-01-18 US US09/484,438 patent/US6185027B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6185027B1 (en) | 2001-02-06 |
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