KR102630304B1 - 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및, 디바이스 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

노광 장치 (1) 는, 광학계 (13) 를 개재하여 조명광 (EL) 을 물체 (P) 에 조사하고, 물체를 주사 노광하여, 마스크 (M) 가 갖는 소정 패턴을 물체 상에 형성하는 노광 장치에 있어서, 광학계를 지지하는 지지 장치 (14) 와, 지지 장치에 형성되고, 물체를 비접촉 지지하는 물체 지지부 (152) 를 구비한다.

Description

노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및, 디바이스 제조 방법
본 발명은, 예를 들어, 물체를 노광하는 노광 장치 및 노광 방법, 이 노광 장치를 사용하는 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 그리고, 이 노광 장치를 사용하는 디바이스 제조 방법의 기술 분야에 관한 것이다.
액정 표시 소자나 반도체 소자 등의 전자 디바이스를 제조하기 위한 리소그래피 공정에 있어서, 노광 장치가 이용되고 있다. 노광 장치는, 원하는 패턴이 형성된 마스크를 개재한 조명광을, 투영 광학계를 사용하여 플레이트 (예를 들어, 레지스트가 도포된 유리 기판) 에 투영함으로써, 플레이트에 패턴을 형성한다. 노광 장치는, 플레이트를 이동시키면서 플레이트에 조명광을 투영한다. 이 때문에, 플레이트의 위치 정밀도가 악화되면, 패턴을 플레이트에 적절히 형성할 수 없을 가능성이 있다.
미국 특허 출원 공개 제2010/0266961호
제 1 양태에 의하면, 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여, 마스크가 갖는 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 장치에 있어서, 상기 광학계를 지지하는 지지 장치와, 상기 지지 장치에 형성되고, 상기 물체를 비접촉 지지하는 물체 지지부를 구비하는 노광 장치가 제공된다.
제 2 양태에 의하면, 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 장치에 있어서, 상기 물체를 비접촉 지지하는 물체 지지부와, 상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부와, 상기 마스크 지지부와 상기 광학계의 적어도 어느 일방과 상기 물체 지지부를 지지하는 지지 장치를 구비하는 노광 장치가 제공된다.
제 3 양태에 의하면, 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 장치에 있어서, 상기 물체를 비접촉 지지하는 물체 지지부와, 상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부와, 상기 물체 지지부와 상기 마스크 지지부를 지지하는 지지 장치를 구비하는 노광 장치가 제공된다.
제 4 양태에 의하면, 물체의 소정면을 비접촉 지지하는 물체 지지부와, 상기 소정면을 주사 노광하여, 소정 패턴을 상기 소정면 상에 형성하는 처리부를 구비하는 노광 장치가 제공된다.
제 5 양태에 의하면, 상기 서술한 제 1 양태 내지 제 4 양태의 노광 장치의 어느 것을 사용하여 상기 물체를 노광하는 것과, 노광된 상기 물체를 현상하는 것을 포함하는 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법이 제공된다.
제 6 양태에 의하면, 상기 서술한 제 1 양태 내지 제 4 양태의 노광 장치의 어느 것을 사용하여 상기 물체를 노광하는 것과, 노광된 상기 물체를 현상하는 것을 포함하는 디바이스 제조 방법이 제공된다.
제 7 양태에 의하면, 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여, 마스크가 갖는 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 방법에 있어서, 상기 광학계를 지지하는 지지 장치에 형성된 물체 지지부에 의해, 상기 물체를 비접촉 지지하는 것을 포함하는 노광 방법이 제공된다.
제 8 양태에 의하면, 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 방법에 있어서, 상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부와 상기 광학계의 적어도 어느 일방과, 상기 물체를 비접촉 지지하는 물체 지지부를 지지 장치에 의해 지지하는 것을 포함하는 노광 방법이 제공된다.
제 9 양태에 의하면, 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 방법에 있어서, 상기 물체를 비접촉 지지하는 물체 지지부와, 상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부를 지지 장치에 의해 지지하는 것을 포함하는 노광 방법이 제공된다.
제 10 양태에 의하면, 물체의 소정면을 비접촉 지지하는 것과, 상기 소정면을 주사 노광하여, 소정 패턴을 상기 소정면 상에 형성하는 것을 포함하는 노광 방법이 제공된다.
도 1 은 제 1 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 2 는 제 1 실시형태의 노광 장치의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 3(a) 는 정반을 상방으로부터 관찰한 평면도이고, 도 3(b) 는 정반을 하방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 4 는 제 1 실시형태의 노광 장치의 변형예의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 5 는 제 2 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 6 은 제 2 실시형태의 노광 장치의 변형예의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 7 은 제 3 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 8 은 제 4 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 9 는 제 4 실시형태의 노광 장치의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 10 은 정반을 하방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 11 은 제 5 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 12 는 제 6 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 13 은 제 6 실시형태의 노광 장치의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 14 는 제 7 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 15 는 제 7 실시형태의 노광 장치의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 16 은 정반을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 17 은 제 8 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 18 은 제 9 실시형태의 노광 장치의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 19 는 정반을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 20 은 정반을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 21 은 정반을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 22 는 제 10 실시형태의 노광 장치의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 23 은 정반을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 24(a) 는 유지부의 하면을 나타내는 평면도이고, 도 24(b) 는 유지부의 측면을 나타내는 평면도이다.
도 25 는 유지부의 YZ 단면을 나타내는 단면도이다.
도 26(a) 는 척부의 YZ 단면을 나타내는 단면도이고, 도 26(b) 는 척부를 하방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 27 은 유지부의 하면에 있어서 복수의 척부의 이동 방향을 나타내는 평면도이다.
도 28 은 노광 장치를 사용하여 표시 패널을 제조하는 디바이스 제조 방법의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다.
이하, 도면을 참조하면서, 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및, 디바이스 제조 방법에 대하여 설명한다. 단, 본 발명이 이하에 설명하는 실시형태에 한정되는 경우는 없다.
이하의 설명에서는, 서로 직교하는 X 축, Y 축 및 Z 축으로부터 정의되는 XYZ 직교 좌표계를 사용하여, 노광 장치를 구성하는 구성 요소의 위치 관계에 대하여 설명한다. 또한, 이하의 설명에서는, 설명의 편의상, X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각이 수평 방향 (요컨대, 수평면 내의 소정 방향) 이고, Z 축 방향이 연직 방향 (요컨대, 수평면에 직교하는 방향으로, 실질적으로는 상하 방향 내지는 중력이 작용하는 중력 방향) 인 것으로 한다. 또한, ＋Z 측이 상방 (상측) 이고, -Z 측이 하방 (하측) 인 것으로 한다. 또한, X 축, Y 축 및 Z 축 주위의 회전 방향 (다시 말하면, 경사 방향) 을, 각각, θX 방향, θY 방향 및 θZ 방향이라고 칭한다.
(1) 제 1 실시형태의 노광 장치 (1)
먼저, 도 1 내지 도 3(b) 를 참조하면서, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 에 대하여 설명한다. 도 1 은, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 의 YZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다. 도 2 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다. 도 3(a) 는, 정반 (14) 을 상방으로부터 관찰한 평면도이다. 도 3(b) 는, 정반 (14) 을 하방으로부터 관찰한 평면도이다.
제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 는, 포토레지스트 (요컨대, 감광제) 가 도포된 평판 유리인 플레이트 (P) 를, 마스크 (M) 에 형성된 마스크 패턴의 이미지로 노광한다. 그 결과, 플레이트 (P) 에는, 마스크 패턴에 대응하는 디바이스 패턴이 전사 (다시 말하면, 형성) 된다. 노광 장치 (1) 에 의해 노광된 플레이트 (P) 는, 예를 들어, 표시 장치 (예를 들어, 액정 디스플레이나, 유기 EL 디스플레이 등) 의 표시 패널을 제조하기 위하여 사용된다. 이 경우, 플레이트 (P) 는, 예를 들어, 1 변 또는 대각선의 길이가 500 ㎜ 이상이 되는 사각형의 평판 유리가 된다. 단, 플레이트 (P) 의 사이즈는 어떠한 사이즈여도 된다.
노광 장치 (1) 는, 마스크 (M) 와 플레이트 (P) 를 소정 주사 방향 (제 1 실시형태에서는, X 축 방향) 을 따라 이동시키면서 마스크 (M) 에 조명광 (EL) 을 조사함으로써, 플레이트 (P) 상의 1 의 쇼트 영역을 노광한다. 1 의 쇼트 영역의 노광이 종료된 후, 다른 쇼트 영역의 노광을 개시하기 위하여, 노광 장치 (1) 는, 플레이트 (P) 를 주사 방향에 직교하는 비주사 방향 (제 1 실시형태에서는, Y 축 방향) 을 따라 이동시킨다. 그 후, 마스크 (M) 와 플레이트 (P) 를 주사 방향을 따라 이동시키면서 마스크 (M) 에 조명광 (EL) 을 조사함으로써, 플레이트 (P) 상의 다른 쇼트 영역을 노광한다. 이후, 동일한 동작이, 플레이트 (P) 상의 모든 쇼트 영역에 대하여 반복된다. 요컨대, 노광 장치 (1) 는, 이른바, 스텝·앤드·스캔 방식의 노광 장치이다.
도 1 내지 도 3(b) 에 나타내는 바와 같이, 이와 같은 노광 장치 (1) 는, 조명 광학계 (11) 와, 마스크 스테이지 (12) 와, 투영 광학계 (13) 와, 정반 (14) 과, 마스크 지지부 (151) 와, 플레이트 지지부 (152) 와, 플레이트 스테이지 (16) 를 구비하고 있다.
조명 광학계 (11) 는, 도시 생략의 광원 (예를 들어, 수은 램프) 으로부터 사출된 광을, 도시 생략의 광학 소자를 개재하여, 노광용의 조명광 (EL) 으로서 마스크 (M) 에 조사한다. 도시 생략의 광학 소자는, 반사경, 다이크로익 미러, 셔터, 파장 선택 필터 및 렌즈의 적어도 1 개를 포함한다. 조명광 (EL) 으로는, 예를 들어, i 선 (파장 365 ㎚), g 선 (파장 436 ㎚) 혹은 h 선 (파장 405 ㎚), 또는, 이들 중 적어도 2 개의 합성 광이 사용된다. 또한, 조명 광학계 (11) 의 일 구체예는, 예를 들어, 미국 특허 제5,729,331호 명세서 등에 기재되어 있다. 조명 광학계 (11) 가 조사한 조명광 (EL) 은, 조명 광학계 (11) 보다 하방에 위치하는 마스크 (M) 및 투영 광학계 (13) 를 개재하여 Z 축 방향을 따라 -Z 측을 향하여 진행됨으로써, 마스크 (M) 및 투영 광학계 (13) 보다 하방에 위치하는 플레이트 (P) 에 조사된다. 따라서, 제 1 실시형태에서는, 조명광 (EL) 의 진행 방향은, 중력 방향 (요컨대, ＋Z 측으로부터 -Z 측을 향하는 방향) 이 된다.
조명 광학계 (11) 는, 지지 프레임 (111) 을 개재하여 플로어면 (G) 등에 지지된다. 지지 프레임 (111) 은, 공기 스프링 등의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 지지된다. 이 때문에, 조명 광학계 (11) 는, 플로어면 (G) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다. 또한, 지지 프레임 (111) 은, 공기 스프링 등의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 지지되어 있지 않아도 된다. 또한, 조명 광학계 (11) 는, 투영 광학계 (13) 를 지지하는 정반 (14) (나아가, 후술하는 마스크 스테이지 (12) 를 지지하는 지지 프레임 (125) 및 플레이트 스테이지 (16) 를 지지하는 지지 프레임 (160)) 과는 이간하여 배치된다. 이 때문에, 조명 광학계 (11) 는, 투영 광학계 (13), 마스크 (M) 및 플레이트 (P) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다.
마스크 스테이지 (12) 는, 마스크 (M) 를 유지 가능하다. 마스크 (M) 를 유지하기 위하여, 마스크 스테이지 (12) 는, 마스크 홀더 (121) 와, 고정부 (122) 와, 홀더 지지부 (123) 를 포함한다. 마스크 홀더 (121) 는, XY 평면을 따라 확대되는 판상의 부재이다. 마스크 홀더 (121) 의 하면 (요컨대, -Z 측의 면) 의 중앙부에는, 마스크 (M) 를 수용 가능한 오목부가 형성되어 있다. 마스크 홀더 (121) 는, 마스크 홀더 (121) 를 수용 가능한 개구가 형성된 판상의 부재인 홀더 지지부 (123) 에 의해 지지된다. 마스크 홀더 (121) 의 오목부에 수용된 마스크 (M) 는, 마스크 홀더 (121) 에 의해 흡착 유지된다. 마스크 (M) 를 흡착 유지하기 위하여, 마스크 홀더 (121) 의 오목부에는, 도시 생략의 기체 흡인공이 형성되어 있다. 또한, 마스크 홀더 (121) 의 오목부에 수용된 마스크 (M) 의 하면의 일부는, 홀더 지지부 (123) 의 하면으로부터 마스크 홀더 (121) 를 향하여 (요컨대, 마스크 홀더 (121) 가 수용된 개구를 향하여) 연장되도록 홀더 지지부 (123) 에 배치된 자유롭게 착탈할 수 있는 고정부 (122) 상에 위치한다. 따라서, 마스크 홀더 (121) 로부터의 마스크 (M) 의 낙하는, 마스크 홀더 (121) 에 의한 흡착 및 고정부 (122) 에 의해 방지된다.
마스크 홀더 (121) 는, 마스크 (M) 를 유지한 채로, 적어도 X 축 방향 (요컨대, 주사 방향) 을 따라 홀더 지지부 (123) 와 함께 이동 가능하다. 이 때문에, 마스크 홀더 (121) 의 이동에 수반하여, 마스크 홀더 (121) 가 유지하고 있는 마스크 (M) 도 또한, 적어도 X 축 방향을 따라 이동 가능하다. 마스크 홀더 (121) 를 이동시키기 위하여, 마스크 스테이지 (12) 는, 마스크 스테이지 구동계 (124) 를 포함한다. 마스크 스테이지 구동계 (124) 는, 예를 들어, 보이스 코일 모터를 포함하는 구동계이지만, 그 밖의 모터 (혹은, 구동원) 를 포함하는 구동계여도 된다. 마스크 스테이지 구동계 (124) 가 보이스 코일 모터를 포함하는 구동계인 경우에는, 마스크 스테이지 구동계 (124) 는, 정반 (14) 과는 이간하여 형성되는 지지 프레임 (125) 에 고정되고 또한 X 축 방향을 따라 연장되는 X 가이드부 (1241) 와, 홀더 지지부 (123) 에 고정되는 가동자 (예를 들어, 자석 및 코일의 일방) (1242) 와, X 가이드부 (1241) 에 고정되는 고정자 (예를 들어, 자석 및 코일의 타방) (1243) 을 포함한다. 또한, X 가이드부 (1241) 가 고정자 (1243) 에 고정되어 있도록 마스크 스테이지 구동계에 한정하지 않고, X 가이드부 (1241) 를 구비하고 있지 않은 한편으로 X 축 방향으로 연장되는 고정자 (1243) 를 구비하는 마스크 스테이지 구동계가 이용되어도 된다. 도 1 내지 도 2 에 나타내는 예에서는, 노광 장치 (1) 는, Y 축 방향을 따라 마스크 스테이지 (12) 를 사이에 두도록 배치되는 1 쌍의 마스크 스테이지 구동계 (124) 를 구비하고 있지만, 노광 장치 (1) 는, 임의의 수의 마스크 스테이지 구동계 (124) 를 임의의 위치에 구비하고 있어도 된다. 또한, 지지 프레임 (125) 은, 공기 스프링 등을 포함하는 도시 생략의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 의해 지지된다. 이 때문에, 마스크 스테이지 (12) 는, 플로어면 (G) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다. 단, 지지 프레임 (125) 은, 공기 스프링 등을 포함하는 도시 생략의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 의해 지지되어 있지 않아도 된다. 마스크 스테이지 구동계 (124) 의 일례인 리니어 모터 (혹은, 보이스 코일 모터 (VCM : Voice Coil Motor) 는, 고정자와 가동자가 서로 비접촉인 상태로 로렌츠 힘에 의해 연결되어 있기 때문에, 비록 방진 장치가 없어도 플로어면 (G) 으로부터의 진동이 마스크 스테이지 (12) 에 전해지지 않는다.
투영 광학계 (13) 는, 마스크 스테이지 (12) 의 하방에 있어서, 정반 (14) 에 의해 지지되어 있다. 투영 광학계 (13) 는, 예를 들어, 미국 특허 제6,552,775호 명세서 등에 기재된 멀티 렌즈 방식의 투영 광학계이다. 구체적으로는, 투영 광학계 (13) 는, 플레이트 (P) 상에 설정되는 복수의 소정 형상 (예를 들어, 사다리꼴) 의 투영 영역 (IA) 에 마스크 (M) 의 패턴 이미지의 일부를 각각 투영 가능한 복수의 광학계를 포함한다.
정반 (14) 은, 가대부 (141) 와, 복수의 레그부 (142) 를 포함한다. 가대부 (141) 는, 마스크 스테이지 (12) 와 플레이트 스테이지 (16) 사이의 공간에 있어서 XY 평면을 따라 확대되는 판상의 (혹은, 프레임상의) 부재이다. 가대부 (141) 의 XY 평면 상에 있어서의 형상은 사각형이지만, 그 밖의 형상 등이어도 된다. XY 평면 상에 있어서의 가대부 (141) 의 중앙부 (특히, 조명광 (EL) 이 통과하는 영역) 에는, Z 축 방향을 따라 가대부 (141) 를 관통하는 개구가 형성되어 있다. 개구에는, 투영 광학계 (13) 가 수용된다. 가대부 (141) 는, 개구에 투영 광학계 (13) 를 수용함으로써, 마스크 스테이지 (12) 의 하방 및 플레이트 스테이지 (16) 의 상방에 있어서 투영 광학계 (13) 를 지지한다. 요컨대, 투영 광학계 (13) 는, 가대부 (141) 에 고정되어 있다. 복수의 레그부 (142) 의 각각은, Z 축 방향을 따라 연장되는 기둥 형상 (다시 말하면, 봉상) 의 부재이다. 복수의 레그부 (142) 는, XY 평면 상에 있어서의 가대부 (141) 의 외측 가장자리 (예를 들어, 4 구석) 부근에 있어서, 가대부 (141) 를 하방으로부터 지지한다. 복수의 레그부 (142) 의 각각은, 공기 스프링 등을 포함하는 도시 생략의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 의해 지지된다. 이 때문에, 정반 (14) 은, 플로어면 (G) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다.
가대부 (141) 의 상면 (요컨대, ＋Z 측의 면, 다시 말하면, 마스크 스테이지 (12) 에 대향 가능한 면) 의 적어도 일부에는, 마스크 지지부 (151) 가 배치되어 있다 (다시 말하면, 고정되어 있다). 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 지지부 (151) 의 상면 (요컨대, ＋Z 측의 면, 다시 말하면, 마스크 스테이지 (12) 에 대향 가능한 면) 이 가대부 (141) 의 상면으로부터 노출되도록 배치된다. 마스크 지지부 (151) 의 상면이 가대부 (141) 의 상면으로부터 노출되는 한은, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 가대부 (141) 에 매립되어 있어도 된다.
마스크 지지부 (151) 는, Z 축 방향을 따라 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 스테이지 (12) 의 적어도 일부에 대향하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 요컨대, 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 스테이지 (12) 의 적어도 일부의 하방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 도 1 내지 도 3(a) 에 나타내는 예에서는, 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 홀더 지지부 (123) 의 적어도 일부에 대향하는 (요컨대, 홀더 지지부 (123) 의 적어도 일부의 하방에 위치하는) 것이 가능한 위치에 배치된다.
상기 서술한 바와 같이, 마스크 스테이지 (12) 는 X 축 방향을 따라 이동 가능하다. 이 경우, 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 스테이지 (12) 의 위치에 상관없이 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 스테이지 (12) 의 적어도 일부의 하방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 요컨대, 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 스테이지 (12) 가 어디에 위치하고 있는 경우에도, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 스테이지 (12) 의 적어도 일부의 하방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 이 경우, 예를 들어, 마스크 지지부 (151) 는, X 축 방향을 따라 연장되는 형상 (예를 들어, X 축 방향이 길이 방향이 되는 형상) 을 가지고 있어도 된다.
마스크 지지부 (151) 는, 조명광 (EL) 의 광로에는 형성되지 않는다. 마스크 지지부 (151) 는, 조명광 (EL) 의 광로와 겹치는 위치에는 형성되지 않는다. 마스크 지지부 (151) 는, 조명광 (EL) 이 투영 광학계 (13) 에 입사하도록 형성된다. 따라서, 조명광 (EL) 이 마스크 지지부 (151) 에 차폐되는 경우는 없다.
이상의 조건을 만족하는 마스크 지지부 (151) 의 배치 위치의 일례가, 도 3(a) 에 나타나 있다. 도 3(a) 에 나타내는 예에서는, 마스크 지지부 (151) 는, 각각이 마스크 지지부 (151) 의 일부를 구성하는 지지부 (1511) 와 지지부 (1512) 를 포함한다. 지지부 (1511) 는, 홀더 지지부 (123) 의 하면 중 -Y 측의 면 부분의 하방에 있어서 X 축 방향을 따라 연장된다. 지지부 (1512) 는, 홀더 지지부 (123) 의 하면 중 ＋Y 측의 면 부분의 하방에 있어서 X 축 방향을 따라 연장된다. 요컨대, 지지부 (1511 및 1512) 의 각각은, 평면에서 보아, X 축 방향이 길이 방향이 되는 사각형의 형상을 갖는다. 이와 같이, 가대부 (141) 상에는, 마스크 (M) 를 개재한 조명광 (EL) 의 광로 (혹은, 투영 광학계 (13) 의 광축) 를 Y 축 방향을 따라 사이에 두도록 2 개의 지지부로 분리된 마스크 지지부 (151) 가 배치되어 있다. 물론, 가대부 (141) 상에는, 단일의 지지부를 포함하는 마스크 지지부 (151) 또는 3 개 이상의 지지부로 분리된 마스크 지지부 (151) 가 배치되어 있어도 된다.
마스크 지지부 (151) 는, 정반 (14) 의 상방에 있어서, 마스크 스테이지 (12) 의 하방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지한다. 요컨대, 마스크 지지부 (151) 는, 정반 (14) 의 상방에 있어서 마스크 스테이지 (12) 가 마스크 지지부 (151) 에 대하여 부상하도록 마스크 스테이지 (12) 를 지지한다. 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지하기 위하여, 적어도 마스크 지지부 (151) 의 상면에는, 도시 생략의 복수의 제 1 기체 분출공 및 도시 생략의 복수의 제 1 기체 흡인공이 형성되어 있다. 이와 같은 복수의 제 1 기체 분출공 및 복수의 제 1 기체 흡인공이 형성된 마스크 지지부 (151) 로서, 예를 들어, 다공체가 이용 가능하다. 복수의 제 1 기체 분출공에는, 정반 (14) 내 (도 1 내지 도 2 에 나타내는 예에서는, 가대부 (141) 내) 에 형성되는 기체 공급관 (143) 을 통하여, 기체 (예를 들어, 공기) 가 공급된다. 기체 공급관 (143) 에는, 정반 (14) 의 외면에 형성된 기체 공급구 (144) 를 통하여, 노광 장치 (1) 의 외부의 기체 공급 장치 (S) 로부터, 온도 조정이 이루어진 기체가 공급된다. 그 결과, 복수의 제 1 기체 분출공으로부터는, 마스크 스테이지 (12) 의 하면을 향하여 (다시 말하면, 마스크 지지부 (151) 와 마스크 스테이지 (12) 사이의 공간을 향하여) 기체가 분출된다. 마스크 지지부 (151) 와 마스크 스테이지 (12) 사이의 공간의 기체의 적어도 일부는, 복수의 제 1 기체 흡인공을 통하여 흡인된다. 복수의 제 1 기체 흡인공을 통하여 흡인된 기체는, 정반 (14) 내 (도 1 내지 도 2 에 나타내는 예에서는, 가대부 (141) 내) 에 형성되는 기체 흡인관 (145) 및 정반 (14) 의 외면에 형성된 기체 흡인구 (146) 를 통하여, 노광 장치 (1) 의 외부의 기체 흡인 장치 (R) 에 의해 흡인된다. 마스크 지지부 (151) 는, 복수의 제 1 기체 분출공으로부터 마스크 (M) 의 하면에 분출되는 기체의 압력과, 복수의 제 1 기체 흡인공으로부터 기체를 흡인할 때에 발생하는 부압의 밸런스에 의해, 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지한다.
기체 공급 장치 (S) 는, 공급하는 기체의 유량 (혹은, 압력 등의 그 밖의 임의의 특성) 을 제어함으로써, 마스크 지지부 (151) 에 대한 마스크 스테이지 (12) 의 Z 축 방향을 따른 상대 위치를 제어 가능하다. 마스크 지지부 (151) 가 투영 광학계 (13) 를 지지하는 정반 (14) 에 고정되어 있고 또한 마스크 스테이지 (12) 가 마스크 (M) 를 유지하고 있기 때문에, 기체 공급 장치 (S) 는, 공급하는 기체의 유량을 제어함으로써, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 Z 축 방향을 따른 상대 위치를 제어 가능하다. 동일하게, 기체 흡인 장치 (R) 는, 흡인하는 기체의 유량 (혹은, 압력 등의 그 밖의 임의의 특성) 을 제어함으로써, 마스크 지지부 (151) 에 대한 마스크 스테이지 (12) 의 Z 축 방향을 따른 상대 위치를 제어 가능하다. 기체 흡인 장치 (R) 는, 흡인하는 기체의 유량을 제어함으로써, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 Z 축 방향을 따른 상대 위치를 제어 가능하다.
기체 공급 장치 (S) 및 기체 흡인 장치 (R) 의 적어도 일방은, 마스크 (M) 가 투영 광학계 (13) 의 물체면에 배치되도록, 기체의 유량을 제어해도 된다. 기체 공급 장치 (S) 및 기체 흡인 장치 (R) 의 적어도 일방은, 마스크 (M) 가 플레이트 (P) 와 광학적으로 공액의 위치에 배치되도록, 기체의 유량을 제어해도 된다.
가대부 (141) 의 하면 (요컨대, -Z 측의 면, 다시 말하면, 플레이트 (P) 에 대향 가능한 면) 의 적어도 일부에는, 플레이트 지지부 (152) 가 배치되어 있다 (다시 말하면, 고정되어 있다). 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 지지부 (152) 의 하면 (요컨대, -Z 측의 면, 다시 말하면, 플레이트 (P) 에 대향 가능한 면) 이 가대부 (141) 의 하면으로부터 노출되도록 배치된다. 플레이트 지지부 (152) 의 하면이 가대부 (141) 의 하면으로부터 노출되는 한은, 플레이트 지지부 (152) 의 적어도 일부가 가대부 (141) 에 매립되어 있어도 된다.
플레이트 지지부 (152) 는, Z 축 방향을 따라 플레이트 지지부 (152) 의 적어도 일부가 플레이트 (P) 의 적어도 일부에 대향하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 요컨대, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 지지부 (152) 의 적어도 일부가 플레이트 (P) 의 적어도 일부의 상방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 후술하는 바와 같이, 플레이트 (P) 는 X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각을 따라 (요컨대, XY 평면을 따라) 이동 가능하다. 이 경우, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 의 위치에 상관없이 플레이트 지지부 (152) 의 적어도 일부가 플레이트 (P) 의 적어도 일부의 상방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 요컨대, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 가 어디에 위치하고 있는 경우에도, 플레이트 지지부 (152) 의 적어도 일부가 플레이트 (P) 의 적어도 일부의 상방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 이 경우, 예를 들어, 플레이트 지지부 (152) 는, XY 평면을 따라 확대되는 형상을 가지고 있어도 된다.
플레이트 지지부 (152) 는, 조명광 (EL) 의 광로에는 형성되지 않는다. 플레이트 지지부 (152) 는, 조명광 (EL) 의 광로와 겹치는 위치에는 형성되지 않는다. 플레이트 지지부 (152) 는, 조명광 (EL) 이 플레이트 (P) 에 조사되도록 형성된다. 따라서, 조명광 (EL) 이 플레이트 지지부 (152) 에 차폐되는 경우는 없다.
이상의 조건을 만족하는 플레이트 지지부 (152) 의 배치 위치의 일례가, 도 3(b) 에 나타나 있다. 도 3(b) 에 나타내는 예에서는, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 의 이동 범위를 커버하도록 XY 평면을 따라 확대되는, 평면에서 보아 판상의 부재이다. 단, 플레이트 지지부 (152) 에는, 조명광 (EL) 이 플레이트 지지부 (152) 에 차폐되지 않도록, 조명광 (EL) 이 투영하는 사다리꼴의 투영 영역 (IA) 에 대응하는 사다리꼴의 개구 (1521) (요컨대, Z 축 방향을 따라 플레이트 지지부 (152) 를 관통하는 개구 (1521)) 가, 투영 영역 (IA) 의 수만큼 형성되어 있다.
플레이트 지지부 (152) 는, 정반 (14) 의 하방에 있어서, 플레이트 (P) 의 상방으로부터 플레이트 (P) 를 비접촉으로 지지한다. 플레이트 지지부 (152) 가 플레이트 (P) 의 상방으로부터 플레이트 (P) 를 지지하기 때문에, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 의 상면을 지지하고 있다. 플레이트 (P) 의 상면은, 조명광 (EL) 이 투영되는 플레이트 (P) 의 노광면 (요컨대, 투영 영역 (IA) 이 설정되는 면, 레지스트가 도포된 면) 이다. 이 때문에, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 의 노광면을 비접촉으로 지지하고 있다. 요컨대, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 의 노광면을 개재하여 플레이트 (P) 를 비접촉으로 지지하고 있다.
플레이트 (P) 를 비접촉으로 지지하기 위하여, 적어도 플레이트 지지부 (152) 의 하면에는, 도시 생략의 복수의 제 2 기체 분출공 및 도시 생략의 복수의 제 2 기체 흡인공이 형성되어 있다. 이와 같은 복수의 제 2 기체 분출공 및 복수의 제 2 기체 흡인공이 형성된 플레이트 지지부 (152) 로서, 예를 들어, 다공체가 이용 가능하다. 복수의 제 2 기체 분출공에는, 기체 공급관 (143) 및 기체 공급구 (144) 를 통하여, 기체 공급 장치 (S) 로부터 온도 조정이 이루어진 기체 (예를 들어, 공기) 가 공급된다. 요컨대, 제 1 실시형태에서는, 마스크 지지부 (151) 에 기체를 공급하기 위한 기체 공급관 (143), 기체 공급구 (144) 및 기체 공급 장치 (S) 를 사용하여, 플레이트 지지부 (152) 에 대해서도 기체가 공급된다. 그 결과, 복수의 제 2 기체 분출공으로부터는, 플레이트 (P) 의 상면을 향하여 (다시 말하면, 플레이트 지지부 (152) 와 플레이트 (P) 사이의 공간을 향하여) 기체가 분출된다. 플레이트 지지부 (152) 와 플레이트 (P) 사이의 공간의 기체의 적어도 일부는, 복수의 제 2 기체 흡인공을 통하여 흡인된다. 복수의 제 2 기체 흡인공을 통하여 흡인된 기체는, 기체 흡인관 (145) 및 기체 흡인구 (146) 를 통하여, 기체 흡인 장치 (R) 에 의해 흡인된다. 요컨대, 제 1 실시형태에서는, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 기체를 흡인하기 위한 기체 흡인관 (145), 기체 흡인구 (146) 및 기체 흡인 장치 (R) 를 사용하여, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 기체가 흡인된다. 플레이트 지지부 (152) 는, 복수의 제 2 기체 분출공으로부터 플레이트 (P) 의 상면에 분출되는 기체의 압력과, 복수의 제 2 기체 흡인공으로부터 기체를 흡인할 때에 발생하는 부압의 밸런스에 의해, 플레이트 (P) 를 비접촉으로 지지한다. 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 의 Z 축 방향에 평행한 방향의 위치에 대하여, 구속하는 것이 가능하다.
기체 공급 장치 (S) 는, 공급하는 기체의 유량 (혹은, 압력 등의 그 밖의 임의의 특성) 을 제어함으로써, 플레이트 지지부 (152) 에 대한 플레이트 (P) 의 Z 축 방향을 따른 상대 위치를 제어 가능하다. 플레이트 지지부 (152) 가 투영 광학계 (13) 를 지지하는 정반 (14) 에 고정되어 있기 때문에, 기체 공급 장치 (S) 는, 공급하는 기체의 유량을 제어함으로써, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치를 제어 가능하다. 동일하게, 기체 흡인 장치 (R) 는, 흡인하는 기체의 유량 (혹은, 압력 등의 그 밖의 임의의 특성) 을 제어함으로써, 플레이트 지지부 (152) 에 대한 플레이트 (P) 의 Z 축 방향을 따른 상대 위치를 제어 가능하다. 기체 흡인 장치 (R) 는, 흡인하는 기체의 유량을 제어함으로써, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치를 제어 가능하다.
기체 공급 장치 (S) 및 기체 흡인 장치 (R) 의 적어도 일방은, 플레이트 (P) 가 투영 광학계 (13) 의 이미지면에 배치되도록, 기체의 유량을 제어해도 된다. 기체 공급 장치 (S) 및 기체 흡인 장치 (R) 의 적어도 일방은, 플레이트 (P) 가 마스크 (M) 와 광학적으로 공액의 위치에 배치되도록, 기체의 유량을 제어해도 된다.
플레이트 스테이지 (16) 는, 플레이트 지지부 (152) 에 의해 비접촉 지지되고, Z 축 방향의 위치가 구속된 플레이트 (P) 를, 적어도 X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각을 따라 (요컨대, XY 평면을 따라) 이동시키는 것이 가능한 장치이다. 플레이트 (P) 를 이동시키기 위하여, 플레이트 스테이지 (16) 는, Y 조동 스테이지 (161Y) 및 X 조동 스테이지 (161X) 를 포함하는 조동 스테이지 (161) 와, 미동 스테이지 (164) 를 구비한다. Y 조동 스테이지 (161Y), X 조동 스테이지 (161X) 및 미동 스테이지 (164) 를 포함하는 플레이트 스테이지 (16) 는, 지지 프레임 (160) 에 의해 지지된다. 지지 프레임 (160) 은, 공기 스프링 등을 포함하는 도시 생략의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 의해 지지된다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (16) (나아가, 플레이트 스테이지 (16) 가 이동시키는 플레이트 (P)) 는, 플로어면 (G) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다. 나아가, 요컨대, 지지 프레임 (160) 은, 투영 광학계 (13) 를 지지하는 정반 (14) 및 마스크 스테이지 (12) 를 지지하는 지지 프레임 (125) 의 각각과는 이간하여 형성되어 있기 때문에, 플레이트 스테이지 (16) (나아가, 플레이트 스테이지 (16) 가 이동시키는 플레이트 (P)) 는, 정반 (14) (나아가, 정반 (14) 에 고정되어 있는 투영 광학계 (13)) 및 마스크 스테이지 (12) (나아가, 마스크 스테이지 (12) 가 유지하는 마스크 (M)) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다. 또한, 지지 프레임 (160) 은, 공기 스프링 등을 포함하는 도시 생략의 방진 장치를 개재하지 않고 플로어면 (G) 에 지지되도록 해도 된다. 조동 스테이지 (161) (요컨대, Y 조동 스테이지 (161Y) 와 X 조동 스테이지 (161X)) 는, 후술하는 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 및 Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 를 개재하여, 비접촉인 상태로 미동 스테이지 (164) 와 로렌츠 힘에 의해 연결되어 있다. 그 때문에, 조동 스테이지 (161) 의 진동은, 미동 스테이지 (164) 에 전해지지 않는다.
또한, 도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 지지 프레임 (160) 의 적어도 일부의 상방 (혹은, 외측) 에 정반 (14) (특히, 가대부 (141)) 의 적어도 일부가 위치하고, 정반 (14) 의 적어도 일부의 상방 (혹은, 외측) 에 지지 프레임 (125) 의 적어도 일부가 위치한다. 요컨대, 정반 (14) 의 적어도 일부 (특히, 가대부 (141) 의 적어도 일부) 는, Z 축 방향을 따라 지지 프레임 (125) 과 지지 프레임 (160) 사이에 위치한다.
Y 조동 스테이지 (161Y) 는, X 축 방향을 따라 연장되는 (예를 들어, X 축 방향이 길이 방향이 되는 형상을 갖는) 판상의 부재이다. Y 조동 스테이지 (161Y) 는, Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 를 개재하여, 지지 프레임 (160) 에 의해 지지된다. Y 조동 스테이지 (161Y) 는, Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 에 의해, 적어도 Y 축 방향을 따라 이동 가능하다. Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 는, 예를 들어, 리니어 모터를 포함하는 구동계이지만, 그 밖의 모터 (혹은, 구동원) 를 포함하는 구동계여도 된다. Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 가 리니어 모터를 포함하는 구동계인 경우에는, Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 는, 지지 프레임 (160) 의 상면에 고정되고 또한 Y 축 방향을 따라 연장되는 1 쌍의 Y 가이드부 (1621Y) 와, Y 조동 스테이지 (161Y) 의 하면에 고정되고 또한 1 쌍의 Y 가이드부 (1621Y) 를 각각 사이에 두도록 단면이 U 자 형상이 되는 1 쌍의 슬라이드 부재 (1622Y) 와, Y 조동 스테이지 (161Y) 의 하면에 고정되는 가동자 (예를 들어, 자석 및 코일의 일방) (1623Y) 와, 지지 프레임 (160) 의 상면에 고정되고 또한 가동자 (1623Y) 에 대향하는 고정자 (예를 들어, 자석 및 코일의 타방) (1624Y) 를 포함한다. 도 1 내지 도 2 에 나타내는 예에서는, 노광 장치 (1) 는, Y 조동 스테이지 (161Y) 의 ＋X 측의 단부 부근에 배치되는 Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 와, Y 조동 스테이지 (161Y) 의 -X 측의 단부 부근에 배치되는 Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 를 구비하고 있지만, 노광 장치 (1) 는, 임의의 수의 Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 를 임의의 위치에 구비하고 있어도 된다. 또한, 도 1 내지 도 2 에 나타내는 예에서는, X 축 방향을 따른 Y 조동 스테이지 (161Y) 의 중앙부 부근에, 주로 Y 조동 스테이지 (161Y) 의 변형 (전형적으로는, Z 축 방향의 변형) 을 억제하기 위하여, 1 쌍의 Y 가이드부 (1621Y) 및 1 쌍의 슬라이드 부재 (1622Y) 가 배치되어 있다.
X 조동 스테이지 (161X) 는, 판상의 부재와 당해 판상의 부재의 Y 축 방향을 따른 양단부로부터 ＋Z 측을 향하여 연장되는 1 쌍의 벽 부재를 포함하는 부재이다. X 조동 스테이지 (161X) 는, X 조동 스테이지 구동계 (162X) 를 개재하여, Y 조동 스테이지 (161Y) 에 의해 지지된다. X 조동 스테이지 (161X) 는, X 조동 스테이지 구동계 (162X) 에 의해, 적어도 X 축 방향을 따라 이동 가능하다. X 조동 스테이지 구동계 (162X) 는, 예를 들어, 리니어 모터를 포함하는 구동계이지만, 그 밖의 모터 (혹은, 구동원) 를 포함하는 구동계여도 된다. X 조동 스테이지 구동계 (162X) 가 리니어 모터를 포함하는 구동계인 경우에는, X 조동 스테이지 구동계 (162X) 는, Y 조동 스테이지 (161Y) 의 상면에 고정되고 또한 X 축 방향을 따라 연장되는 1 쌍의 X 가이드부 (1621X) 와, X 조동 스테이지 (161X) 의 하면에 고정되고 또한 1 쌍의 X 가이드부 (1621X) 를 각각 사이에 두도록 단면이 U 자 형상이 되는 1 쌍의 슬라이드 부재 (1622X) 와, X 조동 스테이지 (161X) 의 하면에 고정되는 가동자 (예를 들어, 자석 및 코일의 일방) (1623X) 와, Y 조동 스테이지 (161Y) 의 상면에 고정되고 또한 가동자 (1623X) 에 대향하는 고정자 (예를 들어, 자석 및 코일의 타방) (1624X) 를 포함한다. 도 1 내지 도 2 에 나타내는 예에서는, 노광 장치 (1) 는, 단일의 X 조동 스테이지 구동계 (162X) 를 구비하고 있지만, 노광 장치 (1) 는, 임의의 수의 X 조동 스테이지 구동계 (162X) 를 임의의 위치에 구비하고 있어도 된다.
미동 스테이지 (164) 는, 유지부 (1641) 와, 축부 (1642) 를 포함한다. 축부 (1642) 는, Z 축 방향을 따라 연장되는 기둥 형상의 (혹은, 벽상의) 부재이다. 축부 (1642) 는, 유지부 (1641) 의 하방으로부터 유지부 (1641) 를 지지한다. 유지부 (1641) 는, 평면에서 보아 판상의 부재이다. 유지부 (1641) 의 상면은, 플레이트 (P) 의 하면 (요컨대, 플레이트 지지부 (152) 에 의해 지지되어 있는 플레이트 (P) 의 노광면과는 반대측의 면, 이면) 에 접촉 가능하다. 유지부 (1641) 는, 플레이트 (P) 의 하면을 흡착 유지한다. 따라서, 유지부 (1641) 의 상면에는, 도시 생략의 기체 흡인공이 형성되어 있다. 이와 같은 기체 흡인공이 형성된 유지부 (1641) 로서, 예를 들어 다공체를 사용할 수 있다. 제 1 실시형태에서는, 유지부 (1641) 는, XY 평면 상에 있어서의 플레이트 (P) 의 중앙부를 포함하는 영역을 유지한다.
미동 스테이지 (164) 는, X 미동 스테이지 구동계 (165X) 에 의해, 플레이트 (P) 를 유지한 채로 적어도 X 축 방향을 따라 이동 가능하다. 미동 스테이지 (164) 는, 또한, Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 에 의해, 플레이트 (P) 를 유지한 채로 적어도 Y 축 방향을 따라 이동 가능하다. X 미동 스테이지 구동계 (165X) 및 Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 의 각각은, 예를 들어, 보이스 코일 모터를 포함하는 구동계이지만, 그 밖의 모터 (혹은, 구동원) 를 포함하는 구동계여도 된다. X 미동 스테이지 구동계 (165X) 가 보이스 코일 모터를 포함하는 구동계인 경우에는, X 미동 스테이지 구동계 (165X) 는, 축부 (1642) 에 고정되는 X 가이드부 (1651X) 와, X 조동 스테이지 (161X) 에 고정되는 고정자 (예를 들어, 자석 및 코일의 일방) (1652X) 와, X 가이드부 (1651X) 에 고정되는 가동자 (예를 들어, 자석 및 코일의 타방) (1653X) (단, 도 1 내지 도 2 에서는, 도면의 간략화를 위하여 도시 생략) 를 포함한다. Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 가 보이스 코일 모터를 포함하는 구동계인 경우에는, Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 는, 축부 (1642) 에 고정되는 Y 가이드부 (1651Y) 와, X 조동 스테이지 (161X) 에 고정되는 고정자 (예를 들어, 자석 및 코일의 일방) (1652Y) 와, Y 가이드부 (1651Y) 에 고정되는 가동자 (예를 들어, 자석 및 코일의 타방) (1653Y) (단, 도 1 내지 도 2 에서는, 도면의 간략화를 위하여 도시 생략) 를 포함한다. 도 1 내지 도 2 에 나타내는 예에서는, 노광 장치 (1) 는, 단일의 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 및 단일의 Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 를 구비하고 있지만, 임의의 수의 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 및 임의의 수의 Y 스테이지 구동계 (165Y) 를 임의의 위치에 구비하고 있어도 된다.
X 미동 스테이지 구동계 (165X) 및 Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 는, 미동 스테이지 (164) 를 지지하는 지지부로서도 기능한다. 요컨대, 미동 스테이지 (164) 는, X 미동 스테이지 구동계 (165X) 및 Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 를 개재하여, X 조동 스테이지 (161X) 에 의해 지지되어 있다.
X 조동 스테이지 (161X) 의 X 축 방향을 따른 이동에 수반하여, X 조동 스테이지 (161X) 에 의해 지지되어 있는 미동 스테이지 (164) 도 또한, X 축 방향을 따라 이동한다. Y 조동 스테이지 (161Y) 의 Y 축 방향을 따른 이동에 수반하여, Y 조동 스테이지 (161Y) 에 의해 지지되어 있는 미동 스테이지 (164) 도 또한, Y 축 방향을 따라 이동한다. 또한, X 미동 스테이지 구동계 (165X) 및 Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 에 의해, 미동 스테이지 (164) 는, X 축 방향 및 Y 축 방향을 따라 이동한다. 미동 스테이지 (164) 의 X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각의 이동에 수반하여, 미동 스테이지 (164) 의 유지부 (1641) 가 유지하고 있는 플레이트 (P) 도 또한, X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각을 따라 이동한다. 그 결과, 플레이트 (P) 는, X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각을 따라 이동 가능해진다.
상기 서술한 바와 같이, 플레이트 (P) 는, 플레이트 지지부 (152) 에 의해 비접촉으로 지지되어 있다. 따라서, 플레이트 (P) 를 유지하는 유지부 (1641) 의 이동에 수반하여 플레이트 (P) 가 이동했다고 해도, 플레이트 지지부 (152) 자체가 이동하는 경우는 없다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (16) 는, 플레이트 지지부 (152) 에 대하여 플레이트 (P) 를 상대적으로 이동시키고 있다고도 할 수 있다.
제 1 실시형태에서는, 유지부 (1641) 는, 플레이트 (P) 의 하방으로부터 플레이트 (P) 를 유지하고 있다. 요컨대, 유지부 (1641) 는, 플레이트 (P) 의 상방으로부터 플레이트 (P) 를 유지하고 있지 않다. 이 때문에, 조명광 (EL) 에 의한 플레이트 (P) 의 노광이 유지부 (1641) 에 의해 방해되는 경우는 없다. 이 때문에, 유지부 (1641) 는, X 조동 스테이지 (161X), Y 조동 스테이지 (161Y) 및 미동 스테이지 (164) 의 적어도 1 개의 이동에 수반하여, 조명광 (EL) 을 투영하는 투영 광학계 (13) 와 Z 축 방향을 따라 대향하는 위치를, 플레이트 (P) 를 유지한 채로 통과할 수 있다. 유지부 (1641) 는, X 조동 스테이지 (161X), Y 조동 스테이지 (161Y) 및 미동 스테이지 (164) 의 적어도 1 개의 이동에 수반하여, 투영 광학계 (13) 의 광축 (요컨대, 광학 중심) 을, 플레이트 (P) 를 유지한 채로 통과할 수 있다.
Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 에 의한 Y 조동 스테이지 (161Y) 의 단위 이동량 (이른바, 스트로크량) 은, Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 에 의한 미동 스테이지 (164) 의 Y 축 방향의 스트로크량보다 크다. 동일하게, X 조동 스테이지 구동계 (162X) 에 의한 X 조동 스테이지 (161X) 의 스트로크량은, X 미동 스테이지 구동계 (165X) 에 의한 미동 스테이지 (164) 의 X 축 방향의 스트로크량보다 크다. 따라서, Y 조동 스테이지 (161Y) 는, 플레이트 (P) 를 Y 축 방향을 따라 상대적으로 크게 이동시킴으로써, 플레이트 (P) 의 Y 축 방향의 위치를 상대적으로 대략적으로 제어한다. X 조동 스테이지 (161X) 는, 플레이트 (P) 를 X 축 방향을 따라 상대적으로 크게 이동시킴으로써, 플레이트 (P) 의 X 축 방향의 위치를 상대적으로 대략적으로 제어한다. 한편으로, 미동 스테이지 (164) 는, 플레이트 (P) 를 X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각을 따라 상대적으로 세세하게 이동시킴으로써, 플레이트 (P) 의 X 축 방향 및 Y 축 방향의 각각의 위치를 상대적으로 세세하게 제어한다.
이상 설명한 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 에 의하면, 투영 광학계 (13) 를 지지하는 정반 (14) 에, 플레이트 (P) 를 지지하는 플레이트 지지부 (152) 가 배치되어 있다. 또한, 정반 (14) 에 대하여 중간 부재를 개재하여 연결된 (요컨대, 정반 (14) 으로부터 멀어진 위치에 있는) 지지 프레임에 의해, 플레이트 지지부 (152) 가 지지되도록 해도 된다. 정반 (14) 에 지지된 투영 광학계 (13) 에 쌓인 열이 플레이트 지지부 (152) 에 전해지지 않는다는 효과가 얻어진다.
제 1 실시형태에서는, 투영 광학계 (13) 를 지지하는 정반 (14) 에, 마스크 (M) 를 지지하는 마스크 지지부 (151) 가 배치되어 있다. 또한, 정반 (14) 에 대하여 중간 부재를 개재하여 연결된 (요컨대, 정반 (14) 으로부터 멀어진 위치에 있는) 지지 프레임에 의해, 마스크 지지부 (151) 가 지지되도록 해도 된다. 정반 (14) 에 지지된 투영 광학계 (13) 에 쌓인 열이 마스크 지지부 (151) 에 전해지지 않는다는 효과가 얻어진다.
제 1 실시형태에서는, 플레이트 지지부 (152) 및 마스크 지지부 (151) 의 쌍방이 동일한 부재, 예를 들어 정반 (14) 에 배치되어 있다. 또한, 중간 부재를 개재하여 서로 연결된 상이한 부재에 플레이트 지지부 (152) 및 마스크 지지부 (151) 가 각각 배치되도록 해도 된다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 플레이트 지지부 (152) 에 의해 플레이트 (P) 가 비접촉으로 지지된다. 따라서, 플레이트 스테이지 (16) 는, 플레이트 지지부 (152) 에 접촉 지지되어 있지 않은 실질적으로 부상하고 있는 플레이트 (P) 를 이동할 수 있다. 나아가, 플레이트 스테이지 (16) 는, 상대적으로 무거운 플레이트 홀더에 의해 플레이트 (P) 가 유지되어 있지 않은 상태에서, 플레이트 (P) 를 이동할 수 있다. 요컨대, 플레이트 스테이지 (16) 는, 플레이트 스테이지 (16) 에 있어서는 상대적으로 가벼운 이동 대상물이 되어 있는 플레이트 (P) 를 이동할 수 있다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (16) 는, 상대적으로 작은 힘을 플레이트 (P) 에 가하는 것만으로, 플레이트 (P) 를 이동할 수 있다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (16) 의 구조의 간략화로 연결된다. 나아가, 플레이트 (P) 의 이동에 수반하여 플레이트 스테이지 (16) 등에 발생할 수 있는 반력이나 진동도 또한 상대적으로 작아진다. 혹은, 플레이트 (P) 의 이동에 수반하여 플레이트 스테이지 (16) 등에 발생할 수 있는 반력이나 진동 자체가 잘 발생하지 않게 된다. 이와 같은 반력이나 진동이 플레이트 (P) 의 위치 결정의 정밀도의 악화에 연결될 수 있는 것을 고려하면, 플레이트 (P) 를 비접촉으로 지지하는 것은, 플레이트 (P) 의 위치 결정의 정밀도의 악화의 억제로 연결될 수 있다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 마스크 지지부 (151) 에 의해 마스크 (M) 가 비접촉으로 지지된다. 따라서, 마스크 스테이지 (12) 는, 실질적으로 부상하고 있는 마스크 (M) 를 이동할 수 있다. 이 때문에, 마스크 스테이지 (12) 는, 상대적으로 작은 힘을 마스크 (M) 에 가하는 것만으로, 마스크 (M) 를 이동할 수 있다. 이 때문에, 마스크 스테이지 (12) 의 구조의 간략화에 연결된다. 나아가, 마스크 (M) 의 이동에 수반하여 마스크 스테이지 (12) 등에 발생할 수 있는 반력이나 진동도 또한 상대적으로 작아진다. 혹은, 마스크 (M) 의 이동에 수반하여 마스크 스테이지 (12) 등에 발생할 수 있는 반력이나 진동 자체가 잘 발생하지 않게 된다. 이와 같은 반력이나 진동이 마스크 (M) 의 위치 결정의 정밀도의 악화로 연결될 수 있는 것을 고려하면, 마스크 (M) 를 비접촉으로 지지하는 것은, 마스크 (M) 의 위치 결정의 정밀도의 악화의 억제로 연결될 수 있다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 의 상면 (요컨대, 노광면, 표면) 을 비접촉으로 지지한다. 이 때문에, 플레이트 (P) 의 노광면과 플레이트 지지부 (152) 사이의 간격이 상대적으로 작아진다. 이 때문에, 노광에 악영향을 줄 가능성이 있는 먼지 (혹은, 임의의 더스트) 가 플레이트 (P) 의 노광면과 플레이트 지지부 (152) 사이에 진입하기 어려워진다. 이 때문에, 플레이트 (P) 의 노광면과 투영 광학계 (13) 사이 (특히, 조명광 (EL) 의 광로) 에도 또한 먼지가 진입하기 어려워진다. 따라서, 먼지에서 기인한 노광 정밀도의 악화 또는 불량 노광의 발생이 적절히 억제된다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 (P) 를 지지하기 위하여, 플레이트 (P) 의 노광면에 대하여 기체를 분출한다. 이 때문에, 플레이트 (P) 의 노광면과 플레이트 지지부 (152) 사이로의 먼지의 진입이, 플레이트 지지부 (152) 로부터 분출되는 기체에 의해 적절히 억제된다. 나아가, 플레이트 (P) 의 노광면과 플레이트 지지부 (152) 사이에 침입하게 된 먼지가, 플레이트 지지부 (152) 로부터 분출되는 기체에 의해, 플레이트 (P) 의 노광면과 플레이트 지지부 (152) 사이의 공간의 외측으로 배출된다. 따라서, 먼지에서 기인한 노광 정밀도의 악화 또는 불량 노광의 발생이 적절히 억제된다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 기체 공급관 (143) 이, 플레이트 지지부 (152) 에 기체를 공급하기 위한 기체 공급관으로서도 이용되고, 또한, 마스크 지지부 (151) 에 기체를 공급하기 위한 기체 공급관으로서도 사용된다. 이 때문에, 기체 공급관 (143) 의 구조를 간략화할 수 있다. 동일하게, 기체 흡인관 (145) 은, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 기체를 흡인하기 위한 기체 흡인관으로서도 이용되고, 또한, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 기체를 흡인하기 위한 기체 흡인관으로서도 사용된다. 이 때문에, 기체 흡인관 (145) 의 구조를 간략화할 수 있다. 그 결과, 기체 공급관 (143) 및 기체 흡인관 (145) 이 형성되는 정반 (14) 의 구조도 간략화할 수 있다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 플레이트 지지부 (152) 로부터 공급되는 기체의 유량 및 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량의 적어도 일방의 제어에 의해, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치가 제어 가능하다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (16) 는, 플레이트 (P) 의 Z 축 방향을 따른 위치를 조정하기 위한 구동계 (예를 들어, 플레이트 (P) 를 유지하는 유지부 (1641) 를 Z 축 방향을 따라 이동시키는 구동계) 를 구비하고 있지 않아도 된다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (16) 의 간략화가 가능해진다. 단, 플레이트 스테이지 (16) 는, 플레이트 (P) 의 Z 축 방향을 따른 위치를 조정하기 위한 구동계를 구비하고 있어도 된다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 마스크 지지부 (151) 로부터 공급되는 기체의 유량 및 마스크 지지부 (151) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량의 적어도 일방의 제어에 의해, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치가 제어 가능하다. 이 때문에, 마스크 스테이지 (12) 는, 마스크 (M) 의 Z 축 방향을 따른 위치를 조정하기 위한 구동계 (예를 들어, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 홀더 (121) 를 Z 축 방향을 따라 이동시키는 구동계) 를 구비하고 있지 않아도 된다. 이 때문에, 마스크 스테이지 (12) 의 간략화가 가능해진다. 단, 마스크 스테이지 (12) 는, 마스크 (M) 의 Z 축 방향을 따른 위치를 조정하기 위한 구동계를 구비하고 있어도 된다.
또한, 제 1 실시형태에서는, 플레이트 스테이지 (16) 의 유지부 (1641) 는, 플레이트 (P) 의 중앙부를 포함하는 영역을 유지한다. 이 때문에, 유지부 (1641) 가 플레이트 (P) 의 중앙부를 포함하는 영역 이외의 영역을 유지하는 경우와 비교하여, 플레이트 (P) 의 휨 (혹은, 주름이나, 요철 등의 변형) 의 발생이 억제 가능하다.
또한, 상기 서술한 설명에서는, 가대부 (141) 와 플레이트 지지부 (152) 가 물리적으로 분리 가능하다. 그러나, 가대부 (141) 와 플레이트 지지부 (152) 가 일체화되어 있어도 된다. 다시 말하면, 가대부 (141) 의 일부가 플레이트 지지부 (152) 로서 기능해도 된다. 예를 들어, 가대부 (141) 의 하면에, 기체 공급관 (143) 에 연결된 기체 분출공 및 기체 흡인관 (145) 에 연결된 기체 흡인공이 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 가대부 (141) 의 일부 (구체적으로는, 기체 분출공 및 기체 흡인공이 형성된 부분) 가 플레이트 지지부 (152) 로서 기능한다. 혹은, 가대부 (141) 의 하면의 제 1 영역에 플레이트 지지부 (152) 가 배치됨과 함께, 가대부 (141) 의 하면의 제 2 영역을 포함하는 부분이 플레이트 지지부 (152) 로서 기능해도 된다. 가대부 (141) 의 하면의 제 3 영역에, 기체 분출공이 형성되어 있는 한편으로 기체 흡인공이 형성되어 있지 않은 플레이트 지지부 (152) 가 배치됨과 함께, 가대부 (141) 의 하면의 제 4 영역에, 기체 흡인공이 형성되어 있어도 된다. 가대부 (141) 의 하면의 제 5 영역에, 기체 흡인공이 형성되어 있는 한편으로 기체 분출공이 형성되어 있지 않은 플레이트 지지부 (152) 가 배치됨과 함께, 가대부 (141) 의 하면의 제 6 영역에, 기체 분출공이 형성되어 있어도 된다.
상기 서술한 설명에서는, 가대부 (141) 와 마스크 지지부 (151) 가 물리적으로 분리 가능하다. 그러나, 가대부 (141) 와 마스크 지지부 (151) 가 일체화되어 있어도 된다. 다시 말하면, 가대부 (141) 의 일부가 마스크 지지부 (151) 로서 기능해도 된다. 예를 들어, 가대부 (141) 의 상면에, 기체 공급관 (143) 에 연결된 기체 분출공 및 기체 흡인관 (145) 에 연결된 기체 흡인공이 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 가대부 (141) 의 일부 (구체적으로는, 기체 분출공 및 기체 흡인공이 형성된 부분) 가 마스크 지지부 (151) 로서 기능한다. 혹은, 가대부 (141) 의 상면의 제 7 영역에 마스크 지지부 (151) 가 배치됨과 함께, 가대부 (141) 의 상면의 제 8 영역을 포함하는 부분이 마스크 지지부 (151) 로서 기능해도 된다. 가대부 (141) 의 상면의 제 9 영역에, 기체 분출공이 형성되어 있는 한편으로 기체 흡인공이 형성되어 있지 않은 마스크 지지부 (151) 가 배치됨과 함께, 가대부 (141) 의 하면의 제 10 영역에, 기체 흡인공이 형성되어 있어도 된다. 가대부 (141) 의 하면의 제 11 영역에, 기체 흡인공이 형성되어 있는 한편으로 기체 분출공이 형성되어 있지 않은 마스크 지지부 (151) 가 배치됨과 함께, 가대부 (141) 의 하면의 제 12 영역에, 기체 분출공이 형성되어 있어도 된다.
마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가, Z 축 방향을 따라 마스크 (M) 의 적어도 일부에 대향하고 있어도 된다 (다시 말하면, 마스크 (M) 의 적어도 일부의 하방에 위치하고 있어도 된다). 예를 들어, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가, 마스크 패턴이 형성되어 있지 않은 마스크 (M) 의 외주부에 대향하고 있어도 된다. 후술하는 제 8 실시형태의 노광 장치 (8) 는, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 Z 축 방향을 따라 마스크 (M) 의 적어도 일부에 대향하고 있는 노광 장치의 일례이다. 또한, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 (M) 의 적어도 일부에 대향하는 경우에는, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 다른 일부는, 마스크 스테이지 (12) 에 대향하고 있어도 되고, 대향하고 있지 않아도 된다.
상기 서술한 설명에서는, 플레이트 지지부 (152) 에는, 조명광 (EL) 이 플레이트 지지부 (152) 에 차폐되지 않도록, 투영 영역 (IA) 에 대응하는 개구 (1521) 가 형성되어 있다. 그러나, 도 4 의 변형예의 노광 장치 (1-1) 에 나타내는 바와 같이, 이 개구 (1521) 가, 투명 부재 (153) 에 의해 매립되어 있어도 된다. 투명 부재 (153) 는, 조명광 (EL) 이 통과 가능한 부재이다. 따라서, 개구 (1521) 가 투명 부재 (153) 에 의해 매립되어 있어도, 조명광 (EL) 이 투명 부재 (153) 에 의해 차폐되는 경우는 없다. 또한, 개구 (1521) 가 투명 부재 (131) 에 의해 매립되기 때문에, 플레이트 지지부 (152) 로부터 플레이트 (P) 의 상면으로 분출되는 기체의 압력이나, 플레이트 지지부 (152) 로부터 기체를 흡인할 때에 발생하는 부압이, 투명 부재 (153) 와 플레이트 (P) 의 상면 사이에도 작용한다. 그 결과, 개구 (1521) 의 바로 아래 (요컨대, 투명 부재 (153) 의 바로 아래) 에 있어서도, 플레이트 (P) 를 지지하는 힘이 플레이트 (P) 에 작용한다. 이 때문에, 플레이트 (P) 를 보다 적절히 지지 가능해진다. 혹은, 개구 (1521) 가 투명 부재 (153) 에 의해 매립되는 대신에, 플레이트 지지부 (152) 자체가, 조명광 (EL) 을 통과 가능한 재료 (요컨대, 투명 재료) 로 형성되어 있어도 된다. 투영 영역 (IA) 에 대응하는 플레이트 지지부 (152) 의 일부가, 투명 재료로 형성되어 있어도 된다. 이 경우에도, 투영 영역 (IA) 의 바로 위에 있어서도 플레이트 (P) 를 지지하는 힘이 플레이트 (P) 에 작용하기 때문에, 플레이트 (P) 를 보다 적절히 지지 가능해진다.
기체 공급관 (143) 및 기체 흡인관 (145) 의 적어도 일방은, 가대부 (141) 내에 형성되어 있지 않아도 된다. 기체 공급관 (143) 및 기체 흡인관 (145) 의 적어도 일방은, 가대부 (141) (혹은, 레그부 (142)) 의 외면 또는 외부에 배치되어 있어도 된다. 기체 공급관 (143) 및 기체 흡인관 (145) 의 적어도 일방은, 정반 (14) 과는 관계없이 배치되어 있어도 된다.
상기 서술한 설명에서는, 기체 공급관 (143) 은, 마스크 지지부 (151) 및 플레이트 지지부 (152) 의 쌍방에 기체를 공급한다. 이 때문에, 기체 공급 장치 (S) 가, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치를 제어하기 위하여 기체의 유량을 제어하면, 플레이트 지지부 (152) 로부터 분출되는 기체의 유량뿐만 아니라, 마스크 지지부 (151) 로부터 분출되는 기체의 유량도 또한 변화할 가능성이 있다. 그 결과, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치가 제어될 뿐만 아니라, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치가 의도하지 않게 변화하게 될 가능성이 있다. 동일하게, 기체 공급 장치 (S) 가, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치를 제어하기 위하여 기체의 유량을 제어하면, 마스크 지지부 (151) 로부터 분출되는 기체의 유량뿐만 아니라, 플레이트 지지부 (152) 로부터 분출되는 기체의 유량도 또한 변화할 가능성이 있다. 그 결과, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치가 제어될 뿐만 아니라, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치가 의도하지 않게 변화하게 될 가능성이 있다. 이 때문에, 기체 공급관 (143) 은, 기체 공급구 (144) 에 연결된 제 1 기체 공급관과, 제 1 기체 공급관으로부터 마스크 지지부 (151) 에 연결되는 제 2 기체 공급관과, 제 1 기체 공급관으로부터 제 2 기체 공급관에 공급되는 기체의 유량을 조정 가능한 제 1 조정 장치 (예를 들어, 밸브) 와, 제 1 기체 공급관으로부터 플레이트 지지부 (152) 에 연결되는 제 3 기체 공급관과, 제 1 기체 공급관으로부터 제 3 기체 공급관에 공급되는 기체의 유량을 조정 가능한 제 2 조정 장치 (예를 들어, 밸브) 를 구비하고 있어도 된다. 이 경우, 마스크 지지부 (151) 로부터 분출되는 기체의 유량 및 플레이트 지지부 (152) 로부터 분출되는 기체의 유량이 별개로 제어 가능하기 때문에, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치 및 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치를 별개로 제어 가능하다.
혹은, 마스크 지지부 (151) 에 기체를 공급하는 기체 공급관과, 플레이트 지지부 (152) 에 기체를 공급하는 기체 공급관이 별개로 형성되어 있어도 된다. 이 경우에도, 마스크 지지부 (151) 로부터 분출되는 기체의 유량 및 플레이트 지지부 (152) 로부터 분출되는 기체의 유량이 별개로 제어 가능하기 때문에, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치 및 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치를 별개로 제어 가능하다. 또한, 이 경우에는, 마스크 지지부 (151) 에 기체를 공급하는 기체 공급구와, 플레이트 지지부 (152) 에 기체를 공급하는 기체 공급구가 별개로 형성되어 있어도 된다. 마스크 지지부 (151) 에 기체를 공급하는 기체 공급 장치와, 플레이트 지지부 (152) 에 기체를 공급하는 기체 공급 장치가 별개로 준비되어 있어도 된다.
상기 서술한 설명에서는, 기체 흡인관 (145) 은, 마스크 지지부 (151) 및 플레이트 지지부 (152) 의 쌍방을 통하여 기체를 흡인한다. 이 때문에, 기체 흡인 장치 (R) 가, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치를 제어하기 위하여 기체의 유량을 제어하면, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량뿐만 아니라, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량도 또한 의도하지 않게 변화할 가능성이 있다. 동일하게, 기체 흡인 장치 (R) 가, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치를 제어하기 위하여 기체의 유량을 제어하면, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량뿐만 아니라, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량도 또한 의도하지 않게 변화할 가능성이 있다. 이 때문에, 기체 흡인관 (145) 은, 기체 흡인구 (146) 에 연결된 제 1 기체 흡인관과, 제 1 기체 흡인관으로부터 마스크 지지부 (151) 에 연결되는 제 2 기체 흡인관과, 제 2 기체 흡인관으로부터 제 1 기체 흡인관에 흡인되는 기체의 유량을 조정 가능한 제 3 조정 장치 (예를 들어, 밸브) 와, 제 1 기체 흡인관으로부터 플레이트 지지부 (152) 에 연결되는 제 3 기체 흡인관과, 제 3 기체 공급관으로부터 제 1 기체 공급관에 흡인되는 기체의 유량을 조정 가능한 제 4 조정 장치 (예를 들어, 밸브) 를 구비하고 있어도 된다. 이 경우, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량 및 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 흡인되는 기체의 유량이 별개로 제어 가능하기 때문에, 투영 광학계 (13) 에 대한 마스크 (M) 의 상대 위치 및 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치를 별개로 제어 가능하다. 혹은, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 기체를 흡인하는 기체 흡인관과, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 기체를 흡인하는 기체 흡인관이 별개로 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 기체를 흡인하는 기체 흡인구와, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 기체를 흡인하는 기체 흡인구가 별개로 형성되어 있어도 된다. 마스크 지지부 (151) 를 통하여 기체를 흡인하는 기체 흡인 장치와, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 기체를 흡인하는 기체 흡인 장치가 별개로 준비되어 있어도 된다.
플레이트 스테이지 (16) 의 유지부 (1641) 는, 플레이트 (P) 의 중앙부를 포함하는 영역 이외의 영역을 유지해도 된다. 예를 들어, 유지부 (1641) 는, 플레이트 (P) 의 외측 가장자리 부근의 영역을 유지해도 된다. 이 경우에도, 플레이트 스테이지 (16) 가 플레이트 (P) 를 이동시킬 수 있다.
노광 장치 (1) 는, 마스크 (M) 를 비접촉으로 지지하는 마스크 지지부 (151) 에 더하여 또는 대신에, 마스크 지지부 (151) 로부터 기체를 공급하거나 흡인하지 않고, 마스크 스테이지 (12) 측으로부터 마스크 지지부 (151) (혹은, 정반 (14) 의 상면) 측을 향하여 기체를 공급하거나, 흡인하여, 마스크 스테이지 (12) 를 마스크 지지부 (151) (혹은, 정반 (14) 의 상면) 에 대하여 비접촉으로 지지하도록 해도 된다. 노광 장치 (1) 는, 마스크 지지부 (151) 에 더하여 또는 대신에, 마스크 (M) 또는 마스크 스테이지 (12) 에 접촉하여 마스크 (M) 를 지지하는 지지부 (예를 들어, 마스크 (M) 또는 마스크 스테이지 (12) 를 흡착하여 지지하는 지지부) 를 구비하고 있어도 된다.
(2) 제 2 실시형태의 노광 장치 (2)
계속해서, 도 5 를 참조하면서, 제 2 실시형태의 노광 장치 (2) 에 대하여 설명한다. 도 5 는, 제 2 실시형태의 노광 장치 (2) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다.
또한, 상기 서술한 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 구비하는 구성 요소와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 참조 부호를 부여하고 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 도 5 에서는, 도면을 보기 쉽게 하기 위하여, 상기 서술한 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 구비하는 구성 요소와 동일한 구성 요소의 일부의 기재를 생략하고 있다. 그러나, 특별한 설명이 없는 경우에는, 노광 장치 (2) 는, 노광 장치 (1) 가 구비하는 구성 요소와 동일한 구성 요소를 구비하고 있다. 이하에 설명하는 제 3 실시형태 이후에 있어서도 동일하다.
도 5 에 나타내는 바와 같이, 제 2 실시형태의 노광 장치 (2) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 정반 (14) 과는 이간된 정반 (24) 을 추가로 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 또한, 제 2 실시형태의 노광 장치 (2) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 마스크 지지부 (151) 가 정반 (14) 대신에 정반 (24) 에 배치되어 있다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (2) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (1) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
정반 (24) 은, 가대부 (241) 와, 복수의 레그부 (242) 를 포함한다. 가대부 (241) 는, 마스크 스테이지 (12) 와 가대부 (141) 사이의 공간에 있어서 XY 평면을 따라 확대되는 판상의 (혹은, 프레임상의) 부재이다. 가대부 (241) 는, 가대부 (141) 의 상방 (혹은, 외측) 에 위치한다. 따라서, 제 2 실시형태에서는, 가대부 (141) 의 적어도 일부와 마스크 스테이지 (12) 의 적어도 일부 사이에, 가대부 (241) 의 적어도 일부가 위치한다. 가대부 (241) 의 XY 평면 상에 있어서의 형상은 사각형이지만, 그 밖의 형상 등이어도 된다. XY 평면 상에 있어서의 가대부 (241) 의 중앙부 (특히, 조명광 (EL) 이 통과하는 영역) 에는, Z 축 방향을 따라 가대부 (241) 를 관통하는 개구가 형성되어 있다. 마스크 (M) 를 개재한 조명광 (EL) 은, 가대부 (241) 에 형성된 개구를 통과하여 투영 광학계 (13) 에 입사한다. 가대부 (241) 에 형성된 개구는, 투명 부재에 의해 매립되어 있어도 된다. 마스크 (M) 를 개재한 조명광 (EL) 은, 투명 부재를 개재하고 있기 때문에 차광되는 경우는 없고, 투영 광학계 (13) 에 입사한다. 복수의 레그부 (242) 의 각각은, Z 축 방향을 따라 연장되는 기둥 형상의 부재이다. 복수의 레그부 (242) 는, 복수의 레그부 (142) 의 외측에 위치하지만, 외측에 위치하고 있지 않아도 된다. 복수의 레그부 (242) 는, XY 평면 상에 있어서의 가대부 (241) 의 외측 가장자리 (예를 들어, 4 구석) 부근에 있어서, 가대부 (241) 를 하방으로부터 지지한다. 복수의 레그부 (242) 의 각각은, 공기 스프링 등을 포함하는 도시 생략의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 의해 지지된다. 이 때문에, 정반 (24) 은, 플로어면 (G) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다.
가대부 (241) 의 상면 (요컨대, ＋Z 측의 면, 다시 말하면, 마스크 스테이지 (12) 에 대향 가능한 면) 의 적어도 일부에는, 마스크 지지부 (151) 가 배치되어 있다 (다시 말하면, 고정되어 있다). 마스크 지지부 (151) 가 가대부 (241) 의 상면에 배치되는 점을 제외하고, 제 2 실시형태에 있어서의 마스크 지지부 (151) 의 구조 등은, 제 1 실시형태에 있어서의 마스크 지지부 (151) 의 구조 등과 동일하다.
마스크 지지부 (151) 는, 정반 (24) 의 상방에 있어서, 마스크 스테이지 (12) 의 하방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지한다. 마스크 지지부 (151) 에 형성된 복수의 제 1 기체 분출공에는, 기체 공급관 (143) 대신에, 정반 (24) 내 (도 5 에 나타내는 예에서는, 가대부 (241) 내) 에 형성되는 기체 공급관 (243) 을 통하여, 기체가 공급된다. 기체 공급관 (243) 에는, 정반 (24) 의 외면에 형성된 기체 공급구 (244) 를 통하여, 기체 공급 장치 (S) (단, 도 5 에서는 도시 생략) 로부터 기체가 공급된다. 따라서, 제 1 실시형태에서는, 정반 (14) 에 형성된 기체 공급관 (143) 및 기체 공급구 (144) 는, 플레이트 지지부 (152) 에 기체를 공급하기 위하여 사용되는 한편으로, 마스크 지지부 (151) 에 기체를 공급하기 위하여 이용되지 않아도 된다. 마스크 지지부 (151) 에 형성된 복수의 제 1 기체 흡인공을 통하여 흡인된 기체는, 기체 흡인관 (145) 대신에, 정반 (24) 내 (도 5 에 나타내는 예에서는, 가대부 (241) 내) 에 형성되는 기체 흡인관 (245) 및 정반 (24) 의 외면에 형성된 기체 흡인구 (246) 를 통하여, 기체 흡인 장치 (R) (단, 도 5 에서는 도시 생략) 에 의해 흡인된다. 따라서, 제 1 실시형태에서는, 정반 (14) 에 형성된 기체 흡인관 (145) 및 기체 흡인구 (146) 는, 플레이트 지지부 (152) 를 통하여 기체를 흡인하기 위하여 사용되는 한편으로, 마스크 지지부 (151) 를 통하여 기체를 흡인하기 위하여 이용되지 않아도 된다.
이와 같은 제 2 실시형태의 노광 장치 (2) 에 의하면, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 동일하게, 투영 광학계 (13) 를 지지하는 정반 (14) 에, 플레이트 (P) 를 지지하는 플레이트 지지부 (152) 가 배치되어 있다. 이 때문에, 제 1 실시형태와 동일하게, 플레이트 (P) 의 위치 결정 (특히, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대적인 위치 결정) 의 정밀도의 악화가 적절히 억제된다. 또한, 제 2 실시형태의 노광 장치 (2) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 향수 가능한 효과 (단, 정반 (14) 에 마스크 지지부 (151) 가 배치됨으로써 향수 가능한 효과를 제외한다) 와 동일한 효과를 향수할 수 있다.
또한, 상기 서술한 설명에서는, 마스크 스테이지 (12) 가 가대부 (241) 의 상방에 배치되고, 또한, 마스크 지지부 (151) 가 가대부 (241) 의 상면에 배치되어 있다. 그러나, 도 6 의 변형예의 노광 장치 (2-1) 에 나타내는 바와 같이, 마스크 스테이지 (12) 가 가대부 (241) 의 하방이고 또한 가대부 (141) 의 상방에 배치되어 있어도 된다. 이 경우, 마스크 지지부 (151) 는, 가대부 (241) 의 하면에 배치되어 있어도 된다. 또한, 마스크 지지부 (151) 는, 정반 (24) 의 하방에 있어서, 마스크 스테이지 (12) 의 상방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지해도 된다. 이 경우에는, 마스크 홀더 (121) 로부터 마스크 (M) 가 낙하할 가능성이 상대적으로 작아지기 때문에, 마스크 스테이지 (12) 는, 고정구 (122) 를 포함하고 있지 않아도 된다.
(3) 제 3 실시형태의 노광 장치 (3)
계속해서, 도 7 을 참조하면서, 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 에 대하여 설명한다. 도 7 은, 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다.
도 7 에 나타내는 바와 같이, 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 정반 (14) 과는 이간된 정반 (34) 을 추가로 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 또한, 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 마스크 지지부 (151) 및 스테이지 지지부 (152) 의 각각이 정반 (14) 대신에 정반 (34) 에 배치되어 있다는 점에서 상이하다. 또한, 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 정반 (14) 에 기체 공급관 (143), 기체 공급구 (144), 기체 흡인관 (145) 및 기체 흡인구 (146) 가 형성되어 있지 않아도 된다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (3) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (1) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
정반 (34) 은, 가대부 (341) 와, 복수의 레그부 (342) 를 포함한다. 가대부 (341) 는, 마스크 스테이지 (12) 와 플레이트 스테이지 (16) 사이의 공간에 있어서 XY 평면을 따라 확대되는 판상의 (혹은, 프레임상의) 부재이다. 가대부 (341) 의 XY 평면 상에 있어서의 형상은 사각형이지만, 그 밖의 형상 등이어도 된다. 복수의 레그부 (342) 의 각각은, Z 축 방향을 따라 연장되는 기둥 형상의 부재이다. 복수의 레그부 (342) 는, 복수의 레그부 (142) 의 내측에 위치하지만, 내측에 위치하고 있지 않아도 된다. 복수의 레그부 (342) 는, XY 평면 상에 있어서의 가대부 (341) 의 외측 가장자리 (예를 들어, 4 구석) 부근에 있어서, 가대부 (341) 를 하방으로부터 지지한다. 복수의 레그부 (342) 의 각각은, 공기 스프링 등을 포함하는 도시 생략의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 의해 지지된다. 이 때문에, 정반 (34) 은, 플로어면 (G) 에 대하여 진동적으로 분리되어 있다.
가대부 (341) 는, 가대부 (141) 와 간섭하지 않는 (요컨대, 충돌하지 않는 또는 접촉하지 않는) 위치에 배치된다. 가대부 (341) 는, 가대부 (141) 와 간섭하지 않는 구조를 가지고 있다. 예를 들어, 도 7 에 나타내는 예에서는, 가대부 (341) 의 내부에, 가대부 (141) 의 적어도 일부 및 당해 가대부 (141) 가 지지하는 투영 광학계 (13) 가 배치 가능한 공간 (347) 이 형성되어 있다. 이 때문에, 가대부 (341) 의 상면은, 가대부 (141) 의 상면보다 상방에 위치한다. 가대부 (341) 의 하면은, 가대부 (141) 의 하면보다 하방에 위치한다. 또한, 도 7 에 나타내는 예에서는, 레그부 (142) 와 연결되는 가대부 (141) 의 일부가 가대부 (341) 의 외부에 배치되는 한편으로, 가대부 (141) 의 그 밖의 일부가 가대부 (341) 의 내부의 공간 (347) 에 배치된다. 이 때문에, 공간 (347) 은, 가대부 (341) 의 외면 (특히, 측면) 에 형성된 개구 (3471) 를 통하여 가대부 (341) 의 외부의 공간에 연통되어 있다. 단, 가대부 (341) 가 가대부 (141) 에 간섭하지 않는 한은, 가대부 (341) 는, 어떠한 구조를 가지고 있어도 된다.
XY 평면 상에 있어서의 가대부 (341) 의 중앙부 (특히, 조명광 (EL) 이 통과하는 영역) 에는, Z 축 방향을 따라 가대부 (341) 를 관통하는 개구가 형성되어 있다. Z 축 방향을 따라 가대부 (341) 를 관통하는 개구는, Z 축 방향을 따라 가대부 (141) 를 관통하는 개구 (요컨대, 투영 광학계 (13) 가 배치되는 개구) 와, Z 축 방향을 따라 겹친다. 이 때문에, 마스크 (M) 를 개재한 조명광 (EL) 은, 가대부 (341) 를 관통하는 개구를 통과하여 투영 광학계 (13) 에 입사한다.
가대부 (341) 의 상면의 적어도 일부에는, 마스크 지지부 (151) 가 배치되어 있다 (다시 말하면, 고정되어 있다). 마스크 지지부 (151) 가 가대부 (241) 의 상면에 배치되는 점을 제외하고, 제 3 실시형태에 있어서의 마스크 지지부 (151) 의 구조 등은, 제 1 실시형태에 있어서의 마스크 지지부 (151) 의 구조 등과 동일하다. 또한, 가대부 (341) 의 하면의 적어도 일부에는, 플레이트 지지부 (152) 가 배치되어 있다 (다시 말하면, 고정되어 있다). 플레이트 지지부 (152) 가 가대부 (341) 의 하면에 배치되는 점을 제외하고, 제 3 실시형태에 있어서의 플레이트 지지부 (152) 의 구조 등은, 제 1 실시형태에 있어서의 플레이트 지지부 (152) 의 구조 등과 동일하다.
마스크 지지부 (151) 는, 정반 (34) 의 상방에 있어서, 마스크 스테이지 (12) 의 하방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지한다. 플레이트 지지부 (152) 는, 정반 (34) 의 하방에 있어서, 플레이트 (P) 의 상방으로부터 플레이트 (P) 를 비접촉으로 지지한다. 마스크 지지부 (151) 에 형성된 복수의 제 1 기체 분출공 및 플레이트 지지부 (152) 에 형성된 복수의 제 2 기체 분출공에는, 기체 공급관 (143) 대신에, 정반 (34) 내 (도 7 에 나타내는 예에서는, 가대부 (341) 내) 에 형성되는 기체 공급관 (343) 을 통하여, 기체가 공급된다. 기체 공급관 (343) 에는, 정반 (34) 의 외면에 형성된 기체 공급구 (344) 를 통하여, 기체 공급 장치 (S) (단, 도 7 에서는 도시 생략) 로부터 기체가 공급된다. 마스크 지지부 (151) 에 형성된 복수의 제 1 기체 흡인공 및 플레이트 지지부 (152) 에 형성된 복수의 제 2 기체 흡인공을 통하여 흡인된 기체는, 기체 흡인관 (145) 대신에, 정반 (34) 내 (도 7 에 나타내는 예에서는, 가대부 (341) 내) 에 형성되는 기체 흡인관 (345) 및 정반 (34) 의 외면에 형성된 기체 흡인구 (346) 를 통하여, 기체 흡인 장치 (R) (단, 도 7 에서는 도시 생략) 에 의해 흡인된다.
이와 같은 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 에 의하면, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 동일하게, 플레이트 지지부 (152) 및 마스크 지지부 (151) 의 쌍방이 동일한 정반 (34) 에 배치되어 있다. 이 때문에, 제 1 실시형태와 동일하게, 마스크 (M) 에 대한 플레이트 (P) 의 위치 결정의 정밀도의 악화가 적절히 억제된다. 또한, 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 는, 마스크 (M) 나 플레이트 (P) 의 이동에 의해 발생하는 진동을, 투영 광학계 (13) 에 전달하지 않는다는 효과를 향수할 수 있다. 또한, 제 3 실시형태의 노광 장치 (3) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 향수 가능한 효과 (단, 정반 (14) 에 마스크 지지부 (151) 및 플레이트 지지부 (152) 의 각각이 배치됨으로써 향수 가능한 효과를 제외한다) 와 동일한 효과를 향수할 수 있다.
또한, 제 3 실시형태에 있어서도, 제 2 실시형태와 동일하게, 마스크 스테이지 (12) 가 가대부 (341) 의 상면보다 하방이고 또한 가대부 (141) 의 상방에 배치되어 있어도 된다. 마스크 지지부 (151) 가, 가대부 (341) 의 내면 (요컨대, 공간 (347) 을 규정하는 내면) 중 마스크 스테이지 (12) 에 대향 가능한 면 부분에 배치되어 있어도 된다.
(4) 제 4 실시형태의 노광 장치 (4)
계속해서, 도 8 내지 도 10 을 참조하면서, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 에 대하여 설명한다. 도 8 은, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다. 도 9 는, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다. 도 10 은, 정반 (44) 을 하방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 8 내지 도 10 에 나타내는 바와 같이, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 인코더 시스템 (47) 을 추가로 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 또한, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 인코더 시스템 (47) 을 배치하기 때문에, 정반 (44) 및 플레이트 스테이지 (46) 의 일부의 구조가 정반 (14) 및 플레이트 스테이지 (16) 의 일부의 구조와 각각 상이하다는 점에서 상이하다. 구체적으로는, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 정반 (44) 의 가대부 (441) 및 플레이트 스테이지 (46) 의 미동 스테이지 (464) 의 일부의 구조가 가대부 (141) 및 미동 스테이지 (164) 의 일부의 구조와 각각 상이하다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (4) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (1) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
인코더 시스템 (47) 은, 플레이트 (P) 의 위치를 계측한다. 인코더 시스템 (47) 은, 인코더 헤드 (471) 와, 인코더 스케일 (472) 과, 인코더 헤드 (473) 와, 인코더 스케일 (474) 을 포함한다.
인코더 헤드 (471) 는, X 헤드 (471X) 와, Y 헤드 (471Y) 를 포함한다. 인코더 스케일 (472) 은, Y 축 방향을 따라 연장되는 복수의 격자선이 X 축 방향으로 소정 피치로 형성된 회절 격자를 포함하는 X 스케일 (472X) 과, X 축 방향을 따라 연장되는 복수의 격자선이 Y 축 방향으로 소정 피치로 형성된 회절 격자를 포함하는 Y 스케일 (472Y) 을 포함한다. X 헤드 (471X) 는, X 스케일 (472X) 에 대하여 계측 빔을 조사하고, X 스케일 (472X) 로부터의 간섭 빔을 수광한다. 이 때문에, X 헤드 (471X) 및 X 스케일 (472X) 은, 서로 대향 가능한 위치 (특히, Z 축 방향을 따라 대향 가능한 위치) 에 배치된다. Y 헤드 (471Y) 는, Y 스케일 (472Y) 에 대하여 계측 빔을 조사하고, Y 스케일 (472Y) 로부터의 간섭 빔을 수광한다. 이 때문에, Y 헤드 (471Y) 및 Y 스케일 (472Y) 은, 서로 대향 가능한 위치 (특히, Z 축 방향을 따라 대향 가능한 위치) 에 배치된다.
인코더 헤드 (471) 는, 예를 들어, 플레이트 스테이지 (46) 에 배치된다. 특히, 인코더 헤드 (471) 는, 플레이트 스테이지 (46) 중 플레이트 (P) 와 동일하게 이동하는 부재에 배치된다. 예를 들어, 인코더 헤드 (471) 는, 플레이트 (P) 를 유지하는 미동 스테이지 (464) (예를 들어, 유지부 (1641)) 에 배치된다. 도 8 내지 도 9 에 나타내는 예에서는, 인코더 헤드 (471) 는, 유지부 (1641) 의 하면에 배치된다. 한편으로, 인코더 스케일 (472) 은, 예를 들어, 정반 (44) 및 플레이트 스테이지 (46) (혹은, 미동 스테이지 (464)) 와는 상이한 물체에 배치된다. 제 4 실시형태에서는, 인코더 스케일 (472) 이 배치되는 물체로서, 정반 (44) 에 대하여 상대적으로 이동 가능 (특히, X 축 방향 및 Y 축 방향 중 적어도 일방을 따라 이동 가능) 한 이동체가 사용된다. 이하에서는, 이와 같은 이동체로서, 정반 (44) 에 대하여 Y 축 방향을 따라 상대적으로 이동 가능한 지지 프레임 (475) 이 사용되는 예에 대하여 설명하지만, 인코더 스케일 (472) 의 배치 위치가 이하의 예에 한정되는 경우는 없다.
지지 프레임 (475) 은, 빔부 (4751) 와, 1 쌍의 기둥부 (4752) 와, 1 쌍의 종단부 (4753) 를 포함한다. 빔부 (4751) 는, 가대부 (441) 의 하방으로 X 축 방향을 따라 연장되는 봉상의 부재이다. 도 8 내지 도 10 에 나타내는 예에서는, 빔부 (4751) 는, 플레이트 (P) 의 하방으로 X 축 방향을 따라 연장되어 있다. X 축 방향을 따른 빔부 (4751) 의 길이는, X 축 방향을 따른 플레이트 스테이지 (46) 의 최대 이동 범위 (특히, 미동 스테이지 (464) 의 최대 이동 범위) 의 길이보다 길다. 빔부 (4751) 의 양단은, 플레이트 지지부 (152) 보다 외측에 위치한다. 요컨대, 빔부 (4751) 는, X 축 방향을 따른 플레이트 지지부 (152) 의 양단부를 가로지르도록, 플레이트 지지부 (152) 의 하방에 있어서 X 축 방향을 따라 연장된다. 1 쌍의 기둥부 (4752) 는, 빔부 (4751) 의 양단으로부터 상방을 향하여 (요컨대, 가대부 (441) 를 향하여) 연장되는 기둥 형상의 부재이다. 1 쌍의 기둥부 (4752) 는, 빔부 (4751) 의 상방으로부터 빔부 (4751) 를 매달도록 지지한다. 1 쌍의 종단부 (4753) 는, 1 쌍의 기둥부 (4752) 의 상방의 단부에 연결되는 평면에서 보아 판상의 부재이다. 종단부 (4753) 의 상면은, 가대부 (441) 의 하면 (특히, 당해 하면 중 플레이트 지지부 (152) 가 배치되어 있지 않은 부분) 에 대향한다. XY 평면 상에 있어서의 종단부 (4753) 의 사이즈는, XY 평면 상에 있어서의 기둥부 (4752) 의 사이즈보다 한층 크다. 따라서, 종단부 (4753) 의 하면은, 기둥부 (4752) 의 측면으로부터 외측을 향하여 돌출된다. 1 쌍의 종단부 (4753) 의 하면은, X 축 방향을 따른 플레이트 지지부 (152) 의 양단부보다 외측에 있는 가대부 (441) 의 하면에 있어서 1 쌍의 종단부 (4753) 에 대응하도록 배치되는 1 쌍의 Y 가이드부 (447) 에 의해 하방으로부터 지지된다. 구체적으로는, Y 가이드부 (447) 는, 가대부 (441) 의 하면으로부터 하방으로 돌출되어 있고 또한 X 축 방향을 따라 서로 대향하는 1 쌍의 벽부 (4471) 와, 당해 1 쌍의 벽부 (4471) 의 하방의 단부로부터 X 축 방향을 따라 서로 가까워지도록 돌출되는 1 쌍의 저부 (4472) 를 포함한다. 1 쌍의 저부 (4472) 사이에는, 간극 (4473) 이 확보된다. 1 쌍의 종단부 (4753) 의 하면은, Y 가이드부 (447) 의 저부 (4472) 에 의해 하방으로부터 지지된다. 그 결과, 지지 프레임 (475) 은, 가대부 (441) 의 하방에 있어서 Y 가이드부 (447) 에 의해 매달리도록 지지된다. 또한, 저부 (4472) 는, ＋Z 방향으로 기체를 분출하여 종단부 (4753) 를 부상 지지한다.
이와 같은 구조를 갖는 지지 프레임 (475) 에 있어서, 인코더 스케일 (472) 은, 빔부 (4751) 에 배치된다. 구체적으로는, 빔부 (4751) 의 상면에 있어서, X 축 방향을 따라 연장되는 제 1 X 스케일 영역에 X 스케일 (472X) 이 배치되고, 또한, 제 1 X 스케일 영역에 인접하도록 X 축 방향을 따라 연장되는 제 1 Y 스케일 영역에 Y 스케일 (472Y) 이 배치된다. 유지부 (1641) 에 배치되는 인코더 헤드 (471) 와 빔부 (4751) 에 배치되는 인코더 스케일 (472) 이 대향하도록, 빔부 (4751) 는, 빔부 (4751) 가 유지부 (1641) 에 대향하도록 (특히, Z 축 방향을 따라 대향하도록) 배치된다. 특히, 제 4 실시형태에서는, 인코더 헤드 (471) 가 유지부 (1641) 의 하면에 배치되고 또한 인코더 스케일 (472) 이 빔부 (4751) 의 상면에 배치되기 때문에, 빔부 (4751) 는, 빔부 (4751) 의 상면이 유지부 (1641) 의 하면의 하방에 위치하도록 배치된다. 이와 같이 유지부 (1641) 에 대하여 빔부 (4751) 를 배치하기 때문에, 미동 스테이지 (464) 는, 상기 서술한 축부 (1642) 대신에, 유지부 (1641) 를 하방으로부터 지지 가능하고 또한 빔부 (4751) 가 유지부 (1641) 의 하방에 배치되는 것을 방해하지 않는 구조를 갖는 구조체를 포함한다. 도 8 내지 도 10 에 나타내는 예에서는, 이와 같은 구조체로서, 유지부 (1641) 의 하방에 배치되는 저부 (4643) 와, 당해 저부 (4643) 의 Y 축 방향의 양단으로부터 유지부 (1641) 의 하면을 향하여 연장되는 1 쌍의 벽부 (4644) 를 포함하는 케이스 (4642) 가 사용된다. 케이스 (4642) 는, 1 쌍의 벽부 (4644) 를 사용하여 유지부 (1641) 를 하방으로부터 지지 가능하다. 또한, 케이스 (4642) 는, 유지부 (1641) 의 하면의 하방에, 저부 (4643) 와 1 쌍의 벽부 (4644) 에 의해 둘러싸이는 공간 (4645) 을 규정 가능하다. 빔부 (4751) 는, 유지부 (1641) 의 하방에 있어서 이 공간 (4645) 을 통과하도록, 미동 스테이지 (464) 에 대하여 배치된다. 그 결과, 빔부 (4751) 는, 인코더 헤드 (471) 가 인코더 스케일 (472) 에 대향하도록, 플레이트 스테이지 (46) 에 대하여 배치 가능해진다.
Y 가이드부 (447) 는, 지지 프레임 (475) 을 지지하는 기능에 더하여, 지지 프레임 (475) 의 Y 축 방향을 따른 이동을 가이드하는 가이드 기능을 갖는다. 구체적으로는, Y 가이드부 (447) 의 1 쌍의 벽부 (4471) 및 1 쌍의 저부 (4472) 의 각각은, Y 축 방향을 따라 연장된다 (도 10 참조). 종단부 (4753) 는, 1 쌍의 벽부 (4471) 및 1 쌍의 저부 (4472) 에 의해 에어 부상 지지 (또는 비접촉 지지) 되어 있고, 그 사이의 거리는 수십 마이크로미터 정도의 에어 갭에 의해 지지되어 있다. 이 경우, 간극 (4473) 은, Y 축 방향을 따라 연장되는 슬릿이 된다. 그 결과, 지지 프레임 (475) 은, 종단부 (4753) 가 벽부 (4471) 및 저부 (4472) 를 따라 이동하고 또한 기둥부 (4752) 가 간극 (4473) 을 따라 부상 지지되면서 이동함으로써, Y 축 방향을 따라 이동한다.
지지 프레임 (475) 은, 인코더 헤드 (471) 가 인코더 스케일 (472) 에 대향하는 상태가 유지되도록 이동한다. 인코더 헤드 (471) 가 플레이트 스테이지 (46) (특히, 미동 스테이지 (464)) 에 배치되어 있기 때문에, 지지 프레임 (475) 은, 인코더 헤드 (471) 가 인코더 스케일 (472) 에 대향하는 상태를 유지하기 위하여, 미동 스테이지 (464) 와 동일하게 이동한다. 요컨대, 지지 프레임 (475) 은, 미동 스테이지 (464) 에 추종하도록 이동한다. 단, 상기 서술한 바와 같이, 지지 프레임 (475) 의 빔부 (4751) 가 X 축 방향을 따라 연장되는 형상을 가지고 있고 또한 인코더 스케일 (472) 도 또한 X 축 방향을 따라 연장되는 형상을 가지고 있다. 이 때문에, 미동 스테이지 (464) 의 X 축 방향을 따른 이동에 지지 프레임 (475) 이 추종하지 않아도, 인코더 헤드 (471) 가 인코더 스케일 (472) 에 대향하는 상태가 유지된다. 이 때문에, 지지 프레임 (475) 은, 미동 스테이지 (464) 의 Y 축 방향을 따른 이동을 추종하도록 이동한다. 요컨대, 지지 프레임 (475) 은, X 축 방향을 따라 이동하지 않아도 되다. 지지 프레임 (475) 은, 미동 스테이지 (464) 의 X 축 방향을 따른 이동을 추종하도록 이동하지 않아도 되다.
노광 장치 (4) 는, 지지 프레임 (475) 을 이동시키기 위한 프레임 구동계를 구비하고 있어도 된다. 프레임 구동계는, 리니어 모터를 포함하는 구동계여도 되고, 그 밖의 모터를 포함하는 구동계 (예를 들어, 지지 프레임 (475) 에 연결된 회전 벨트와, 당해 회전 벨트를 지지하는 풀리와, 당해 풀리를 회전 구동하기 위한 모터를 포함하는 구동계) 여도 된다. 혹은, 노광 장치 (4) 는, 지지 프레임 (475) 을 이동시키기 위한 프레임 구동계를 구비하고 있지 않아도 된다. 이 경우, 지지 프레임 (475) 은, 플레이트 스테이지 (46) 의 적어도 일부에 의해 물리적으로 압출됨으로써 (혹은, 견인됨으로써) 이동해도 된다. 예를 들어, 지지 프레임 (475) 은, Y 조동 스테이지 (161Y) 에 의해 물리적으로 압출됨으로써 (혹은, 견인됨으로써), Y 조동 스테이지 (161Y) 에 추종하도록 (그 결과, 미동 스테이지 (464) 에 추종하도록) 이동해도 된다. 예를 들어, 지지 프레임 (475) 은, 미동 스테이지 (464) 에 의해 물리적으로 압출됨으로써 (혹은, 견인됨으로써), 미동 스테이지 (464) 에 추종하도록 이동해도 된다.
인코더 헤드 (473) 는, X 헤드 (473X) 와, Y 헤드 (473Y) 를 포함한다. 인코더 스케일 (474) 은, Y 축 방향을 따라 연장되는 복수의 격자선이 X 축 방향으로 소정 피치로 형성된 회절 격자를 포함하는 X 스케일 (474X) 과, X 축 방향을 따라 연장되는 복수의 격자선이 Y 축 방향으로 소정 피치로 형성된 회절 격자를 포함하는 Y 스케일 (474Y) 을 포함한다. X 헤드 (473X) 는, X 스케일 (474X) 에 대하여 계측 빔을 조사하고, X 스케일 (474X) 로부터의 간섭 빔을 수광한다. 이 때문에, X 헤드 (473X) 및 X 스케일 (474X) 은, 서로 대향 가능한 위치 (특히, Z 축 방향을 따라 대향 가능한 위치) 에 배치된다. Y 헤드 (473Y) 는, Y 스케일 (474Y) 에 대하여 계측 빔을 조사하고, Y 스케일 (474Y) 로부터의 간섭 빔을 수광한다. 이 때문에, Y 헤드 (473Y) 및 X 스케일 (474Y) 은, 서로 대향 가능한 위치 (특히, Z 축 방향을 따라 대향 가능한 위치) 에 배치된다.
인코더 헤드 (473) 는, 예를 들어, 인코더 스케일 (472) 이 배치되는 물체 (요컨대, 지지 프레임 (475)) 에 배치된다. 도 8 내지 도 10 에 나타내는 예에서는, 인코더 헤드 (473) 는, 지지 프레임 (475) 의 종단부 (4753) 에 배치된다. 구체적으로는, 종단부 (4753) 의 상면에는, 오목부 (4754) 가 형성된다. 인코더 헤드 (473) 는, 이 오목부 (4754) 에 수용되도록 배치된다. 한편으로, 인코더 스케일 (474) 은, 예를 들어, 정반 (44) 에 배치된다. 도 8 내지 도 10 에 나타내는 예에서는, 인코더 스케일 (474) 은, 정반 (44) 의 하면에 배치된다. 구체적으로는, 정반 (44) 의 하면 (특히, 하면 중 플레이트 지지부 (152) 가 배치되어 있지 않은 부분으로서, 지지 프레임 (475) 의 종단부 (4753) 가 대향하는 부분) 에는, 오목부 (448) 가 형성된다. 인코더 스케일 (474) 은, 이 오목부 (448) 에 수용되도록 배치된다.
또한, 상기 서술한 바와 같이, 지지 프레임 (475) 이 Y 축 방향을 따라 이동하기 때문에, 지지 프레임 (475) 에 배치되는 인코더 헤드 (473) 도 또한 Y 축 방향을 따라 이동한다. 지지 프레임 (475) 이 이동하는 경우에도 인코더 헤드 (473) 가 인코더 스케일 (474) 에 대향하는 상태가 유지되도록, 인코더 스케일 (474) 은, Y 축 방향을 따라 연장되는 제 2 X 스케일 영역에 배치되는 X 스케일 (474X) 과, 당해 제 2 X 스케일 영역에 인접하도록 Y 축 방향을 따라 연장되는 제 2 Y 스케일 영역에 배치되는 Y 스케일 (474Y) 을 포함한다.
X 헤드 (471X) 의 수광 결과는, X 스케일 (472X) 에 대한 X 헤드 (471X) 의 상대 위치 (특히, X 축 방향을 따른 상대 위치) 에 관한 정보를 포함한다. X 스케일 (472X) 이 지지 프레임 (475) 에 배치되고 또한 X 헤드 (471X) 가 미동 스테이지 (464) 에 배치되어 있기 때문에, X 헤드 (471X) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 지지 프레임 (475) 에 대한 미동 스테이지 (464) 의 X 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다. 또한, 미동 스테이지 (464) 가 플레이트 (P) 를 유지하고 있기 때문에, X 헤드 (471X) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 지지 프레임 (475) 에 대한 플레이트 (P) 의 X 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다. 동일한 이유로부터, Y 헤드 (471Y) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 지지 프레임 (475) 에 대한 플레이트 (P) 의 Y 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다.
X 헤드 (473X) 의 수광 결과는, X 스케일 (474X) 에 대한 X 헤드 (473X) 의 상대 위치 (특히, X 축 방향을 따른 상대 위치) 에 관한 정보를 포함한다. X 스케일 (474X) 이 정반 (44) 에 배치되고 또한 X 헤드 (473X) 가 지지 프레임 (475) 에 배치되어 있기 때문에, X 헤드 (473X) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 정반 (44) 에 대한 지지 프레임 (475) 의 X 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다. 동일한 이유로부터, Y 헤드 (473Y) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 정반 (44) 에 대한 지지 프레임 (475) 의 Y 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다.
이 때문에, X 헤드 (471X) 의 수광 결과 및 X 헤드 (473X) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 정반 (44) 에 대한 플레이트 (P) 의 X 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다. 투영 광학계 (13) 가 정반 (44) 에 배치되어 있기 때문에, X 헤드 (471X) 의 수광 결과 및 X 헤드 (473X) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 X 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다. 동일한 이유로부터, Y 헤드 (471Y) 의 수광 결과 및 Y 헤드 (473Y) 의 수광 결과는, 실질적으로는, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 Y 축 방향을 따른 상대 위치에 관한 정보를 포함한다. 따라서, 인코더 시스템 (47) 은, 플레이트 (P) 의 위치 (특히, 투영 광학계 (13) 에 대한 플레이트 (P) 의 상대 위치) 를 계측하기 위한 계측 시스템이다.
인코더 시스템 (47) 의 계측 결과는, 플레이트 (P) 가 노광될 때에, 노광 장치 (4) 의 동작을 제어하는 제어 장치에 의해 적절히 참조된다. 제어 장치는, 인코더 시스템 (47) 의 계측 결과에 기초하여, 플레이트 (P) 의 위치를 제어한다. 그 결과, 노광 장치 (4) 는, 플레이트 (P) 의 위치를 상대적으로 고정밀도로 제어하면서, 플레이트 (P) 를 노광할 수 있다. 요컨대, 노광 장치 (4) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수하면서도, 플레이트 (P) 의 위치를 상대적으로 고정밀도로 제어할 수 있다.
또한, 도 8 및 도 9 에 나타내는 바와 같이, 제 4 실시형태에서는, 플레이트 스테이지 (46) 는, Z 미동 스테이지 구동계 (465Z) 를 추가로 구비하고 있다. Z 미동 스테이지 구동계 (465Z) 는, 플레이트 (P) 를 유지한 채로 미동 스테이지 (464) 를 적어도 Z 축 방향을 따라 이동시키기 위한 구동계이다. Z 미동 스테이지 구동계 (465Z) 는, 예를 들어, 보이스 코일 모터를 포함하는 구동계이지만, 그 밖의 모터 (혹은, 구동원) 를 포함하는 구동계여도 된다. Z 미동 스테이지 구동계 (465Z) 가 보이스 코일 모터를 포함하는 구동계인 경우에는, Z 미동 스테이지 구동계 (465Z) 는, 예를 들어, 케이스 (4642) 에 고정되는 Z 가이드부와, X 조동 스테이지 (161X) 에 고정되는 고정자 (예를 들어, 자석 및 코일의 일방) 와, Z 가이드부 (1651X) 에 고정되는 가동자 (예를 들어, 자석 및 코일의 타방) 를 포함한다. 이 Z 미동 스테이지 구동계 (465Z) 는, 이른바 중량 캔슬 장치로서 기능한다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (46) 는, Z 미동 스테이지 구동계 (465Z) 에 한정하지 않고, 중량 캔슬 장치로서 기능 가능한 장치 (예를 들어, 스프링 등) 를 구비하고 있어도 된다. 또한, 제 4 실시형태 이외의 각 실시형태에 있어서도, 플레이트 스테이지 (16) 가 중량 캔슬 장치를 구비하고 있어도 된다.
노광 장치 (4) 는, 인코더 시스템 (47) 에 더하여 또는 대신에, 플레이트 (P) 의 위치를 계측 가능한 임의의 계측 장치를 구비하고 있어도 된다. 임의의 계측 장치의 일례로서, 예를 들어, 간섭계를 들 수 있다.
(5) 제 5 실시형태의 노광 장치 (5)
계속해서, 도 11 을 참조하면서, 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 에 대하여 설명한다. 도 11 은, 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다.
도 11 에 나타내는 바와 같이, 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 복수의 (도 11 에 나타내는 예에서는, 2 개의) 플레이트 스테이지 (56) 를 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 또한, 제 5 실시형태에서는, 필요에 따라, 2 개의 플레이트 스테이지 (56) 를, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 라고 칭하여 서로 구별한다. 또한, 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 는, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 와 비교하여, 인코더 시스템 (57) 을 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (5) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (1) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 의 각각은, 상기 서술한 플레이트 스테이지 (16) 와 동일하게, X 조동 스테이지 (161X) 와, Y 조동 스테이지 (161Y) 와, X 조동 스테이지 구동계 (162X) 와, Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 와, 미동 스테이지 (164) 를 구비한다. 단, 도 11 에 나타내는 예에서는, Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 의 Y 가이드부 (1621Y) 가, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 에 의해 공용되고 있다.
플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 의 각각은, 미동 스테이지 (164) 의 유지부 (1641) 를 사용하여 플레이트 (P) 를 유지한다. 따라서, 플레이트 (P) 는, 플레이트 (P) 의 하면의 2 개 지점에 있어서 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 에 의해 유지된다. 도 11 에 나타내는 예에서는, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, Y 축 방향을 따라 나열되어 있다. 이 때문에, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, 플레이트 (P) 의 하면 상에 있어서 Y 축 방향을 따라 나열되는 2 개의 위치에 있어서 플레이트 (P) 를 유지한다.
플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, 플레이트 (P) 의 중심에 대하여 대칭인 2 개 지점에 있어서 플레이트 (P) 를 유지해도 된다. 예를 들어, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, X 축 방향 또는 Y 축 방향을 따라 대향하는 플레이트 (P) 의 2 개의 변의 근방에 있어서 플레이트 (P) 를 유지해도 된다. 이 경우, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, X 축 방향 또는 Y 축 방향을 따라 나열된다. 예를 들어, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, 플레이트 (P) 의 대각 방향을 따라 나열되는 플레이트 (P) 의 2 개의 정상점의 근방에 있어서 플레이트 (P) 를 유지해도 된다. 이 경우, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, 대각 방향을 따라 나열된다. 예를 들어, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, 플레이트 (P) 의 하면을 플레이트 (P) 의 중심을 통과하는 가상적인 선으로 2 개의 동일한 형상의 영역으로 분할하고, 당해 2 개의 영역의 중심 (혹은, 무게 중심) 에 있어서 플레이트 (P) 를 유지해도 된다. 이 경우, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, 2 개의 영역이 나열되는 방향을 따라 나열된다. 단, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 는, 플레이트 (P) 의 하면의 랜덤하게 선택되는 위치에 있어서 플레이트 (P) 를 유지해도 된다.
또한, 노광 장치 (5) 는, 노광 장치 (4) 와 동일하게, 인코더 시스템 (57) 을 구비하고 있다. 단, 노광 장치 (5) 는, 플레이트 스테이지 (56-1 및 56-2) 에 대응하도록 2 개의 인코더 시스템 (57-1 및 57-2) 을 구비하고 있다. 인코더 시스템 (57-1 및 57-2) 의 각각은, 인코더 시스템 (47) 과 동일하게, 인코더 헤드 (471) 와, 인코더 스케일 (472) 과, 인코더 헤드 (473) 와, 인코더 스케일 (474) 을 포함한다. 인코더 시스템 (57-1 및 57-2) 의 각각은, 인코더 시스템 (47) 과 비교하여, 인코더 헤드 (471), 인코더 스케일 (472), 인코더 헤드 (473) 및 인코더 스케일 (474) 의 배치 위치가 상이하다는 점에서 상이하다. 단, 제 5 실시형태에 있어서의 배치 위치가, 제 4 실시형태에 있어서의 배치 위치와 동일해도 된다. 인코더 시스템 (57-1 및 57-2) 의 각각의 그 밖의 구조는, 인코더 시스템 (47) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
구체적으로는, 제 5 실시형태에서는, 인코더 헤드 (471) 는, 제 4 실시형태와 동일하게, 플레이트 스테이지 (56) (특히, 미동 스테이지 (164)) 에 배치된다. 단, 제 5 실시형태에서는, 제 4 실시형태와는 달리, 인코더 헤드 (471) 는, 미동 스테이지 (164) 의 유지부 (1641) 로부터 외측 (요컨대, 플레이트 (P) 로부터 멀어지는 측) 을 향하여 돌출되도록 유지부 (1641) 에 배치된 돌출부 (5611) (도 11 에 나타내는 예에서는, 그 하면) 에 배치된다. 또한, 제 5 실시형태에서는, 인코더 스케일 (472) 은, 제 4 실시형태와 동일하게, 정반 (14) 및 미동 스테이지 (164) 와는 상이한 장치에 배치된다. 단, 제 5 실시형태에서는, 제 4 실시형태와는 달리, 인코더 스케일 (472) 은, X 조동 스테이지 (161X) 의 외측에 있어서 Y 조동 스테이지 (161Y) 의 상면으로부터 상방을 향하여 돌출됨과 함께 돌출부 (5611) 에 대향하도록 Y 조동 스테이지 (161Y) 에 배치된 돌출부 (5612) (도 11 에 나타내는 예에서는, 그 상면) 에 배치된다. 또한, 제 5 실시형태에서는, 인코더 헤드 (473) 는, 제 4 실시형태와 동일하게, 인코더 스케일 (472) 이 배치되는 Y 조동 스테이지 (161Y) 에 배치된다. 단, 제 5 실시형태에서는, 제 4 실시형태와는 달리, 인코더 헤드 (473) 는, 돌출부 (5612) 의 측면으로부터 측방을 향하여 돌출된 후에 상방을 향하여 돌출되도록 돌출부 (5612) 에 배치된 돌출부 (5613) (도 11 에 나타내는 예에서는, 그 상면) 에 배치된다. 또한, 제 5 실시형태에서는, 인코더 스케일 (474) 은, 제 4 실시형태와 동일하게, 정반 (14) 에 배치된다.
이와 같은 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 에 의하면, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수할 수 있다. 또한, 노광 장치 (5) 가 복수의 플레이트 스테이지 (56) (특히, 복수의 유지부 (1641)) 를 구비하고 있기 때문에, 노광 장치 (5) 가 단일의 플레이트 스테이지 (56) (특히, 단일의 유지부 (1641)) 를 구비하고 있는 경우와 비교하여, 복수의 플레이트 스테이지 (56) 에 의해 유지되어 있는 플레이트 (P) 의 휨이 억제 또는 방지된다. 요컨대, 플레이트 (P) 의 평면도가 적절히 유지된다. 또한, 노광 장치 (5) 는, 인코더 시스템 (57) 을 구비하고 있기 때문에, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수할 수 있다.
또한, 노광 장치 (5) 는, 3 개 이상의 플레이트 스테이지 (56) 를 구비하고 있어도 된다. 노광 장치 (5) 가 구비하는 플레이트 스테이지 (56) 의 수가 많아질수록, 플레이트 (P) 의 하면의 보다 많은 지점에서 플레이트 (P) 가 유지된다. 따라서, 플레이트 (P) 의 평면도가 보다 적절히 유지된다. 혹은, 플레이트 (P) 의 평면도를 유지하기 위해서는, 노광 장치 (5) 가 복수의 플레이트 스테이지 (56) 를 구비하는 것에 더하여 또는 대신에, 각 플레이트 스테이지 (56) 가 복수의 유지부 (1641) 를 포함하고 있어도 된다. 이 경우에도, 복수의 유지부 (1641) 에 의해 플레이트 (P) 의 하면의 복수의 지점에서 플레이트 (P) 가 유지되기 때문에, 노광 장치 (5) 가 복수의 플레이트 스테이지 (56) 를 구비하는 경우와 동일하게 플레이트 (P) 의 평면도가 적절히 유지된다. 또한, 플레이트 스테이지 (56) 가 복수의 유지부 (1641) 를 포함하고 있는 경우에는, 노광 장치 (5) 는, 단일의 플레이트 스테이지 (56) 를 구비하고 있어도 된다.
상기 서술한 설명에서는, 복수의 플레이트 스테이지 (56) 는, Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 의 Y 가이드부 (1621Y) 를 공용하고 있다. 그러나, 복수의 플레이트 스테이지 (56) 의 각각이 개별의 Y 가이드부 (1621Y) 를 구비하고 있어도 된다. 혹은, 복수의 플레이트 스테이지 (56) 는, Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 전체를 공용해도 된다. 혹은, 복수의 플레이트 스테이지 (56) 는, Y 가이드부 (1621Y) 이외의 Y 조동 스테이지 구동계 (162Y) 의 일부를 공용해도 된다. 복수의 플레이트 스테이지 (56) 는, X 조동 스테이지 (161X) 의 적어도 일부를 공용해도 된다. 복수의 플레이트 스테이지 (56) 는, X 조동 스테이지 구동계 (162X) 의 적어도 일부를 공용해도 된다. 복수의 플레이트 스테이지 (56) 는, 미동 스테이지 (164) 의 적어도 일부를 공용해도 된다. 또한, 후술하는 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 는, Y 조동 스테이지 (161Y), Y 조동 스테이지 구동계 (162Y), X 조동 스테이지 (161X) 및 X 조동 스테이지 구동계 (162X) 를 복수의 플레이트 스테이지 (56) 에서 공용하는 (구체적으로는, 복수의 미동 스테이지 (164) 에서 공용하는) 노광 장치의 일 구체예에 상당한다.
(6) 제 6 실시형태의 노광 장치 (6)
계속해서, 도 12 내지 도 13 을 참조하면서, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 에 대하여 설명한다. 도 12 는, 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다. 도 13 은, 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다.
도 12 내지 도 13 에 나타내는 바와 같이, 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 는, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 와 비교하여, 마스크 스테이지 (12) 및 조명 광학계 (11) 가 정반 (64) 의 하방에 배치되는 한편으로, 플레이트 스테이지 (46) 가 정반 (64) 의 상방에 배치된다는 점에서 상이하다. 또한, 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 는, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 와 비교하여, 마스크 스테이지 (12) 의 낙하를 방지하기 위한 낙하 방지 장치 (62) 를 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 또한, 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 는, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 와 비교하여, 정반 (64) 의 일부의 구조가 정반 (44) 의 일부의 구조와 상이하다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (6) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (4) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
제 6 실시형태에서는, 조명 광학계 (11) 가 조사한 조명광 (EL) 은, 조명 광학계 (11) 보다 상방에 위치하는 마스크 (M) 및 투영 광학계 (13) 를 통하여 Z 축 방향을 따라 ＋Z 측을 향하여 진행됨으로써, 마스크 (M) 및 투영 광학계 (13) 보다 상방에 위치하는 플레이트 (P) 에 조사된다. 따라서, 제 6 실시형태에서는, 조명광 (EL) 의 진행 방향은, 중력 방향과 반대의 방향 (요컨대, -Z 측으로부터 ＋Z 측을 향하는 방향) 이 된다.
마스크 스테이지 (12) 가 정반 (64) 의 하방에 배치되기 때문에, 투영 광학계 (13) 는, 마스크 스테이지 (12) 의 상방에 있어서 정반 (64) 에 의해 지지된다. 또한, 마스크 지지부 (151) 는, 정반 (64) 의 가대부 (641) 의 하면의 적어도 일부에 배치된다. 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 지지부 (151) 의 하면이 가대부 (641) 의 하면으로부터 노출되도록 배치된다. 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 스테이지 (12) 의 적어도 일부의 상방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 마스크 지지부 (151) 는, 정반 (64) 의 하방에 있어서, 마스크 스테이지 (12) 의 상방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지한다.
또한, 마스크 홀더 (121) 의 오목부가 상방을 향하고 있기 때문에, 마스크 홀더 (121) 의 오목부가 상방을 향하고 있는 경우와 비교하여, 마스크 홀더 (121) 로부터 마스크 (M) 가 하방으로 낙하할 가능성이 작아진다. 이 때문에, 마스크 스테이지 (12) 는, 고정구 (122) 를 구비하고 있지 않아도 된다.
한편으로, 마스크 지지부 (151) 가 마스크 스테이지 (12) 의 상방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 지지하고 있기 때문에, 마스크 지지부 (151) 가 마스크 스테이지 (12) 의 하방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 지지하고 있는 경우와 비교하여, 마스크 스테이지 (12) 자체가 하방으로 낙하할 가능성이 커진다. 이 때문에, 노광 장치 (6) 는, 마스크 스테이지 (12) 의 낙하를 방지하기 위한 낙하 방지 장치 (62) 를 구비하고 있다. 낙하 방지 장치 (62) 는, 복수의 프레임부 (621) 와, 복수의 연결부 (622) 와, 1 쌍의 낙하 방지판 (623) 을 포함한다. 프레임부 (621) 는, 지지 프레임 (125) 으로부터 Y 축 방향을 따라 돌출되도록 연장되는 부재이다. 프레임부 (621) 는, 지지 프레임 (125) 으로부터 마스크 (M) 에 가까워지는 방향을 향하여 연장된다. 프레임부 (621) 의 선단은, 마스크 스테이지 (12) 의 하방에 배치된다. 제 6 실시형태에서는, 마스크 스테이지 (12) 의 ＋Y 측 및 -Y 측의 각각에 1 쌍의 지지 프레임 (125) 이 배치된다. 이 때문에, 낙하 방지 장치 (62) 는, 프레임부 (621) 로서, 마스크 스테이지 (12) 의 ＋Y 측에 배치되는 지지 프레임 (125) 으로부터, 선단이 마스크 스테이지 (12) 의 하방에 위치하게 될 때까지 -Y 측을 향하여 연장되는 프레임부 (621-1) 와, 마스크 스테이지 (12) 의 -Y 측에 배치되는 지지 프레임 (125) 으로부터, 선단이 마스크 스테이지 (12) 의 하방에 위치하게 될 때까지 ＋Y 측을 향하여 연장되는 프레임부 (621-2) 를 포함한다. 낙하 방지 장치 (62) 는, 프레임부 (621-1 및 621-2) 의 각각을, 복수 포함한다. 복수의 프레임부 (621-1) 는, X 축 방향을 따라 나열된다. 복수의 프레임부 (621-2) 도 또한, X 축 방향을 따라 나열된다. 연결부 (622) 는, 각 프레임부 (621) 와 낙하 방지판 (623) 을 연결한다. 따라서, 낙하 방지 장치 (62) 는, 프레임부 (621) 와 동일한 수의 연결부 (622) 를 포함한다. 낙하 방지판 (623) 은, 평면에서 보아 판상의 부재이다. 1 쌍의 낙하 방지판 (623) 은, 마스크 스테이지 (12) 의 하방에 있어서, 조명광 (EL) 의 광로와 겹치지 않는 위치에 배치된다. 상기 서술한 바와 같이 마스크 스테이지 (12) 가 X 축 방향을 따라 이동하기 때문에, 낙하 방지판 (623) 은, X 축 방향을 따라 이동하는 마스크 스테이지 (12) 의 낙하를 적절히 방지하기 위하여, X 축 방향을 따라 연장되는 판상의 부재가 된다. 이와 같은 낙하 방지 장치 (62) 에 의해, 만일 마스크 홀더 (12) 가 낙하했다고 해도 (요컨대, 마스크 지지부 (151) 가 마스크 홀더 (12) 를 계속 지지할 수 없게 되었다고 해도), 마스크 홀더 (12) 가 조명 광학계 (11) 에까지 낙하하는 것이 적절히 방지된다. 또한, 1 쌍의 낙하 방지판 (623) 은, 조명광 (EL) 이 통과하는 지점만 상하 관통공이 뚫려 있는 1 장 판에 의해 구성하도록 해도 된다.
또한, 플레이트 스테이지 (46) 가 정반 (64) 의 상방에 위치하기 때문에, 투영 광학계 (13) 는, 플레이트 스테이지 (46) 의 하방에 있어서 정반 (64) 에 의해 지지된다. 또한, 플레이트 지지부 (152) 는, 정반 (64) 의 가대부 (641) 의 상면의 적어도 일부에 배치된다. 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 지지부 (152) 의 상면이 가대부 (641) 의 상면으로부터 노출되도록 배치된다. 플레이트 지지부 (152) 는, 플레이트 지지부 (152) 의 적어도 일부가 플레이트 (P) 의 적어도 일부의 하방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 플레이트 지지부 (152) 는, 정반 (64) 의 상방에 있어서, 플레이트 (P) 의 하방으로부터 플레이트 (P) 를 비접촉으로 지지한다.
또한, 제 6 실시형태의 플레이트 스테이지 (46) 및 지지 프레임 (475) 은, 제 4 실시형태의 플레이트 스테이지 (46) 및 지지 프레임 (475) 에 있어서의 상하 관계를 반전함으로써 얻어지는 플레이트 스테이지 (46) 및 지지 프레임 (475) 과 등가이다. 요컨대, 제 4 실시형태에 있어서의 설명 중의 「상면」, 「상방」, 「하면」 및 「하방」 을, 각각, 「하면」, 「하방」, 「상면」 및 「상방」 으로 바꾸어 읽음으로써, 제 4 실시형태의 플레이트 스테이지 (46) 및 지지 프레임 (475) 에 관한 설명은, 제 6 실시형태의 플레이트 스테이지 (46) 및 지지 프레임 (475) 의 설명이 된다. 이 때문에, 장황적인 설명을 생략하기 위하여, 제 6 실시형태의 플레이트 스테이지 (46) 및 지지 프레임 (475) 에 대한 설명은 생략한다. 단, 지지 프레임 (475) 이 정반 (64) 의 상방에 배치되기 때문에, 정반 (64) (특히, 가대부 (641)) 은, 정반 (44) (특히, 가대부 (441)) 과 비교하여, Y 가이드부 (447) 가 가대부 (641) 의 상면에 배치되고, 가대부 (641) 의 상면에 형성된 오목부 (448) 에 인코더 스케일 (474) 이 수용된다는 점에서 상이하다. 정반 (64) 의 그 밖의 구조는, 정반 (44) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
이와 같이, 정반 (64) 에 대한 마스크 스테이지 (12) 및 플레이트 스테이지 (46) 의 위치 관계가 제 4 실시형태로부터 바뀌기 때문에, 제 6 실시형태에서는, 플레이트 스테이지 (46) 를 지지하는 지지 프레임 (160) 과, 정반 (64) 과, 마스크 스테이지 (12) 를 지지하는 지지 프레임 (125) 사이의 위치 관계도 바뀐다. 구체적으로는, 지지 프레임 (160) 의 적어도 일부의 하방 (혹은, 내측) 에 정반 (64) (특히, 가대부 (641)) 의 적어도 일부가 위치하고, 정반 (64) 의 적어도 일부의 하방 (혹은, 내측) 에 지지 프레임 (125) 의 적어도 일부가 위치한다.
이와 같은 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 에 의하면, 제 4 실시형태의 노광 장치 (4) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수할 수 있다. 또한, 제 6 실시형태에서는, 조명 광학계 (11) 나 마스크 스테이지 (12) 가 플로어면 (G) 에 상대적으로 가까운 위치에 배치되기 때문에, 조명 광학계 (11) 나 마스크 스테이지 (12) 의 메인터넌스가 용이해진다. 또한, 제 6 실시형태에서는, 플레이트 (P) 의 하면이 노광면이 되기 때문에, 노광에 악영향을 줄 가능성이 있는 먼지 (혹은, 임의의 더스트) 가 플레이트 (P) 의 노광면에 퇴적 (혹은, 부착) 될 가능성이 작아진다. 따라서, 먼지에서 기인한 노광 정밀도의 악화 또는 불량 노광의 발생이 적절히 억제된다. 또한, 제 6 실시형태에서는, 인코더 스케일 (472) 이 하방을 향하도록 배치되기 (요컨대, 빔부 (4751) 의 하면에 배치되기) 때문에, 인코더 스케일 (472) 에 먼지 (혹은, 임의의 더스트) 가 퇴적 (혹은, 부착) 될 가능성이 작아진다. 따라서, 먼지에서 기인한 플레이트 (P) 의 위치 계측 정밀도의 악화가 적절히 억제된다. 또한, 제 6 실시형태에서는, 정반 (64) 의 하방에 있어서 비접촉으로 지지되는 물체는, X 축 방향 및 Y 축 방향의 쌍방을 따라 이동하는 플레이트 (P) 가 아니라, X 축 방향을 따라 이동하는 한편으로 Y 축 방향을 따라 이동하지 않아도 되는 마스크 스테이지 (12) 이다. 이 때문에, 플레이트 (P) 의 낙하를 방지하기 위한 낙하 방지 장치보다 구조가 간략화된 낙하 방지 장치 (62) 를 사용하여, 마스크 스테이지 (12) 의 낙하를 방지할 수 있다. 요컨대, 노광 장치 (6) 는, 플레이트 (P) 의 낙하를 방지하기 위한 상대적으로 구조가 복잡한 낙하 방지 장치를 구비하고 있지 않아도 되게 된다.
또한, 마스크 지지부 (151) 가 마스크 스테이지 (12) 의 상방으로부터 마스크 스테이지 (12) 를 비접촉으로 지지하고 있는 경우에도, 통상적이면, 마스크 스테이지 (12) 가 낙하할 가능성은 거의 없다. 한편으로, 의도하지 않은 외란 (예를 들어, 진동) 등이 마스크 스테이지 (12) 에 가해진 경우에는, 통상시와 비교하면 마스크 스테이지 (12) 가 낙하할 가능성이 커진다. 따라서, 상기 서술한 낙하 방지 장치 (62) 는, 주로, 의도하지 않은 상황하에서의 마스크 스테이지 (12) 의 낙하를 방지하는 것을 목적으로 한 장치라고 할 수 있다. 단, 통상적이면 마스크 스테이지 (12) 가 낙하할 가능성은 거의 없기 때문에, 노광 장치 (6) 는, 낙하 방지 장치 (62) 를 구비하고 있지 않아도 된다. 혹은, 노광 장치 (6) 는, 낙하 방지 장치 (62) 에 더하여 또는 대신에, 마스크 스테이지 (12) 또는 마스크 (M) 에 접촉하여 마스크 스테이지 (12) 또는 마스크 (M) 를 하방으로부터 유지하는 유지 장치를 구비하고 있어도 된다. 이와 같은 유지 장치로서, 예를 들어, 상기 서술한 플레이트 스테이지 (16) 와 같이, 마스크 스테이지 (12) 또는 마스크 (M) 를 유지한 채로 이동 가능한 이동 장치가 사용된다. 또한, 이와 같은 이동 장치를 구비하고 있는 경우에는, 노광 장치 (6) 는, 마스크 스테이지 구동계 (124) 를 구비하고 있지 않아도 된다.
(7) 제 7 실시형태의 노광 장치 (7)
계속해서, 도 14 내지 도 16 을 참조하면서, 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 에 대하여 설명한다. 도 14 는, 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다. 도 15 는, 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 의 XZ 평면을 따른 단면을 나타내는 (도면의 편의상, 일부의 구성 요소에 대해서는, 측면을 나타낸다) 단면도이다. 도 16 은, 정반 (14) 을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 14 내지 도 16 에 나타내는 바와 같이, 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 는, 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 와 비교하여, 인코더 헤드 (471) 및 인코더 스케일 (472) 의 배치 위치가 상이하다는 점에서 상이하다. 구체적으로는, 인코더 헤드 (471) 는, 미동 스테이지 (464) 의 케이스 (4642) 를 구성하는 저부 (4643) 의 하면에 배치된다. 한편으로, 인코더 스케일 (472) 은, 지지 프레임 (475) 의 빔부 (4751) 의 상면에 배치된다. 노광 장치 (7) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (6) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
이와 같은 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 에 의하면, 제 6 실시형태의 노광 장치 (6) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수할 수 있다. 또한, 제 7 실시형태에서는, 노광 장치 (7) 의 설치시에, 인코더 스케일 (472) 의 설치가 용이해진다.
(8) 제 8 실시형태의 노광 장치 (8)
계속해서, 도 17 을 참조하면서, 제 8 실시형태의 노광 장치 (8) 에 대하여 설명한다. 도 17 은, 제 8 실시형태의 노광 장치 (8) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다.
도 17 에 나타내는 바와 같이, 제 8 실시형태의 노광 장치 (8) 는, 상기 서술한 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 와 비교하여, 마스크 스테이지 (12) 대신에, 마스크 유지 장치 (82) 를 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 또한, 제 8 실시형태의 노광 장치 (8) 는, 상기 서술한 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 와 비교하여, 마스크 스테이지 (12) 를 이동시키는 마스크 스테이지 구동계 (124) 대신에, 마스크 (M) (보다 구체적으로는, 마스크 유지 장치 (82)) 를 이동시키는 마스크 스테이지 구동계 (824) 를 구비하고 있다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (8) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (7) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다. 또한, 도 17 에서는, 도면의 간략화를 위하여 낙하 방지 장치 (62) 가 기재되어 있지 않지만, 노광 장치 (8) 가 낙하 방지 장치 (62) 를 구비하고 있어도 된다.
마스크 유지 장치 (82) 는, 예를 들어, 국제 공개 제2014/024465호 팜플렛에 기재된 마스크 유지 장치이다. 이 때문에, 마스크 유지 장치 (82) 의 상세한 설명은 생략하지만, 마스크 유지 장치 (82) 의 개요에 대하여 간단하게 설명한다. 마스크 유지 장치 (82) 는, 공기 스프링 등의 방진 장치를 개재하여 플로어면 (G) 에 지지되는 지지 프레임 (825) 에 의해 지지된다. 마스크 유지 장치 (82) 는, 테이블 (821) 과, 보이스 코일 모터 (822) 와, 흡착 유지부 (823) 를 포함한다. 테이블 (821) 은, 마스크 스테이지 구동계 (824) 를 개재하여 지지 프레임 (825) 에 의해 지지된다. 보이스 코일 모터 (822) 는, 테이블 (821) 의 상면에 배치된다. 보이스 코일 모터 (822) 는, 흡착 유지부 (823) 를 X 축 방향 및 Y 축 방향의 적어도 일방을 따라 이동 가능하다. 흡착 유지부 (823) 는, 테이블 (821) 의 상면에 배치된다. 흡착 유지부 (823) 는, 테이블 (821) 로부터 마스크 (M) 를 향하도록 Y 축 방향을 따라 연장되는 아암부 (8231) 를 포함한다. 아암부 (8231) 는, 마스크 (M) 의 하면에 접촉함과 함께, 접촉부에 있어서 마스크 (M) 를 흡착 유지한다. 노광 장치 (8) 는, Y 축 방향을 따른 마스크 (M) 의 양측으로부터 마스크 (M) 를 유지할 수 있도록, Y 축 방향을 따른 마스크 (M) 의 양측으로 나열되는 1 쌍의 마스크 유지 장치 (82) 를 구비하고 있다.
마스크 스테이지 구동계 (824) 는, 마스크 유지 장치 (82) (나아가, 마스크 유지 장치 (82) 에 의해 유지되는 마스크 (M)) 를, 적어도 X 축 방향을 따라 이동 가능하다. 마스크 유지 장치 (82) 를 이동시키기 위하여, 마스크 스테이지 구동계 (82) 는, 예를 들어, 지지 프레임 (825) 의 상면에 고정되고 또한 X 축 방향을 따라 연장되는 1 쌍의 X 가이드부와, 테이블 (821) 의 하면에 고정되고 또한 1 쌍의 X 가이드부를 각각 사이에 두도록 단면이 U 자 형상이 되는 1 쌍의 슬라이드 부재와, 테이블 (821) 의 하면에 고정되는 가동자 (예를 들어, 자석 및 코일의 일방) 와, 지지 프레임 (825) 의 상면에 고정되고 또한 가동자에 대향하는 고정자 (예를 들어, 자석 및 코일의 타방) 를 포함한다.
또한, 노광 장치 (8) 가 마스크 스테이지 (12) 를 구비하고 있지 않기 때문에, 마스크 지지부 (151) 는, Z 축 방향을 따라 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 (M) 의 적어도 일부에 대향하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 요컨대, 마스크 지지부 (151) 는, 마스크 지지부 (151) 의 적어도 일부가 마스크 (M) 의 적어도 일부의 상방에 위치하는 것이 가능한 위치에 배치된다. 그 결과, 마스크 지지부 (151) 는, 정반 (64) 의 하방에 있어서, 마스크 (M) 의 상방으로부터 마스크 (M) 를 비접촉으로 지지한다. 단, 제 8 실시형태에 있어서도, 마스크 지지부 (151) 는, 조명광 (EL) 의 광로에는 형성되지 않는다.
이와 같은 제 8 실시형태의 노광 장치 (8) 에 의하면, 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수할 수 있다.
(9) 제 9 실시형태의 노광 장치 (9)
계속해서, 도 18 내지 도 19 를 참조하면서, 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 에 대하여 설명한다. 도 18 은, 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 의 XZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다. 도 19 는, 정반 (64) 을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 18 내지 도 19 에 나타내는 바와 같이, 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 는, 상기 서술한 제 7 실시형태의 노광 장치 (7) 와 비교하여, 플레이트 스테이지 (96) 의 구조의 일부가 플레이트 스테이지 (46) 의 구조의 일부와 상이하다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (9) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (7) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다. 또한, 도 18 에서는, 도면의 간략화를 위하여 낙하 방지 장치 (62) 가 기재되어 있지 않지만, 노광 장치 (9) 가 낙하 방지 장치 (62) 를 구비하고 있어도 된다.
플레이트 스테이지 (96) 는, 플레이트 스테이지 (46) 와 비교하여, 복수의 (도 18 내지 도 19 에 나타내는 예에서는, 2 개의) 미동 스테이지 (464) 를 포함한다는 점에서 상이하다. 또한, 제 9 실시형태에서는, 필요에 따라, 2 개의 미동 스테이지 (464) 를, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 라고 칭하여 서로 구별한다. 플레이트 스테이지 (96) 의 그 밖의 구조는, 플레이트 스테이지 (46) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
플레이트 스테이지 (96) 가 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 를 포함하고 있기 때문에, X 조동 스테이지 (161X) 는, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 를 지지한다. 또한, X 조동 스테이지 (161X) 에는, 미동 스테이지 (464-1) 를 이동시키기 위한 X 미동 스테이지 구동계 (165X), Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 및 Z 미동 스테이지 구동계 (165Z) 와, 미동 스테이지 (464-2) 를 이동시키기 위한 X 미동 스테이지 구동계 (165X), Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 및 Z 미동 스테이지 구동계 (165Z) 가 배치된다. 단, X 미동 스테이지 구동계 (165X) 의 적어도 일부가 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 에 의해 공용되어도 된다. Y 미동 스테이지 구동계 (165Y) 의 적어도 일부가 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 에 의해 공용되어도 된다. Z 미동 스테이지 구동계 (165Z) 의 적어도 일부가 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 에 의해 공용되어도 된다.
미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 의 각각의 케이스 (4642) 의 내부의 공간 (4645) 을 지지 프레임 (475) 의 빔부 (4751) 가 통과하도록 배치된다. 이 때문에, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, X 축 방향을 따라 나열되도록 배치된다.
미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 의 각각은, 유지부 (1641) 를 사용하여 플레이트 (P) 를 유지한다. 따라서, 플레이트 (P) 는, 플레이트 (P) 의 하면의 2 개 지점에 있어서 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 에 의해 유지된다. 도 18 및 도 19 에 나타내는 예에서는, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, X 축 방향을 따라 나열되어 있다. 이 때문에, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, 플레이트 (P) 의 상면 (요컨대, 노광면에 대향하는 면, 반대면, 이면) 상에 있어서 X 축 방향을 따라 나열되는 2 개의 위치에 있어서 플레이트 (P) 를 유지한다.
미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, XY 평면 상에 있어서의 플레이트 (P) 의 중심보다 일방측에 위치하는 영역 및 XY 평면 상에 있어서의 플레이트 (P) 의 중심보다 타방측 (요컨대, 일방측과는 반대측) 에 위치하는 영역을 각각 유지한다. 요컨대, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, XY 평면 상에 있어서의 플레이트 (P) 의 중심보다 일방측에 위치하는 영역 및 XY 평면 상에 있어서의 플레이트 (P) 의 중심보다 타방측에 위치하는 영역을 각각 유지할 수 있도록 배치되어 있다 (다시 말하면, 위치 맞춤되어 있다). 도 18 및 도 19 에 나타내는 예에서는, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 가 X 축 방향을 따라 나열되어 있기 때문에, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, XY 평면 상에 있어서의 플레이트 (P) 의 중심보다 ＋X 측에 위치하는 영역 및 XY 평면 상에 있어서의 플레이트 (P) 의 중심보다 -X 측에 위치하는 영역을 각각 유지한다. 예를 들어, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, 플레이트 (P) 의 X 축 방향의 양단부 부근의 영역을 유지한다. 단, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, 플레이트 (P) 의 하면의 랜덤하게 선택되는 위치에 있어서 플레이트 (P) 를 유지해도 된다.
이와 같은 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 에 의하면, 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수할 수 있다. 또한, 노광 장치 (9) 가 복수의 미동 스테이지 (464) (특히, 복수의 유지부 (1641)) 를 구비하고 있기 때문에, 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 와 동일하게, 복수의 미동 스테이지 (464) 에 의해 유지되어 있는 플레이트 (P) 의 휨이 억제 또는 방지된다. 요컨대, 플레이트 (P) 의 평면도가 적절히 유지된다.
제 9 실시형태에서는 또한, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, 플레이트 (P) 의 휨을 억제하거나 또는 방지하도록, 서로 동기하면서 이동한다. 그 결과, 제 9 실시형태에서는, 플레이트 (P) 의 휨이 보다 더욱 적절히 억제 또는 방지된다 (요컨대, 플레이트 (P) 의 평면도가 적절히 유지된다). 이하, 제 9 실시형태에 있어서의 플레이트 (P) 의 휨을 억제하거나 또는 방지하기 위한 동작에 대하여 추가로 설명한다.
예를 들어, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 는, 미동 스테이지 (464-1) 와 미동 스테이지 (464-2) 가 XY 평면을 따라 서로 멀어지도록 작용하는 힘이 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 에 가해지도록 이동해도 된다. 요컨대, 미동 스테이지 (464-1 및 464-2) 에는, 미동 스테이지 (464-1) 와 미동 스테이지 (464-2) 가 XY 평면을 따라 서로 멀어지도록 작용하는 힘이 가해져도 된다. 구체적으로는, 미동 스테이지 (464-1) 를 ＋X 측으로 이동시키는 것이 가능한 힘이 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 로부터 미동 스테이지 (464-1) 에 가해지고, 미동 스테이지 (464-2) 를 -X 측으로 이동시키는 것이 가능한 힘이 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 로부터 미동 스테이지 (464-2) 에 가해져도 된다. 그 결과, 미동 스테이지 (464-1) 의 유지부 (1641) 및 미동 스테이지 (464-2) 의 유지부 (1641) 에도 또한, 당해 2 개의 유지부 (1641) 가 XY 평면을 따라 서로 멀어지도록 작용하는 힘이 가해진다. 따라서, 2 개의 유지부 (1641) 가 유지하는 플레이트 (P) 가 X 축 방향을 따라 휠 가능성이 작아진다. 혹은, 2 개의 유지부 (1641) 가 유지한 상태에서 X 축 방향을 따라 이미 휘어져 있던 플레이트 (P) 의 휨이 해소된다 (요컨대, 신장된다).
혹은, 플레이트 (P) 의 이동 방향에 있어서의 전방측에 위치하는 일방의 미동 스테이지 (464) 가 플레이트 (P) 를 견인하도록 플레이트 (P) 의 이동 방향을 향하여 이동하는 한편으로, 플레이트 (P) 의 이동 방향에 있어서의 후방측에 위치하는 타방의 미동 스테이지 (464) 가, 플레이트 (P) 를 압출하지 않고 일방의 플레이트 스테이지 (56) 에 추종하도록 이동해도 된다. 혹은, 타방의 미동 스테이지 (464) 는, 플레이트 (P) 를 압출하지 않고 일방의 미동 스테이지 (464) 에 견인되어도 된다. 이 경우, 일방의 미동 스테이지 (464) 에는, 일방의 미동 스테이지 (464) 를 플레이트 (P) 의 이동 방향을 향하여 이동시키는 것이 가능한 힘이 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 로부터 가해지고, 타방의 미동 스테이지 (464) 에는, X 미동 스테이지 구동계 (165X) 로부터 힘이 가해지지 않아도 된다. 혹은, 일방의 미동 스테이지 (464) 에는, 일방의 미동 스테이지 (464) 를 플레이트 (P) 의 이동 방향을 향하여 이동시키는 것이 가능한 힘이 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 로부터 가해지고, 타방의 미동 스테이지 (464) 에는, 타방의 미동 스테이지 (464) 를 플레이트 (P) 의 이동 방향을 향하여 이동시키는 것이 가능한 힘이고 또한 일방의 미동 스테이지 (464) 에 가해지는 힘보다 작은 힘이 X 미동 스테이지 구동계 (165X) 로부터 가해져도 된다. 그 결과, 플레이트 (P) 는, 플레이트 (P) 의 진행 방향의 전방측의 영역에서 플레이트 (P) 를 유지하는 일방의 미동 스테이지 (464) 에 의해 견인되도록 이동한다. 따라서, 2 개의 유지부 (1641) 가 유지하는 플레이트 (P) 가 X 축 방향을 따라 휠 가능성이 작아진다. 혹은, 2 개의 유지부 (1641) 가 유지한 상태에서 X 축 방향을 따라 이미 휘어져 있던 플레이트 (P) 의 휨이 해소된다 (요컨대, 신장된다).
또한, 상기 서술한 설명에서는, 복수의 미동 스테이지 (464) 는, X 축 방향을 따라 나열되도록 배치되어 있다. 그러나, 복수의 미동 스테이지 (464) 는, XY 평면 상에 있어서 X 축 방향과는 상이한 방향을 따라 나열되도록 배치되어도 된다. 예를 들어, 도 20 에 나타내는 바와 같이, 복수의 미동 스테이지 (464) 는, Y 축 방향을 따라 나열되도록 배치되어도 된다. 예를 들어, 도 21 에 나타내는 바와 같이, 복수의 미동 스테이지 (464) 는, XY 평면 상에 있어서 X 축 방향 및 Y 축 방향의 쌍방으로 교차하는 방향을 따라 나열되도록 배치되어도 된다. 복수의 미동 스테이지 (464) 가 X 축 방향과는 상이한 방향을 따라 나열되도록 배치되는 경우에는, 도 20 에 나타내는 바와 같이, 적어도 1 개의 미동 스테이지 (464) 의 케이스 (4642) 내를 지지 프레임 (475) 의 빔부 (4751) 가 통과하는 한편으로, 나머지 미동 스테이지 (464) 의 케이스 (4642) 내를 빔부 (4751) 가 통과하지 않아도 된다. 이 경우, 케이스 (4642) 내를 빔부 (4751) 가 통과하지 않는 미동 스테이지 (464) 에는, 인코더 헤드 (471) 가 배치되어 있지 않아도 된다. 혹은, 복수의 미동 스테이지 (464) 가 X 축 방향과는 상이한 방향을 따라 나열되도록 배치되는 경우에는, 도 21 에 나타내는 바와 같이, 노광 장치 (9) 는, 복수의 미동 스테이지 (464) 의 케이스 (4642) 내를 각각 통과하는 복수의 지지 프레임 (475) 을 구비하고 있어도 된다.
플레이트 스테이지 (96) 는, 3 개 이상의 미동 스테이지 (464) 를 구비하고 있어도 된다. 플레이트 스테이지 (96) 가 구비하는 미동 스테이지 (464) 의 수가 많아질수록, 플레이트 (P) 의 하면의 보다 많은 지점에서 플레이트 (P) 가 유지된다. 따라서, 플레이트 (P) 의 평면도가 보다 적절히 유지된다.
상기 서술한 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 도, 복수의 유지부 (1641) 로 플레이트 (P) 를 유지한다는 점에서는, 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 와 공통되는 특징을 가지고 있다. 이 때문에, 제 5 실시형태의 노광 장치 (5) 에 있어서도, 제 9 실시형태에 있어서의 플레이트 (P) 의 휨을 억제하거나 또는 방지하기 위한 동작이 실시되어도 된다.
(10) 제 10 실시형태의 노광 장치 (10)
계속해서, 도 22 내지 도 23 을 참조하면서, 제 10 실시형태의 노광 장치 (10) 에 대하여 설명한다. 도 22 는, 제 10 실시형태의 노광 장치 (10) 의 YZ 평면을 따른 단면 (도면의 편의상, 일부의 측면을 포함한다) 을 나타내는 단면도이다. 도 23 은, 정반 (64) 을 상방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 22 내지 도 23 에 나타내는 바와 같이, 제 10 실시형태의 노광 장치 (10) 는, 상기 서술한 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 와 비교하여, 플레이트 스테이지 (106) 의 구조의 일부가 플레이트 스테이지 (96) 의 구조의 일부와 상이하다는 점에서 상이하다. 구체적으로는, 제 10 실시형태의 노광 장치 (10) 는, 상기 서술한 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 와 비교하여, 미동 스테이지 (464) 의 유지부 (4641) 의 구조의 일부가, 유지부 (1641) 의 구조의 일부와 상이하다는 점에서 상이하다. 노광 장치 (10) 의 그 밖의 구조는, 노광 장치 (9) 의 그 밖의 구조와 동일해도 된다.
유지부 (4641) 는, Y 축 방향을 따라 연장되는 판상의 부재이다. 유지 부재 (4641) 는, Y 축 방향이 길이 방향이 되는 평면에서 보아 사각형의 형상이 된다. 유지부 (4641) 의 Y 축 방향의 길이는, 유지부 (1641) 의 Y 축 방향의 길이보다 길다. 유지부 (4641) 의 Y 축 방향의 길이는, 플레이트 (P) 의 Y 축 방향의 길이보다 짧지만, 플레이트 (P) 의 Y 축 방향의 길이보다 짧지 않아도 된다. 유지부 (4641) 의 하면 (요컨대, 플레이트 (P) 에 대향하여 플레이트 (P) 를 유지하는 면) 은, 플레이트 (P) 의 상면을 흡착 유지한다.
이 때문에, 제 10 실시형태에서는, 제 9 실시형태와 비교하여, 유지부 (4641) 와 플레이트 (P) 의 접촉 면적이 커진다. 요컨대, 제 9 실시형태에서는 복수의 미동 스테이지 (464) 로 플레이트 (P) 를 유지함으로써 플레이트 (P) 가 유지되는 유지 위치의 수를 증가시키고 있는 데에 반하여, 제 10 실시형태에서는 추가로, 유지부 (4641) 로 플레이트 (P) 를 유지함으로써 플레이트 (P) 의 유지 면적 (요컨대, 유지부 (4641) 에 의해 유지되어 있는 플레이트 (P) 의 상면의 영역의 면적) 을 증가시키고 있다. 이 때문에, 플레이트 (P) 의 휨이 보다 더욱 적절히 억제 또는 방지된다. 요컨대, 플레이트 (P) 의 평면도가 보다 더욱 적절히 유지된다. 더하여, Y 축 방향이 길이 방향이 되는 형상을 유지부 (4641) 가 가지고 있기 때문에, 플레이트 (P) 의 Y 축 방향의 휨도 적절히 억제 또는 방지된다. 요컨대, 플레이트 (P) 의 평면도가 보다 더욱 적절히 유지된다.
이와 같은 유지부 (4641) 의 일 구체예에 대하여, 도 24(a) 내지 도 25 를 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 도 24(a) 는, 유지부 (4641) 의 하면을 나타내는 평면도이고, 도 24(b) 는, 유지부 (4641) 의 측면을 나타내는 평면도이다. 도 25 는, 유지부 (4641) 의 YZ 단면을 나타내는 단면도이다.
도 24(a) 및 도 25 에 나타내는 바와 같이, 유지부 (4641) 는, 베이스부 (1030) 와, 중간부 (1034) 와, 유지면부 (1036) 와, 복수의 (도 24(a) 에 나타내는 예에서는, 3 개의) 척부 (1040) 를 포함한다. 베이스부 (1032), 중간부 (1034) 및 유지면부 (1036) 의 각각은, 평면에서 보아 판상의 부재이다. 베이스부 (1032) 의 하면에 중간부 (1034) 가 적층되고, 중간부 (1034) 의 하면에 유지면부 (1036) 가 적층된다. 유지부 (4641) 는, 척부 (1040) 가 플레이트 (P) 의 상면을 흡착함으로써 플레이트 (P) 를 유지한다. 따라서, 척부 (1040) 의 하면 (요컨대, 하단) 에는, 기체 흡인공이 형성되어 있다. 기체 흡인공을 통하여 흡인된 기체는, 베이스부 (1032) 및 중간부 (1034) 내에 형성된 관로 (1062) 를 통하여 흡인된다.
3 개의 척부 (1040) 는, 유지면부 (1036) 의 내부에 형성된 3 개의 수용부 (1038) 에 각각 수용된다. 수용부 (1038) 는, 유지면부 (1036) 내에 형성되고 또한 유지면부 (1036) 의 하면측으로 개구한 공간이다. 복수의 수용부 (1038) 중 1 개는, 유지면부 (1036) 의 중심 (구체적으로는, XY 평면 상에서의 중심) 부근에 형성된다. 이하, 유지면부 (1036) 의 중심 부근에 형성된 수용부 (1038) 에 수용되어 있는 척부 (1040) 를, 적절히 "센터 척부 (1040C)" 라고 칭한다.
여기서, 도 26(a) 내지 도 26(b) 를 참조하면서, 척부 (1040) 의 구조에 대하여 추가로 설명한다. 도 26(a) 는, 척부 (1040) 의 YZ 단면을 나타내는 단면도이다. 도 26(b) 는, 척부 (1040) 를 하방으로부터 관찰한 평면도이다.
도 26(a) 및 도 26(b) 에 나타내는 바와 같이, 척부 (1040) 는, 돌출부 (1042) 와, 플랜지부 (1044) 를 포함한다. 돌출부 (1042) 는, 원통 형상의 부재이다. 플랜지부 (1044) 는, 돌출부 (1042) 의 상단에 일체적으로 접속되는 원반상의 부재이다. 수용부 (1038) 에 척부 (1040) 가 수용된 상태에서는, 돌출부 (1042) 의 하단이 유지면부 (1036) 의 하면으로부터 약간 (예를 들어, 수십 마이크로미터 정도) 돌출되도록, 돌출부 (1042) 의 사이즈가 조정되어 있다. 유지면부 (1036) 의 하면으로부터의 돌출부 (1042) 의 돌출량은, 척부 (1040) 에 의해 흡착된 플레이트 (P) 를, 유지면부 (1036) 로부터의 기체의 분출에서 기인하여 발생하는 면 압력을 사용하여 유지면부 (1036) 가 비접촉 지지 가능한 양으로 설정된다. 플랜지부 (1044) 는, 척부 (1040) 가 수용부 (1038) 로부터 빠져 나가는 것을 방지한다.
돌출부 (1042) 의 하단에는, 원환상으로 형성된 둘레 벽부 (1048a) 와, 둘레 벽부 (1048a) 의 내측에 배치된 복수의 핀 (1048b) 이 형성되어 있다. 둘레 벽부 (1048a) 의 하단과 복수의 핀 (1048b) 의 하단은, Z 축 방향을 따른 위치 (요컨대, 높이) 가 동일해지도록 위치 맞춤되어 있다. 돌출부 (1042) 의 하단에는 추가로, 둘레 벽부 (1048a) 의 내측의 공간의 기체를 흡인하기 위한 기체 흡인공 (1048c) 이 형성되어 있다. 기체 흡인공 (1048c) 은, 복수의 핀 (1048b) 으로 둘러싸인 영역의 중심 부근에 형성되어 있다. 둘레 벽부 (1048a) 및 복수의 핀 (1048b) 의 각각의 하단이 플레이트 (P) 의 상면에 접촉한 상태에서, 기체 흡인공 (1048c) 을 통하여 둘레 벽부 (1048a) 의 내측의 공간의 기체가 흡인된다. 그 결과, 둘레 벽부 (1048a) 의 내측의 공간에는, 진공 흡인력이 발생한다. 이 진공 흡인력에 의해, 척부 (1040) (요컨대, 유지부 (4641)) 는, 플레이트 (P) 를 유지한다.
다시, 도 25 에 있어서, 척부 (1040) 가 수용부 (1038) 에 수용된 상태에서, 수용부 (1038) 를 형성하는 벽면과, 척부 (1040) 의 외주면 (구체적으로는, 돌출부 (1042) 및 플랜지부 (1044) 의 측면) 사이에는, 소정의 간극이 확보된다. 이 간극에 의해, 척부 (1040) 가 수용부 (1038) 에 수용된 상태에서, 척부 (1040) 의 XY 평면을 따른 이동이 유지면부 (1036) 에 의해 제한되는 경우는 없다. 요컨대, 척부 (1040) 는, XY 평면을 따라 비구속의 상태 (요컨대, 가동 가능한 상태) 에 있다. 제 10 실시형태에서는, 유지부 (4641) 는, 척부 (1040) 의 비구속의 상태를 이용하여, 플레이트 (P) 의 휨을 해소 가능하다. 이하, 이 동작에 대하여 추가로 설명한다.
관로 (1060) 를 통하여 유지면부 (1036) 에 공급된 기체는, 유지면부 (1036) 의 하면의 기체 분출공으로부터 분출된다. 또한, 제 10 실시형태에서는, 유지면부 (1036) 는, 다공체인 것으로 한다. 그 결과, 유지면부 (1036) 의 하면으로부터 플레이트 (P) 의 상면을 향하여 기체가 분출된다. 이 경우, 유지면부 (1036) 의 하면으로부터 플레이트 (P) 의 상면을 향하여 분출되는 기체에서 기인하여, 유지면부 (1036) 로부터 플레이트 (P) 에 대하여 균일한 면 압력이 발생한다. 또한, 유지면부 (1036) 가 다공체이기 때문에, 유지면부 (1036) 와 플레이트 (P) 사이의 공간으로부터 유지면부 (1036) 의 하면의 구멍 (기체 흡인공으로서 작용할 수 있는 구멍) 을 통하여 기체가 흡인된다. 그 결과, 플레이트 (P) 의 상면에는, 기체 분출공으로부터의 기체의 분출에서 기인하여 발생하는 중력 방향 (요컨대, -Z 측) 으로 작용하는 힘 및 기체 흡인공으로부터의 기체의 흡인에서 기인하여 발생하는 중력 방향과는 반대측 (요컨대, ＋Z 측) 으로 작용하는 힘이 발생한다. 이 2 개의 힘의 배분은, 플레이트 (P) 의 상면을 평탄하게 하는 것이 가능한 적절한 배분으로 설정된다. 그 결과, 유지부 (4641) 가 플레이트 (P) 를 흡착함으로써, 플레이트 (P) 의 휨이 해소된다.
또한, 유지면부 (1036) 가 다공체이기 때문에, 관로 (1060) 를 통하여 유지면부 (1036) 에 공급된 기체는, 또한, 유지면부 (1036) 의 하면 이외의 외면의 기체 분출공으로부터도 분출된다. 그 결과, 예를 들어, 유지면부 (1036) 는, 척부 (1040) (단, 센터 척부 (1040C) 를 제외한다) 의 외주면으로 기체를 분출한다. 또한, 도 25 중에 나타내는 화살표는, 기체의 흐름을 나타내고 있다. 척부 (1040) 는, 유지면부 (1036) 로부터 분출된 기체의 정압에 의해, 수용부 (1038) 를 형성하는 벽면과 척부 (1040) 의 외주면 사이에 간극을 확보한 상태로 유지된다. 더하여, 제 10 실시형태에서는, 센터 척부 (1040C) 를 제외한 다른 척부 (1040) 는, 다공체인 환상 부재 (1046) 의 하방에 배치된다. 환상 부재 (1046) 에도 또한, 관로 (1060) 를 통하여 기체가 공급된다. 그 결과, 예를 들어, 환상 부재 (1046) 는, 예를 들어, 척부 (1040) (단, 센터 척부 (1040C) 를 제외한다) 의 상면 (구체적으로는, 플랜지부 (1044) 의 상면) 에 기체를 분출한다. 척부 (1040) 는, 환상 부재 (1046) 로부터 분출된 기체의 정압에 의해, 수용부 (1038) 를 형성하는 벽면과 척부 (1040) 의 상면 사이에 간극을 확보한 상태로 유지된다. 수용부 (1038) 를 형성하는 벽면과 척부 (1040) 의 상면 및 외주면 사이에 간극이 확보되어 있는 상태에서는, 척부 (1040) 는, 플레이트 (P) 를 유지한 채로 XY 평면을 따라 자유롭게 이동할 수 있다. 이 때, 플레이트 (P) 가 휘어 있는 경우에는, 플레이트 (P) 의 강성에서 기인하여, 플레이트 (P) 의 휨을 해소하는 방향으로 작용하는 힘이 플레이트 (P) 에 가해진다. 이 힘에서 기인하여, 자유롭게 이동 가능한 척부 (1040) 도 또한 XY 평면을 따라 이동한다. 요컨대, 척부 (1040) 는, 플레이트 (P) 의 휨을 해소하도록 이동한다. 한편으로, 센터 척부 (1040C) 는, XY 평면을 따라 이동할 수 없도록 구속된 상태에 있다. 이 때문에, 센터 척부 (1040C) 를 제외한 다른 척부 (1040) 의 이동에 의해, 센터 척부 (1040C) 에 의해 유지된 플레이트 (P) 의 위치를 기점으로, 플레이트 (P) 의 휨이 해소된다.
플레이트 (P) 의 휨을 해소할 수 있을 정도로 척부 (1040) 가 이동한 후에는, 척부 (1040) 는, XY 평면을 따라 비구속의 상태 (요컨대, 가동 가능한 상태) 로부터, XY 평면을 따라 구속된 상태 (요컨대, 가동 불가능한 상태) 로 바뀐다. 구체적으로는, 예를 들어, 관로 (1060) 를 통한 환상 부재 (1046) 로의 기체의 공급이 정지됨과 함께, 환상 부재 (1046) 에 부압이 공급된다. 그 결과, 수용부 (1038) 를 형성하는 벽면과 척부 (1040) 의 상면이 접촉하기 때문에, 당해 벽면과 척부 (1040) 의 상면의 마찰력에 의해, 척부 (1040) 는, XY 평면을 따라 구속된 상태가 된다.
이와 같이, 제 10 실시형태의 노광 장치 (10) 는, 상기 서술한 제 9 실시형태의 노광 장치 (9) 가 향수 가능한 효과와 동일한 효과를 향수하면서, 플레이트 (P) 의 휨을 보다 적절히 해소할 수 있다. 요컨대, 플레이트 (P) 의 평면도가 보다 적절히 유지된다.
또한, 상기 서술한 설명에서는, XY 평면을 따라 비구속의 상태에 있는 복수의 척부 (1040) 는, 플레이트 (P) 의 강성에서 기인하여 플레이트 (P) 의 휨을 해소하도록 플레이트 (P) 에 작용하는 힘을 사용하여 이동하고 있다. 요컨대, 노광 장치 (10) 는, 복수의 척부 (1040) 를 능동적으로 이동시키기 위한 구동계를 구비하고 있지 않다. 그러나, 노광 장치 (10) 는, 복수의 척부 (1040) 를 능동적으로 이동시키기 위한 구동계를 구비하고 있어도 된다. 이 구동계는, 모터 등의 동력원으로부터 출력되는 힘을 사용하여, 복수의 척부 (1040) 를 이동시켜도 된다. 혹은, 이 구동계는, 복수의 척부 (1040) 의 외주면에 분출되는 기체의 압력을 제어함으로써, 복수의 척부 (1040) 를 이동시켜도 된다. 구체적으로는, 각 척부 (1040) 의 XY 평면 상에서의 이동 방향은, 각 척부 (1040) 의 외주면에 분출되는 기체의 압력에 의해 제어 가능하다. 예를 들어, 각 척부 (1040) 의 ＋X 측의 외주면에 분출되는 기체의 압력이 각 척부 (1040) 의 -X 측의 외주면에 분출되는 기체의 압력보다 높으면, 각 척부 (1040) 는, -X 측을 향하여 이동한다. 이 때문에, 구동계는, 각 척부 (1040) 의 외주면에 분출되는 기체의 압력을 제어함으로써, 각 척부 (1040) 를 원하는 이동 방향으로 이동시켜도 된다. 일례로서, 구동계는, 도 27 에 나타내는 바와 같이, 센터 척부 (1040C) 이외의 다른 척부 (1040) 가 센터 척부 (1040C) 로부터 멀어지도록, 복수의 척부 (1040) 를 이동시켜도 된다. 그 결과, 플레이트 (P) 의 휨이 적절히 해소된다.
단, 유지부 (4641) 는, 플레이트 (P) 의 휨을 해소 가능한 기구 (예를 들어, 상기 서술한 XY 평면을 따라 비구속의 상태로 설정 가능한 척부 (1040)) 를 구비하고 있지 않아도 된다. 유지부 (4641) 는, 플레이트 (P) 를 유지할 수 있는 한은, 어떠한 구조를 가지고 있어도 된다.
유지부 (4641) 는, X 축 방향을 따라 연장되는 판상의 부재여도 된다. 유지부 (4641) 는, XY 평면 상에 있어서 X 축 방향 및 Y 축 방향의 쌍방으로 교차하는 방향을 따라 연장되는 판상의 부재여도 된다. 유지부 (4641) 는, XY 평면을 따라 확대되는 판상의 부재여도 된다. 플레이트 스테이지 (106) 는, 제 1 방향 (예를 들어, X 축 방향) 을 따라 연장되는 판상의 부재인 유지부 (4641) 를 포함하는 미동 스테이지 (464) 와, 제 1 방향과는 상이한 제 2 방향 (예를 들어, Y 축 방향) 을 따라 연장되는 판상의 부재인 유지부 (4641) 를 포함하는 미동 스테이지 (464) 를 포함하고 있어도 된다.
상기 서술한 제 1 실시형태의 노광 장치 (1) 가 구비하는 플레이트 스테이지 (16) 가, 유지부 (1641) 에 더하여 또는 대신에 유지부 (4641) 를 포함하고 있어도 된다. 제 2 실시형태의 노광 장치 (2) 내지 제 8 실시형태의 노광 장치 (8) 에 있어서도 동일하다.
(11) 디바이스 제조 방법
계속해서, 도 28 을 참조하면서, 상기 서술한 노광 장치 (1) 를 사용하여 표시 패널을 제조하는 방법에 대하여 설명한다. 도 28 은, 상기 서술한 노광 장치 (1) (혹은, 노광 장치 (2) 내지 노광 장치 (10)) 를 사용하여 표시 패널을 제조하는 디바이스 제조 방법의 흐름을 나타내는 플로우 차트이다. 또한, 이하에서는, 설명의 편의상, 표시 패널의 일례인 액정 표시 패널을 제조하는 디바이스 제조 방법에 대하여 설명한다. 단, 그 밖의 표시 패널도 또한, 도 28 에 나타내는 디바이스 제조 방법 또는 도 28 에 나타내는 디바이스 제조 방법의 적어도 일부를 개변한 디바이스 제조 방법을 사용하여 제조 가능하다.
도 28 의 스텝 S200 (마스크 제조 공정) 에서는, 먼저, 마스크 (131) 가 제조된다. 그 후, 스텝 S201 (패턴 형성 공정) 에서는, 노광 대상의 플레이트 (P) 상에 레지스트를 도포하는 도포 공정, 상기 서술한 노광 장치 (1) 등을 사용하여 표시 패널용의 마스크 패턴을 플레이트 (P) 에 전사하는 노광 공정, 및, 당해 플레이트 (P) 를 현상하는 현상 공정이 실행된다. 이 도포 공정, 노광 공정, 및 현상 공정을 포함하는 리소그래피 공정에 의해, 플레이트 (P) 상에, 마스크 패턴 (혹은, 디바이스 패턴) 에 대응하는 레지스트 패턴이 형성된다. 리소그래피 공정에 이어서, 레지스트 패턴을 마스크로 한 에칭 공정 및 레지스트 패턴을 제거하는 박리 공정 등이 실행된다. 그 결과, 플레이트 (P) 상에 디바이스 패턴이 형성된다. 이와 같은 리소그래피 공정 등은, 플레이트 (P) 에 형성되는 레이어의 수에 따라 복수회 실행된다.
스텝 S202 (컬러 필터 형성 공정) 에서는, 컬러 필터가 형성된다. 스텝 S203 (셀 조립 공정) 에서는, 스텝 S201 에 있어서 디바이스 패턴이 형성된 기판 (151) 과 스텝 S202 에 있어서 형성된 컬러 필터 사이에 액정이 주입된다. 그 결과, 액정 셀이 제조된다.
그 후의 스텝 S204 (모듈 조립 공정) 에서는, 스텝 S203 에 있어서 제조된 액정 셀에 원하는 표시 동작을 실시하게 하기 위한 부품 (예를 들어, 전기 회로 및 백라이트 등) 이 장착된다. 그 결과, 액정 표시 패널이 완성된다.
또한, 조명광 (EL) 은, ArF 엑시머 레이저 광 (파장 193 ㎚) 및 KrF 엑시머 레이저 광 (파장 248 ㎚) 등의 자외광이어도 된다. 조명광 (EL) 은, F2 레이저 광 (파장 157 ㎚) 등의 진공 자외광이어도 된다. 조명광 (EL) 으로서, DFB 반도체 레이저 또는 파이버 레이저로부터 발진되는 적외역 또는 가시역의 단일 파장 레이저 광을, 에르븀 (또는 에르븀과 이테르븀의 양방) 이 도핑된 파이버 앰프로 증폭하고, 비선형 광학 결정을 사용하여 자외광으로 파장 변환함으로써 얻어지는 고조파가 이용되어도 된다. 조명광 (EL) 으로서, 고체 레이저 (파장 : 355 ㎚, 266 ㎚) 등이 이용되어도 된다.
상기 서술한 설명에서는, 투영 광학계 (13) 는, 복수의 광학계를 포함하는 멀티 렌즈 방식의 투영 광학계이다. 그러나, 투영 광학계 (13) 는, 1 개의 광학계를 포함하는 투영 광학계여도 된다. 혹은, 투영 광학계 (13) 는, 오프너형의 대형 미러를 사용한 투영 광학계여도 된다.
노광 장치 (1) (혹은, 노광 장치 (2 내지 10), 이하 이 단락에 있어서 동일) 는, 표시 패널을 제조하기 위한 용도뿐만 아니라, 반도체 소자, 박막 자기 헤드 혹은 마이크로 머신 등의 전자 디바이스를 제조하기 위한 용도나, DNA 칩 등의 디바이스를 제조하기 위한 용도로 사용되어도 된다. 노광 장치 (1) 는, 광 노광 장치, EUV 노광 장치, X 선 노광 장치, 및 전자선 노광 장치 등에서 사용되는 마스크 또는 레티클을 제조하기 위하여, 유리 기판 또는 실리콘 웨이퍼 등에 회로 패턴을 전사하는 용도로 사용되어도 된다. 노광 대상이 되는 물체는, 상기 서술한 평판 유리인 플레이트 (P) 에 한정하지 않고, 플레이트 (P) 이외의 다른 물체 (예를 들어, 웨이퍼, 세라믹 기판, 필름 부재, 또는, 마스크 블랭크스) 여도 된다.
상기 서술한 각 실시형태의 구성 요건의 적어도 일부는, 상기 서술한 각 실시형태의 구성 요건의 적어도 다른 일부와 적절히 조합할 수 있다. 어느 실시형태의 구성 요건의 적어도 일부는, 다른 실시형태와 적절히 조합할 수 있다. 상기 서술한 각 실시형태의 구성 요건 중 일부가 이용되지 않아도 된다. 또한, 법령으로 허용되는 한에 있어서, 상기 서술한 각 실시형태에서 인용한 노광 장치 등에 관한 모든 공개 공보 및 미국 특허의 개시를 원용하여 본문 기재의 일부로 한다.
본 발명은, 상기 서술한 실시예에 한정되는 것이 아니고, 특허 청구의 범위 및 명세서 전체로부터 판독되는 발명의 요지 혹은 사상에 반하지 않는 범위에서 적절히 변경 가능하고, 그러한 변경을 수반하는 노광 장치, 노광 방법, 플랫 패널 디스플레이의 제조 방법, 및, 디바이스 제조 방법도 또한 본 발명의 기술적 범위에 포함되는 것이다.
1 ; 노광 장치
11 ; 조명 광학계
12 ; 마스크 스테이지
13 ; 투영 광학계
14 ; 정반
141 ; 가대부
142 ; 레그부
143 ; 기체 공급관
145 ; 기체 흡인관
151 ; 마스크 지지부
152 ; 플레이트 지지부
16 ; 플레이트 스테이지
M ; 마스크
P ; 플레이트

Claims (51)

  1. 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여, 마스크가 갖는 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 장치에 있어서,
    상기 광학계를 지지하는 지지 장치와,
    상기 지지 장치에 형성되고, 상기 물체의 제 1 면을 상기 주사 노광시에 비접촉 지지하는 물체 지지부와,
    상기 주사 노광시에, 상기 물체의 제 1 면과 대향하는 제 2 면을 유지하고, 또한, 상기 물체 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 물체를 상기 물체 지지부에 대하여 상대 구동시키는 유지부를 구비하는 노광 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 물체 지지부는, 상기 물체의 노광면을 비접촉 지지하는 노광 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 유지부는, 상기 주사 노광에 있어서, 상기 물체를 유지한 상태에서 상기 광학계와 대향하는 위치를 통과 가능한 노광 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 유지부는, 상기 주사 노광에 있어서, 상기 물체를 유지한 상태에서 상기 광학계의 광학 중심을 통과 가능한 노광 장치.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 유지부는, 상기 비접촉 지지된 물체가 휘지 않도록, 상기 제 2 면의 복수 지점을 유지하는 노광 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 복수 지점을 유지하는 상기 유지부는, 상기 물체가 휘지 않도록, 서로 멀어지는 방향으로 구동하는 노광 장치.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 지지 장치와 이간하여 형성되고, 상기 유지부를 지지하는 지지 부재를 추가로 구비하는 노광 장치.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 주사 노광에 있어서, 상기 소정 패턴을 갖는 마스크를 구동하는 마스크 구동부와,
    상기 지지 장치에 형성되고, 상기 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부
    를 추가로 구비하는 노광 장치.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 지지 장치에 형성되고, 상기 마스크를 비접촉 지지하는 마스크 지지부와,
    상기 주사 노광에 있어서, 상기 마스크 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부
    를 추가로 구비하는 노광 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 지지 장치는, 상기 물체를 비접촉 지지하는 기체를 상기 물체 지지부에 공급하기 위한 기체 공급부를 갖는 노광 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 기체 공급부는, 상기 마스크 지지부에 기체를 공급하는 노광 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 지지 장치는, 상기 물체와 상기 물체 지지부 사이의 기체를 흡인하는 흡인부를 갖는 노광 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 흡인부는, 상기 마스크 지지부로부터 기체를 흡인하는 노광 장치.
  14. 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 장치에 있어서,
    상기 물체의 제 1 면을 상기 주사 노광시에 비접촉 지지하는 물체 지지부와,
    상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부와,
    상기 마스크 지지부와 상기 광학계의 적어도 어느 일방과 상기 물체 지지부를 지지하는 지지 장치와,
    상기 주사 노광시에, 상기 물체의 제 1 면과 대향하는 제 2 면을 유지하고, 또한, 상기 물체 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 물체를 상기 물체 지지부에 대하여 상대 구동시키는 유지부
    를 구비하는 노광 장치.
  15. 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 장치에 있어서,
    상기 물체의 제 1 면을 상기 주사 노광시에 비접촉 지지하는 물체 지지부와,
    상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부와,
    상기 물체 지지부와 상기 마스크 지지부를 지지하는 지지 장치와,
    상기 주사 노광시에, 상기 물체의 제 1 면과 대향하는 제 2 면을 유지하고, 또한, 상기 물체 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 물체를 상기 물체 지지부에 대하여 상대 구동시키는 유지부
    를 구비하는 노광 장치.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 지지 장치와 이간하여 배치되고, 상기 광학계를 지지하는 광학계 지지부를 추가로 구비하는 노광 장치.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 지지 장치와 이간하여 형성되고, 상기 유지부를 지지하는 지지 부재를 추가로 구비하는 노광 장치.
  18. 제 8 항에 있어서,
    상기 지지 장치와 이간하여 형성되고, 상기 유지부를 지지하는 지지 부재와,
    상기 지지 장치 및 상기 지지 부재와 이간하여 형성되고, 상기 마스크 구동부를 지지하는 지지 프레임
    을 추가로 구비하는 노광 장치.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 지지 장치는, 상기 주사 노광에 있어서 상기 물체가 구동되는 주사 방향과 교차하는 소정 방향에 관하여, 상기 지지 프레임과 상기 지지 부재 사이에 형성되는 노광 장치.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 지지 프레임은, 상기 소정 방향에 관하여, 상기 지지 장치 및 상기 지지 부재보다 외측에 형성되는 노광 장치.
  21. 제 1 항, 제 2 항 및 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조명광의 진행 방향은, 중력 방향과 평행한 방향인 노광 장치.
  22. 제 19 항에 있어서,
    상기 지지 프레임은, 상기 소정 방향에 관하여, 상기 지지 장치 및 상기 지지 부재보다 내측에 형성되는 노광 장치.
  23. 제 1 항, 제 2 항 및 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조명광의 진행 방향은, 중력 방향과 반대의 방향인 노광 장치.
  24. 제 22 항에 있어서,
    상기 마스크를 조사하는 조명 광학계를 추가로 구비하고,
    상기 조명 광학계는, 상기 지지 장치와 상기 지지 프레임과 상기 지지 부재와는 이간하여 형성되는 노광 장치.
  25. 제 1 항, 제 2 항 및 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 주사 노광에 있어서, 상기 광학계에 대한 상기 물체의 위치를 계측하는 계측계를 추가로 구비하는 노광 장치.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 계측계의 일부는, 상기 유지부에 형성되고,
    상기 계측계의 타부는, 상기 지지 장치에 형성되는 노광 장치.
  27. 제 1 항, 제 2 항 및 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물체 지지부는, 다공체로 형성되는 노광 장치.
  28. 제 1 항, 제 2 항 및 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물체 지지부는, 상기 조명광이 상기 물체에 조사 가능하게 구성되어 있는 노광 장치.
  29. 제 28 항에 있어서,
    상기 물체 지지부는, 상기 조명광이 통과하는 위치에 개구를 갖는 노광 장치.
  30. 제 29 항에 있어서,
    상기 물체 지지부는, 상기 개구를 매립하는 투명 부재를 갖는 노광 장치.
  31. 제 1 항, 제 2 항 및 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 물체는, 디스플레이 장치의 표시 패널에 사용되는 기판인 노광 장치.
  32. 제 31 항에 있어서,
    상기 물체는, 사이즈가 500 ㎜ 이상인 기판인 노광 장치.
  33. 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여, 마스크가 갖는 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 방법에 있어서,
    상기 주사 노광시에, 상기 광학계를 지지하는 지지 장치에 형성된 물체 지지부에 의해, 상기 물체의 제 1 면을 비접촉 지지하는 것과,
    상기 주사 노광시에, 상기 물체의 제 1 면과 대향하는 제 2 면을 유지부에 의해 유지하고, 상기 물체 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 물체를 상기 유지부에 의해 상기 물체 지지부에 대하여 상대 구동시키는 것을 포함하는 노광 방법.
  34. 제 33 항에 있어서,
    상기 비접촉 지지하는 것에서는, 상기 물체의 노광면을 비접촉 지지하는 노광 방법.
  35. 제 33 항에 있어서,
    상기 상대 구동시키는 것에서는, 상기 주사 노광에 있어서, 상기 물체를 유지한 상기 유지부를, 상기 광학계와 대향하는 위치를 통과시키는 노광 방법.
  36. 제 33 항에 있어서,
    상기 지지 장치와 이간하여 형성되고, 지지 부재에 의해 상기 유지부를 지지하는 것을 추가로 포함하는 노광 방법.
  37. 제 33 항 또는 제 34 항에 있어서,
    상기 지지 장치에 형성된 마스크 지지부에 의해, 상기 소정 패턴을 갖는 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 것을 추가로 포함하는 노광 방법.
  38. 제 33 항 또는 제 34 항에 있어서,
    상기 지지 장치에 형성된 마스크 지지부에 의해, 상기 마스크를 비접촉 지지하는 것과,
    상기 주사 노광에 있어서, 상기 마스크 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 마스크를 구동하는 것을 추가로 포함하는 노광 방법.
  39. 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 방법에 있어서,
    상기 주사 노광시에, 상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부와 상기 광학계의 적어도 어느 일방과, 상기 물체의 제 1 면을 비접촉 지지하는 물체 지지부를 지지 장치에 의해 지지하는 것과,
    상기 주사 노광시에, 상기 물체의 제 1 면과 대향하는 제 2 면을 유지부에 의해 유지하고, 상기 물체 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 물체를 상기 유지부에 의해 상기 물체 지지부에 대하여 상대 구동시키는 것을 포함하는 노광 방법.
  40. 광학계를 개재하여 조명광을 물체에 조사하고, 상기 물체를 주사 노광하여 마스크에 형성된 소정 패턴을 상기 물체 상에 형성하는 노광 방법에 있어서,
    상기 주사 노광시에, 상기 물체의 제 1 면을 비접촉 지지하는 물체 지지부와, 상기 마스크 또는 상기 마스크를 구동하는 마스크 구동부를 비접촉 지지하는 마스크 지지부를 지지 장치에 의해 지지하는 것과,
    상기 주사 노광시에, 상기 물체의 제 1 면과 대향하는 제 2 면을 유지부에 의해 유지하고, 상기 물체 지지부에 의해 비접촉 지지된 상기 물체를 상기 유지부에 의해 상기 물체 지지부에 대하여 상대 구동시키는 것을 포함하는 노광 방법.
  41. 제 40 항에 있어서,
    상기 지지 장치와 이간하여 배치되고, 광학계 지지부에 의해 상기 광학계를 지지하는 것을 추가로 포함하는 노광 방법.
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