JP2000150577A - 配線基板とその製造方法、半導体装置、これらを用いた電気部品とその製造方法 - Google Patents

配線基板とその製造方法、半導体装置、これらを用いた電気部品とその製造方法

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JP2000150577A
JP2000150577A JP32805998A JP32805998A JP2000150577A JP 2000150577 A JP2000150577 A JP 2000150577A JP 32805998 A JP32805998 A JP 32805998A JP 32805998 A JP32805998 A JP 32805998A JP 2000150577 A JP2000150577 A JP 2000150577A
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Shigemasa Ariyoshi
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 線膨張係数の異なる材質下でも、電気的接続
の不良を防止できる電子部品の接続構造及び電子部品の
製造方法、チップ部材を提供すること。 【解決手段】 半導体チップ14と配線基板11の間に
樹脂層13が存し、上記半導体チップ14と配線基板1
1がバンプを介して電気的に接続されて構成される実装
パッケージ1において、上記半導体チップ14の隅角部
周辺であって、上記樹脂層13と上記配線基板11の線
膨張係数の差により線膨張変形し易い箇所には、ダミー
バンプ19、ダミーペースト20が上記チップと上記配
線基板11の間に介在して樹脂層13に存する樹脂を少
なくすることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、バンプを持つ各種
チップ部材を樹脂を介在させて実装させた配線基板とそ
の製造方法、半導体装置およびこれらを用いた電気部品
とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図11は基板2へのチップ3の従来の実
装方法についての図である。基板2の上面には、回路電
極4が設けられていて、さらにこの基板2の上面に熱硬
化性フィルム5が貼り付けられている。ここで、上記回
路電極4に接続されるチップ3には、上記回路電極4
(熱硬化性フィルム5)に対向する下面側に半田や金な
どの導電部材からなるバンプ6が取り付けられている。
このバンプ6は、チップ3側に設けられた電極7に接続
されている。
【0003】そして、このチップ3を加熱してバンプ6
を熱硬化性フィルム5の内部に押し込み、さらに上記回
路電極4に接触させて適宜の温度に加熱することによ
り、フリップチップ方式による実装がなされて実装パッ
ケージ1が形成される。なお、上記熱硬化性フィルム4
5が異方導電性の熱硬化性ペーストである場合でも、同
様の方法で実装が行われる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、熱硬化性樹
脂は実装後の温度変化により線膨張してしまう。このた
め、基板2とチップ3の間に設けられた熱硬化性フィル
ム5の材質の樹脂が温度変化によっては膨張して寸法距
離が増加してしまう。
【0005】すなわち、このような温度変化では、熱硬
化性フィルム5と基板2の線膨張係数が異なるため、当
初平らに設けられていた実装パッケージ1に残留応力が
生じてこの実装パッケージ1に反りが生じてしまう。
【0006】このような反りが実装パッケージ1に生じ
てしまうと、上記バンプ6と回路電極4の間が非接着状
態となり、それによって電気的接続に不良が生じること
になる。
【0007】ここで、上述の反りは、主にチップ3の四
隅部分で大きく生じており、また衝撃による剪断力など
に対する接続強度の向上のため、この四隅部分を図13
に示すように樹脂コーティング9で押えて実装パッケー
ジ1を形成することも行われている。
【0008】しかし、この場合、別途樹脂コーティング
9を形成する工程を設けなければならないので、手間が
掛かると共に、コストが掛かり好ましいものとなってい
ない。
【0009】このため、何等余分な工程を設けずに、簡
易に実装パッケージの電気的接触状態を維持できる構成
が望まれている。また、この樹脂コーティング9を行う
ためのスペースが基板上に必要となるので、より高密度
な回路基板の製造に支障を生じていた。
【0010】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、電気的接続の不良を防
止できる配線基板とその製造方法、半導体装置およびこ
れらを用いた電気部品とその製造方法を提供しようとす
るものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明は、回路の入出力のための電極
を有する半導体装置と、この半導体装置の前記電極と電
気的に接合される配線基板と、前記半導体装置と前記配
線基板との間に設けられる熱硬化性または熱可塑性の異
方性導電部材または樹脂封止部材と、を具備し、前記半
導体装置の外形隅部における前記異方性導電部材または
前記樹脂封止部材の量が、前記電極に相当する位置以外
の他の位置における前記導電部材の量に比して少ないこ
とを特徴とする電気部品である。
【0012】請求項2記載の発明は、回路の入出力のた
めの電極を有する半導体装置と、この半導体装置の前記
電極と電気的に接合される配線基板と、前記半導体装置
と前記配線基板との間に設けられる熱硬化性または熱可
塑性の異方性導電部材または樹脂封止部材と、を具備
し、前記半導体装置の、前記異方性導電部材または前記
樹脂封止部材の体積変化の度合いが前記電極に相当する
領域以外の他の領域に比して大きい領域における前記導
電部材の量が、前記電極に相当する領域以外の他の領域
における前記導電部材の量に比して少ないことを特徴と
する電気部品である。
【0013】請求項3記載の発明は、隅部には、電極、
または、配線基板上の配線と前記半導体装置とを電気的
に接続するバンプが接合可能な配線パターンのうち少な
くとも一方が設けられたことを特徴とする半導体装置で
ある。
【0014】請求項4記載の発明は、配線パターンは接
地用配線であることを特徴とする請求項3記載の半導体
装置である。
【0015】請求項5記載の発明は、隅部に設けられた
電極、または、配線基板上の配線と前記半導体装置とを
電気的に接続するバンプが接合する配線パターンに導電
部材からなるバンプが設けられたことを特徴とする請求
項3または請求項4記載の半導体装置である。
【0016】請求項6記載の発明は、半導体装置が設け
られる場合にこの半導体装置の隅部と対向する部位に、
配線、または、前記配線と前記半導体装置とを電気的に
接続するバンプが接合する配線パターンが設けられてい
ることを特徴とする配線基板である。
【0017】請求項7記載の発明は、半導体装置が設け
られる場合にこの半導体装置の隅部と対向する部位に、
配線、または、前記配線と、前記半導体とを電気的に接
続するバンプが接合する配線パターンに、熱硬化性また
は熱可塑性の異方性導電部材よりも熱膨張係数が小さい
部材が接合されたことを特徴とする配線基板である。
【0018】請求項8記載の発明は、回路の入出力のた
めの電極を有する半導体装置と、この半導体装置の前記
電極と電気的に接合される配線基板と、前記半導体装置
と前記配線基板との間に設けられる熱硬化性または熱可
塑性の異方性導電部材と、を具備し、前記電極が接合さ
れる前記配線基板上の配線が、前記配線基板がなす面に
対して凹形状に構成されていることを特徴とする電気部
品である。
【0019】請求項9記載の発明は、半導体装置が設け
られる場合にこの半導体装置の電極、または、配線と前
記半導体装置とを電気的に接続するバンプが接合する配
線パターンが電気的に接続される部位が、凹形状に構成
されていることを特徴とする配線基板である。
【0020】請求項10記載の発明は、回路の入出力の
ための電極を有する半導体装置をこの半導体装置の前記
電極と電気的に接合さえる配線基板と熱硬化性または熱
可塑性の異方性導電部材または樹脂封止部材と介して接
合する電気部品の製造方法において、前記半導体装置の
外形隅部における前記異方性導電部材または前記樹脂封
止部材の量が、前記電極に相当する位置以外の他の位置
における前記導電部材の量に比して少ないことを特徴と
する電気部品の製造方法である。
【0021】請求項11記載の発明は、回路の入出力の
ための電極を有する半導体装置をこの半導体装置の前記
電極と電気的に接合される配線基板と熱硬化性または熱
可塑性の異方性導電部材または樹脂封止部材と介して接
合する電気部品の製造方法において、前記半導体装置
の、前記異方性導電部材または前記樹脂封止部材の体積
変化の度合いが前記電極に相当する領域以外の他の領域
に比して大きい位置における前記導電部材の量が、前記
電極に相当する領域以外の他の領域における前記導電部
材の量に比して少ないことを特徴とする電気部品であ
る。
【0022】請求項12記載の発明は、隅部に設けられ
た電極、または、配線基板上の配線と前記半導体装置と
を電気的に接続するバンプが接合する配線パターンのう
ち少なくとも一方に導電部材からなるバンプを設けるこ
とを特徴とする請求項10または請求項11記載の電気
部品の製造方法である。
【0023】請求項13記載の発明は、半導体装置が設
けられる場合にこの半導体装置の隅部と対向する部位
に、配線、または、前記配線と前記半導体装置とを電気
的に接続するバンプが接合する配線パターンのうち少な
くとも一方を設けることを特徴とする配線基板の製造方
法である。
【0024】請求項14記載の発明は、半導体装置が設
けられる場合にこの半導体装置の隅部と対向する部位に
設けられる、配線、または、前記配線と前記半導体装置
とを電気的に接続するバンプが接合する配線パターンの
うち少なくとも一方に、熱硬化性または熱可塑性の異方
性導電部材よりも熱膨張係数が小さい部材を接合するこ
とを特徴とする配線基板の製造方法である。
【0025】請求項15記載の発明は、回路の入出力の
ための電極を有する半導体装置をこの半導体装置の前記
電極と電気的に接合される配線基板と熱硬化性または熱
可塑性の異方性導電部材または樹脂封止部材と介して接
合する電気部品の製造方法において、前記電極が接合さ
れる前記配線基板上の配線を、前記配線基板がなす面に
対して凹形状に構成することを特徴とする電気部品の製
造方法である。
【0026】請求項16記載の発明は、半導体装置が設
けられる場合にこの半導体装置の電極、または、配線と
前記半導体装置とを電気的に接続するバンプが接合する
配線パターンのうち少なくとも一方が電気的に接続され
る部位を、凹形状に構成することを特徴とする配線基板
の製造方法である。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図1ないし図8に基づいて説明する。
【0028】図1に示す電気部品の一種としての実装パ
ッケージ10の接続構造では、配線基板11の上面に回
路配線12が設けられており、この回路配線12の上面
側(チップと対向する側)は、樹脂封止部材であり熱硬
化性樹脂からなるフィルム体によって覆われている(以
下、これを樹脂層13とする)。なお、この熱硬化性樹
脂は、例えばACF(Anisotropic Con
ductive Film、異方性導電膜)、或いはA
CP(Anisotropic Conductive
Paste、異方性導電ペースト)等の異方性導電部
材からなっている。
【0029】上記樹脂層13に対向して、半導体チップ
14が接着される。半導体チップ14は、ICチップ、
ベアチップ、BGA(Ball Grid Arra
y)、PGA(Pin Grid Array)、MC
M(Multi Chip Module)等の各種チ
ップや、他の電子部品であり、この半導体チップ14の
配線基板11に対向する面には回路パターンである電極
15が設けられている。そして、この電極15の上記回
路配線12に対向する面には、バンプ16が設けられて
いる。このバンプ16は、その材質が半田或いは金、
銀、銅またはそれらの合金、導電性プラスチックボール
などの導電性部材であり、熱圧着により上記回路配線1
2に対して接着されるものである。
【0030】ここで、上記バンプ16に対向する配線基
板11の上面側には、凹部17が形成されている。この
凹部17には、その内壁面に所定厚さの配線18が形成
されている。この配線18は、凹部17の内壁面が露出
しないように全体に亘って形成されている。
【0031】このため、上記バンプ16は、この凹部1
7に入り込み、凹部17の底壁面に設けられた配線18
と接触できるように、その突出長さを有して形成されて
いる。
【0032】上記半導体チップ14には、バンプ16と
同様に半田等導電部材を材質として設けられているダミ
ーバンプ19が取り付けられている。このダミーバンプ
19は、上記半導体チップ14の四隅部分であって、配
線基板11と樹脂層13の線膨張係数の差により線膨張
変形し易い箇所に設けられていて、バンプ16が回路配
線12と接触すると、このダミーバンプ19はこれと対
向するダミーペースト20と接触するように設けられて
いる。
【0033】このダミーバンプ19は、例えば矩形状に
形成されており、このためこのダミーバンプ19が配線
基板11に接触した場合、大面積で接触するように設け
られている。
【0034】なお、このダミーバンプ19は、図5
(a)に示すように必ずしも矩形状に形成される必要は
なく、例えば図5(b),(c)に示すように略半球形
状や、略角錐形状に形成されていても構わない。
【0035】上記配線基板11のダミーバンプ19と対
向する位置には、ダミーペースト20が設けられてい
る。このダミーペースト20は、図6(b)に示すよう
に半導体チップ14に対向する部分が曲面状(若しく
は、略球形状)に盛り上がった形状を為して設けられて
いる。このため、上記ダミーバンプ19と接着する際
に、樹脂層13を押しのける量は少なくなるものの、ダ
ミーペースト20の先端部分に生じる応力も低減された
構成となっている。
【0036】なお、上記ダミーバンプ19と同様に、ダ
ミーペースト20の形状も図6(a),(c)に示すよ
うに例えば矩形状、或いは側面のみが矩形状であって上
記ダミーバンプ19と対向する面が曲面状に形成されて
いても良い。
【0037】このダミーペースト20は、熱硬化性ペー
ストであると共にその材質に線膨張係数がACF、AC
Pよりも低い、例えば金、銀、銅、アルミニウム等を材
質に含んだ構成である。
【0038】なお、これらACF、銀、銅、アルミニウ
ムの各線膨張係数について、表1に示す。
【0039】
【表1】
【0040】ダミーバンプ19、或いはダミーペースト
20については、基本的にバンプ16と同じ材料を用い
ることで生産性が向上する。従って、半導体チップ14
にダミーバンプ19或いはダミーペースト20が接着し
易いように、ダミー電極を設けることが好ましいものと
なっている。
【0041】また、配線基板11にダミーペースト20
を設ける代わりに、ダミー配線21を形成する構成でも
構わない。この場合、ダミー配線21は回路配線12と
は異なり、何等導通性を有していない構成である。
【0042】このように、半導体チップ14の四隅部分
であって、配線基板11と樹脂層13の線膨張係数の差
により線膨張変形し易い箇所においては、以上のような
ダミーバンプ19、凹部17及びダミーペースト20が
設けられているが、四隅部分だけではなく、線膨張変形
し易い箇所ならば他の部分に設けても構わない。
【0043】また、四隅部分に設ける場合には、図4に
示すようにこの四隅部分に一個所のみ設ける構成でも、
或いは複数箇所設ける構成でも構わない。なお、結果的
には四隅部分で最も反りが生じ易くなっているため、こ
の部分にダミーバンプ19及びダミーペースト20を設
ける場合が多くなっている。
【0044】ここで、配線基板11に対する半導体チッ
プ14の実装の例を、図2に示す。この図においては、
半導体チップ14の外周縁部に対応する位置に凹部17
及び配線18が形成されており、この凹部17に上記バ
ンプ16が貫挿されるようになっている。また、上記凹
部17よりも半導体チップ14の外周縁部であり、かつ
この半導体チップ14の四隅部分であって、配線基板1
1と樹脂層13の線膨張係数の差により線膨張変形し易
い箇所にダミーバンプ19及びダミーペースト20が設
けられた構成である。
【0045】なお、上述のダミーバンプ19及びダミー
ペースト20は、必ずしもダミーに限られるものではな
く、実際に電気的に接続して電子回路の一部分を構成し
ても(すなわち、ダミーとならない構成)構わない。
【0046】以上のような構成を有する実装パッケージ
10を製造する製造方法について、図3のフローチャー
トに基づいて説明する。
【0047】まず、上記配線基板11に凹部17を形成
する。この凹部17を形成した後に、配線基板11上に
回路配線12をマスク(レジスト)22を形成して覆
い、これに対して露光などを行い一部分のマスク22を
取り除き、さらにこの配線基板11をエッチング液に所
定時間浸すと、凹部17が形成される(ステップ1)。
【0048】そして、凹部17を形成した後に、配線基
板11上にマスク22を形成し、アッシングにより電極
15(回路パターン)を形成する(ステップ2)。
【0049】配線基板11上に電極15を形成した後
に、図7に示すようにこの上面をマスク22で覆い、さ
らにこのマスク22に対して半導体チップ14の四隅部
分のみを露光し、この後にエッチングを行ってこの部分
のみ孔状に配線基板11を露出させる。そして、この孔
状の部分に対してアッシングにより導電材質を埋め込
み、ダミー配線21を形成する(ステップ3)。ここ
で、ダミー配線21を形成した後にマスク22を取り除
き、配線基板11の全体を露出させる。
【0050】なお、上記ダミー配線21を形成しない場
合には、配線基板11上面にダミーペースト20を、所
定の形状に形成して塗布する。
【0051】そして、図8に示すように、凹部17に配
線18を形成する(ステップ4)。まず、配線基板11
の表面にマスク22を形成し、このマスク22上面より
配線18を蒸着させる。そして、この後に凹部17の略
中央に再びマスク22を形成し、凹部17のマスク22
と凹部17内壁面の間に配線18を蒸着形成して、この
後に凹部17に形成されたマスク22を取り除く。それ
によって、凹部17の内壁面に対して所定の厚さを有す
る配線18が形成される。
【0052】そして、配線基板11の上面にダミー配線
21(ダミーペースト20)の形成が終了した後に、配
線基板11上に樹脂層13を形成するため、ACFの貼
付けを行う(ステップ5)。そして、このACFを介し
てバンプ16及びダミーバンプ19の接着を行う。この
接着を行うに先立って、半導体チップ14の電極15に
バンプ16を搭載し(ステップ6)、さらにダミーバン
プ19もこのバンプ16の搭載後、若しくは搭載と共に
半導体チップ14に搭載させておく(ステップ7)。
【0053】なお、これらバンプ16及びダミーバンプ
19は、電極或いはダミー電極上にメッキ法、蒸着法、
電気メッキ法、スタッドバンプ法、ソルダーペースト印
刷法、半田ボール供給法、ソルダーテープ打ち抜き法等
により、形成可能である。
【0054】このバンプ16及びダミーバンプ19形成
後、所定の位置に形成されたか否かの位置ずれの検査を
行い(ステップ8)、所定の位置に形成されていない場
合は、不良として取り扱う。
【0055】これらバンプ16及びダミーバンプ19を
形成した後に、半導体チップ14をACFの樹脂層13
に仮圧着させる(ステップ9)。この仮圧着後、半導体
チップ14の配線基板11に対する位置ずれの検査を行
い(ステップ10)、この位置ずれ検査でずれを修正し
た後に、本圧着を行う(ステップ11)。本圧着を行う
に際しては、上記バンプ16及びダミーバンプを所定温
度となるように加熱し、この加熱を行った後に所定の圧
力を付与して半導体チップ14を樹脂層13に接着させ
ると共に、バンプ16が配線18と半田接合させる。
【0056】そして、最終的な位置ずれ検査を行い(ス
テップ12)、実装パッケージ10は完成し、若しくは
以後の工程に移行される。
【0057】以上のような実装パッケージ10及びこの
実装パッケージ10の製造方法によれば、半導体チップ
14の四隅部分であって、配線基板11と樹脂層13の
線膨張係数の差により線膨張変形し易い箇所にダミーバ
ンプ19を設け、さらに配線基板11にダミーペースト
20が設けられた構成のため、これらが樹脂層13に食
い込むことにより、その分だけ樹脂層13の樹脂の量を
低減化することができる。すなわち、樹脂層13が上述
の各樹脂低減手段により、薄く設けられている。
【0058】この樹脂の低減化(薄型化)により、配線
基板11と樹脂層13の間の線膨張係数の違いから実装
パッケージ10に反りが生じるのを防止でき、反りがな
く平坦度が確保された良好な実装パッケージ10を提供
することができる。
【0059】なお、このダミーバンプ19の形状を略矩
形状に形成することによって、大面積で配線基板11に
対向させることができ、また大面積で形成される分だけ
より多くの樹脂層13の樹脂の量を低減化することがで
きる。
【0060】また、ダミーバンプ19が矩形状以外の略
半球状に形成されている場合は、これと対向するダミー
ペースト20にこのダミーバンプ19を食い込ませ、接
合される面積を大きくすることができる。すなわち、ダ
ミーバンプ19よりも半導体チップ14側に電極板が存
してダミーバンプ19が実際に電気的に接続して電子回
路の一部を構成する場合、電気接合の度合いを大きくす
ることが可能となる。
【0061】また、ダミーバンプ19が略角錐形状に形
成されている場合には、このダミーバンプ19の先端が
尖形状に形成されているので、これに付加される応力を
低減することができる。このため、確実にダミーバンプ
19を樹脂層13内部に食い込ませ、樹脂量の低減化を
図ることができる。
【0062】また、配線基板11にダミーペースト20
を設けることにより、ダミーバンプ19と相俟って樹脂
量の低減を図ることができる。これと共に、ダミーペー
スト20は配線基板11側に設けられるため、配線基板
11側から樹脂量の低減化を図ることが可能となる。
【0063】なお、ダミーペースト20の代わりにダミ
ー配線21を用いた場合でも、同様の作用効果が得られ
ると共に、必要なときには接地用配線部材として電気回
路としての役割を果たさせることができる。
【0064】また、配線基板11のバンプ16と対向す
る部分に凹部17が形成され、この凹部17にバンプ1
6が挿通されるため、半導体チップ14と配線基板11
の間に剪断力が生じた場合でも、この剪断力に抗するこ
とが可能となる。また、凹部17にバンプ16が入り込
むことにより、実装パッケージ10に反りが生じても、
配線18との間で電気的接触を維持することができる。
このため、実装パッケージ10を製造する際、不良の発
生を少なくすることができる。
【0065】また、例えばダミーバンプ19を形成する
場合のように、バンプ16を形成すると共にダミーバン
プ19を同一工程で形成することが可能な構成も有して
おり、このため従来のように別途の工程で樹脂コーティ
ングを形成する必要がなく、樹脂低減手段を作成する
際、低コストで作成することが可能となる。なお、この
低コスト化は、ダミー配線21においても同様となって
いる。
【0066】さらに、半導体チップ14には樹脂低減手
段としてダミーバンプ19、ダミーペースト20及びダ
ミー配線が設けられた構成のため、この半導体チップ1
4を配線基板11に実装した場合、配線基板11と樹脂
層13の間の線膨張係数の差により、実装パッケージ1
0に反りが生じるのを防止することができる。
【0067】以上、本発明の一実施の形態について述べ
たが、本発明はこれ以外にも変形可能であり、以下、そ
の変形例の各態様について、図9(a)〜(f)に基づ
いて説明する。
【0068】なお、これら変形例の各態様は、上述の実
施の形態で述べた構成のうち、樹脂低減手段か、若しく
は凹部17が存しない構成、或いはこれらの組み合わせ
よりなる構成であり、これらの概念としては、半導体チ
ップ14の四隅部分であって、配線基板11と樹脂層1
3の線膨張係数の差により線膨張変形し易い箇所の樹脂
層13の樹脂の量を低減する樹脂低減手段を設ける構
成、或いは剪断力に抗するための凹部17の少なくとも
いずれかを具備したものとなっている。
【0069】まず、図9(a)においては、樹脂低減手
段としてダミーバンプ19のみが半導体チップ14に設
けられた構成である。このダミーバンプ19は、矩形状
に形成されていて、上記半導体チップ14の配線基板1
1と樹脂層13の四隅部分であって、線膨張係数の差に
より線膨張変形し易い箇所に設けられている。また、配
線基板11と半導体チップ14を接合した場合、配線基
板11の半導体チップ14に対する対向面にこのダミー
バンプ19の突出側の対向面が大面積で接触するように
設けられている。
【0070】次に図9(b)においては、樹脂低減手段
としてダミーペースト20のみが配線基板11の半導体
チップ14の四隅部分であって、配線基板11と樹脂層
13の線膨張係数の差により線膨張変形し易い箇所に設
けられた構成である。このダミーペースト20では、半
導体チップ14に対向する部分が曲面状(若しくは、略
球形状)に盛り上がった形状を為して設けられている。
すなわち、この形状では、樹脂層13を押しのける量
は、上述の図9(a)の場合よりは少なくなるものの、
ダミーペースト20の先端部分に生じる応力も低減され
た構成となっている。
【0071】なお、このダミーペースト20に代えて、
樹脂低減手段としてダミー配線21のみを配線基板11
に設ける構成としても良い。この場合も、配線基板11
側から樹脂層13に存する樹脂量を低減することが可能
となる。
【0072】また、図9(c)においては、配線基板1
1と半導体チップ14の接合に対して作用する剪断力に
抗するため、配線基板11に凹部17が形成され、この
凹部17の内周壁面に所定の厚さの配線20が形成され
た構成である。
【0073】この場合は、この配線20を有する凹部1
7に、上述の図9(a),(b)のバンプ16よりも図
9(c)に示すバンプ16は長く突出形成されており、
このバンプ16の先端が凹部17内に納まるよう設けら
れている。
【0074】そして、このバンプ16が配線20と接触
して電気的に導通可能となるが、このバンプ16が入り
込んだ場合には、配線基板11と半導体チップ14の間
に剪断力が生じても、これに抗し得る構造である。
【0075】以上が各態様のうちの単純化された基本的
な構成であり、以下の構成はこれを組み合わせた例であ
り、これについて図10に基づいて説明する。
【0076】図10(a)は、図9(a)に示したダミ
ーバンプ19と、図9(b)に示したダミーペースト2
0を組み合わせ、これらが互いに対向した位置で圧着さ
れて接合する構成である。
【0077】図10(b)は、図9(b)に示したダミ
ーペースト20と、図9(c)に示した凹部17、配線
20及びバンプ16を組み合わせたものである。
【0078】図10(c)は、図9(a)に示したダミ
ーバンプ19と、図9(c)に示した凹部17、配線2
0及びバンプ16を組み合わせたものである。
【0079】ここで、これら各態様で示した実装パッケ
ージ10を製造するに際しては、図3に示したフローチ
ャートより、適宜余分な工程を除いて考える。すなわ
ち、図9(a)においてはステップ1,3,4が存しな
く、図9(b)においてはステップ1,4,7が存しな
く、図9(c)においてはステップ3,7が存しなく、
図10(a)においてはステップ1,4が存しなく、図
10(b)においてはステップ7が存しなく、図10
(c)においてはステップ3が存しないで、夫々実装パ
ッケージ10が形成される。
【0080】なお、これら各態様で述べた作用効果は、
上述の図1で示した実施の形態と共通部分については同
様の作用効果を有している。また、これら各態様で述べ
た構成上共通の作用効果としては、実装パッケージ10
の反りを防止して、又は剪断力が作用してもこれを吸収
し、それによって良好に電気的接触を維持することが可
能である。
【0081】以上が実施の態様として、変形的な態様に
ついて説明したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能
となっている。
【0082】上記実施の形態で述べた実装パッケージ1
0を用いた電気部品たる回路基板は、例えば携帯電話や
ポケットベル(登録商標)、或いは携帯型ノートパソコ
ン、携帯型情報端末装置等、各種の電子機器に対して適
用可能となっている。
【0083】その他、本発明の要旨を変更しない範囲に
おいて、種々変形可能となっている。
【0084】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
樹脂低減手段がチップ部材と基板の間に介在することに
より、この樹脂層での樹脂の量を低減することができ
る。このため、樹脂低減手段をチップ部材の隅角部周辺
であって、樹脂層と基板の線膨張係数の差により線膨張
変形し易い箇所に設けることにより、樹脂層と基板との
線膨張係数の違いで生じる電子部品の接続構造の反りを
防止することが可能となる。
【0085】この反りを防止することにより、実装パッ
ケージ内部での電気的接触を良好に維持することが可能
である。
【0086】また、基板に凹部を形成することにより、
チップ部材と基板の接合に対して剪断力が働いても、基
板に凹部が形成されこの凹部にバンプが入り込むことに
よって剪断力に抗することができる。また、電子部材の
接合構造に反りが生じても、凹部にバンプが入り込むこ
とにより、電気的接触状態を維持可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係わる実装パッケージ
の構成を示す部分断面図。
【図2】同実施の形態に係わるチップの基板に対する実
装の例を示す図。
【図3】同実施の形態に係わる本発明の実装パッケージ
の製造方法を示すフローチャート。
【図4】同実施の形態に係わるダミーバンプ(若しくは
ダミーペースト、ダミー配線)の配置状態を示す図。
【図5】同実施の形態に係わるダミーバンプの形状を示
す側面図。
【図6】同実施の形態に係わるダミーペースト及びダミ
ー配線の形状を示す側面図。
【図7】同実施の形態に係わる基板の四隅部分にダミー
配線を形成する様子を示す図。
【図8】同実施の形態に係わる基板に凹部及び配線を形
成する様子を示す図。
【図9】本発明の実装パッケージの各種態様(変形例)
の基本的な態様を示す図であり、(a)はダミーバンプ
のみを設けた態様、(b)はダミーペースト(ダミー配
線)のみを設けた態様、(c)は凹部のみを設けた態様
である。
【図10】本発明の実装パッケージの各種態様(変形
例)の組み合わされた態様を示す図であり、(a)は図
9(a)と図9(b)の組み合わせの態様、(b)は図
9(b)と図9(c)の組み合わせの態様、(c)は図
9(a)と図9(c)の組み合わせの態様を夫々示す。
【図11】従来のバンプを具備したチップを実装する実
装方法を示す図。
【図12】従来のペーストを具備した基板にチップを実
装する実装方法を示す図。
【図13】従来の樹脂コーティングで押えて実装パッケ
ージを形成する方法を示す図。
【符号の説明】
10…実装パッケージ 11…基板 12…回路配線 13…樹脂層 14…チップ 16…バンプ 17…凹部 18…配線 19…ダミーバンプ 20…ダミーペースト 21…ダミー配線
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年1月31日(2000.1.3
1)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明の電気部品は次のように構成さ
れている。 (1)回路の入出力のための電極を有する半導体装置
と、この半導体装置の前記電極と電気的に接合される配
線基板と、前記半導体装置と前記配線基板との間に設け
られる熱硬化性または熱可塑性の異方性導電部材とを具
備し、前記半導体装置の外形隅部には、前記配線基板側
に突出し、前記異方性導電部材よりも熱膨張係数の低い
材質からなるダミーバンプが設けられ、前記配線基板に
は、バンプを介して前記電極に接合される前記配線基板
上の配線が、前記配線基板のなす面に対して前記バンプ
が係合する断面が矩形に構成されていることを特徴とす
る。 (2)回路の入出力のための電極を有する半導体装置
と、この半導体装置の前記電極と電気的に接合される配
線基板と、前記半導体装置と前記配線基板との間に設け
られる熱硬化性または熱可塑性の異方性導電部材とを具
備し、前記配線基板の外形隅部には、前記配線基板側か
ら突設され、前記異方性導電部材よりも熱膨張係数の低
い材質からなるダミーペーストが設けられ、前記配線基
板には、バンプを介して前記電極に接合される前記配線
基板上の配線が、前記配線基板のなす面に対して前記バ
ンプが係合する断面が矩形に構成されていることを特徴
とする。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0084
【補正方法】変更
【補正内容】
【0084】以上説明したように、本発明によると、半
導体装置又は配線基板外形隅部周辺であって、熱硬化
性または熱可塑性の異方性導電部材配線基板の線膨張
係数の差により線膨張変形し易い箇所に異方性導電部材
よりも熱膨張係数の低い材質からなるダミーバンプ又は
ダミーペーストを設けることにより、熱硬化性または熱
可塑性の異方性導電部材配線基板との線膨張係数の違
いで生じる電子部品の接続構造の反りを低減することが
可能となる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0086
【補正方法】変更
【補正内容】
【0086】また、配線基板に断面が矩形の配線を形成
することにより、半導体装置配線基板の接合に対して
剪断力が働いても、配線にバンプが入り込むことによっ
て剪断力に抗することができる。また、電子部材の接合
構造に反りが生じても、断面が矩形の配線にバンプが入
り込むことにより、電気的接触状態を維持可能となる。
上述したように電子部品の接続構造の反りを低減し、か
つ、反りが生じても電極と配線との接続状態を維持する
ようにしたので、電子部品の信頼性を向上させることが
できる。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路の入出力のための電極を有する半導
    体装置と、 この半導体装置の前記電極と電気的に接合される配線基
    板と、 前記半導体装置と前記配線基板との間に設けられる熱硬
    化性または熱可塑性の異方性導電部材または樹脂封止部
    材と、を具備し、 前記半導体装置の外形隅部における前記異方性導電部材
    または前記樹脂封止部材の量が、前記電極に相当する位
    置以外の他の位置における前記導電部材の量に比して少
    ないことを特徴とする電気部品。
  2. 【請求項2】 回路の入出力のための電極を有する半導
    体装置と、 この半導体装置の前記電極と電気的に接合される配線基
    板と、 前記半導体装置と前記配線基板との間に設けられる熱硬
    化性または熱可塑性の異方性導電部材または樹脂封止部
    材と、を具備し、 前記半導体装置の、前記異方性導電部材または前記樹脂
    封止部材の体積変化の度合いが前記電極に相当する領域
    以外の他の領域に比して大きい領域における前記導電部
    材の量が、前記電極に相当する領域以外の他の領域にお
    ける前記導電部材の量に比して少ないことを特徴とする
    電気部品。
  3. 【請求項3】 隅部には、電極、または、配線基板上の
    配線と前記半導体装置とを電気的に接続するバンプが接
    合可能な配線パターンのうち少なくとも一方が設けられ
    たことを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 配線パターンは接地用配線であることを
    特徴とする請求項3記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 隅部に設けられた電極、または、配線基
    板上の配線と前記半導体装置とを電気的に接続するバン
    プが接合する配線パターンに導電部材からなるバンプが
    設けられたことを特徴とする請求項3または請求項4記
    載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 半導体装置が設けられる場合にこの半導
    体装置の隅部と対向する部位に、配線、または、前記配
    線と前記半導体装置とを電気的に接続するバンプが接合
    する配線パターンが設けられていることを特徴とする配
    線基板。
  7. 【請求項7】 半導体装置が設けられる場合にこの半導
    体装置の隅部と対向する部位に、配線、または、前記配
    線と、前記半導体とを電気的に接続するバンプが接合す
    る配線パターンに、熱硬化性または熱可塑性の異方性導
    電部材よりも熱膨張係数が小さい部材が接合されたこと
    を特徴とする配線基板。
  8. 【請求項8】 回路の入出力のための電極を有する半導
    体装置と、 この半導体装置の前記電極と電気的に接合される配線基
    板と、 前記半導体装置と前記配線基板との間に設けられる熱硬
    化性または熱可塑性の異方性導電部材と、を具備し、 前記電極が接合される前記配線基板上の配線が、前記配
    線基板がなす面に対して凹形状に構成されていることを
    特徴とする電気部品。
  9. 【請求項9】 半導体装置が設けられる場合にこの半導
    体装置の電極、または、配線と前記半導体装置とを電気
    的に接続するバンプが接合する配線パターンが電気的に
    接続される部位が、凹形状に構成されていることを特徴
    とする配線基板。
  10. 【請求項10】 回路の入出力のための電極を有する半
    導体装置をこの半導体装置の前記電極と電気的に接合さ
    える配線基板と熱硬化性または熱可塑性の異方性導電部
    材または樹脂封止部材と介して接合する電気部品の製造
    方法において、 前記半導体装置の外形隅部における前記異方性導電部材
    または前記樹脂封止部材の量が、前記電極に相当する位
    置以外の他の位置における前記導電部材の量に比して少
    ないことを特徴とする電気部品の製造方法。
  11. 【請求項11】 回路の入出力のための電極を有する半
    導体装置をこの半導体装置の前記電極と電気的に接合さ
    れる配線基板と熱硬化性または熱可塑性の異方性導電部
    材または樹脂封止部材と介して接合する電気部品の製造
    方法において、 前記半導体装置の、前記異方性導電部材または前記樹脂
    封止部材の体積変化の度合いが前記電極に相当する領域
    以外の他の領域に比して大きい位置における前記導電部
    材の量が、前記電極に相当する領域以外の他の領域にお
    ける前記導電部材の量に比して少ないことを特徴とする
    電気部品。
  12. 【請求項12】 隅部に設けられた電極、または、配線
    基板上の配線と前記半導体装置とを電気的に接続するバ
    ンプが接合する配線パターンのうち少なくとも一方に導
    電部材からなるバンプを設けることを特徴とする請求項
    10または請求項11記載の電気部品の製造方法。
  13. 【請求項13】 半導体装置が設けられる場合にこの半
    導体装置の隅部と対向する部位に、配線、または、前記
    配線と前記半導体装置とを電気的に接続するバンプが接
    合する配線パターンのうち少なくとも一方を設けること
    を特徴とする配線基板の製造方法。
  14. 【請求項14】 半導体装置が設けられる場合にこの半
    導体装置の隅部と対向する部位に設けられる、配線、ま
    たは、前記配線と前記半導体装置とを電気的に接続する
    バンプが接合する配線パターンのうち少なくとも一方
    に、熱硬化性または熱可塑性の異方性導電部材よりも熱
    膨張係数が小さい部材を接合することを特徴とする配線
    基板の製造方法。
  15. 【請求項15】 回路の入出力のための電極を有する半
    導体装置をこの半導体装置の前記電極と電気的に接合さ
    れる配線基板と熱硬化性または熱可塑性の異方性導電部
    材または樹脂封止部材と介して接合する電気部品の製造
    方法において、 前記電極が接合される前記配線基板上の配線を、前記配
    線基板がなす面に対して凹形状に構成することを特徴と
    する電気部品の製造方法。
  16. 【請求項16】 半導体装置が設けられる場合にこの半
    導体装置の電極、または、配線と前記半導体装置とを電
    気的に接続するバンプが接合する配線パターンのうち少
    なくとも一方が電気的に接続される部位を、凹形状に構
    成することを特徴とする配線基板の製造方法。
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