JP2000064042A - 回転アーム式スパッタ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 真空容器内の排気、掃除あるいはメンテナン
スが容易であり、搬送トラブルが少ない回転アーム方式
のスパッタ装置を提供する。 【解決手段】 放電空間を形成するスパッタ室１１内に
磁界を印加するように、磁界発生装置がスパッタ室の上
方に配置され、このスパッタ室１１内上部には磁界発生
装置による磁界が印加されるように、ターゲット１５が
配置され、スパッタ室１１には、ほぼ円筒状の気密容器
であるディスク搬送室１２がその上壁１７に形成された
スパッタ室開口部１９を介して連設され、このディスク
搬送室１２内にはディスク搬送機構３０が設けられ、デ
ィスク搬送機構３０は回転軸２２を備え、この回転軸２
２の上端に固定されたアーム固定板２４に、他端にリン
グが形成された第１および第２のアーム２５、２６の一
端が複数本の固定ネジ２７により固定され、アーム２
５、２６の端部には、サセプタ２８、２９が嵌合支持さ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はスパッタ装置に関
し、特に、回転アーム式搬送機構を備えた枚葉式マグネ
トロンスパッタ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＣＤあるいはＤＶＤなどの情報記
録用のディスクの製造に用いる枚葉式マグネトロンスパ
ッタ装置においては、ディスク基板の搬送機構として回
転テーブルを用いる方式と、ダブルアームを用いる方式
とが知られている。

【０００３】回転テーブル方式のスパッタ装置は主とし
てＣＤあるいはＣＤ−ＲＯＭの成膜に使用されるが、こ
の方式に基づくスパッタ装置は次のように構成されてい
る。すなわち、真空容器内に水平面内で間欠的に回転す
る円板状の回転テーブルがを設けられ、このテーブル面
にはディスク基板の受け皿となる、複数個、例えば４個
のサセプターが設けられている。回転テーブルの間欠回
転に対しては、上記サセプターの個数と同じ例えば４個
のディスクポジションが設けられており、上記サセプタ
ーがこれらのディスクポジションに到達した時、一時停
止して必要な成膜処理を行う。この回転テーブルはその
ディスクポジションの１つにおいて、真空容器の一部に
設けられたロードロック開口部から導入したディスク基
板をサセプタで受け、２ポジション離れた位置に配置さ
れた前記真空容器内のスパッタ室に搬送し、ここでディ
スク基板表面にスパッタ処理を施す。スパッタ処理が完
了したディスク基板は再び前記ディスクポジションの１
つにおいて、ロードロック開口部から真空容器の外部に
取り出される。

【０００４】次に、ダブルアーム方式スパッタ装置は回
転テーブルに変えてディスク搬送機構に２軸の搬送機構
をもっておりそれぞれの軸が独立に旋回して交互にデイ
スクをロードロック開口部からスパッタ室に搬送する構
造となっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記回
転テーブル方式のスパッタ装置においては、回転テーブ
ルが真空容器の上部と下部とを２分する構造となってい
るため、ディスク基板から放出されるガスが真空容器の
上部に滞留し、真空容器を効率よく排気することができ
ないという問題がある。すなわち、上述のように、ディ
スク基板はロードロック開口部を介して真空容器外部の
大気側から導入され、その際真空に排気される。しかし
その後のスパッタ処理工程においてディスク基板自体か
ら放出されるガスは非常に多く、この放出ガスが回転テ
ーブルで仕切られた真空容器の上部に滞留する。スパッ
タ処理工程においても真空容器の排気は、通常真空容器
下部に設けられた真空ポンプにより行われるが、上述の
ように回転テーブルが真空容器を２分しているために効
率よく排気出来ない。真空ポンプを真空容器下部に設け
る理由はスペースやメンテナンス上の要求によるもので
あり、真空容器上部や側面に設けることは実質上不可能
である。

【０００６】次に、一般にスパッタ装置においては、装
置のトラブルやディスク搬送時にディスクの破片や成膜
部材の破片が真空容器内に放出され、真空容器内を汚染
することがある。このような場合、テーブル方式のスパ
ッタ装置においては、回転テーブルが真空容器を２分す
る大きな面積を有するため、回転テーブルをスパッタ室
やロードロックの開口を経由して掃除作業をすること、
あるいは、回転テーブルをこれらの部分を経由して真空
容器外部に取り出すことは不可能である。したがって、
真空容器の清掃は、真空容器の上蓋を外して行わなけれ
ばならず、作業が大変であった。

【０００７】次に、ダブルアーム式のスパッタ装置にお
いては、ディスク基板を回転搬送するアームはサセプタ
ーを支える部分を除いてその面積は小さいため、真空容
器の上部と下部とは区分されることはなく、一体の空間
を構成している。このためディスク基板の上面から放出
されるガスは真空容器下部に設けられる真空ポンプによ
り効率よく排気することができる。

【０００８】また、アームの面積が非常に小さく作られ
ているために、ロードロック部分、スパッタ室の開口部
分から真空容器内の掃除やメンテナンスが容易に可能で
あり、アーム自体のメンテナンスも真空容器上蓋を外す
ことなく行うことができる。

【０００９】しかしながら、搬送機構が上下に離間配置
された２枚のアームで構成されているために、それぞれ
のアームから真空容器上蓋、スパッタ室内に配置される
センターマスクまでの昇降距離が異なるため、高速で搬
送するときは２枚のアーム間で搬送時間に多少のズレが
生じる。また下側を旋回するアームはディスクの落下距
離が長くなるために、上側のアームに比べて搬送トラブ
ルが多いという問題がある。

【００１０】したがって本発明の目的は、上記従来のス
パッタ装置の欠点を除去し、真空容器内の排気、掃除あ
るいはメンテナンスが容易であり、搬送トラブルが少な
い回転アーム方式のスパッタ装置を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の回転アーム式ス
パッタ装置は、内部に気密な放電空間を形成するスパッ
タ室と、このスパッタ室内に磁界を印加するように、前
記スパッタ室の上方に配置された磁界発生装置と、この
磁界発生装置による磁界が印加されるように、前記スパ
ッタ室内上部に配置されたターゲットと、前記スパッタ
室に開口部を介して連設されたディスク搬送室と、この
ディスク搬送室内に設けられ、垂直な回転軸にそれぞれ
固定された第１および第２の水平アームと、これらの第
１および第２の水平アームにそれぞれ支持されたサセプ
タと、これらのサセプタを垂直方向に往復運動させると
ともに、このサセプタに支持されるディスク基板を垂直
方向に往復運動させるように、前記ディスク搬送室に設
けられたプッシャ機構とを備え、前記第１および第２の
水平アームは前記垂直な回転軸に対してほぼ同一の水平
面内で反対方向に延長配置され、かつ、前記第１および
第２の水平アームの延長方向における前記サセプタ位置
がそれぞれ調整可能に前記垂直な回転軸に固定されてい
ることを特徴とするものである。

【００１２】また、上記本発明の回転アーム式スパッタ
装置においては、前記ほぼ同一の水平面内で反対方向に
延長配置され第１および第２の水平アームは、それらの
延長方向が互いにほぼ１８０度の角度を維持した状態で
前記垂直な回転軸の回りに回転することを特徴とするも
のである。

【００１３】さらに、本発明の回転アーム式スパッタ装
置は、内部に気密な放電空間を形成するスパッタ室と、
このスパッタ室内に磁界を印加するように、前記スパッ
タ室の上方に配置された磁界発生装置と、この磁界発生
装置による磁界が印加されるように、前記スパッタ室内
上部に配置されたターゲットと、前記スパッタ室に開口
部を介して連設されたディスク搬送室と、このディスク
搬送室内に設けられ、垂直な回転軸にそれぞれ異なる高
さの水平面内で独立に回転するように固定された第１お
よび第２の水平アームと、これらの第１および第２の水
平アームにそれぞれ支持されたサセプタと、これらのサ
セプタを垂直方向に往復運動させるとともに、このサセ
プタに支持されるディスク基板を垂直方向に往復運動さ
せるように、前記ディスク搬送室に設けられたプッシャ
機構とを備え、前記第１および第２の水平アームの少な
くも一方は前記サセプタに支持されるディスク基板がほ
ぼ同一の水平面内に配置されるように曲折されているこ
とを特徴とするものである。

【００１４】さらに、上記本発明の回転アーム式スパッ
タ装置においては、前記垂直な回転軸は第１および第２
の水平アームのそれぞれが固定される二重回転軸により
構成されていることを特徴とするものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。

【００１６】図１は本発明を枚葉式マグネトロンスパッ
タ装置に適用した実施形態を示すスパッタ装置の断面図
である。このスパッタ装置は、ほぼ円筒状の気密容器で
あるスパッタ室１１と、このスパッタ室１１の下側に、
このスパッタ室１１に連通して設けられた内部がほぼ円
形の気密容器であるディスク搬送室１２とを備えてい
る。ディスク搬送室１２の内径はスパッタ室１１の内径
より大きく、ディスク搬送室１２に対して偏心した位置
にスパッタ室１１が配置されている。また、このスパッ
タ室１１の上壁外面には磁石装置１３が回転モータ１４
により回転可能に設けられている。

【００１７】スパッタ室１１の上壁内面には成膜物質か
らなるデスク状のターゲット１５が固定されている。タ
ーゲット１５の中心部からはセンターマスク１６がスパ
ッタ室１１内に垂直に懸下されている。スパッタ室１１
とディスク搬送室１２とを区切るディスク搬送室１２の
上壁１７には、ディスク基板１８−１の上表面をスパッ
タ室１１に露出するためのスパッタ室開口部１９が設け
られている。このスパッタ室開口部１９はスパッタ室１
１をヒンジ機構１１−１によりディスク搬送室１２の上
壁１７に設置することにより、スパッタ室１１全体を回
動して、スパッタ室開口部１９をディスク搬送室１２の
外部に開口させることができる。また、図示しないが、
スパッタ室１１はディスク搬送室１２の上壁１７でその
位置をわずかに移動可能に設置されており、スパッタ室
１１を移動することにより、スパッタ室１１内部のセン
ターマスク１６の位置を微調整できるように構成されて
いる。

【００１８】ディスク搬送室１２の上壁１７にはロード
ロック部を構成する搬送室開口部２０が設けられてい
る。搬送室開口部２０はディスク搬送室１２の中心に対
してスパッタ室開口部１９の反対側の位置に形成されて
いる。

【００１９】ディスク搬送室１２内には、その底壁２１
を貫通して垂直に延長された回転軸２２が設けられ、こ
の回転軸２２の下端にはディスク搬送室１２の外部下面
に固定されたモータ２３が連結されている。回転軸２２
の上端にはアーム固定板２４が固定されている。このア
ーム固定板２４には、他端にリングが形成された第１お
よび第２のアーム２５、２６の一端が複数本の固定ネジ
２７により固定されている。第１および第２のアーム２
５、２６の端部に形成されたリング部には、同じくリン
グ状の第１および第２のサセプタ２８、２９が嵌合支持
されている。第１および第２のサセプタ２８、２９には
それぞれディスク基板１８−１、１８−２が載置され、
回転搬送される。すなわち、回転軸２２、モータ２３、
第１および第２のアーム２５、２６および第１および第
２のサセプタ２８、２９はディスク搬送機構３０を構成
している。図２はディスク搬送機構３０を構成する第１
および第２のアーム２５、２６の上面図である。図中、
図１に対応する部分には同一符号を付している。

【００２０】ディスク搬送室１２の下方には第１および
第２の空気シリンダ３１、３２が配置されている。これ
らの第１および第２の空気シリンダ３１、３２はそれぞ
れディスク搬送室１２の底壁２１を貫通してディスク搬
送室１２内で上下に往復運動するシリンダロッド３１−
１、３２−１を備えている。第１の空気シリンダ３１は
スパッタ室１１の下方に位置し、シリンダロッド３１−
１が上昇するとき、その上端に設けられたディスクプッ
シャ３１−２により、ディスク基板１８−１をスパッタ
室開口部１９に押し上げる。第２の空気シリンダ３２は
搬送室開口部２０下方のロードロック部に位置し、シリ
ンダロッド３２−１が上昇するとき、その上端に設けら
れたサセプタプッシャ３２−２により、第２のサセプタ
２９およびこれに載置されたディスク基板１８−２を搬
送室開口部２０に押し上げ、これを気密に閉塞する。

【００２１】搬送室開口部２０はディスク搬送室１２の
外部に設置された外部搬送機構３３の水平アーム３３−
１の両端に固定された真空蓋３３−２の一方により気密
に閉塞される。真空蓋３３−２は搬送室開口部２０が第
２のサセプタ２９により気密に閉塞された状態におい
て、ディスク基板１８−２をその下面に保持する。外部
搬送機構３３を構成するモータ３３−３は水平アーム３
３−１を回転し、これによってディスク基板１８−２を
搬送室開口部２０を介してディスク搬送室１２から外部
に取り出す。

【００２２】次に、このように構成されたスパッタ装置
の動作を説明する。

【００２３】先ず、ディスク基板１８−２を外部からデ
ィスク搬送室１２内部に搬入する、いわゆるロードロッ
クは、外部搬送機構３３により、上記と反対の動作によ
り行われる。すなわち、水平アーム３３−１の真空蓋３
３−２はその下面にディスク基板１８−２を保持した状
態で搬送室開口部２０を気密に閉塞する。このとき、デ
ィスク搬送室１２内部においては第２の空気シリンダ３
２により、サセプタプッシャ３２−２が上昇し、第２の
サセプタ２９とともに搬送室開口部２０を閉塞してい
る。この状態で真空蓋３３−２に保持されたディスク基
板１８−２が開放され、第２のサセプタ２９上に移され
る。その後第２の空気シリンダ３２は下降してディスク
基板１８−２は第２のサセプタ２９とともに第２のアー
ム２６のリング部に載置支持される。

【００２４】ディスク搬送機構３０のモータ２３は、回
転軸２２を回転して第１および第２のアーム２５、２６
を相互にその位置を交換する。これにともなって第１お
よび第２のサセプタ２８、２９も相互にその位置を交換
する。したがって、第２のサセプタ２９およびこれに載
置されたディスク基板１８−２は、図１の第１のサセプ
タ２８およびディスク基板１８−１として示す位置に移
動する。

【００２５】次に、スパッタ室１１の下方に位置する第
１の空気シリンダ３１はそのシリンダロッド３１−１を
上昇させ、上端のディスクプッシャ３１−２により、デ
ィスク基板１８−１を第１のサセプタ２８から引き離し
てスパッタ室開口部１９に押し上げる。この位置におい
ては、図示しないが、ディスクプッシャ３１−２の上面
に形成された突起部がセンターマスク１６の漏斗状の下
端部に嵌合する。

【００２６】この状態において、スパッタ室１１内にお
いて放電が開始し、ターゲット１５から放出されたター
ゲット物質がディスク基板１８−１の表面に堆積して膜
を生成し、スパッタ処理が行われる。スパッタ処理が終
了すると第１の空気シリンダ３１はそのシリンダロッド
３１−１を下降させ、ディスク基板１８−１は再び第１
のサセプタ２８上に戻される。

【００２７】次いで、ディスク搬送機構３０のモータ２
３は、回転軸２２を回転し、第１および第２のアーム２
５、２６を相互にその位置を交換する。これによって、
第１のサセプタ２８およびこれに載置されたディスク基
板１８−１は、図１の第２のサセプタ２９およびディス
ク基板１８−２として示す位置に戻される。その後スパ
ッタ処理が施されたディスク基板１８−２は、前述した
ように、第２の空気シリンダ３２により第２のサセプタ
２９とともに搬送室開口部２０に押し上げられ、この搬
送室開口部２０を介して外部搬送機構３３により、ディ
スク搬送室１２の外部に搬出される。

【００２８】以上のように構成した上記実施形態のスパ
ッタ装置においては、ディスク搬送機構３０を構成する
第１および第２のアーム２５、２６は回転軸２２のアー
ム固定板２４に固定ネジ２７により個別に固定されてお
り、かつ、第１および第２のアーム２５、２６の形状も
小型で小さな面積を有するため、これらのアーム２５、
２６をメンテナンスのため、スパッタ室開口部１９を介
して容易に外部に取り出すことができる。

【００２９】また、このようなディスク搬送機構３０の
構成により、第１および第２のサセプタ２８、２９とス
パッタ室開口部１９との位置合わせである芯出しが容易
になった。すなわち、この芯出しは第１のサセプタ２８
の中心をロードロック部の搬送室開口部２０の中心に合
わせるように、第１のアーム２５の位置を調整して回転
軸２２のアーム固定板２４に固定ネジ２７により固定す
る。次に第１のアーム２５を回転してスパッタ室１１下
部に搬送し、第１のサセプタ２８の中心とスパッタ室１
１内のセンターマスク１６の中心とをスパッタ室１１の
位置を調整することにより一致させる。第２のアーム２
６については第２のサセプタ２９の中心をロードロック
部の搬送室開口部２０の中心にが合わせるように、第２
のアーム２６の位置を調整してアーム固定板２４に固定
することにより、芯出しを行うことができる。

【００３０】さらに、上記実施形態のスパッタ装置にお
いては、第１および第２のサセプタ２８、２９は、ディ
スク基板を支持するリング状部の径に対してそれ以外の
アーム部分の幅を狭く形成しているため、スパッタ処理
中にディスク基板から放出されるガスを、ディスク搬送
室１２下部に設置された真空ポンプ（図示せず）により
容易に排気することができる。

【００３１】図３は本発明の他の実施形態を示すスパッ
タ装置の断面図であり、図４はその要部を示す水平断面
図である。この実施形態においてはスパッタ室が２個設
置されていること、ディスク搬送機構の構成が図１の実
施形態と異なる点を除いてほぼ同じ構成となっている。
したがって、図３においては図１と同一の構成部分には
同一符号を付して詳細な説明は省略し、以下では主とし
て異なる部分について説明する。

【００３２】図４に示されるように、ディスク搬送室１
２はその内面の水平断面がほぼ半円形を成しており、そ
の半円形の平坦な辺部の両側には第１および第２のスパ
ッタ室１１、１１´が設置され、半円形の円周部頂点付
近にはロードロック部の搬送室開口部２０が配置されて
いる。なお、図３には第２のスパッタ室１１´は表れて
いない。

【００３３】図３において、ディスク搬送室１２内に設
けられたディスク搬送機構４０は、ディスク搬送室１２
の外部下方に設置された第１および第２のモータ４１、
４２により、二重回転軸４３、４４がそれぞれ独立に回
転駆動される。これらの二重回転軸４３、４４の頂部に
はそれぞれ他端にリングが形成された第１および第２の
アーム４５、４６の一端が複数本の固定ネジ４７（図
４）により固定されている。第１および第２のアーム４
５、４６の端部に形成されたリング部には、同じくリン
グ状の第１および第２のサセプタ２８、２９が嵌合支持
されている。第１および第２のサセプタ２８、２９には
それぞれディスク基板１８−１、１８−２が載置され、
回転搬送される。

【００３４】図４はディスク搬送機構４０を構成する第
１および第２のアーム４５、４６の上面図であるが、第
１および第２のアーム４５、４６はそれぞれ二重回転軸
４３、４４の頂部に固定されているが、第１のアーム４
５は二重回転軸４３の頂部から第１のサセプタ２８が嵌
合されるリング部に至る間に段状に曲折され、第１およ
び第２のアーム４５、４６の端部のリング部は同じ高さ
の水平面内に位置するように揃えられている。そして第
１および第２のアーム４５、４６の回転角度は図に示す
ように９０度の範囲で二重回転軸４３、４４により独立
に回転される。この回転角度範囲は必ずしも９０度以内
に限ることはなく、１２０度以内であればよい。

【００３５】このように構成されたスパッタ装置の動作
を次に説明する。この装置においては、第１および第２
のスパッタ室１１、１１´が設置されているため、それ
ぞれのパッタ室に異なる材料のターゲットを用いて異な
る種類の膜を形成することができる。例えばこの装置
は、ＣＤ用とＤＶＤ用の両方のディスク成膜に共用する
ことができる。また、この装置を例えば、ＣＤ用のディ
スクの成膜のみに用いる場合には、第１および第２のス
パッタ室１１、１１´に同じ材料のターゲットを用いる
ことにより、その生産効率を大幅に向上することができ
る。いずれの場合においても、搬送機構４０により第１
および第２のアーム４５、４６はそれぞれ独立にディス
ク基板１８−１、１８−２を回転搬送できるため、ロー
ドロック部の搬送室開口部２０を経由してディスク搬送
室１２内に搬入されたディスク基板１８−１、１８−２
を第１および第２のスパッタ室１１、１１´下方に交互
に搬送してスパッタ処理による成膜を行うことができ
る。

【００３６】この実施形態のスパッタ装置によれば、第
１および第２のアーム４５、４６はそれぞれ９０度乃至
は１２０度の角度範囲しか回転しないため、ディスク搬
送室１２はその内面の水平断面が円形でなく半円形でよ
いため、ディスク搬送室１２の容積を小さくでき、ディ
スク搬送室１２を構成する上下の壁の厚さを薄くし、装
置全体の軽量化を図ることができる。

【００３７】また、ディスク搬送室１２内に設置される
搬送機構４０も、図１の実施形態と同じく、２本の幅の
狭い第１および第２のアーム４５、４６を用いているた
め、回転テーブルのようにディスク搬送室１２内を上下
に区分することがないため、スパッタ処理中にディスク
基板から放出されるガスを、ディスク搬送室１２下部に
設置された真空ポンプにより容易に排気することができ
る。

【００３８】また、これらのアーム４５、４６のメンテ
ナンスのための取り外しもスパッタ室開口部１９を介し
て容易に行うことができる。

【００３９】さらに、上記第１および第２のアーム４
５、４６のリング部は同じ高さの水平面内に位置するよ
うに揃えられているため、スパッタ処理の終了後のディ
スク基板１８−１の第１のサセプタ２８上への自由落下
距離と、ディスク基板１８−２の第２のサセプタ２９上
への自由落下距離とが等しくなり、自由落下距離が異な
ることに起因する搬送トラブルを防止することができ
る。

【００４０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空容器内の排気、掃除あるいはメンテナンスが容易で
あり、搬送トラブルが少ない回転アーム方式のスパッタ
装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態を示す回転アーム方式のス
パッタ装置の断面図である。

【図２】図１に示すスパッタ装置の要部水平断面図であ
る。

【図３】本発明の他の実施形態を示す回転アーム方式の
スパッタ装置の断面図である。

【図４】図３に示すスパッタ装置の要部水平断面図であ
る。

【符号の説明】

１１ スパッタ室 １２ ディスク搬送室 １３ 磁石装置 １５ ターゲット １６ センターマスク １７ 上壁 １８ ディスク基板 １９ スパッタ室開口部 ２０ 搬送室開口部 ２１ 底壁 ２２ 回転軸 ２３ モータ ２４ アーム固定板 ２５ 第１のアーム ２６ 第２のアーム ２７ 固定ネジ ２８ 第１のサセプタ ２９ 第２のサセプタ ３０ ディスク搬送機構 ３１ 第１の空気シリンダ ３２ 第２の空気シリンダ ３３ 外部搬送機構

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 治朗 東京都新宿区市谷田町１丁目４番地 株式 会社ソニー・ミュージックエンタテインメ ント内 (72)発明者 小田 喜文 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地１ 株 式会社芝浦製作所横浜事業所内 Ｆターム(参考） 4K029 CA05 DC39 KA01 5D121 EE03 EE19

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内部に気密な放電空間を形成するスパッ
   タ室と、このスパッタ室内に磁界を印加するように、前
   記スパッタ室の上方に配置された磁界発生装置と、この
   磁界発生装置による磁界が印加されるように、前記スパ
   ッタ室内上部に配置されたターゲットと、前記スパッタ
   室に開口部を介して連設されたディスク搬送室と、この
   ディスク搬送室内に設けられ、垂直な回転軸にそれぞれ
   固定された第１および第２の水平アームと、これらの第
   １および第２の水平アームにそれぞれ支持されたサセプ
   タと、これらのサセプタを垂直方向に往復運動させると
   ともに、このサセプタに支持されるディスク基板を垂直
   方向に往復運動させるように、前記ディスク搬送室に設
   けられたプッシャ機構とを備え、前記第１および第２の
   水平アームは前記垂直な回転軸に対してほぼ同一の水平
   面内で反対方向に延長配置され、かつ、前記第１および
   第２の水平アームの延長方向における前記サセプタ位置
   がそれぞれ調整可能に前記垂直な回転軸に固定されてい
   ることを特徴とする回転アーム式スパッタ装置。
2. 【請求項２】 前記ほぼ同一の水平面内で反対方向に延
   長配置され第１および第２の水平アームは、それらの延
   長方向が互いにほぼ１８０度の角度を維持した状態で前
   記垂直な回転軸の回りに回転することを特徴とする請求
   項１記載の回転アーム式スパッタ装置。
3. 【請求項３】 内部に気密な放電空間を形成するスパッ
   タ室と、このスパッタ室内に磁界を印加するように、前
   記スパッタ室の上方に配置された磁界発生装置と、この
   磁界発生装置による磁界が印加されるように、前記スパ
   ッタ室内上部に配置されたターゲットと、前記スパッタ
   室に開口部を介して連設されたディスク搬送室と、この
   ディスク搬送室内に設けられ、垂直な回転軸にそれぞれ
   異なる高さの水平面内で独立に回転するように固定され
   た第１および第２の水平アームと、これらの第１および
   第２の水平アームにそれぞれ支持されたサセプタと、こ
   れらのサセプタを垂直方向に往復運動させるとともに、
   このサセプタに支持されるディスク基板を垂直方向に往
   復運動させるように、前記ディスク搬送室に設けられた
   プッシャ機構とを備え、前記第１および第２の水平アー
   ムの少なくも一方は前記サセプタに支持されるディスク
   基板がほぼ同一の水平面内に配置されるように曲折され
   ていることを特徴とする回転アーム式スパッタ装置。
4. 【請求項４】 前記垂直な回転軸は第１および第２の水
   平アームのそれぞれが固定される二重回転軸により構成
   されていることを特徴とする請求項３記載の回転アーム
   式スパッタ装置。