JP2000057558A - 記録媒体用ベ−スフィルム及びそれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録、再生の信頼性、フィルムまたはテ−プ
の走行性に優れる記録媒体用ベ−スフィルムを提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 樹脂と膨潤性ケイ酸塩を有機オニウムイ
オンで有機化処理を施してなる層間化合物で構成される
複合体であることを特徴とする記録媒体用ベ−スフィル
ム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂と層間化合物
からなる複合体で構成される記録媒体用ベ−スフィルム
及びそれを用いた磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体に代表される記録媒
体の高容量化が急速に進む中、記録媒体用ベ−スフィル
ムの平滑性に対する要求が厳しくなってきている。高容
量の磁気テ−プなどの薄膜型磁気記録媒体では、磁性層
が薄くベ−スフィルム表面の微細な突起がそのまま磁性
層表面の突起となって出現する傾向がある。磁性層表面
の突起は、記録・再生のエラ−を発生させる。

【０００３】ところが、フィルム表面上に突起が全く存
在しないと、フィルムが滑りにくくなり、フィルムまた
は磁気テ−プの走行性が悪化する。このようなことか
ら、記録媒体用ベ−スフィルムは、表面が平滑でありな
がら適度な粗さを有することが重要である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような問題に対処
する方法として、微量の無機フィラ−を樹脂中に添加し
表面に微細な突起を形成させる方法が特開昭６０−１２
７５２３号や特開昭６１−２４６９１９号に開示されて
いる。しかし球状の無機フィラ−を単に分散しただけで
は、表面の突起高さのばらつきによる記録・再生のエラ
−が多発することになり、即ち記録媒体用ベ−スフィル
ムとしては不十分なものであった。

【０００５】記録媒体用ベ−スフィルムは、フィルム表
面に微細な突起を有し、かつそれらの突起高さが均一で
なければならない。その為、フィルムを多層化するなど
によって、無機フィラ−をフィルム中に偏在させること
によって表面の突起高さを均一にする方法が特開平３−
１１４８３０号や特公平６−５５４９１号に開示されて
いる。

【０００６】ところが、このような方法は多層化工程で
特殊な設備を要したり、フィルムの薄膜化に対処しにく
い等の製造上の問題があった。さらに、無機フィラ−が
フィルム中に偏在しているため、フィルムまたは磁気テ
−プの走行時にフィラ−が偏在している部分でフィルム
が剥離し易いという品質上の問題もあった。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、樹脂と層間化
合物で構成される複合体で構成される記録媒体用ベ−ス
フィルムである。本発明は、層間化合物で複合体表面に
形成された突起の高さが、総突起数の９０％以上が２０
ｎｍ以下の範囲に偏在している記録媒体用ベ−スフィル
ムである。本発明は、樹脂と層間化合物で構成される複
合体で構成される記録媒体用ベ−スフィルムを用いてな
る磁気記録記録媒体である。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の記録媒体用ベ−スフィル
ムは、樹脂と層間化合物からなる複合体で構成される。
本発明の記録媒体用ベ−スフィルムは、樹脂中に膨潤性
ケイ酸塩を有機化処理した層間化合物を均一に分散させ
ることに特徴があり、層厚が１ｎｍ〜数十ｎｍのシ−ト
状の層間化合物が、複合体表面に平行に配向して分散し
ているため記録媒体用ベ−スフィルムに好適な表面を形
成できる。更に、樹脂が層間化合物を含有することによ
って、低線膨張係数化させることもできる。

【０００９】本発明で用いられる樹脂とは、ポリエチレ
ンテレフタラ−トやポリエチレンナフタレ−ト等のポリ
エステル系樹脂やポリカ−ボネ−ト樹脂、芳香族ポリア
ミド樹脂、芳香族ポリイミド等の強度に優れるフィルム
が得られやすい樹脂である。特に芳香族ポリイミド樹脂
が耐熱性に優れことから好適に用いられる。芳香族ポリ
イミド樹脂とは、テトラカルボン酸二無水物とジアミン
との縮合反応により得られるポリアミド酸の脱水反応を
行うことによって得られる樹脂である。

【００１０】テトラカルボン酸二無水物としては、ピロ
メリット酸、３，３’、４，４’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸二無水物、３，３’、４，４’−ジフェニ
ルエ−テルテトラカルボン酸二無水物、３，３’、４，
４’−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物、１，４−
ヒドロキノンジベンゾエ−ト−３，３’，４，４’−テ
トラカルボン酸二無水物挙げられ１種または2種以上混
合して用いることもできる。

【００１１】特に、低吸水性、高弾性率の芳香族ポリイ
ミド樹脂が得るために１，４−ヒドロキノンジベンゾエ
−ト−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸二無水物
を用いることが好ましい。またジアミンとしては、パラ
フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエ
−テル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、２、２−
ビス[（４−アミノフェノキシ）フェニル]プロパンが挙
げられ、１種または２種以上混合して用いることもでき
る。

【００１２】特に、高弾性率の芳香族ポリイミド樹脂を
得るために４，４’−ジアミノベンズアニリドを用いる
ことが好ましい。本発明に用いられる層間化合物とは、
膨潤性ケイ酸塩に有機オニウムイオンを作用させて得ら
れる化合物で、膨潤性ケイ酸塩の層間に有機オニウムイ
オンが挿入された化合物である。

【００１３】このような層間化合物は、有機オニウムイ
オンを、負の層格子及び交換可能なカチオンを含有する
層状粘土鉱物と反応させる公知の技術（例えば特公昭６
１−５４９２号公報、特開昭６０−４２４５１号公報、
特願平５−２４５１９９号、特願平５−２４５２００号
等）により製造される。上記の膨潤性ケイ酸塩は、主と
して酸化ケイ素の四面体シートと、主として金属水酸化
物の八面体シートからなり、スメクタイト族粘土および
膨潤性雲母などが挙げられる。

【００１４】前記のスメクタイト族粘土は下記一般式
（１） Ｘ０．２〜０．６ Y２〜３ Z４Ｏ１０(ＯＨ）₂・ｎＨ₂O （１） （ただし、ＸはＫ、Ｎａ、１／２Ｃａ、及び１／２Ｍｇ
から成る群より選ばれる１種以上であり、ＹはＭｇ、Ｆ
ｅ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｌｉ、Ａｌ、及びＣｒから成る
群より選ばれる１種以上であり、ＺはＳｉ、及びＡｌか
ら成る群より選ばれる１種以上である。尚、Ｈ_2Oは層間
イオンと結合している水分子を表すが、ｎは層間イオン
および相対湿度に応じて著しく変動する）で表され、天
然または合成されたものである。該スメクタイト族粘土
の具体例としては、例えば、モンモリロナイト、バイデ
ライト、ノントロナイト、サポナイト、鉄サポナイト、
ヘクトライト、ソーコナイト、スチブンサイト、及びベ
ントナイト等、またはこれらの置換体、誘導体、あるい
はこれらの混合物が挙げられる。

【００１５】また、前記の膨潤性雲母は下記一般式
（２） Ｘ０．５〜１．０ Y２〜３(Ｚ４Ｏ１０)（Ｆ、ＯＨ）₂ （ ２） （ただし、ＸはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃａ、Ｂａ、及
びＳｒから成る群より選ばれる１種以上であり、ＹはＭ
ｇ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ａｌ、及びＬｉから成る群より
選ばれる１種以上であり、ＺはＳｉ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｆ
ｅ、及びＢから成る群より選ばれる１種以上である。）
で表され、天然または合成されたものである。これら
は、水、水と任意の割合で相溶する極性溶媒、及び水と
該極性溶媒の混合溶媒中で膨潤する性質を有する物であ
り、例えば、リチウム型テニオライト、ナトリウム型テ
ニオライト、リチウム型四ケイ素雲母、及びナトリウム
型四ケイ素雲母等、またはこれらの置換体、誘導体、あ
るいはこれらの混合物が挙げられる。下記のバーミキュ
ライト類相当品等も使用し得る。

【００１６】前記バーミキュライトには３八面体型と２
八面体型があり、下記一般式（３） （Ｍｇ,Ｆｅ,Ａｌ）２〜３(Ｓｉ４−ｘAｌｘ)Ｏ１０(ＯＨ）₂・（Ｍ＋ ,Ｍ２＋１／２)ｘ・ｎＨ_2O （３） （ただし、ＭはＮａ及びＭｇ等のアルカリまたはアルカ
リ土類金属の交換性陽イオン、ｘ＝０.６〜０.９、ｎ＝
３.５〜５である）で表される。

【００１７】前記の膨潤性ケイ酸塩は、単独または２種
以上組み合わせて使用される。膨潤性ケイ酸塩の結晶構
造は、ｃ軸方向に規則正しく積み重なった純粋度が高い
ものが望ましいが、結晶周期が乱れ、複数種の結晶構造
が混じり合った、いわゆる混合層鉱物も使用され得る。
有機オニウムイオンとは、アンモニウムイオン、ホスホ
ニウムイオン、スルホニウムイオン、複素芳香族環由来
のオニウムイオンに代表される構造を有するものであ
る。オニウムイオンを存在させることにより負に帯電し
た膨潤性ケイ酸塩の層間に分子間力の小さい有機構造を
導入し、膨潤性ケイ酸塩と樹脂との親和性を高めること
ができる。

【００１８】有機オニウムイオンとしては、ラウリルア
ミンイオンやミリスチルアミンイオン等のアルキルアミ
ンイオンやジエチルメチル（ポリプロピレンオキサイ
ド）アンモニウムイオンや、ジメチルビス（ポリエチレ
ングリコ−ル）アンモニウムイオン等のアルキル基とグ
リコ−ル鎖を併有したアンモニウムイオン等が挙げられ
る。

【００１９】本発明の記録媒体用ベ−スフィルム中で分
散している層間化合物の構造は、有機化処理前の膨潤性
ケイ酸塩が有している層が多層積層したμｍサイズの凝
集構造とは全く異なる。すなわち樹脂との親和性を有す
る有機オニウムイオンが層間に導入され、かつ層間が拡
大された層間化合物を用いることによって、層間化合物
は、樹脂中で非常に細かく互いに独立した薄片状に分散
している。このような薄片状の層間化合物の分散状態
は、以下に述べるようなパラメ−タ−で表現され得る。

【００２０】まず、平均層厚を、薄片状に分散したシラ
ン粘土複合体の層厚みの数平均値であると定義すると、
本発明の記録媒体用ベ−スフィルム中の層間化合物の平
均層厚の上限値は１５０Å以下であることが好ましい。
より好ましくは１００Å以下である。また、シラン粘土
複合体の平均層厚の下限は特に制限されないが、１０Å
程度である。シラン粘土複合体の平均層厚が上記の範囲
にないと、平滑でありながら適度な粗さを有する表面を
形成しにくくなる。

【００２１】また、最大層厚を、記録媒体用ベ−スフィ
ルム中に薄片状に分散した層間化合物の層厚みの最大値
であると定義すると、本発明の記録媒体用ベ−スフィル
ム中の層間化合物の最大層厚の上限値は、１５００Åが
好ましい。より好ましくは１２００Åであり、更に好ま
しくは１０００Åである。最大層厚の上限値が１５００
Åより大きいと、平滑でありながら適度な粗さを有する
表面を形成しにくくなる。層間化合物の最大層厚の下限
値は、特に制限されない。

【００２２】上記の層厚は顕微鏡等を用いて撮影される
像から求めることができる。すなわち、いま仮に、Ｘ−
Ｙ面上に置いた記録媒体用フィルムをＸ−Ｚ面あるいは
Ｙ−Ｚ面と平行な面で薄片を切り出し、該薄片を透過型
電子顕微鏡などを用い、約４〜１０万倍以上の高倍率で
観察して求められ得る。測定は、上記の方法で得られた
透過型電子顕微鏡の象上に置いて、１００個以上の層間
化合物を含む任意の領域を選択し、画像処理装置などで
画像化し、計算機処理する事等により定量化できる。あ
るいは、定規などを用いて計測しても求めることもでき
る。

【００２３】本発明の記録媒体用ベ−スフィルム中の層
間化合物は、薄片状（シ−ト状）の層間化合物が複合体
表面に平行に配向して分散する。その為、層間化合物に
よりフィルム表面に形成される突起は、高さが限られた
範囲に偏在し、記録媒体用ベ−スフィルムとして重要な
平滑でありながら適度な粗さを有する表面を形成でき
る。

【００２４】層間化合物によって形成された突起を有す
るフィルム表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、０．５〜
１０ｎｍの範囲が好ましく、１〜５ｎｍがより好まし
い。０．５ｎｍより小さいとフィルムが平滑すぎてしま
いフィルム走行性を損なうことになる。逆に１０ｎｍよ
り大きいと記録媒体時の記録・再生のエラ−を発生させ
ることになる。

【００２５】表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を上記範囲
とするためには、層間化合物の種類、樹脂中の濃度など
で調整する方法等が挙げられる。層間化合物を含有させ
る上記以外の効果として、樹脂本来の弾性率や線膨張係
数等の特性を向上させることができる。層間化合物で特
性を向上させることによって更に薄い記録媒体用ベ−ス
フィルムを作製することが可能となる。

【００２６】例えば、フィルム薄膜化に対し樹脂本来の
弾性率が不十分であったとしても層間化合物を含有させ
ることによって弾性率を向上させることができる。複合
体の弾性率は、特に制限されないが８００ｋｇｆ／ｍｍ
²以上が好ましい。。弾性率が８００ｋｇｆ／ｍｍ²未満
であると、１０μｍ以下に薄くすると担持体として充分
な強度がない。また、複合体の線膨張係数は、５０℃〜
１５０℃の範囲で１０ｐｐｍ以下が好ましい。１０ｐｐ
ｍ以上であると、磁性層などの金属層を高温下で形成さ
せた後にカ−ルを発生させることになる。

【００２７】本発明の記録媒体用ベ−スフィルムは、高
密度磁気記録媒体に好適に用いることができ、磁性体原
料となる金属あるいは金属化合物の種類は磁性層とし
て、例えば鉄、コバルト、ニッケル、クロムあるいはこ
れらの酸化物あるいは合金等を有する公知の強磁性層が
形成できれば特に限定されない。また、磁性薄膜の形成
方法についてはメッキや真空蒸着法、スパッタリング、
イオンプレ−ティング法等の真空薄膜形成技術や強磁性
粉末を、例えば塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコ
−ル共重合体、ポリウレタンプレポリマ−及びポリイソ
シアネ−トよりなるバインダ−を用い磁性塗料として付
与する湿式法を用いることができる。この時バインダ−
は、熱硬化系および放射線硬化系バインダ−であること
が好ましく、その他添加剤として分散剤、潤滑剤、帯電
防止剤等を含有していても良い。

【００２８】本発明の記録媒体用ベ−スフィルムの製造
方法について具体的に本発明の目的を最も好適に達成で
きる樹脂群から芳香族ポリイミド系フィルムを例に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。芳香
族ポリイミド前駆体である一般式（化１）

【００２９】

【化１】

【００３０】（式中Ｒ１は４価の有機基、Ｒ２は２価の
有機基を示す。）で表されるポリアミド酸と層間化合物
との混合溶液（以下、粘土分散体）を調製する。ポリア
ミド酸は公知の方法で製造することができる。即ちテト
ラカルボン酸二無水物類と芳香族ジアミン類を実質等モ
ル使用し有機極性溶媒中で重合して得られる。

【００３１】ポリアミド酸の生成反応に使用される有機
溶剤としては、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホ
キシド等のスルホキシド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド等のホルムア
ミド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒、Ｎ−メ
チル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン等
のピロリドン系溶媒、フェノ−ル、ｏ−，ｍ−，または
ｐ−クレゾ−ル等のフェノ−ル系溶媒等を挙げることが
でき、これらを単独または混合物として用いるのが望ま
しいが、更にキシレン、トルエンのような芳香族炭化水
素の使用も可能である。また、このポリアミド酸は、前
記の有機極性溶媒中に１〜４０重量％、好ましくは５〜
２５重量％溶解されているのが取り扱いの面からも望ま
しい。

【００３２】ポリアミド酸の重合においてポリアミド酸
の重量平均分子量は、特に限定されないが１５万以上が
好ましく、２０万以上が更に好ましい。重量平均分子量
が１５万以下であると、強度に劣る芳香族ポリイミド系
フィルムが得られるからである。ポリアミド酸溶液ある
いは層間化合物との混合方法については、特に制限はな
く、ポリアミド酸溶液に層間化合物を固体状で添加する
方法あるいは分散媒に予め分散させた分散液の状態で添
加する方法のいずれの方法でもよいが、添加後に均一に
なるまで混練機などにより機械的剪断下で攪拌すること
が肝要である。

【００３３】混合を効率よく行うためには、撹拌機の回
転数は５００ｒｐｍ以上、あるいは３００（１／ｓ）以
上の剪断速度を加えることが望ましい。回転数の上限値
は２５０００ｒｐｍであり、剪断速度の上限値は５００
０００（１／ｓ）である。上限値よりも大きい値で撹拌
を行っても効果はそれ以上変わらない傾向があるため、
上限値より大きい値で撹拌を行う必要はない。

【００３４】上記の方法で得られる粘土分散体に含まれ
る層間化合物は、膨潤性ケイ酸塩が有していたような初
期の積層・凝集構造はほぼ完全に消失し、層同士の間隔
が拡大していわゆる膨潤状態に成る。また、層間化合物
は、任意の段階で添加することができる。例えば、重合
前のポリアミド酸の重合性モノマ−溶液に添加する方
法、あるいは重合途中段階に添加する方法、更には、ポ
リアミド酸を熱的あるいは化学的にイミド化した後に添
加する方法、即ちイミド樹脂溶液に添加する方法などを
用いることができる。

【００３５】この粘土分散体から芳香族ポリイミド系フ
ィルムを得るには、（１）熱的に脱水しイミド化する熱
的方法と（２）脱水剤を用いる化学的方法のいずれを用
いてもよいが、伸びや強度などの機械的特性の優れる芳
香族ポリイミド系フィルムを得やすい化学的方法による
方がより好ましい。粘土分散体から芳香族ポリイミド系
フィルムを製造する方法を例示する。（１）上記混合溶
液をドラムあるいはエンドレスベルト上に流延または塗
布して膜状とし、その膜を自己支持性を有するまで１５
０℃以下の温度で約５分〜６０分乾燥させる。ついで、
これを支持体から引き剥がし端部を固定した後、膜の収
縮を制限しながら約１００℃〜５００℃のまで徐々に加
熱することにより乾燥及びイミド化し、冷却後これより
取り外し芳香族ポリイミド系フィルムを得る。

【００３６】上記製造方法において、自己支持性を有す
るフィルムを支持体から剥がれやすくするためにポリア
ミド酸と層間化合物の混合溶液にかえて混合溶液に更に
剥離剤を加えた混合溶液を用いてもよい。剥離剤として
は、例えばジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、ト
リエチレングリコ−ルジメチルエ−テル等の脂肪族エ−
テル類、ピリジン、ピコリンなどの３級アミン類、トリ
フェニルホスフィン、トリフェニルホスフェ−ト等の有
機りん化合物類が挙げられる。

【００３７】また化学的方法により芳香族ポリイミド系
フィルムを得る場合は、ポリアミド酸と層間化合物の混
合溶液に代えて、混合溶液に更に化学量論以上の脱水剤
と触媒量の３級アミン類を加えた混合溶液を用いればよ
い。脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水フタル酸な
どの脂肪族あるいは芳香族酸無水物類が挙げられる。触
媒としては、例えばトリエチルアミンなどの脂肪族３級
アミン、ピリジン、ピコリン、イソキノリン等の複素環
式３級アミン類が挙げられる。

【００３８】粘土分散体からフィルム化する際に支持体
から剥離した後の自己支持性を有するフィルムを延伸し
てもよい。延伸することにより機械的特性に優れるフィ
ルムを得やすいからである。記録媒体用ベ−スフィルム
に接着性や耐熱性等の各種特性を向上させることを目的
に、平滑性などの表面性を損なわない程度に複合体中
に、酸化チタン、炭酸カルシウム、アルミナ、シリカゲ
ル等の層間化合物以外の微粒子を含有させたり、フィル
ム表面を、シランカップリング剤などの表面改質剤や微
粒子とバインダ−樹脂を含む溶液等を塗布したり、コロ
ナ処理やプラズマ処理などの放電処理などを施してもよ
い。

【００３９】本発明の記録媒体用ベ−スフィルムは、層
間化合物がフィルム中でフィルム面に平行に配向して分
散しているため、フィルム表面に特殊な形状の突起が形
成されている。しかも弾性率が高く、かつ線膨張係数が
低く、更に透明性や靭性にも優れているので高密度磁気
記録媒体等の記録媒体用ベ−スフィルムに利用され得
る。

【００４０】

【実施例】以下実施例により本発明を更に詳細に説明す
るが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるも
のではない。まず実施例および比較例における評価方法
を以下にまとめて示す。 １．突起高さ 微細突起高さは、電子線三次元粗さ解析装置（エリオニ
クス社製、ＥＲＡ−８０００）を用い、カットオフ値
０．００８ｍｍ、測定長１１０μｍで測定した。

【００４１】得られた測定結果を、所定のピ−ク高さに
対するピ−ク個数を５ｎｍ間隔で解析し突起高さとその
個数を算出した。突起高さ比率として、高さが２０ｎｍ
以下の突起数の総突起数に対する比率を下記式にて算出
した。突起高さ比率（％）＝２０ｎｍ以下の突起数／総
突起数×１００また同様に、１５ｎｍ以下の突起につい
て算出した。 ２．中心線平均粗さ 中心線平均粗さＲａ（ｎｍ）は、３次元表面構造解析顕
微鏡（ＺＹＧＯ社製、ＮｅｗＶｉｅｗ２００）を用い、
カットオフ値０．００８ｍｍ、測定長１ｍｍで測定し、
１０回測定の平均値を示した。尚、Ｒａの定義は、ＪＩ
ＳＢ０６０１に示されているものである。 ３．走行性 ＶＨＳ方式のビデオテ−プレコ−ダ−を用い、磁気テ−
プ走行性の乱れによる画面ゆらぎを観察した。雰囲気は
常温常湿の２５℃、５５％ＲＨで行った。画面のゆらぎ
が無い場合を○、走行が時々遅くなり画面揺らぎが生じ
る場合を×とした。 ４．線膨張係数 島津製作所製ＴＭＡ−５０を用い引張モ−ドで測定し
た。尚、測定はＪＩＳＫ７１９７に準拠し、５０〜１５
０℃における数値を算出した。 ５．ドロップアウト ドロップアウトは、磁気テ−プに三段階段波信号を最適
記録電流で記録し、再生時のビデオヘッドアンプ出力の
減衰量が１８ｄＢ、継続時間２０μｓｅｃ以上のドロッ
プアウトを１０分間ドロップアウトカウンタ−で測定
し、１分間当たりの平均で示した。次に、ポリアミド酸
溶液と層間化合物分散液の調整例を示す。

【００４２】ＯＤＡは、４，４’−ジアミノジフェニル
エ−テル、ＤＡＢＡは４，４’ジアミノベンズアニリ
ド、ＢＰＤＡは、３，３’、４，４’−ジフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、ＴＭＨＱは、１，４−ヒドロキ
ノンジベンゾエ−ト−３，３’，４，４’−テトラカル
ボン酸二無水物、ＮＭＰはＮ−メチル−２−ピロリドン
を表す。 （ポリアミド酸溶液の調整 Ａ−１）室温下に、ＤＡＢ
Ａ０．０８ｍｏｌとＯＤＡ０．０２ｍｏｌのＮＭＰ溶液
にＴＭＨＱ０．０９５ｍｏｌを加え、窒素雰囲気で１時
間攪拌した。次に、この溶液にゆっくりとＴＭＨＱ
０．００５ｍｏｌのＮＭＰ溶液を加えて１５重量％のポ
リアミド酸溶液を得た。 （ポリアミド酸溶液の調整Ａ−２）室温下に、ＤＡＢＡ
０．０８ｍｏｌとＯＤＡ０．０２ｍｏｌのＮＭＰ溶液に
ＢＰＤＡ０．０９５ｍｏｌを加え、窒素雰囲気で１時間
攪拌した。次に、この溶液にゆっくりとＢＰＤＡ ０．
００５ｍｏｌのＮＭＰ溶液を加えて１５重量％のポリア
ミド酸溶液を得た。 （層間化合物分散液の調整Ｂ−１）層間化合物ＭＴＥ
（コ−プケミカル社製、膨潤性マイカをメチルトリオク
チルアンモニウムイオンで処理したもの）をＮＭＰに５
０℃下で３時間攪拌分散させた後、更に超音波で５分間
処理し、ＮＭＰに層間化合物を５％分散させた液を得
た。 （層間化合物分散液の調整Ｂ−２）層間化合物ＭＰＥ
（コ−プケミカル社製、膨潤性マイカをジエチル（ポリ
プロピレングリコ−ル）アンモニウムイオンで処理した
もの）をＮＭＰに５０℃下で３時間攪拌分散させた後、
更に超音波で５分間処理し、ＮＭＰに層間化合物を５％
分散させた液を得た。

【００４３】（実施例１〜４）ポリアミド酸溶液 Ａ−
１〜Ａ−３１００重量部と層間化合物分散液 Ｂ−１〜
Ｂ−３を表１に示す組み合わせで混合し粘土分散体を得
た。尚、層間化合物の樹脂に対する配合部数は、表１に
示した。得られた粘土分散体からポリイミド系フィルム
を作製した。フィルムの作製は、以下のようにして行
う。１００ｇの粘土分散体に対し無水酢酸１５ｇ、β−
ピコリン５ｇ、ＮＭＰ１０ｇの比率で加え充分攪拌した
後、スリットダイを通じステンレス製のエンドレスベル
ト上にキャスト後、８０℃で１０分間加熱し自己支持性
を有する膜を得た。この膜をエンドレスベルトから剥し
たのち、端部を固定して１００℃〜４５０℃へ連続的に
加熱し、更に４５０℃で５分間加熱しイミド化させて、
透明性良好な厚みが１５μｍの層間化合物を含有するポ
リイミド系フィルム得た。得られたポリイミド系フィル
ムについて、中心線平均粗さＲａ、突起の比率、線膨張
係数を測定し、結果を表１に示した。

【００４４】得られたフィルムを、真空槽中に装填し、
１０^-2ト−ルのＡｒ雰囲気下でグロ−放電処理し、次い
で真空槽を１０^-6ト−ルに減圧しフィルムを１５０℃に
加熱したドラムに沿わせて走行させながら電子ビ−ム蒸
着により、Ｃｏ−Ｎｉ合金（Ｃｏ７５重量％、Ｎｉ２５
重量％）を０．５μｍになるように蒸着した。これをス
リットして磁気テ−プを作製した。得られた磁気テ−プ
について、走行性、ドロップアウト特性の評価を行っ
た。その結果を表２に示した。

【００４５】（実施例５）層間化合物 ＭＰＥを１０重
量％含有したポリエチレンナフタレ−トを粘土分散体
（固体状）を調整し、溶融押し出し法によりフィルムを
作製した。フィルムの作製は以下のようにして行う。粘
土分散体を押し出し機で、溶融押し出ししスリットダイ
を通じ、冷却ロ−ルにキャスト後、樹脂をロ−ルから剥
がし未延伸のフィルムを得た。この未延伸フィルムを長
手方向に１３０℃下で４．０倍延伸した後、続けて幅方
向に１２０℃４．２倍延伸し、更に長手方向に１５０℃
で１．１倍延伸した。延伸後のフィルムを定長下、１７
０℃で１０秒間加熱し、フィルム厚みが１５μｍのポリ
エチレンナフタレ−ト系フィルムを得た。得られたポリ
エチレンナフタレ−ト系フィルムについて、中心線平均
粗さＲａ、突起の比率、線膨張係数について測定し、結
果を表１に示した。

【００４６】得られたフィルムを、真空槽中に装填し、
１０^-2ト−ルのＡｒ雰囲気下でグロ−放電処理し、次い
で真空槽を１０^-6ト−ルに減圧しフィルムを１５０℃に
加熱したドラムに沿わせて走行させながら電子ビ−ム蒸
着により、Ｃｏ−Ｎｉ合金（Ｃｏ７５重量％、Ｎｉ２５
重量％）を０．５μｍになるように蒸着した。これをス
リットして磁気テ−プを作製した。得られた磁気テ−プ
について、走行性、ドロップアウト特性の評価を行っ
た。その結果を表２に示した。

【００４７】（比較例１）ポリアミド酸溶液Ａ−１をそ
のまま、実施例１〜４と同様な方法でポリイミドフィル
ムを作製した。得られたポリイミドフィルムについて、
中心線平均粗さＲａ、突起の比率、線膨張係数について
評価を行った。その結果を表１に示す。得られたフィル
ムを、真空槽中に装填し、１０^-2ト−ルのＡｒ雰囲気下
でグロ−放電処理し、次いで真空槽を１０^-6ト−ルに減
圧しフィルムを１５０℃に加熱したドラムに沿わせて走
行させながら電子ビ−ム蒸着により、Ｃｏ−Ｎｉ合金
（Ｃｏ７５重量％、Ｎｉ２５重量％）を０．５μｍにな
るように蒸着した。これをスリットして磁気テ−プを作
製した。得られた磁気テ−プについて、走行性、ドロッ
プアウト特性の評価を行った。その結果を表２に示し
た。

【００４８】（比較例２）ポリアミド酸溶液Ａ−１とコ
ロイダルシリカ（平均粒径が２０ｎｍ）をＮＭＰに分散
させた液を混合し分散体を作製した。尚、コロイダルシ
リカは樹脂に対して５重量％となるように含有させた。
得られた分散体から実施例１〜４と同様の方法でポリイ
ミド系フィルムを作製した。

【００４９】得られたポリイミドフィルムについて、フ
ィルム表面性（中心線平均粗さ、Ｒａ）、線膨張係数に
ついて評価を行った。その結果を表１に示す。更に、表
面の突起形状を観察したところ、大きさがそろっていな
い半球状の突起が不均一に存在していた。得られたフィ
ルムを、真空槽中に装填し、１０^-2ト−ルのＡｒ雰囲気
下でグロ−放電処理し、次いで真空槽を１０^-6ト−ルに
減圧しフィルムを１５０℃に加熱したドラムに沿わせて
走行させながら電子ビ−ム蒸着により、Ｃｏ−Ｎｉ合金
（Ｃｏ７５重量％、Ｎｉ２５重量％）を０．５μｍにな
るように蒸着した。これをスリットして磁気テ−プを作
製した。得られた磁気テ−プについて、走行性、ドロッ
プアウト特性の評価を行った。その結果を表２に示し
た。

【００５０】

【発明の効果】以上のように、本発明の記録媒体用ベ−
スフィルムは、樹脂中に層間化合物が含有していること
により、フィルム表面が平滑でありながら適度な突起を
有している。更に、線膨張係数が１０ｐｐｍ以下という
寸法安定性にも優れている。

【００５１】

【表1】

【００５２】

【表2】

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 樹脂と膨潤性ケイ酸塩を有機オニウムイ
   オンで有機化処理を施してなる層間化合物で構成される
   複合体であることを特徴とする記録媒体用ベ−スフィル
   ム。
2. 【請求項２】 複合体表面に層間化合物で形成された微
   細突起を有し、高さが２０ｎｍ以下の微細突起が微細突
   起総数の９０％以上であることを特徴とする請求項１記
   載の記録媒体用ベ−スフィルム。
3. 【請求項３】 高さが１５ｎｍ以下の微細突起が微細突
   起総数の８０％以上であることを特徴とする請求項１又
   は２記載の記録媒体用ベ−スフィルム。
4. 【請求項４】 中心線平均粗さＲａが０．５〜１０ｎｍ
   であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の記録
   媒体用ベ−スフィルム。
5. 【請求項５】 中心線平均粗さＲａが１〜５ｎｍである
   ことを特徴とする請求項１、２又は３記載の記録媒体用
   ベ−スフィルム。
6. 【請求項６】 樹脂が芳香族ポリイミド樹脂である請求
   項１、２、３、４又は５記載の記録媒体用ベ−スフィル
   ム。
7. 【請求項７】 ポリイミド樹脂と膨潤性ケイ酸塩を有機
   オニウムイオンで有機化処理を施してなる層間化合物で
   構成される複合体の線膨張係数が、１０ｐｐｍ以下であ
   ることを特徴とする請求項６記載の記録媒体用ベ−スフ
   ィルム。
8. 【請求項８】 複合体の少なくとも片面に磁性層が形成
   されてなる磁気記録媒体において、請求項１〜７に記載
   するフィルムを用いた磁気記録媒体。