JPH0564594B2 - - Google Patents

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JPH0564594B2
JPH0564594B2 JP63077346A JP7734688A JPH0564594B2 JP H0564594 B2 JPH0564594 B2 JP H0564594B2 JP 63077346 A JP63077346 A JP 63077346A JP 7734688 A JP7734688 A JP 7734688A JP H0564594 B2 JPH0564594 B2 JP H0564594B2
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JP
Japan
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film
layer
formula
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aromatic
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JP63077346A
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English (en)
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JPH01247162A (ja
Inventor
Nobuaki Ito
Hiroaki Kobayashi
Taiichi Kurome
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
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Publication of JPH01247162A publication Critical patent/JPH01247162A/ja
Publication of JPH0564594B2 publication Critical patent/JPH0564594B2/ja
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  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は高密度記録媒体用ベースフイルムに関
する。 [従来の技術] 真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイ
ングなどの方法により、Co,Ni,Cr,Fe、ある
いはこれらの合金をフイルム基板上に形成させた
金属薄膜タイプの磁気記録媒体は、記録密度の向
上に非常に有効であり、基板としてはポリエステ
ルフイルムが多用されている。 しかし、ポリエステルフイルムは耐熱性が十分
でないために金属薄膜の形成条件が制限され、垂
直磁気記録媒体用の基板としては芳香族ポリイミ
ドフイルムや芳香族ポリアミドフイルムの使用が
検討されている。これら耐熱フイルムの表面形成
方法については、特開昭60−127523や特開昭62−
116637に種々提案がされている。 [発明が解決しようとする課題] しかしながら、特開昭60−127523では蒸着テー
プになつたものはテープ幅が狭いこともあり
VTR中での走行性は問題とならないが、広幅で
テープを作る製造工程では表面が平滑すぎるため
走行時や巻取り時にシワが入りやすく、生産収率
が低く製造速度が上げられなといつた問題が存在
していた。 磁性層を設ける側の表面性を蒸着テープなどへ
の使用に耐えるよう極度に平滑を保つたまま一方
で走行性を向上させるという要求に対しては、両
面とも同一の表面性を有するものではもはや対応
できず、フイルムの表裏の表面性を変える方法に
よらざるを得ない。特開昭62−116637はこういつ
た表面性を有するフイルムであるが、片面が粗れ
すぎているため、フイルムをロール状に巻いてお
くと反対面(磁性層を設ける側の面)に凹凸が転
写する裏写り現象が起こり磁性層側の表面性が損
なわれてしまう問題があつた。 一方、ポリエステルフイルムやセルロースアセ
テートフイルム(例えば特開昭56−162617)の製
造時などに採用されている共押出し方法は、表裏
で表面性を変えるには良好な方法であるが、フイ
ルム厚みが極端に薄いものを溶液製膜法で作る際
には、溶媒の乾燥中に2液が部分的あるいは全部
が混合してしまう問題があり、片方の表面性が非
常に平滑に保たれ、かつもう一方の表面が粗れた
薄物のフイルムは溶液製膜では得られたことがな
かつた。 本発明はこれらの問題点を解決し、表面性と走
行性が両立できるフイルムを提供することを目的
とする。 [課題を解決するための手段] 本発明は、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポ
リイミドから成るフイルムであつて、該フイルム
は少なくとも2層から成り、一方の層(A層)は
表面のRPA(中心線深さ)が10〜200Å、もう一方
の層(B層)は表面のRPB(中心線深さ)が下記
(1)式の範囲にあり、RaB(中心線平均粗さ)が20
〜200Å、50Å以上の高さの突起が1mm当り30個
以上であることを特徴とする高密度記録媒体用ベ
ースフイルムである。 RPA+50≦RPB≦1500(Å) ……(1) 本発明の芳香族ポリアミドとは一般式 (−HN−Ar1−NHOC−Ar2−CO)− で示される繰り返し単位を50モル%以上含む重合
体から成るものが好ましく、より好ましくは、70
モル%以上である。 ここでAr1,Ar2は少なくとも1個の芳香環を
含み、同一でも異なつていてもよく、これらの代
表例としては次のものがあげられる。
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】 また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、
ハロゲン基(特に塩素)、ニトロ基、C1〜C3のア
ルキル基(特にメチル基)、C1〜C3のアルコキシ
基なでの置換基で置換されているものも含む。ま
た、Xは −O−,−CH2−,−SO2−,−S−,−CO−な
どである。これらは単独または共重合の形で含ま
れる。 特に薄物の磁気テープ用途などには、機械特
性、環境変化(温度、湿度)に対する寸法安定性
などの点から、パラ結合を主体としたものが好ま
しく、こらに芳香環に塩素を導入したものがより
好ましい。 例えば、 (ここでp,qは0〜3) を50モル%以上含むものが挙げられる。 本発明における芳香族ポリイミドとは、重合体
の繰り返し単位の中に芳香環とイミド環を各々1
つ以上含むものであり、一般式 あるいは で示される繰り返し単位を50モル%以上含むもの
が好ましく、より好ましくは70モル%以上であ
る。 ここでAr3,Ar5を少なくとも1個の芳香環を
含み、イミド環を形成する2つのカルボニル基は
芳香環上の隣接する炭素原子に結合している。こ
のAr3は、芳香族テトラカルボン酸あるいはこの
無水物に由来する。代表例としては、次のような
ものが挙げられる。
【式】
【式】
【式】 ここで、Yは−O−,−CO−,−CH2−,−S
−,−SO2−などである。 また、Ar5は、無水トリカルボン酸、あるいは
このハライドに由来する。 Ar4,Ar6は少なくとも1個の芳香環を含み、
芳香族ジアミン、芳香族ジイソシアネートに由来
する。また、アミド結合、ウレタン結合等を含ん
でいてもよい。Ar4,Ar6の代表例としては、次
のようなものが挙げられる。
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】 ここで、これらの芳香環の環上の水素の一部
が、ハロゲン基、ニトロ基、C1〜C3のアルキル
基、C1〜C3のアルコキシ基などの置換基で置換
されたものも含む。Zは、−O−,−CH2−,−S
−,−SO2−,−CO−などである。これらは単独
または共重合の形で含まれる。 また、本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリ
イミドにはフイルムの物性を損わない程度に、滑
剤、酸化防止剤、その他の添加剤等や他のポリマ
ーがブレンドされていてもよい。 本発明のフイルムは、少なくともA層とB層の
2層から成つており、この2層は同じ構造のポリ
マであることが好ましいが、異なつていてもよ
い。 本発明のフイルムは、磁性層はA層の表面に設
けるが、このA層(表面をA面と呼ぶ)の表面性
は、RPAが10〜200Åの必要がある。好ましくは
20〜150Åである。 ここでRPAとは、中心線深さと呼ばれ、粗さ曲
線から基準長だけ抜き取り、その抜き取り部分の
最高の山頂から中心線までの間隔のことである。
RPAが10Åより小さいと表面が平滑すぎ、摩擦係
数が大きくなつて磁気記録媒体の製造時に傷が入
りやすくなる。逆に200Åより大きいと、磁性層
のヘツドとのスペーシングロスが大きくなり、電
磁変換特性が悪化する。 また磁性層を設けない側のB層(表面をB面と
呼ぶ)の表面性は、RPBが(1)式の範囲にあること
が必要であり、好ましくは220〜1000Åである。
PPA+50より小さいとB面が平滑すぎてフイルム
の走行性改善には寄与しない。一方、1500Åより
大きいと走行性は良好であるが、フイルムをロー
ル状に巻いておいたり、磁性層を形成したものを
ロール状に保存しておくと裏写りによる凹凸の転
写が大きくなり、高密度記録に必要なフイルムあ
るいは磁性層の平滑性が損われるようになつて使
用に耐えなくなる。 またこのB面のRaB(中心線平均粗さ)は20〜
200Åの必要がある。好ましくは25〜150Åであ
る。20Åより小さいと走行性が改善できず、200
Åより大きいとフイルムの削れが発生してくる。 さらにこのB面には50Å以上の高さの突起が1
mm当り30個以上存在することが必要である。好ま
しくは50個以上であり、さらに100Å高さ以上の
突起が5個以上あるとより好ましい。ここで突起
の高さとは、粗さ曲線から基準長だけ抜き取り、
その抜き取り部分の中心線から突起の山頂までの
距離を現わしたものであり、粗さ曲線をチヤート
に書かせフイルム1mm当りに相当する粗さ曲線か
らの突起の数を求める。突起の高さが50Åより小
さいか、50Å高さ以上の突起の数が30個未満で
は、走行性の向上が望めない。 本発明のA面よりB面の方が粗れた表面をもつ
フイルムをつくるためには、まずB面には粒子を
存在させておく必要がある。粒子としては有機、
無機のものがあるが、無機の方が耐熱性の点から
より好ましい。例えば、SiO2,TiO2,ZnO,Al2
O3,CaSO4,BaSO4,CaCO3、カーボンブラツ
ク、ゼオライト、その他金属微粉末などが挙げら
れる。粒径は0.02〜2μm、添加量はポリマ当り0.1
〜10wt%が好ましい。より好ましくは0.05〜1μm
の粒径のものを使用するとよい。また2種類以上
使用してもよい。 A層については、粒子を含まなくてもよいがB
層より小さい粒子、あるいは少量の添加量、ある
いは小さい粒子を少量添加してもよい。粒子とし
ては、粒径0.005〜0.3μm、添加量はポリマ当り0
〜5wt%が好ましい。特に粒径が揃つたコロイド
粒子が好ましく、シリカゾル、アルミナゾル、酸
化チタンゾルなどが特に好ましい。 本発明のフイルムの厚さは1〜15μmであるこ
とが好ましく、より好ましくは2〜10μmである。
薄いほど本発明の効果は大きくなる。 A層とB層の厚みについては、まずA層はRPB
(B面の中心線深さ)の10倍以上にすることが好
ましい。 例えばPPBが500ÅならA層の厚みは0.5μm以上
である。溶液製膜ではフイルム化に際し溶媒の乾
燥を行なう必要があるが、この時2層の界面で層
が混合する。A層の表面(A面)は2層が混合し
たとしても十分平滑でなければならないため、B
層との関係においてその厚みの最小値が決まつて
くる。一方B層は、A層ほど要求は厳しくないが
0.1μm、より好ましくは0.5μm以上の厚みが好ま
しい。A層とB層はこのように最低厚みを維持し
て、かつ厚みの比率としてはA層/B層=0.1〜
10の範囲で調節することが好ましい。より好まし
くは0.2〜5である。 さらに本発明のフイルムのA面は、中心線平均
粗さRaAが2〜20Åであることが好ましい。また
0.01μm径以上の微細突起が103〜108個/mm2存在す
ると磁性層の耐久性向上に効果があり好ましい
が、微細突起はなくてもかまわない。また本発明
のB面は、RPBとRaBの比RPB/RaBが3〜20が好
ましく、より好ましくは4〜15である。 本発明のフイルムは、少なくとも1方向のヤン
グ率が400Kg/mm2以上が好ましく、より好ましく
は800Kg/mm2以上である。また少なくとも1方向
の湿度膨脹係数が30×10-61/%RH以下が好ま
しく、20×10-61/%RH以下がより好ましい。 さらに、A面とB面との動摩擦係数は1以下が
好ましく、より好ましくは0.8以下である。この
摩擦係数は25℃、55%RHの雰囲気中で測定した
値である。 次に本発明の製造法について説明するが、これ
に限定されるものではない。 まず、芳香族ポリアミドであるが、酸クロリド
とジアミンとからの場合は、N−メチルピロリド
ン(NMP)、ジメチルアセトアミド(DMAC)、
ジメチルホルムアミド(DMF)などの非プロト
ン性有機極性溶媒中で、溶液重合したり、水系媒
体を使用する界面重合などで合成される。ポリマ
溶液は、単量体として酸クロリドとジアミンを使
用すると塩化水素が副生するため、これを中和す
るために水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭
酸リチウムなどの無機の中和剤、またはエチレン
オキサイド、アンモニア、トリエチルアミンなど
の有機の中和剤を添加する。 また、イソシアネートとカルボン酸との反応
は、非プロトン性有機極性溶媒中、触媒の存在下
で行なわれる。これらのポリマ溶液はそのままフ
イルムを形成する製膜原液にしてもよく、またポ
リマを一度単離してから上記の溶媒に再溶解して
製膜原液を調製してもよい。製膜原液には溶解助
剤として無機塩例えば塩化カルシウム、塩化マグ
ネシウム、塩化リチウムなどを添加する場合もあ
る。製膜原液中のポリマ濃度は2〜40wt%程度
が好ましい。 一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸
の溶液は次のようにして得られる。即ち、ポリア
ミド酸はN−メチルピロリドン(NMP)、ジメ
チルアセトアミド(DMAC)、ジメチルホルムア
ミド(DMF)などの非プロトン性有機極性溶媒
中で、テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミ
ンを反応させて、調製することができる。また、
芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含有す
る溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤
を添加してポリイミドの粉末を得、これを再度溶
媒に溶解して調製できる。製膜原液中のポリマ濃
度は5〜40wt%程度が好ましい。 上記のように調製された製膜原液は、いわゆる
溶液製膜法によりフイルム化が行なわれる。溶液
製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがある
が、乾湿式法、乾式法が表面性のよいフイルムを
得るには好ましい。 湿式法で製膜する場合には該原液を口金から直
接製膜用浴中に押し出すか、又は一旦ドラム等の
支持体上に押し出し、支持体ごと湿式浴中に導入
する方法が採用される。この浴は一般に水系媒体
からなるものであり、水の他に有機溶媒や無機塩
等を含有していてもよい。湿式浴を通すことでフ
イルム中に含有された塩類、有機溶媒やイミド化
剤等の抽出が行なわれるが、これら湿式浴全体を
通過する時間はフイルムの厚みにもよるが10秒〜
30分である。さらにフイルムの長手方向に延伸が
行なわれる。次いで乾燥、横延伸、熱処理が行な
われるがこれらの処理は一般に100〜500℃で、合
計で1秒〜30分である。 乾湿方法で製膜する場合は該原液を口金からド
ラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出し
て薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散
させ薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥
条件は室温〜300℃、60分以内の範囲である。乾
式工程を終えたフイルムは支持体から剥離されて
湿式工程に導入され、上記の湿式法と同様に脱
塩、脱溶媒などが行なわれ、さらに延伸、乾燥、
熱処理が行なわれてフイルムとなる。 乾燥のプロセスを採用した場合には、ドラム、
あるいはエンドレスベルト等の上で乾燥され、自
己保持性をもつたフイルムを、これら支持体から
剥離し、フイルムの長手方向に延伸を行なう。さ
らに残存溶媒を除去するための乾燥や、延伸、熱
処理が行なわれるが、これらの処理は100〜500℃
で1秒〜30分である。 以上のように形成されるフイルムはその製膜工
程中で延伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で
0.8〜5.0(面倍率とは延伸後のフイルム面積を延
伸前のフイルムの面積で除した値で定義する。1
以下はリラツクスを意味する。)の範囲内にある
ことが好ましく、より好ましくは1.1〜3.0であ
る。 本発明の積層フイルムを形成するには、A層側
に相当する製膜原液と、B層側に相当する製膜原
液の2種類を、公知の方法例えば特開昭56−
162617のように合流管で積層したり、口金内で積
層して形成することができる。流延はB層を支持
体面側になるようにした方が、A面の表面性を平
滑に維持できる点が好ましい。またいずれか一方
の製膜原液で一旦自己保持性を有するフイルムを
形成しておき、その上にもう一方の製膜原液を流
延して脱溶媒を行ない、積層フイルムとすること
もできる。特に合流管や、口金内で積層する場合
は、原液の粘度が100〜10000ポイズになるように
調節することが好ましい。この範囲より小さいと
原液が口金から出る前に2液が混合しやすくな
り、薄物フイルムの場合はごくわずかな混合でも
A面が粗れてくる。逆にこの範囲より大きいと2
液の混合は起こりにくくなるがメルトフラクチヤ
ーが発生しフイルム表面が粗れやすくなり好まし
くない。 また2液の粘度は同じことが好ましいが、多少
の粘度差があつてもよく、低粘度側を基準にとる
と高粘度側の粘度は100%以内なら問題ない。 さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、乾燥
工程中で2液が混合することがある。支持体上へ
キヤストされた原液は加熱されると一旦粘度が低
下し、その後溶媒の蒸発に伴なつて再び粘度が上
昇するが、粘度が10ポイズより下がると2液が混
合しやすくなるので、10ポイズより粘度が下がら
ないよう乾燥条件を十分調節する必要がある。例
えば乾燥温度を少なくとも2段階に分けて上げて
いく方法が採用できる。 以上のようにして本発明のフイルムは製造され
るが、さらに磁性層などを付着させる前に前処理
として、グロー放電処理やコロナ放電処理を施す
と磁性層の密着性、耐久性が向上しより好まし
い。 [発明の効果] 本発明のフイルムは、表裏の各々の面に要求さ
れる特性が分離されたものである。そのため、蒸
着テープなどの高密度磁気記録用のベースフイル
ムに必要なA面の表面性は非常に平滑に維持され
ているにもかかわらず、B面が本発明の表面性の
範囲にあれば、裏写り現象もなく、かつ蒸着テー
プなどを製造する再には広幅でも走行性、巻取性
が良好であり、生産性や品質の向上が図れる。さ
らに本発明のフイルムは、耐熱性が良好なため高
温で磁性層を設けることができ、磁気特性を向上
させることが可能である。磁気記録方式は水平磁
化、垂直磁化を問わない。 また、光記録や光磁気記録媒体を連続で作成す
る場合にも、本発明のフイルムは磁気記録の場合
と同様に使用できる。 [特性の測定方法、効果の評価方法] 本発明の特性値の測定方法および効果の評価方
法は次の通りである。 (1) Ra(中心線平均粗さ)、Rp(中心線深さ)、突
起数 小坂研究所製の薄膜段差測定器(ET−10)を
用い、触針先端半径0.5μm、触針荷重5mg、カツ
トオフ値0.008mm、測定長0.5mmの条件で10回測定
し、その平均値でRa,Rpを表わした。 突起数は上記の条件でチヤートを書かせ、粗さ
曲線の中心線から突起の山頂までの距離が50Å以
上の突起の数を計数し、フイルム1mm当りに相当
する突起の数で表わした。 なお、Ra,Rpの定義は、たとえば奈良治郎著
「表面粗さの測定、評価法」(総合技術センター、
1983)に示されているものである。 (2) 走行性 フイルムを30cm幅にスリツトして蒸着機内に装
填し、10-2トールのAr雰囲気下でA面をグロー
処理し、次いで10-5トールまで真空にして100℃
に加熱したドラムに沿わせて、電子ビーム蒸着に
より Co−Ni合金(Co80%、Ni20%)をA面に
1000Å蒸着した。これらの処理を行なう過程での
ドラムやガイドロール上でのシワの入り方や、処
理後のフイルムロールの巻姿を観察して走行性を
評価した。 (3) 電磁変換特性 蒸着したフイルムを1/2インチ幅にスリツトし、
VTRカセツトに組み込みVTRテープとした。こ
のテープに家庭用VTRを用いてシバソク製のテ
レビ試験波形発生器(TG7/U706)により100%
クロマ信号を記録し、その再生信号からシバソク
製カラービデオノイズ測定器(925D/1)でク
ロマS/Nを測定した。市販のテープを基準とし
て評価した。 「実施例」 以下に実施例に基づいて本発明に説明する。た
だし本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。 実施例 1 2−クロルパラフエニレンジアミン70モル%と
4,4′−ジアミノジフエニルスルホン30モル%を
アミン成分とし、テレフタル酸クロリド100モル
%を酸成分としてNMP中で重合し、水酸化リチ
ムで中和してポリマ溶液を得た。固有粘度は2.5
である。これを2分割し、前もつてNMP中で分
散してあつた0.08μmの球状シリカを、A層にな
るポリマ溶液にはポリマ当り0.1wt%添加した。
また別にNMP中に分散してあつた平均粒径
0.2μmのシリカをB層になるポリマ溶液にはポリ
マ当り1wt%添加し、さらに両方のポリマ溶液を
30℃で1000ポイズになるように調整して製膜原液
とした。 これらの原液を口金内で最終フイルムでA層は
5μm、B層は3μmになるよに2層に積層し、さら
に30℃の金属ベルト上に流延し、80℃で2分乾燥
後、120℃、150℃と段階的に温度を上げ合計で10
分乾燥して自己保持性を持つゲルフイルムを得
た。なお、B層をベルト側にして製膜した。この
ゲルフイルムを連続的にベルトから剥離して水槽
中に導入し、脱溶媒と脱塩を行ない、次にテンタ
ー内で水分の乾燥と熱処理を施して8μmの最終フ
イルムを得た。この間にフイルムは水槽中で長手
方向に1.3倍、テンター中で幅方向に1.3倍延伸さ
れ、また熱処理の条件は300℃、5分間である。 得られたフイルムの特性は第1表のように、A
面は非常に平滑であり、B面はA面より粗れたも
のであつた。またこのフイルムは、MD、TD方
向ともヤング率は1000Kg/mm2、強度53Kg/mm2、伸
度55%と機械的にすぐれた特性を有しており、湿
度膨脹係数は6×10-61/%RHと小さいもので
あつた。 次いでこのフイルムのA面にCo−Niを1000Å
蒸着したが、蒸着中のドラムやガイドロール上で
のシワの発生はなく、巻取つたフイルムロールの
巻姿は非常に良好であつた。 さらにこれをスリツトして磁気テープとし、電
磁変換特性を評価したが、非常にすぐれたもので
あつた。 実施例 2 実施例1と同じポリマを用い、A層側には
0.08μmのシリカをポリマ当り0.5wt%、B層側に
は0.2μmのシリカをポリマ当り2wt%添加して、
最終フイルムでA層、B層とも4μmの厚みになる
ように積層し、実施例1と同様に製膜して8μmの
フイルムを得た。 このフイルムに磁性層を蒸着して磁気テープを
作製し、評価を行なつたが、製造工程での走行性
と、テープの電磁変換特性は非常に良好なもので
あつた。 実施例 3 2−クロルパラフエニレンジアミン80モル%
と、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル20モル
%をアミン成分とし、2−クロルテレフタル酸ク
ロリド100モル%を酸成分としてNMP中で重合
し、炭酸カルシウムで中和してポリマ溶液を得
た。これを2分割し、A層側には0.05μmのシリ
カをポリマ当り0.2wt%、B層側には0.2μmのシ
リカをポリマ当り2.5wt%添加し、最終フイルム
でA層は3μm、B層は1μmになるように合流管で
積層して30℃の金属ベルト上へ流延した。ポリマ
溶液の粘度は30℃で3000ポイズである。これを実
施例1と同様に段階的に温度を上げて自己保持性
を持つまで乾燥し、次いで水槽、テンターを通し
て4μmのフイルムを得た。延伸倍率は実施例1と
同じである。 得られたフイルムは、MD、TD方向ともヤン
グ率1200Kg/mm2、強度58Kg/mm2、伸度50%で、表
面性は第1表の通りである。 ついでこのフイルムを蒸着したが、フイルムが
非常に薄いにもかかわらず、走行性の問題は全く
なく、かつ巻取つたフイルムの巻姿は良好であつ
た。さらにこれを磁気テープとして評価したが、
電磁変換特性は非常に良好なものであつた。 実施例 4 4,4′−ジアミノジフエニルエーテル50モル%
と、パラフエニレンジアミン50モル%をアミン成
分とし、無水ピロメリツト酸100モル%とを
DMAC中で重合してポリアミド酸溶液を得た。
これを2分割して、A層側には0.05μmのシリカ
をポリマ当り0.05wt%、B層側には平均粒径
0.8μmのシリカ粉末をポリマ当り1wt%添加し、
最終フイルムでA層、B層とも5μmになるように
口金2台を使つて30℃の金属ベルト上で積層し
た。ポリマ溶液の粘度は、いずれも30℃で500ポ
イズである。これを60℃、100℃、130℃と温度を
上げて自己保持性を持つまで乾燥し、さらにベル
トから剥離して420℃のテンターで熱処理を行な
つた。延伸倍率はMD、TD方向とも1.0倍で、厚
みは10μm、ヤング率は420Kg/mm2、表面性は第1
表の通りA面側は非常に平滑なものであつた。 次いでこのフイルムに蒸着を行なつたが、A面
側が非常に平滑にもかかわらず、走行性は良好で
あり、また巻姿も良好であつた。さらに磁気テー
プとして評価したが、良好な電磁変換特性を示し
た。 比較例 1〜5 実施例1と同じポリマを用い、A層側に添加す
る粒子は実施例1と同様0.08μmのシリカとし、
B層側に添加するシリカ粒子を第2表のように
種々変えて、実施例1と同様に製膜し、8μmのフ
イルムを得た。A層の厚みは5μm、B層の厚みは
3μmであり、これらフイルムの表面性、走行性、
電磁変換特性を第1表に示した。 比較例1〜3は、30cm幅で蒸着しようとして
も、蒸着ドラム上でシワが入りフイルムの熱負け
が認められた。さらにガイドロール上でシワが入
つてフイルムの巻取りがスムーズにできず、巻取
つたフイルムロールの巻姿は非常に悪いものであ
つた。そこでフイルムを5cm幅にして同様に蒸着
したところ、ほぼ問題なく蒸着はできた。これで
磁気テープを作製し電磁変換特性を評価したとこ
ろ良好なものであつた。これからわかるように比
較例1〜3は、B面の表面が平滑すぎ、広幅での
走行性は非常に劣つたものとなつていた。 比較例4は、蒸着開始時は走行性は良好であつ
たが、しだいにドラムやガイドロールにフイルム
の削れ粉が付着し初め、ドラム上でフイルムが滑
つてMD方向のシワが入り、この部分でフイルム
の熱負けが認められた。またガイドロール上で滑
りやすいため、フイルムの蛇行が始まり巻取りが
スムーズにできなかつた。さらに電磁変換特性も
フイルムの削れ粉の付着の影響のため劣つたもの
であつた。 比較例5は、RPBが大きいために走行性は良好
であつたが、裏写りが大きく、作製した磁気テー
プの表面はゆず肌状にうねつており、電磁変換特
性は非常に悪いものであつた。 比較例 6 実施例1において、流延時のベルトの温度と乾
燥温度を190℃とする以外は実施例1と同様に製
膜し8μmのフイルムを得た。表面性は第1表に示
すように、A面、B面ともほぼ同じものしか得ら
れず、電磁変換特性は劣つたものであつた。 ベルト上へ流延された原液の乾燥初期の粘度挙
動を調べたところ、粘度は8ポイズまで低下して
おり、A層とB層が対流で混合してしまい2層に
ならないことがわかつた。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミド
    から成るフイルムであつて、該フイルムは少なく
    とも2層から成り、一方の層(A層)は表面の
    RPA(中心線深さ)が10〜200Å、もう一方の層
    (B層)は表面のRPB(中心線深さ)が下記(1)式の
    範囲にあり、RaB(中心線平均粗さ)が20〜200
    Å、50Å以上の高さの突起が1mm当り30個以上で
    あることを特徴とする高密度記録媒体用ベースフ
    イルム。 RPA+50≦RPB≦1500(Å) ……(1)
JP7734688A 1988-03-29 1988-03-29 高密度記録媒体用ベースフィルム Granted JPH01247162A (ja)

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