JP2000017485A - Electrodeposition device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電析（電解めっ
き、電解析出）にて酸化物、とりわけ酸化亜鉛を長尺基
板に連続的に成膜するための電析装置の改良に関する。
更に詳しくは、導電性の高い浴を用いても、安定した酸
化物の連続電析を可能にする電析装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement in an electrodeposition apparatus for continuously depositing an oxide, particularly zinc oxide, on a long substrate by electrodeposition (electroplating, electrolytic deposition).
More particularly, the present invention relates to an electrodeposition apparatus that enables stable continuous electrodeposition of an oxide even when a highly conductive bath is used.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、真空プロセスに代えて、電析プロ
セスを利用して、長尺基板に酸化物の堆積膜を連続的に
形成することが提案されている（特開平９−９２８６１
号公報）。2. Description of the Related Art Conventionally, it has been proposed to continuously form an oxide deposited film on a long substrate by using an electrodeposition process instead of a vacuum process (Japanese Patent Laid-Open No. 9-92661).
No.).
【０００３】ところで、長尺基板は、ローラー基板、ウ
ェブ、フープ材、コイル、テープ、リール材など様々な
呼称を持つが、本明細書では長尺基板と呼び、極めて細
長い長方形をした薄板で、長手方向には巻き上げてロー
ルの形に保持できるものを指す。長尺基板に連続的に成
膜を行うことは、稼働率やランニングコストを安くでき
るなど、工業的には極めて有利なものである。電析プロ
セスによる長尺基板への連続成膜は、次のような多くの
利点を有する。The long substrate has various names such as a roller substrate, a web, a hoop material, a coil, a tape, and a reel material. In this specification, the long substrate is called a long substrate, and is a very thin rectangular thin plate. It refers to what can be wound up and held in the form of a roll in the longitudinal direction. It is industrially extremely advantageous to continuously form a film on a long substrate, for example, the operating rate and running cost can be reduced. Continuous film formation on a long substrate by an electrodeposition process has many advantages as follows.
【０００４】（１）スパッタ等の真空装置と異なり、膜
堆積が極めて簡便である。高価な真空ポンプは必要ない
し、プラズマを使用するための電源や電極周りの設計に
気をつかう必要がない。(1) Unlike vacuum equipment such as sputtering, film deposition is extremely simple. There is no need for expensive vacuum pumps, and there is no need to worry about the power supply for using the plasma or the design around the electrodes.
【０００５】（２）通常、スパッタに比してランニング
・コストが安い。これは、スパッタの場合、ターゲット
の作製に人手と装置を要し、ターゲットの利用効率も２
割程度以下である上に、装置のスループットを上げなけ
ればならない場合や成膜厚が大きい場合には、ターゲッ
ト交換の作業がかなりのウェイトを占めるようになるか
らである。また、スパッタ以外のＣＶＤ法や真空蒸着法
に対しても同様のことがいえる。(2) Normally, running costs are lower than sputtering. This means that in the case of sputtering, man-hours and equipment are required to produce the target, and the target utilization efficiency is 2%.
This is because the work of replacing the target occupies a considerable weight when the throughput of the apparatus needs to be increased or when the film thickness is large, in addition to being about the same or less. The same can be said for the CVD method and the vacuum evaporation method other than the sputtering.
【０００６】（３）多くの場合、堆積膜が多結晶の微粒
子であり、真空法で作るのと遜色ない導電性・光学特性
を示し、ゾルゲル法や有機物を用いたコーティング法、
更にはスプレー・パイロリシス法等に比べて優位に立
つ。酸化物の堆積膜を形成する場合でもこれらのことが
成り立つ上、廃液が簡単に処理でき、環境に及ぼす影響
も小さく、環境汚染を防止するためのコストも低い。(3) In many cases, the deposited film is composed of polycrystalline fine particles, and exhibits conductivity and optical characteristics comparable to those produced by a vacuum method, a sol-gel method, a coating method using an organic substance,
Furthermore, it is superior to the spray pyrolysis method and the like. Even when an oxide deposited film is formed, the above holds true, the waste liquid can be easily treated, the influence on the environment is small, and the cost for preventing environmental pollution is low.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、後述す
る図１及び図２に示されるような電析装置にて、ＳＵＳ
を始めとするコイル状に巻かれた長尺基板１上に、電析
法によって酸化亜鉛の堆積膜を形成することを試みた。
当初、長尺基板１と電析槽９を接地させた状態で運転し
た結果、次のような不都合な点が見出された。SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have developed a SUS system using an electrodeposition apparatus as shown in FIGS.
And the like, an attempt was made to form a deposited film of zinc oxide on the long substrate 1 wound in a coil shape by an electrodeposition method.
At first, as a result of operating with the long substrate 1 and the electrodeposition tank 9 grounded, the following disadvantages were found.
【０００８】すなわち、電析槽９中の長尺基板１の下に
配置したアノード１７との位置関係によって大きく異な
る堆積速度を呈し、成膜面がもやもやのあるムラを発生
しやすいことである。このもやもやは、例えば太陽電池
を形成する場合に、ＣＶＤプロセスによりアモルファス
・シリコンを主体とする半導体起電力層、更にＩＴＯの
透明導電膜層を形成しても消えず、しかも特性のむらと
して残ってしまうことになる。That is, the deposition speed varies greatly depending on the positional relationship with the anode 17 disposed below the long substrate 1 in the electrodeposition tank 9, and the film formation surface is likely to have a fogged unevenness. For example, in the case of forming a solar cell, this haze does not disappear even if a semiconductor electromotive layer mainly composed of amorphous silicon and a transparent conductive film layer of ITO are formed by a CVD process, and the characteristics remain uneven. Will be.
【０００９】本発明者等の知見によれば、この現象は電
析浴１６の濃度が高いほど顕著であり、また電流を大き
くして成膜速度を高くしようとすればするほど顕著であ
る。これでは、ランニングコストを下げることができる
という電析法の利点を充分に発揮できないことになる。According to the findings of the present inventors, this phenomenon is more remarkable as the concentration of the electrodeposition bath 16 is higher, and is more remarkable as the current is increased to increase the deposition rate. In this case, the advantage of the electrodeposition method that the running cost can be reduced cannot be sufficiently exhibited.
【００１０】本発明は、本発明者等が見出した上記従来
の問題点にかんがみてなされたもので、アノード１７と
の位置関係に拘らず堆積速度を均一に維持でき、一様な
膜を高い堆積速度で得られるようにすることを目的とす
る。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems found by the present inventors, and can maintain a uniform deposition rate irrespective of the positional relationship with the anode 17 and increase the uniform film thickness. It is intended to be obtained at a deposition rate.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明は、本発明者等の
次のような実験に基づいてなされたものである。The present invention has been made based on the following experiments by the present inventors.
【００１２】まず、図３に示されるように、該電解槽９
とその架台６６との間に誘電体のスぺーサ６７を介在さ
せることで、ＳＵＳ製の電析槽９内を電気的にフローテ
ィングさせて電析を行ったところ、アノード１７の位置
による堆積速度の差異はほとんど発生せず、一様な膜を
高い堆積速度で成膜可能なことが分かった。この時、長
尺基板１は接地した。First, as shown in FIG.
When a dielectric spacer 67 was interposed between the electrode and the pedestal 66 to electrically float the SUS electrodeposition tank 9 for electrodeposition, the deposition rate was determined by the position of the anode 17. There was almost no difference, indicating that a uniform film could be formed at a high deposition rate. At this time, the long substrate 1 was grounded.
【００１３】次に、図４に示されるように、ＳＵＳ製の
電析槽９の内側に１０ｍｍ厚のテフロンの板による内張
り６８を設けて電析を行ったところ、アノード１７の位
置による堆積速度の差異はほとんど発生せず、一様な膜
を高い堆積速度で成膜可能なことが分かった。更に、前
記長尺基板１を電気的にフローティングさせ電析を行っ
たところ、更に一様性の高い成膜が可能なことが分かっ
た。Next, as shown in FIG. 4, a 10 mm thick Teflon lining 68 was provided inside the SUS electrodeposition tank 9 for electrodeposition. There was almost no difference, indicating that a uniform film could be formed at a high deposition rate. Further, when the long substrate 1 was electrically floated and electrodeposited, it was found that a film with higher uniformity could be formed.
【００１４】また、図５に示されるように、電析槽９内
を電気的にフローティングし、当該電析槽９内の中にＰ
ＦＡ製の深皿状の内槽６９を６つ配し、この内槽６９の
中に３つずつアノード１７を配置し、内槽６９の開口部
に長尺基板１が被さるようにした。この構成にて電析を
行ったところ、静止成膜ではアノード１７の形状が若干
投影されたが、アノード１７の位置による堆積速度の差
異はほとんど発生せず、長尺基板１を連続的に搬送した
場合には、一様な膜を高い堆積速度で成膜可能なことが
分かった。更に、前記長尺基板１を電気的にフローティ
ングさせ電析を行ったところ、更に一様性の高い成膜が
可能なことが分かった。As shown in FIG. 5, the inside of the electrodeposition tank 9 is electrically floated, and P
Six deep-dish-shaped inner tanks 69 made of FA were arranged, and three anodes 17 were arranged in each of the inner tanks 69 so that the opening of the inner tank 69 was covered with the long substrate 1. When electrodeposition was performed with this configuration, the shape of the anode 17 was slightly projected in the static film formation, but there was almost no difference in deposition rate depending on the position of the anode 17, and the long substrate 1 was continuously transported. In this case, it was found that a uniform film could be formed at a high deposition rate. Further, when the long substrate 1 was electrically floated and electrodeposited, it was found that a film with higher uniformity could be formed.
【００１５】本発明は、このような実験の結果に基づく
もので、電析によって酸化物を長尺基板１に堆積する電
析装置において、電析浴１６を保持する電析槽９が金属
で形成され、かつ該電析槽９内が電気的にフローティン
グされていることを特徴とする電析装置を提供するもの
である。The present invention is based on the results of such experiments. In an electrodeposition apparatus for depositing an oxide on a long substrate 1 by electrodeposition, an electrodeposition tank 9 holding an electrodeposition bath 16 is made of metal. The present invention provides an electrodeposition apparatus characterized in that the electrodeposition tank is formed and the inside of the electrodeposition tank 9 is electrically floating.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】まず、本発明のベースとなる電析
装置の一例を図１及び図２に基づいて説明する。なお、
図１及び図２に示される電析装置は、長尺基板１に酸化
亜鉛層を電析プロセスにて形成するだけの機能に単純化
したものである。また、作図の都合上図１と図２に分け
られているが、図１に示される部分と図２に示される部
分は一連に連なっているものであり、両者の連絡状態を
理解しやすくするため、図１には図２に示される水洗槽
３０の支持ローラー３１付近までが示されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, an example of an electrodeposition apparatus as a base of the present invention will be described with reference to FIGS. In addition,
The electrodeposition apparatus shown in FIGS. 1 and 2 has a simplified function of forming a zinc oxide layer on a long substrate 1 by an electrodeposition process. 1 and FIG. 2 are shown for convenience of drawing. However, the portion shown in FIG. 1 and the portion shown in FIG. 2 are connected in series to make it easy to understand the communication state between the two. Therefore, FIG. 1 shows up to the vicinity of the support roller 31 of the washing tank 30 shown in FIG.
【００１７】長尺基板１は、ボビンに巻かれたコイル状
の荷姿で本装置に運ばれてセットされるものである。本
装置では、この長尺基板１のコイルを基板繰り出しロー
ラー２部分にセットし、表面保護のために巻き入れられ
た合紙４を合紙巻き上げローラー３で巻き取りつつ長尺
基板１を引き出し、基板巻き上げローラー６２に向って
連続的に搬送する。すなわち、コイルから引き出された
長尺基板１は、張力検出ローラー５、給電ローラー６を
経て電析槽９に入り、この電析槽９の内部で、支持ロー
ラー１３，１４で位置出しされ、電析が施される。次い
で、水洗槽３０に送られて水洗される。水洗槽３０内で
の位置出しは、支持ローラー３１，６４によって行われ
る。更に長尺基板１は、温風乾燥炉５１で乾燥され、支
持ローラー５７を経て蛇行修正ローラー５９で横ずれを
補正され、成膜表面保護のため合紙繰り出しローラー６
０からの新たな合紙６１を巻き込んで、基板巻き上げロ
ーラー６２に巻き上げられて、必要なら次の工程に送ら
れる。The long substrate 1 is carried and set in a coil-like package wound on a bobbin. In the present apparatus, the coil of the long substrate 1 is set on the substrate feeding roller 2 portion, and the long substrate 1 is pulled out while the interleaf paper 4 wound for surface protection is wound up by the interleaf winding roller 3. The substrate is continuously conveyed toward the substrate winding roller 62. That is, the long substrate 1 pulled out of the coil enters the electrodeposition tank 9 via the tension detection roller 5 and the power supply roller 6, and is positioned inside the electrodeposition tank 9 by the support rollers 13 and 14. Analysis is performed. Next, it is sent to the washing tank 30 and washed. Positioning in the washing tank 30 is performed by the support rollers 31 and 64. Further, the long substrate 1 is dried in a hot-air drying furnace 51, passed through a support roller 57, corrected for lateral displacement by a meandering correction roller 59, and inserted into a slip sheet feeding roller 6 to protect the film formation surface.
A new interleaf paper 61 from 0 is wound up, wound up by a substrate winding roller 62, and sent to the next step if necessary.
【００１８】張力検出ローラー５は長尺基板１の動的な
巻き張力を検知して、基板繰り出しローラー２の軸にリ
ンクされた不図示のパウダークラッチ等のブレーキ手段
にフィードバックをかけ、張力を一定に保つものであ
る。このことにより、長尺基板１の搬送経路が支持ロー
ラー１３，１４，３１，６４，５７間で所定の位置に保
たれるように設計されている。特に、図１及び図２の装
置では、成膜面に各支持ローラー１３，１４，３１，６
４，５７が触れない構成となっているため、張力が弱い
と、支持ローラー１３，１４，３１，６４，５７から長
尺基板１が外れたり、電析槽９や水洗槽３０の出入り口
で長尺基板１が垂れ下がって成膜面を擦ったりして傷付
く等の不具合が発生する。成膜面が触れない装置構成
は、成膜面が損傷を受けたり汚れたりしない等の利点が
あり、とりわけ太陽電池の反射層等のように、ミクロン
・サイズの凹凸を薄膜上に形成しなければならない用途
では好ましい。The tension detecting roller 5 detects the dynamic winding tension of the long substrate 1 and feeds back to a braking means such as a powder clutch (not shown) linked to the shaft of the substrate feeding roller 2 to keep the tension constant. To keep. Thus, the transport path of the long substrate 1 is designed to be maintained at a predetermined position between the support rollers 13, 14, 31, 64, and 57. In particular, in the apparatus shown in FIGS. 1 and 2, each of the support rollers 13, 14, 31, 6
4, 57, the long substrate 1 may come off from the support rollers 13, 14, 31, 64, 57, or may become long at the entrance of the electrodeposition tank 9 or the washing tank 30 if the tension is weak. Inconveniences such as that the measuring substrate 1 hangs down and rubs the film-forming surface to scratch the film-forming surface occur. An apparatus configuration that does not touch the film formation surface has the advantage that the film formation surface is not damaged or stained.Particularly, micron-sized irregularities must be formed on the thin film, such as the reflective layer of a solar cell. It is preferred for applications that must be performed.
【００１９】給電ローラー６は、長尺基板１にカソード
側の電位を印加するためのもので、なるべく電析浴１６
に近いところに設置され、電源８の負極側に接続されて
いる。The power supply roller 6 is for applying a potential on the cathode side to the long substrate 1.
And connected to the negative electrode side of the power supply 8.
【００２０】電析槽９は、電析浴１６を保持していると
共に、電析浴１６中を通る長尺基板１の経路に沿ってア
ノード１７を有する。このアノード１７は、給電バー１
５を介して電源８の正極側に接続されている。長尺基板
１に負極の電位が印加され、アノード１７に正極の電位
が印加されると、電析浴１６中で長尺基板１を負、アノ
ード１７を正とする電気化学的な電解析出プロセスが進
行する。電析浴１６が高温に保たれる時は、電析浴１６
の蒸気の発生がかなり多くなるので、蒸気排出ダクト１
０〜１２から蒸気を逃がしてやる。また、電析浴１６を
攪拌するために、攪拌エアー導入管１９からエアーを導
入して、電析槽９内のエアー吹き出し管１８からエアー
をバブリングすることが好ましい。The electrodeposition tank 9 holds the electrodeposition bath 16 and has an anode 17 along the path of the long substrate 1 passing through the electrodeposition bath 16. The anode 17 is connected to the power supply bar 1
5 is connected to the positive electrode side of the power supply 8. When a potential of the negative electrode is applied to the long substrate 1 and a potential of the positive electrode is applied to the anode 17, electrochemical deposition is performed in the electrodeposition bath 16 such that the long substrate 1 is negative and the anode 17 is positive. The process proceeds. When the electrodeposition bath 16 is kept at a high temperature,
The steam discharge duct 1
Let the steam escape from 0-12. Further, in order to stir the electrodeposition bath 16, it is preferable to introduce air from a stirring air introduction pipe 19 and bubble air from an air blowing pipe 18 in the electrodeposition tank 9.
【００２１】電析槽９に高温の電析浴１６を補給するに
は、電析循環槽２５を設け、この中にヒーター２４を設
置して電析浴１６を加温し、かかる電析浴１６を浴循環
ポンプ２３から電析浴液供給管２０を通して電析槽９に
供給する。電析槽９からオーバーフローした電析浴１６
や、一部積極的に帰還（回収）される電析浴１６は、不
図示の帰還路を経て電析循環槽２５に戻し、再び加温す
る。浴循環ポンプ２３の吐出量が一定の場合には、図１
に示すように、２つのバルブ２１，２２で、電析循環槽
２５から電析槽９への電析浴１６の供給量を制御するこ
とができる。すなわち、供給量を増やす場合は、バルブ
２１の開度を上げると共にバルブ２２の開度を下げ、ま
た供給量を増やす場合は逆の操作を行う。電析浴１６の
液位は、この供給量と不図示の帰還量を調整することで
保持することができる。In order to replenish the electrodeposition tank 9 with the high-temperature electrodeposition bath 16, an electrodeposition circulation tank 25 is provided, in which a heater 24 is installed, and the electrodeposition bath 16 is heated. 16 is supplied from the bath circulation pump 23 to the electrodeposition tank 9 through the electrodeposition bath liquid supply pipe 20. Electrodeposition bath 16 overflowing from electrodeposition tank 9
The electrodepositing bath 16 which is partially positively returned (recovered) is returned to the electrodeposition circulation tank 25 via a return path (not shown), and is heated again. When the discharge amount of the bath circulation pump 23 is constant, FIG.
As shown in (2), the supply amount of the electrodeposition bath 16 from the electrodeposition circulation tank 25 to the electrodeposition tank 9 can be controlled by the two valves 21 and 22. That is, when increasing the supply amount, the opening degree of the valve 21 is increased and the opening degree of the valve 22 is decreased, and when increasing the supply amount, the reverse operation is performed. The liquid level of the electrodeposition bath 16 can be maintained by adjusting the supply amount and the feedback amount (not shown).
【００２２】電析循環槽２５には、循環ポンプ２７とフ
ィルター６５とからなるフィルター循環系が備えられて
おり、電析循環槽２５中の粒子を除去できる構成となっ
ている。電析循環槽２５と電析槽９と間での電析浴１６
の供給・帰還が充分に多い場合には、このように電析循
環槽２５にのみフィルター循環系を設置することで、充
分な粒子除去効果を得ることができる。The electrodeposition circulation tank 25 is provided with a filter circulation system including a circulation pump 27 and a filter 65, so that particles in the electrodeposition circulation tank 25 can be removed. Electrodeposition bath 16 between electrodeposition circulation tank 25 and electrodeposition tank 9
In the case where the supply and return of water are sufficiently large, by installing the filter circulation system only in the electrodeposition circulation tank 25, a sufficient particle removal effect can be obtained.
【００２３】図１及び図２に示す装置にあっては、電析
循環槽２５にも蒸気排出ダクト２６が設置されており、
蒸気が排出される構造となっている。特に電析循環槽２
５にはヒーター２４が設置されていて加温源となってい
るため、蒸気の発生が著しく、発生蒸気が不用意に放出
されたり露結したりするのを防止する上で、極めて効果
的である。In the apparatus shown in FIGS. 1 and 2, a vapor discharge duct 26 is also installed in the electrodeposition circulation tank 25,
It has a structure to discharge steam. Especially electrodeposition circulation tank 2
5 is provided with a heater 24 and serves as a heating source, so that the generation of steam is remarkable, which is extremely effective in preventing the generated steam from being inadvertently released or dewed. is there.
【００２４】電析予備槽２９は、加温された電析浴１６
を一気に既設の廃液系に流すと廃液処理装置が損傷され
やすいことから、これを防ぐために設置されたもので、
バルブ２８を開くことで電析槽９から排出される電析浴
１６を一旦保持するものである。これを設けることによ
って、電析槽９を空にする場合の作業の能率化を図るこ
とができる。The preliminary electrodeposition bath 29 is provided with a heated electrodeposition bath 16.
The waste liquid treatment equipment is easily damaged if the waste liquid is flowed into the existing waste liquid system at a stretch, so it is installed to prevent this.
By opening the valve 28, the electrodeposition bath 16 discharged from the electrodeposition tank 9 is temporarily held. By providing this, the efficiency of the operation when emptying the electrodeposition tank 9 can be improved.
【００２５】電析槽９で電析を終えた長尺基板１は、エ
アーナイフ６を経て、水洗循環槽５０が接続された水洗
槽３０に入って水洗される。水洗槽３０内では長尺基板
１は支持ローラー３１，６４で位置決めされ、第一水洗
槽３２、第二水洗槽３３、第三水洗槽３４中の各洗浄水
中を順に通過する。第一〜第三水洗槽３２，３３，３４
には、それぞれ第一〜第三水洗循環槽４７〜４９と水循
環ポンプ４４〜４６が配され、それぞれ２つのバルブ３
８と４１，３９と４２，４０と４３によって第一〜第三
水洗槽３２〜３４への水供給量が決まり、供給管３５〜
３７を介して第一〜第三水洗槽３２〜３４へ必要量の洗
浄水が供給される。２つのバルブ３８と４１，３９と４
２，４０と４３による供給量の制御法は、前述した電析
槽９での制御と同様である。また電析槽９と同様に、第
一〜第三水洗槽３２〜３４からオーバーフローした洗浄
水や、一部積極的に帰還（回収）される洗浄水を、不図
示の帰還路を経てそれぞれの第一〜第三水洗循環槽４７
〜４９に戻すことも可能である。The long substrate 1 which has been electrodeposited in the electrodeposition tank 9 enters the washing tank 30 to which the washing circulation tank 50 is connected via the air knife 6 and is washed with water. In the washing tank 30, the long substrate 1 is positioned by the support rollers 31 and 64, and sequentially passes through the washing water in the first washing tank 32, the second washing tank 33, and the third washing tank. First to third washing tanks 32, 33, 34
Are provided with first to third washing circulation tanks 47 to 49 and water circulation pumps 44 to 46, respectively.
8, 41, 39, 42, 40, and 43 determine the amount of water supplied to the first to third rinsing tanks 32 to 34.
A required amount of washing water is supplied to the first to third washing tanks 32 to 34 via 37. Two valves 38 and 41, 39 and 4
The control method of the supply amount by 2, 40 and 43 is the same as the control in the electrodeposition tank 9 described above. Further, similarly to the electrodeposition tank 9, the washing water overflowing from the first to third washing tanks 32 to 34 and the washing water that is partially returned (collected) positively are supplied to the respective washing paths via return paths (not shown). First to third washing circulation tank 47
It is also possible to return to -49.
【００２６】通常、図２に示すような３段の水洗システ
ムでは、長尺基板１の搬送方向における上流側の第一水
洗槽３２から、下流側の第三水洗槽３４に向って、洗浄
水の純度が高くなっていく。これは、長尺基板１が搬送
されてプロセスが終わりに近づくに従い、長尺基板１の
清浄度が上がって行くことを意味している。このことは
図２に示したように、洗浄水を第三水洗循環槽４９に最
初に補給し、次に第三水洗循環槽４９で溢れた洗浄水を
第二水洗循環槽４８に補給し、更に第二水洗循環槽４８
で溢れた洗浄水を第一水洗循環槽４７に補給すること
で、水の使用量を大幅に節約して達成できる。Normally, in a three-stage washing system as shown in FIG. 2, the washing water is transferred from the first washing tank 32 on the upstream side in the transport direction of the long substrate 1 to the third washing tank 34 on the downstream side. The purity increases. This means that the cleanness of the long substrate 1 increases as the long substrate 1 is conveyed and the process approaches the end. This means that, as shown in FIG. 2, the washing water is first supplied to the third washing circulation tank 49, and then the washing water overflowing in the third washing circulation tank 49 is supplied to the second washing circulation tank 48, Further, the second washing circulation tank 48
By replenishing the first washing circulation tank 47 with the washing water overflowing with, the amount of water used can be greatly reduced and achieved.
【００２７】水洗の終了した長尺基板１は、水洗槽３０
の一部に設けられたエアーナイフ６３にて水切りがさ
れ、続いて温風乾燥炉５１に搬送される。ここでは、水
を充分に乾燥させるだけの温度の対流空気で乾燥を行
う。そのための対流空気は、熱風発生炉５５で発生した
熱風を、フィルター５４を通してゴミ取りをし、そして
温風吹き出し管５２から吹き出して供給する。溢れる空
気は再度温風回収管５３より回収して、外気導入管５６
からの外気と混合して再び熱風発生炉５５に送られる。
温風乾燥炉５１での長尺基板１の搬送経路は支持ローラ
ー６４と支持ローラー５７とで位置出しされる。The washed long substrate 1 is placed in a washing tank 30.
Is drained by an air knife 63 provided in a part of the oven, and subsequently conveyed to a hot air drying oven 51. Here, drying is performed with convection air at a temperature sufficient to dry the water sufficiently. The convection air for this is supplied with hot air generated in a hot air generating furnace 55 through a filter 54 for dust removal and then blown out from a hot air blowout pipe 52. The overflowing air is collected again from the hot air collection pipe 53 and the outside air introduction pipe 56.
And is sent to the hot-air generating furnace 55 again.
The transport path of the long substrate 1 in the hot air drying furnace 51 is positioned by the support roller 64 and the support roller 57.
【００２８】蛇行修正ローラー５９は、長尺基板１の幅
方向のずれを補正して基板巻き上げローラー６２に巻き
込むものであり、不図示のセンサーによってずれ量を検
知し、蛇行修正ローラー５９を不図示のアームを支点と
して回転することによって制御する。通常、センサーの
検知するずれ量も、蛇行修正ローラー５９の作動量も極
めて小さく、１ｍｍを超えないようにしている。長尺基
板１を巻き上げるに際して、新しい合紙６１を表面膜保
護のために合紙繰り出しローラー６０から供給し、これ
を巻き込みつつ長尺基板１を巻き上げる。The meandering correction roller 59 corrects the displacement of the long substrate 1 in the width direction and winds it around the substrate take-up roller 62. The sensor detects the amount of displacement, and the meandering correction roller 59 is not shown. Is controlled by rotating the arm with the fulcrum as a fulcrum. Normally, the amount of displacement detected by the sensor and the amount of operation of the meandering correction roller 59 are extremely small so that they do not exceed 1 mm. When the long substrate 1 is wound up, new interleaving paper 61 is supplied from an interleaf feeding roller 60 to protect the surface film, and the long substrate 1 is wound up while being rolled up.
【００２９】ストッパー７とストッパー５８は同時に働
いて、長尺基板１を搬送張力がかかったまま静止させる
ものである。これは、長尺基板１の交換時や装置のメン
テナンス時の作業性を向上させるものである。The stopper 7 and the stopper 58 work at the same time to stop the long substrate 1 while applying the transfer tension. This improves workability at the time of replacing the long substrate 1 and at the time of maintenance of the apparatus.
【００３０】本発明は、上述のような電析装置における
電析槽９内を電気的にフローティングさせる点に特徴を
有するものである。この電析槽９内の電気的なフローテ
ィングは、図３に示されるように、電析槽９とその架台
６６との間に誘電体のスぺーサ６７を介在させることが
できる。また、図４に示されるように、電析槽９に誘電
体の内張６８を設けること、更に長尺基板１をも電気的
にフローティングさせると、より好ましい結果を得るこ
とができる。The present invention is characterized in that the inside of the electrodeposition tank 9 in the electrodeposition apparatus as described above is electrically floated. As shown in FIG. 3, the electrical floating in the electrodeposition tank 9 can be achieved by interposing a dielectric spacer 67 between the electrodeposition tank 9 and its mount 66. Further, as shown in FIG. 4, more preferable results can be obtained by providing a dielectric lining 68 in the electrodeposition tank 9 and electrically floating the long substrate 1.
【００３１】また、図５に示されるように、上記のよう
にして電析槽９内を電気的にフローティングさせ、当該
電析槽９内に、内部にアノード１７が設けられた、誘電
体で形成された深皿状の内槽６９を設け、この内槽６９
の開口部に被さるように長尺基板１の搬送経路を設定す
ることも好ましい。この場合も、更に長尺基板１をも電
気的にフローティングさせると、より好ましい結果を得
ることができる。As shown in FIG. 5, the inside of the electrodeposition tank 9 is electrically floated as described above, and an anode 17 is provided inside the electrodeposition tank 9 using a dielectric material. A deep dish-shaped inner tank 69 is provided.
It is also preferable to set the transport route of the long substrate 1 so as to cover the opening of the long substrate 1. Also in this case, if the long substrate 1 is further electrically floated, more preferable results can be obtained.
【００３２】以下、本発明における長尺基板１、電析浴
１６、電析槽９、スぺーサ６７、内張６８、内槽６９及
び電気的フローティングの意義についてそれぞれ説明す
る。The significance of the long substrate 1, the electrodeposition bath 16, the electrodeposition bath 9, the spacer 67, the lining 68, the inner bath 69 and the electrical floating in the present invention will be described below.
【００３３】（１）長尺基板１ 本発明で用いられる長尺基板１の材質は、膜成膜面に電
気的な導通がとれ、電析浴１６に侵されないものなら使
用でき、ＳＵＳ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｃｒ等の金属が用
いられる。金属コーティングを施したＰＥＴフィルム等
も利用可能である。これらの中で、素子化プロセスを後
工程で行うには、ＳＵＳが比較的安価で防食性に優れ、
長尺基板１としては優れている。(1) Elongated Substrate 1 The elongate substrate 1 used in the present invention can be used as long as it has electrical conductivity on the film formation surface and is not affected by the electrodeposition bath 16. , Cu, Fe, Cr and the like are used. A PET film with a metal coating can also be used. Among these, SUS is relatively inexpensive and has excellent anticorrosion properties in order to perform the element conversion process in a later step.
It is excellent as the long substrate 1.
【００３４】長尺基板１の表面は、平滑でも良いし、粗
面でも良い。更に、長尺基板１には別の導電性材料が成
膜されていてもよく、電析の目的に応じて選択される。The surface of the long substrate 1 may be smooth or rough. Further, another conductive material may be formed on the long substrate 1 and is selected according to the purpose of electrodeposition.
【００３５】ＳＵＳ製の長尺基板１の場合は、他の金属
に比べて電気抵抗が大きいため、特に長尺基板１の厚み
が０．１ｍｍ程度以下であると、電析浴１６を介したア
ノード１７と長尺基板１の抵抗より大きくなることが多
い。このような場合には、長尺基板１に対するアノード
電位の制御が難しかったり、長尺基板１とアノード１７
間で流れるべき電流が、他の部材、例えば電析槽９自体
や配管から逃げてしまい、制御が難しくなる。制御の難
しさは、本発明の課題で述べたようなむらの原因となる
ことが多い。本発明は特にこのような場合に有効であ
る。In the case of the long substrate 1 made of SUS, the electric resistance is higher than that of other metals. The resistance is often larger than the resistance between the anode 17 and the long substrate 1. In such a case, it is difficult to control the anode potential with respect to the long substrate 1
The current that should flow between them escapes from other members, for example, the electrodeposition tank 9 itself or the piping, making control difficult. Difficulty of control often causes unevenness as described in the subject of the present invention. The present invention is particularly effective in such a case.
【００３６】（２）電析浴１６ 本発明で用いられる電析浴１６は、酸化亜鉛成膜用の硝
酸亜鉛（６水和物として入手する）を主としたものが適
用可能である。膜の一様性を高めるために、スクロース
やデキストリンなどの糖類を添加することもできる。(2) Electrodeposition bath 16 As the electrodeposition bath 16 used in the present invention, a bath mainly composed of zinc nitrate (obtained as hexahydrate) for forming a zinc oxide film is applicable. Sugars such as sucrose and dextrin can also be added to increase the uniformity of the film.
【００３７】電析浴１６の電導度が１ｍＳ／ｃｍ以上で
ある場合に本発明の効果が得やすく、とりわけ１０ｍＳ
／ｃｍ以上であると本発明の効果が顕著である。これ
は、電析浴１６の電導性が大きくなると、アノード１７
から長尺基板１に流れる電流経路以外に、アノード１７
から電析槽９に流れる電流経路や配管を始めとする部材
に電流経路が形成されやすくなるからである。When the conductivity of the electrodeposition bath 16 is 1 mS / cm or more, the effect of the present invention is easily obtained, and
/ Cm or more, the effect of the present invention is remarkable. This is because when the conductivity of the electrodeposition bath 16 increases, the anode 17
In addition to the current path flowing from the
This is because a current path is easily formed in a member such as a current path or pipe flowing from the electrodeposition tank 9 to the electrodeposition tank 9.
【００３８】更に説明すると、アノード１７から長尺基
板１に流れる電流経路以外の電流経路に流れる電流が大
きくなること自体は、単に電流消費量を増大させるだけ
であるとみることもできるが、実際の系において、アノ
ード１７から長尺基板１に流れる電流経路以外の電流経
路に流れる電流は、流れ先の電位が安定しないことが多
いことから、アノード１７から長尺基板１に流れる電流
のふらつきを大きなものとすることになる。本発明の本
質は、アノード１７から長尺基板１に流れる電流経路以
外の電流経路に流れる電流を定常化又は減少させて、ア
ノード１７から長尺基板１に流れる電流を安定化もしく
は効率化することにある。More specifically, the fact that the current flowing through the current path other than the current path flowing from the anode 17 to the long substrate 1 is increased merely by increasing the current consumption can be considered. In the current system, the current flowing through the current path other than the current path flowing from the anode 17 to the long substrate 1 often has an unstable potential at the destination, so that the current flowing from the anode 17 to the long substrate 1 may fluctuate. It will be big. The essence of the present invention is to stabilize or reduce the current flowing through a current path other than the current path flowing from the anode 17 to the long substrate 1 to stabilize or increase the current flowing from the anode 17 to the long substrate 1. It is in.
【００３９】電析浴１６としては、太陽電池の光り閉じ
込め反射層として有効な光の波長程度の凹凸をもった酸
化亜鉛膜を形成するには、硝酸亜鉛の濃度を０．１Ｍ／
ｌ以上にしたものが良い。ｃ軸に配向した酸化亜鉛膜を
得るには、長尺基板１にもよるが、一般的には０．０５
Ｍ／ｌ以下とするのが良い。いずれの場合にも、添加す
る糖類はスクロースにあっては３ｇ／ｌ以上、デキスト
リンにあっては、０．１ｇ／ｌ以上とするのが良い。こ
れらの場合、電析浴１６の温度は、６０℃以上とするの
が金属の析出がない点で好ましい。とりわけ８０℃以上
であると、一様性が上がるので好ましい。また、これら
の温度では電析浴１６の電導度が著しく上がるため、本
発明の効果が一層顕著になる。In order to form a zinc oxide film having irregularities on the order of the wavelength of light, which is effective as a light confining reflection layer of a solar cell, the concentration of zinc nitrate is 0.1 M /
1 or more is good. In order to obtain a zinc oxide film oriented in the c-axis, it depends on the length of the long substrate 1, but generally, it is 0.05.
M / l or less is preferable. In any case, the added saccharide is preferably 3 g / l or more for sucrose and 0.1 g / l or more for dextrin. In these cases, the temperature of the electrodeposition bath 16 is preferably set to 60 ° C. or higher, since no metal is deposited. In particular, a temperature of 80 ° C. or higher is preferable because uniformity is improved. At these temperatures, the conductivity of the electrodeposition bath 16 is significantly increased, so that the effects of the present invention become more remarkable.
【００４０】（３）電析槽９ 本発明に適用可能な電析槽９としては、金属において
は、ＳＵＳ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒ、真鍮等が耐熱性
・加工性の良さから利用でき、防食性の点からはＳＵＳ
が好ましい。ＳＵＳはマルテンサイト系、フェライト
系、オーステナイト系いずれも適用可能である。保湿性
が必要とされる場合には、二重構造とし、間に断熱材を
充填することができる。断熱材としては、断熱性能及び
簡便性の点から、空気、油脂、ガラスウール、ウレタン
樹脂等が好ましい。(3) Electrodeposition tank 9 As the electrodeposition tank 9 applicable to the present invention, SUS, Fe, Al, Cu, Cr, brass and the like can be used for metals because of their excellent heat resistance and workability. SUS for corrosion protection
Is preferred. SUS can be applied to any of martensite, ferrite and austenite. When moisturizing properties are required, a double structure can be used, and a heat insulating material can be filled therebetween. As the heat insulating material, air, fat, glass wool, urethane resin and the like are preferable from the viewpoint of heat insulating performance and simplicity.
【００４１】（４）スぺーサ６７、内張６８、内槽６９ 本発明におけるスぺーサ６７、内張６８、内槽６９とし
て用いられる誘電体としては、アルミナ、マグネシア、
カルシア、窒化珪素、炭化珪素を始めとするセラミック
ス、鉛カリ、鉛カリソーダ、亜鉛ホウケイ酸、アルミノ
珪酸、ホウケイ酸、バリウムホウケイ酸、アルカリバリ
ウムなどのガラス、ＡＡＳ（アクリロニトリル・アクリ
レート・スチレン）、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタ
ジエン・スチレン）、ＡＣＳ（アクリロニトリル・塩化
ポリエチレン・スチレン）、ＡＥＳ（アクリロニトリル
・エチレン・スチレン）、ＡＳ（アクリロニトリル・ス
チレン）等のスチレン系樹脂、ＥＶＣ（エチレン・ビニ
ル・クロライド）、ＥＶＡ（エチレン・ビニル・アセテ
ート）、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）、ＶＰ（プロピオン
酸ビニル）、ＰＶＢ（ポリビニルブチラール）、ＰＶＦ
（ポリビニルフォルマール）等のビニル系樹脂、ＰＴＦ
Ｅ（ポリ四フッ化エチレン）、ＦＥＰ（フッ化エチレン
・ポリプロピレン）、ＰＦＡ（四フッ化エチレン・パー
フルオロアルキルビニルエーテル）、ＥＴＦＥ（四フッ
化エチレン・エチレン）、ＣＴＦＥ（ポリクロロトリフ
ルオロエチレン）、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデ
ン）、ＥＣＴＦＥ（三フッ化塩化エチレン・エチレ
ン）、ＰＶＦ（ポリフッ化ビニル）等のフッ素樹脂、ポ
リアセタール樹脂、ナイロンを始めとするポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ
イミド樹脂、ＬＤＰＥ（低密度ポリエチレン）、ＬＬＤ
ＰＥ（直鎖状低密度ポリエチレン）、ＨＤＰＥ（高密度
ポリエチレン）、ＵＨＭＷＰＥ（超高分子量ポリエチレ
ン）等のポリエチレン樹脂、ＰＥＴ（ポリエチレンテレ
フタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレー
ト）、ポリカーボネート等のポリエステル樹脂、ポリス
チレン、ポリパラメチルスチレン等のスチローラー樹
脂、ポリプロピレン等のプロピレン樹脂、ＰＭＭＡ（ポ
リメチルメタクリレート）等のアクリル樹脂、ＢＰＡ
（ビスフェノールＡ）等のエポキシ樹脂、ＤＡＰ（ジア
リルフタレート）等のアリル樹脂、ベークライト等のフ
ェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フルフリルア
ルコール・ポリマー、フルフリルアルコール・フルフラ
ール・コポリマー、フルフラール・フェノール・コポリ
マー、フルフラール・ケトン・コポリマー等のフラン樹
脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂が適用可能である。更に、
これら材料の混合物や、繊維との複合材料とすることも
できる。樹脂を用いる場合で、特に電析浴１６の使用温
度が高く、耐腐食性を高めたい時にはフッ素樹脂の使用
が好ましい。(4) Spacer 67, Liner 68, Inner Tank 69 The dielectric material used as the spacer 67, liner 68, and inner tank 69 in the present invention is alumina, magnesia,
Ceramics such as calcia, silicon nitride, silicon carbide, lead potassium, lead potassium soda, zinc borosilicate, aluminosilicate, borosilicate, barium borosilicate, alkali barium and other glasses, AAS (acrylonitrile acrylate styrene), ABS ( Styrene resins such as acrylonitrile / butadiene / styrene), ACS (acrylonitrile / polyethylene chloride / styrene), AES (acrylonitrile / ethylene / styrene), AS (acrylonitrile / styrene), EVC (ethylene / vinyl chloride), EVA (ethylene)・ Vinyl acetate), PVC (polyvinyl chloride), VP (vinyl propionate), PVB (polyvinyl butyral), PVF
(Polyvinyl formal) and other vinyl resins, PTF
E (polytetrafluoroethylene), FEP (fluoroethylene / polypropylene), PFA (ethylene tetrafluoride / perfluoroalkyl vinyl ether), ETFE (ethylene tetrafluoride / ethylene), CTFE (polychlorotrifluoroethylene), Fluororesins such as PVDF (polyvinylidene fluoride), ECTFE (ethylene trifluoride / ethylene / ethylene), PVF (polyvinyl fluoride), polyacetal resins, polyamide resins including nylon, polyamide imide resins, polyarylate resins, and polyimide resins , LDPE (low density polyethylene), LLD
Polyethylene resins such as PE (linear low density polyethylene), HDPE (high density polyethylene), UHMWPE (ultra high molecular weight polyethylene), polyester resins such as PET (polyethylene terephthalate), PBT (polybutylene terephthalate), polycarbonate, polystyrene, Styroller resin such as polyparamethylstyrene, propylene resin such as polypropylene, acrylic resin such as PMMA (polymethylmethacrylate), BPA
Epoxy resin such as (bisphenol A), allyl resin such as DAP (diallyl phthalate), phenol resin such as bakelite, unsaturated polyester resin, furfuryl alcohol polymer, furfuryl alcohol furfural copolymer, furfural phenol copolymer, Furan resins such as furfural ketone copolymers, urethane resins, and urea resins are applicable. Furthermore,
A mixture of these materials or a composite material with fibers can also be used. In the case where a resin is used, especially when the use temperature of the electrodeposition bath 16 is high and it is desired to increase the corrosion resistance, use of a fluororesin is preferred.
【００４２】本発明におけるスぺーサ６７や内張６８と
しては、上記のセラミックスやガラスや樹脂の板状のも
の、フィルム状のもの、発泡させたもの、繊維状にして
織ったもの等が適用できる。また、内槽６９としては、
例えば箱形や円筒形の型を用いて上記のセラミックスや
ガラスや樹脂を成形加工したもの等を用いることができ
る。As the spacer 67 and the lining 68 in the present invention, the above-mentioned ceramic, glass or resin plate-like, film-like, foamed, fibrous and woven materials are used. it can. Also, as the inner tank 69,
For example, the above-mentioned ceramics, glass, or resin molded using a box-shaped or cylindrical mold can be used.
【００４３】（５）電気的フローティング 電析槽９内又は長尺基板１の電気的フローティングと
は、電析槽９の内面又は長尺基板１が装置本体に対して
電気的にフローティングしていることを言う。一般的に
は、装置本体は接地されているため、接地に対して電気
的にフローティングしていることを言う。(5) Electrical Floating The term “electrically floating inside the electrodeposition tank 9 or the long substrate 1” means that the inner surface of the electrodeposition tank 9 or the long substrate 1 is electrically floating with respect to the apparatus main body. Say that. Generally, since the apparatus main body is grounded, it means that it is electrically floating with respect to the ground.
【００４４】電析槽９内の電気的フローティングは、図
３に示されるように、電析槽９を支えている架台６６と
電析槽９との間に、例えばテフロン、デルリン等の誘電
体のスぺーサ６７を挟むことで行なうことができる。ま
た、電析槽９を架台６６にボルト等で固定する場合に
は、ボルトを介して電析槽９と架台６６が導通しないよ
な措置を施す。また、架台６６と接地面との間に、例え
ばテフロン、デルリン等の誘電体のスぺーサ６７を挟ん
で行なうこともできるが、図４に示されるように、電解
槽９と架台６６の間にスぺーサ６７を挟み込む方が簡便
である。架台６６と接地面間にスぺーサ６７を挟み込む
場合において、接地面にアンカーボルトを打つ時には、
アンカーボルトを介して架台６６が接地面と導通しない
ような措置を施す。なお、電析槽９への配管にＳＵＳ配
管等を用いる場合、途中に耐熱塩化ビニル樹脂配管や継
手等を介在させておくことが好ましい。つまり、電析槽
９と電析槽９内の配管を同電位とすることが好ましい。As shown in FIG. 3, the electric floating in the electrodeposition tank 9 is carried out between the base 66 supporting the electrodeposition tank 9 and the electrodeposition tank 9 by a dielectric material such as Teflon or Delrin. Can be performed by sandwiching the spacer 67. When the electrodeposition tank 9 is fixed to the gantry 66 with bolts or the like, measures are taken to prevent the electrodeposition tank 9 and the gantry 66 from conducting through the bolts. In addition, a dielectric spacer 67 such as Teflon or Delrin may be interposed between the gantry 66 and the ground plane. However, as shown in FIG. It is more convenient to insert the spacer 67 between the two. In the case where the spacer 67 is sandwiched between the gantry 66 and the ground plane, when an anchor bolt is hit on the ground plane,
Measures are taken to prevent the gantry 66 from conducting to the ground plane via the anchor bolt. When a SUS pipe or the like is used as a pipe to the electrodeposition tank 9, it is preferable to interpose a heat-resistant vinyl chloride resin pipe or a joint in the middle. That is, it is preferable that the electrodeposition tank 9 and the piping in the electrodeposition tank 9 have the same potential.
【００４５】長尺基板１の電気的フローティングは、長
尺基板１と接する総てのローラー（例えば支持ローラー
５，１３，１４，３１，６４，５７、蛇行修正ローラー
５９等）の回転軸の軸受面に、例えばテフロン、デルリ
ン等の誘電体を被覆することや、長尺基板１と接する総
てのローラーの回転軸の軸受を誘電体で形成することに
よって行うことができる。また、長尺基板１と接触する
総てのローラーの表面を誘電体で被覆したり、長尺基板
１と接触する総てのローラーのを誘電体で形成すること
によっても行うことができる。被覆は、例えばポリイミ
ドフィルム等の誘電体フィルムを両面テープで貼り付け
たり、テフロン等の樹脂の誘電体を含浸させること等に
よって行うことができ、これらの方法をいくつか組み合
わせても良い。The electrical floating of the long substrate 1 is performed by rotating the bearings of the rotating shafts of all the rollers (for example, the support rollers 5, 13, 14, 31, 31, 64, and 57, the meandering correction roller 59, etc.) in contact with the long substrate 1. This can be performed by coating the surface with a dielectric such as Teflon or Delrin, or by forming the bearings of the rotating shafts of all the rollers in contact with the long substrate 1 with the dielectric. Further, it can be performed by coating the surfaces of all the rollers that come into contact with the long substrate 1 with a dielectric, or by forming all the rollers that come into contact with the long substrate 1 with a dielectric. The coating can be performed, for example, by sticking a dielectric film such as a polyimide film with a double-sided tape, or impregnating with a resin dielectric such as Teflon, or the like, and some of these methods may be combined.
【００４６】電気的フローティングは、電析槽９内に何
も入れない状態で、電析槽９の内面と接地面との間の電
気抵抗、長尺基板１と接地面との間の電気抵抗、電析槽
９と長尺基板１との間の電気抵抗をテスターで測定し、
その結果がＭΩ台を示すことによって確認することがで
きる。In the electric floating, the electric resistance between the inner surface of the electrodeposition tank 9 and the ground plane and the electric resistance between the long substrate 1 and the ground plane are set in a state where nothing is put in the electrodeposition tank 9. , The electric resistance between the electrodeposition tank 9 and the long substrate 1 was measured with a tester,
The result can be confirmed by showing the order of MΩ.
【００４７】[0047]
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。Embodiments of the present invention will be described below.
【００４８】実施例１ 図３に示されるような電析槽を図１及び図２に示される
ような電析装置に組み込んで成膜を行った。Example 1 An electrodeposition tank as shown in FIG. 3 was incorporated into an electrodeposition apparatus as shown in FIGS. 1 and 2 to form a film.
【００４９】図３において、電析槽９はＳＵＳで形成さ
れており、二重構造であって中にグラスウールを断熱材
として持ち、断熱保温性が良好なものとなっている。Ｓ
ＵＳ４３０製の長尺基板１は、この電析槽９の両側壁に
形成されたスリットを通して搬送される。スリットが形
成された電析槽９の両側壁部分は二重壁となっている。
電析槽９内に保持された電析浴１６は、オーバーフロー
して、二重壁の間に落ちるようになっている。オーバー
フローして二重壁間に落ちた電析浴１６は、ここでは不
図示の循環系を介して再び電析浴１６として用いられ
る。循環量を制御して、オーバーフロー点から浴面まで
の高さは３５ｍｍとした。In FIG. 3, the electrodeposition tank 9 is made of SUS, has a double structure, has glass wool as a heat insulating material, and has good heat insulating and heat retaining properties. S
The long substrate 1 made of US430 is transported through slits formed on both side walls of the electrodeposition tank 9. Both side wall portions of the electrodeposition tank 9 in which the slit is formed are double walls.
The electrodeposition bath 16 held in the electrodeposition tank 9 overflows and falls between the double walls. The electrodeposition bath 16 that has overflowed and falls between the double walls is used again as an electrodeposition bath 16 via a circulation system (not shown). By controlling the amount of circulation, the height from the overflow point to the bath surface was 35 mm.
【００５０】電析浴１６は、０．２Ｍ／ｌの硝酸亜鉛で
あり、８０℃に保持した。硝酸亜鉛は、存在する亜鉛の
イオンもしくは錯イオン及び硝酸イオンの共同作用で、
電気化学的に長尺基板１の表面で酸化亜鉛を電析させる
ものである。電析浴１６は、酸化亜鉛膜の一様性を高め
るために、デキストリンを０．７ｇ／ｌ含有するものと
した。電析浴１６の電導度は６５ｍＳ／ｃｍであった。The electrodeposition bath 16 was made of zinc nitrate of 0.2 M / l and kept at 80 ° C. Zinc nitrate is a synergistic effect of existing zinc ions or complex ions and nitrate ions.
This is to electrochemically deposit zinc oxide on the surface of the long substrate 1. The electrodeposition bath 16 contained 0.7 g / l of dextrin in order to enhance the uniformity of the zinc oxide film. The conductivity of the electrodeposition bath 16 was 65 mS / cm.
【００５１】電析浴１６内には４個のアノード１７を配
置した。これらのアノード１７は長尺基板１との間で電
位をかけられることで、電気化学反応を進行させるもの
である。酸化亜鉛形成のために、アノード１７側の電位
を長尺基板１側の電位よりも高く維持される。Four anodes 17 were arranged in the electrodeposition bath 16. These anodes 17 cause an electrochemical reaction to proceed by applying a potential to the long substrate 1. In order to form zinc oxide, the potential on the anode 17 side is maintained higher than the potential on the long substrate 1 side.
【００５２】電析槽９は、架台６６上にアクリル板のス
ぺーサ６７を介して設置されている。このことにより、
電析槽９内は接地に対して電気的にフローティングさ
れ、アノード１７から直接電力線がＳＵＳ製の電析槽９
に走らない構造とされている。また、それぞれのアノー
ド１７は別々の電源８にそれぞれ接続されていて、独立
の電流を流すことができるようになっている。電流のリ
ターンは、長尺基板１に接して従動する給電ローラー６
から共用リターンとして実現されている。各電源８は定
電流源として制御し、長尺基板１に向かって流す電析電
流密度は、アノード１７それぞれで、０．２ｍＡ／ｃｍ
2 から３０ｍＡ／ｃｍ2 の範囲で設定できるようにし
た。The electrodeposition tank 9 is installed on a gantry 66 via a spacer 67 made of an acrylic plate. This allows
The inside of the electrodeposition tank 9 is electrically floating with respect to the ground, and the power line is directly connected from the anode 17 to the electrodeposition tank 9 made of SUS.
It is designed to not run. Also, each anode 17 is connected to a separate power supply 8 so that an independent current can flow. The return of the current is caused by the feeding roller 6
Is implemented as a shared return. Each power source 8 is controlled as a constant current source, and the deposition current density flowing toward the long substrate 1 is 0.2 mA / cm for each of the anodes 17.
It can be set in the range of 2 to 30 mA / cm 2 .
【００５３】長尺基板１の搬送を停止し、静止成膜にて
検討したところ、この範囲の電流密度で１〜２００Å／
Ｓの電流にほぼ比例した堆積速度が得られた。本例では
約１３ｍＡ／ｃｍ2 の電流密度を用いた。静止で得られ
た堆積速度は約１００Å／ｓであった。それぞれのアノ
ード１７の大きさは長尺基板１に垂直に向かう面で１１
０×５００ｍｍであり、厚みは２０ｍｍとした。アノー
ドには純度４Ｎの亜鉛を用いた。それぞれの電源８の電
流設定値は約７Ａであり、電源電圧は２．５〜４．０Ｖ
を指示した。The transport of the long substrate 1 was stopped, and the film formation was examined by static film formation.
A deposition rate approximately proportional to the current of S was obtained. In this example, a current density of about 13 mA / cm 2 was used. The deposition rate obtained at rest was about 100 ° / s. The size of each anode 17 is 11 in the plane perpendicular to the long substrate 1.
It was 0 × 500 mm and the thickness was 20 mm. As the anode, zinc having a purity of 4N was used. The current set value of each power supply 8 is about 7 A, and the power supply voltage is 2.5 to 4.0 V
Was instructed.
【００５４】また、アノード１７と長尺基板１間の距離
は１０ｍｍと２５ｍｍとしたが、いずれにおいても電析
酸化亜鉛膜は極めて一様であった。更に、長尺基板１の
搬送速度１２００ｍｍ／ｍｉｎにて、長尺基板１上に１
ミクロン厚の一様な酸化亜鉛膜を連続的に形成すること
ができた。The distance between the anode 17 and the long substrate 1 was 10 mm and 25 mm, and the deposited zinc oxide film was extremely uniform in each case. Further, at a transfer speed of 1200 mm / min,
A uniform micron-thick zinc oxide film could be continuously formed.
【００５５】比較例１ 実施例１と同様の電解槽９を電気的に接地して図１及び
図２に示されるような電析装置に組み込んで膜形成を行
った。Comparative Example 1 The same electrolytic cell 9 as in Example 1 was electrically grounded and incorporated in an electrodeposition apparatus as shown in FIGS. 1 and 2 to form a film.
【００５６】約１００Å／ｓの成膜速度を得るために
は、約１８０ｍＡ／ｃｍ2 の電流密度が必要であった。
すなわち、電源から流さねばならない電流は約１００Ａ
であり、電源の容量限界にせまるものであった。それば
かりか、アノード１７と長尺基板１間の距離の大小によ
る影響を極めて受けやすく、アノード１７と長尺基板１
間を１５ｍｍにセットすると、膜に大幅なむら模様が発
生し、太陽電池を形成した時に特性の大きなばらつきが
発現してしまった。また、相対的な距離の違いを少なく
するために、アノード１７と長尺基板１間の距離を５０
ｍｍと大きくとると、膜の堆積速度が一桁以上小さくな
り、本装置の要求仕様を全く満足しない値となった。A current density of about 180 mA / cm 2 was required to obtain a film formation rate of about 100 ° / s.
That is, the current that must flow from the power supply is about 100 A
Therefore, the capacity of the power supply was limited. In addition, the distance between the anode 17 and the long substrate 1 is extremely susceptible to the influence of the distance.
When the distance was set to 15 mm, a large uneven pattern was generated in the film, and a large variation in characteristics was generated when the solar cell was formed. In order to reduce the difference in relative distance, the distance between the anode 17 and the long substrate 1 is set to 50.
When the distance is as large as mm, the deposition rate of the film was reduced by one digit or more, and the value did not satisfy the required specifications of the apparatus at all.
【００５７】一方、実施例１のように電析槽９を接地に
対してフローティングさせた場合には、前述のように、
電源８から７Ａの電流を供給すればよく、またアノード
１７と長尺基板１間の距離を１０ｍｍと２５ｍｍとして
も殆ど変化せず、しかも電析酸化亜鉛膜は一様で、さら
に、長尺基板１の搬送速度１２００ｍｍ／ｍｉｎにて、
基板上に１ミクロン厚の一様な酸化亜鉛膜を連続的に形
成することができるものである。On the other hand, when the electrodeposition tank 9 is floated with respect to the ground as in the first embodiment, as described above,
It is sufficient to supply a current of 7 A from the power supply 8. Even if the distance between the anode 17 and the long substrate 1 is 10 mm and 25 mm, there is almost no change, and the deposited zinc oxide film is uniform. At a transfer speed of 1,200 mm / min,
A uniform zinc oxide film having a thickness of 1 micron can be continuously formed on a substrate.
【００５８】実施例２ 図４に示されるように、実施例１の電析槽９の内側に、
厚さ５ｍｍのテフロン板の内張６８を設け、この電析槽
９を図１及び図２に示されるような電析装置に組み込ん
で電析成膜を行った。Example 2 As shown in FIG. 4, inside the electrodeposition tank 9 of Example 1,
A Teflon plate lining 68 having a thickness of 5 mm was provided, and the electrodeposition tank 9 was incorporated into an electrodeposition apparatus as shown in FIGS. 1 and 2 to perform electrodeposition film formation.
【００５９】電源８からそれぞれ約５Ａの電流供給で約
７０Å／ｓの成膜速度が得られた。また、アノード１７
と長尺基板１間の距離は１０ｍｍと２５ｍｍとしたが、
いずれにおいても電析酸化亜鉛膜は極めて一様であっ
た。更に、長尺基板１の搬送速度８５０ｍｍ／ｍｉｎに
て、長尺基板１上に１ミクロン厚の一様な酸化亜鉛膜を
連続的に形成することができた。A film formation rate of about 70 ° / s was obtained by supplying a current of about 5 A from the power source 8. The anode 17
And the distance between the long substrate 1 was 10 mm and 25 mm,
In each case, the deposited zinc oxide film was extremely uniform. Further, a uniform zinc oxide film having a thickness of 1 micron could be continuously formed on the long substrate 1 at a transport speed of the long substrate 1 of 850 mm / min.
【００６０】実施例３ 長尺基板１を接地に対して電気的にフローティングさせ
た以外は実施例２と同様に電析を行った。長尺基板１の
電気的フローティングは、各ローラの軸受としてデルリ
ン製のものを用いることによって行った。Example 3 Electrodeposition was performed in the same manner as in Example 2 except that the long substrate 1 was electrically floated with respect to the ground. The electrical floating of the long substrate 1 was performed by using Delrin-made bearings for each roller.
【００６１】電源８からそれぞれ約５Ａの電流供給で約
７０Å／ｓの成膜速度が得られ、またアノード基板間距
離を１０ｍｍと２５ｍｍととしたが、いずれの場合も電
析酸化亜鉛膜は極めて一様であった。更に、長尺基板１
の搬送速度８５０ｍｍ／ｍｉｎにて、長尺基板１上に１
ミクロン厚の極めて一様な酸化亜鉛膜を連続的に形成す
ることができた。A film formation rate of about 70 ° / s was obtained by supplying a current of about 5 A from each of the power sources 8 and the distance between the anode substrates was set to 10 mm and 25 mm. It was uniform. Furthermore, a long substrate 1
At a transport speed of 850 mm / min.
A very uniform zinc oxide film of micron thickness could be continuously formed.
【００６２】実施例４ 図５に示されるような電析槽を図１及び図２に示される
ような電析装置に組み込んで成膜を行った。Example 4 An electrodeposition tank as shown in FIG. 5 was incorporated into an electrodeposition apparatus as shown in FIGS. 1 and 2 to form a film.
【００６３】図５において、電析槽９はＳＵＳで形成さ
れており、二重構造であって中にグラスウールを断熱材
として持ち、断熱保温性が良好なものとなっている。Ｓ
ＵＳ４３０製の長尺基板１は、この電析槽９の両側壁に
形成されたスリットを通して搬送される。スリットが形
成された電析槽９の両側壁部分は二重壁となっている。
電析槽９内に保持された電析浴１６は、オーバーフロー
して、二重壁の間に落ちるようになっている。オーバー
フローして二重壁間に落ちた電析浴１６は、ここでは不
図示の循環系を介して再び電析浴１６として用いられ
る。循環量を制御して、オーバーフロー点から浴面まで
の高さは３５ｍｍとした。In FIG. 5, the electrodeposition tank 9 is made of SUS, has a double structure, has glass wool as a heat insulating material, and has good heat insulating and heat retaining properties. S
The long substrate 1 made of US430 is transported through slits formed on both side walls of the electrodeposition tank 9. Both side wall portions of the electrodeposition tank 9 in which the slit is formed are double walls.
The electrodeposition bath 16 held in the electrodeposition tank 9 overflows and falls between the double walls. The electrodeposition bath 16 that has overflowed and falls between the double walls is used again as an electrodeposition bath 16 via a circulation system (not shown). By controlling the amount of circulation, the height from the overflow point to the bath surface was 35 mm.
【００６４】電析槽９と長尺基板１はそれぞれ接地に対
して独立に電気的にフローティングさせた。The electrodeposition tank 9 and the long substrate 1 were electrically floated independently of ground.
【００６５】電析浴１６は、０．２Ｍ／ｌの硝酸亜鉛で
あり、８０℃に保持した。硝酸亜鉛は、存在する亜鉛の
イオンもしくは錯イオン及び硝酸イオンの共同作用で、
電気化学的に長尺基板１の表面で酸化亜鉛を電析させる
ものである。電析浴１６は、酸化亜鉛膜の一様性を高め
るために、デキストリンを０．７ｇ／ｌ含有するものと
した。電析浴１６の電導度は６５ｍＳ／ｃｍであった。The electrodeposition bath 16 was made of 0.2 M / l zinc nitrate and kept at 80 ° C. Zinc nitrate is a synergistic effect of existing zinc ions or complex ions and nitrate ions.
This is to electrochemically deposit zinc oxide on the surface of the long substrate 1. The electrodeposition bath 16 contained 0.7 g / l of dextrin in order to enhance the uniformity of the zinc oxide film. The conductivity of the electrodeposition bath 16 was 65 mS / cm.
【００６６】電析浴１６内には４個のアノード１７を配
置した。これらのアノード１７は長尺基板１との間で電
位をかけられることで、電気化学反応を進行させるもの
である。酸化亜鉛形成のために、アノード１７側の電位
を長尺基板１側の電位よりも高く維持される。Four anodes 17 were arranged in the electrodeposition bath 16. These anodes 17 cause an electrochemical reaction to proceed by applying a potential to the long substrate 1. In order to form zinc oxide, the potential on the anode 17 side is maintained higher than the potential on the long substrate 1 side.
【００６７】それぞれのアノード１７は、肉厚２ｍｍ、
内寸２１０ｍｍ×１２０ｍｍのＰＦＡ製の内槽６９内に
設けられている。このことにより、アノード１７から直
接電力線がＳＵＳ製の電析槽９に走らない構造とされて
いる。また、それぞれのアノード１７は別々の電源８に
それぞれ接続されていて、独立の電流を流すことができ
るようになっている。電流のリターンは、長尺基板１に
接して従動する給電ローラー６から共用リターンとして
実現されている。各電源８は定電流源として制御し、長
尺基板１に向かって流す電析電流密度は、アノード１７
それぞれで、０．２ｍＡ／ｃｍ2 から３０ｍＡ／ｃｍ2
の範囲で設定できるようにした。Each anode 17 has a thickness of 2 mm,
It is provided in an inner tank 69 made of PFA having an inner size of 210 mm × 120 mm. As a result, the power line does not run directly from the anode 17 to the electrodeposition tank 9 made of SUS. Also, each anode 17 is connected to a separate power supply 8 so that an independent current can flow. The return of the current is realized as a shared return from the feeding roller 6 that is driven in contact with the long substrate 1. Each power supply 8 is controlled as a constant current source, and an electrodeposition current density flowing toward the long substrate 1
In each case, 0.2 mA / cm 2 to 30 mA / cm 2
Can be set within the range.
【００６８】長尺基板１の搬送を停止して、静止成膜に
て検討したところ、この範囲の電流密度で１〜２００Å
／ｓの電流にほぼ比例した堆積速度が得られ、本例では
約１０ｍＡ／ｃｍ2 の電流密度を用いた。静止で得られ
る堆積速度は８０Å／ｓであった。それぞれのアノード
１７の大きさは長尺基板１に垂直に向かう面で１１０×
２００ｍｍであり、厚みは２０ｍｍとした。アノードに
は純度４Ｎの亜鉛を用いた。それぞれの電源８の電流設
定値は２Ａであり、電源電圧は１．５〜２．５Ｖを指示
した。When the conveyance of the long substrate 1 was stopped and the film formation was examined by static film formation, the current density in this range was 1 to 200 ° C.
A deposition rate approximately proportional to a current of / s was obtained, and a current density of about 10 mA / cm 2 was used in this example. The deposition rate obtained at rest was 80 ° / s. The size of each anode 17 is 110 × on the surface perpendicular to the long substrate 1.
The thickness was 200 mm and the thickness was 20 mm. As the anode, zinc having a purity of 4N was used. The current set value of each power supply 8 was 2 A, and the power supply voltage indicated 1.5 to 2.5 V.
【００６９】また、アノード１７と長尺基板１間の距離
は１０ｍｍと２５ｍｍとしたが、いずれにおいても電析
酸化亜鉛膜は極めて一様であった。更に、長尺基板１の
搬送速度４００ｍｍ／ｍｉｎにて、長尺基板１上に１ミ
クロン厚の一様な酸化亜鉛膜を連続的に形成することが
できた。The distance between the anode 17 and the long substrate 1 was set to 10 mm and 25 mm, and the deposited zinc oxide film was extremely uniform in each case. Further, a uniform zinc oxide film having a thickness of 1 micron could be continuously formed on the long substrate 1 at a transport speed of the long substrate 1 of 400 mm / min.
【００７０】[0070]
【発明の効果】以上示したように、本発明によれば、長
尺基板１へ酸化亜鉛等の酸化膜を形成するに際し、膜の
一様性を著しく向上させることができる。また、本発明
に係る電析装置は、既存の装置を利用して容易に得るこ
とができるものである。As described above, according to the present invention, when an oxide film such as zinc oxide is formed on the long substrate 1, the uniformity of the film can be remarkably improved. Further, the electrodeposition apparatus according to the present invention can be easily obtained by using an existing apparatus.
【図１】本発明のベースとなる電析装置の一例を示す部
分図である。FIG. 1 is a partial view showing an example of an electrodeposition apparatus serving as a base of the present invention.
【図２】本発明のベースとなる電析装置の一例を示す、
図１に続く部分図である。FIG. 2 shows an example of an electrodeposition apparatus serving as a base of the present invention.
FIG. 2 is a partial view following FIG. 1.
【図３】実施例１で用いた電析槽の説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of an electrodeposition tank used in Example 1.
【図４】実施例２及び３で用いた電析槽の説明図であ
る。FIG. 4 is an explanatory view of an electrodeposition tank used in Examples 2 and 3.
【図５】実施例４で用いた電析槽の説明図である。FIG. 5 is an explanatory view of an electrodeposition tank used in Example 4.
１ 長尺基板 ２ 基板繰り出しローラー ３ 合紙巻き上げローラー ４ 合紙 ５ 張力検出ローラー ６ 給電ローラー ７ ストッパー ８ 電源 ９ 電析槽 １０ 蒸気排出ダクト １１ 蒸気排出ダクト １２ 蒸気排出ダクト １３ 支持ローラー １４ 支持ローラー １５ 給電バー １６ 電析浴 １７ アノード １８ エアー吹き出し管 １９ 攪拌エアー導入管 ２０ 電析浴液供給管 ２１ バルブ ２２ バルブ ２３ 浴循環ポンプ ２４ ヒーター ２５ 電析循環槽 ２６ 蒸気排出ダクト ２７ 循環ポンプ ２８ バルブ ２９ 電析予備槽 ３０ 水洗槽 ３１ 支持ローラー ３２ 第一水洗槽 ３３ 第二水洗槽 ３４ 第三水洗槽 ３５ 供給管 ３６ 供給管 ３７ 供給管 ３８ バルブ ３９ バルブ ４０ バルブ ４１ バルブ ４２ バルブ ４３ バルブ ４４ 水循環ポンプ ４５ 水循環ポンプ ４６ 水循環ポンプ ４７ 第一水洗循環槽 ４８ 第二水洗循環槽 ４９ 第三水洗循環槽 ５０ 水洗循環層 ５１ 温風乾燥炉 ５２ 温風吹き出し管 ５３ 温風回収管 ５４ フィルター ５５ 熱風発生炉 ５６ 外気導入管 ５７ 支持ローラー ５８ ストッパー ５９ 蛇行修正ローラー ６０ 紙繰り出しローラー ６１ 合紙 ６２ 基板巻き上げローラー ６３ エアーナイフ ６４ 支持ローラー ６５ フィルター ６６ 架台 ６７ スぺーサ ６８ 内張 ６９ 内槽 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Long board 2 Substrate feeding roller 3 Interleaf take-up roller 4 Interleaf 5 Tension detection roller 6 Power supply roller 7 Stopper 8 Power supply 9 Electrodeposition tank 10 Steam discharge duct 11 Steam discharge duct 12 Steam discharge duct 13 Support roller 14 Support roller 15 Power supply bar 16 Electrodeposition bath 17 Anode 18 Air blow-out pipe 19 Stirring air introduction pipe 20 Electrodeposition bath liquid supply pipe 21 Valve 22 Valve 23 Bath circulation pump 24 Heater 25 Electrodeposition circulation tank 26 Steam discharge duct 27 Circulation pump 28 Valve 29 Electrode Preparatory tank 30 Rinse tank 31 Support roller 32 First rinse tank 33 Second rinse tank 34 Third rinse tank 35 Supply pipe 36 Supply pipe 37 Supply pipe 38 Valve 39 Valve 40 Valve 41 Valve 42 Valve 43 Valve 44 Water circulation pump 45 Water circulation Pump 4 Water circulation pump 47 First rinsing circulation tank 48 Second rinsing circulation tank 49 Third rinsing circulation tank 50 Rinse circulating layer 51 Hot air drying furnace 52 Hot air blowing pipe 53 Hot air recovery pipe 54 Filter 55 Hot air generation furnace 56 Outside air introduction pipe 57 Support roller 58 Stopper 59 Meandering correction roller 60 Paper feeding roller 61 Interleaf paper 62 Substrate winding roller 63 Air knife 64 Support roller 65 Filter 66 Mount 67 Spacer 68 Inner lining 69 Inner tank
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮本 祐介 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 荒尾 浩三 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Yusuke Miyamoto 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Inside Canon Inc. (72) Inventor Kozo Arao 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo Canon Inside the corporation
Claims (6)
に堆積する電析装置において、電析浴を保持する電析槽
が金属で形成され、かつ該電析槽内が電気的にフローテ
ィングされていることを特徴とする電析装置。In an electrodeposition apparatus for continuously depositing an oxide on a long substrate by electrodeposition, an electrodeposition tank holding an electrodeposition bath is formed of a metal, and the inside of the electrodeposition tank is electrically connected. An electrodeposition apparatus characterized by being floating.
が、前記電析槽と該電析槽の架台との間又は前記電析槽
の架台と接地面の間に誘電体のスぺーサを介在させるこ
とで行われていることを特徴とする請求項１記載の電析
装置。2. The method according to claim 1, wherein the step of electrically floating the electrodeposition tank comprises a step of forming a dielectric spacer between the electrodeposition tank and the base of the electrodeposition tank or between the base of the electrodeposition tank and a ground plane. The electrodeposition apparatus according to claim 1, wherein the electrodeposition is performed by interposing.
ることを特徴とする請求項１記載の電析装置。3. An electrodeposition apparatus according to claim 1, wherein a dielectric lining is applied to said electrodeposition tank.
けられた、誘電体で形成された深皿状の内槽を有するこ
とを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載の電析装
置。4. The electrodeposition tank according to claim 1, wherein the electrodeposition tank has a deep dish-shaped inner tank made of a dielectric and having an anode electrode provided therein. Analyzer.
されていることを特徴とする請求項１〜４いずれかに記
載の電析装置。5. The electrodeposition apparatus according to claim 1, wherein said long substrate is electrically floating.
が、前記長尺基板と接する総てのローラーの表面又はそ
の回転軸の軸受面に誘電体の被覆を施すこと、又は、前
記長尺基板と接する総てのローラー又はその回転軸の軸
受を誘電体で形成することで行われていることを特徴と
する請求項５の電析装置。6. The electric floating of the long substrate is performed by applying a dielectric coating to the surfaces of all the rollers in contact with the long substrate or the bearing surface of the rotating shaft thereof, or The electrodeposition apparatus according to claim 5, wherein all the rollers in contact with each other or the bearing of the rotating shaft are formed of a dielectric material.
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|---|---|---|---|
| JP18388398A JP3387828B2 (en) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | Electrodeposition equipment |
| US09/251,300 US20020011419A1 (en) | 1998-02-17 | 1999-02-17 | Electrodeposition tank, electrodeposition apparatus, and electrodeposition method |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020236248A1 (en) * | 2019-05-17 | 2020-11-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | System for roll-to-roll electrocoating of battery electrode coatings onto a foil substrate |
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1998
- 1998-06-30 JP JP18388398A patent/JP3387828B2/en not_active Expired - Fee Related
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