JP2000015056A - フッ化物の回収方法 - Google Patents
フッ化物の回収方法Info
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- JP2000015056A JP2000015056A JP10187188A JP18718898A JP2000015056A JP 2000015056 A JP2000015056 A JP 2000015056A JP 10187188 A JP10187188 A JP 10187188A JP 18718898 A JP18718898 A JP 18718898A JP 2000015056 A JP2000015056 A JP 2000015056A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/30—Capture or disposal of greenhouse gases of perfluorocarbons [PFC], hydrofluorocarbons [HFC] or sulfur hexafluoride [SF6]
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 排ガス中に含まれる化学的に安定なフッ化物
を効率よく回収することができるフッ化物の回収方法を
提供する。 【解決手段】 半導体製造工程から排出される排ガスを
構成する主成分ガス中のパーフルオロカーボン，ハイド
ロフルオロカーボン，三フッ化窒素，六フッ化硫黄等の
化学的に安定なフッ化物以外の不純物成分をあらかじめ
除去した後、前記化学的に安定なフッ化物を、比表面積
１１００〜１４００ｍ２，細孔容積０．６５〜０．９９
ｃｃ／ｇの活性炭に吸着させて前記主成分ガスから分離
回収する。
を効率よく回収することができるフッ化物の回収方法を
提供する。 【解決手段】 半導体製造工程から排出される排ガスを
構成する主成分ガス中のパーフルオロカーボン，ハイド
ロフルオロカーボン，三フッ化窒素，六フッ化硫黄等の
化学的に安定なフッ化物以外の不純物成分をあらかじめ
除去した後、前記化学的に安定なフッ化物を、比表面積
１１００〜１４００ｍ２，細孔容積０．６５〜０．９９
ｃｃ／ｇの活性炭に吸着させて前記主成分ガスから分離
回収する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ化物の回収方
法に関し、詳しくは、半導体製造工程から排出される排
ガスに含まれる化学的に安定なフッ化物を回収する方法
に関する。
法に関し、詳しくは、半導体製造工程から排出される排
ガスに含まれる化学的に安定なフッ化物を回収する方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】半導体
製造工程では、エッチング工程やチャンバークリーニン
グ工程で、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）やハイドロ
フルオロカーボン（ＨＦＣ），三フッ化窒素（Ｎ
Ｆ３），六フッ化硫黄（ＳＦ６）等のフッ化物を使用し
ており、半導体製造工程から排出される排ガス中には、
これらのフッ化物が含まれている。このようなフッ化物
は、地球温暖化の原因となる物質であることから、排ガ
スを大気に放出する前にフッ化物を除去しておく必要が
ある。
製造工程では、エッチング工程やチャンバークリーニン
グ工程で、パーフルオロカーボン（ＰＦＣ）やハイドロ
フルオロカーボン（ＨＦＣ），三フッ化窒素（Ｎ
Ｆ３），六フッ化硫黄（ＳＦ６）等のフッ化物を使用し
ており、半導体製造工程から排出される排ガス中には、
これらのフッ化物が含まれている。このようなフッ化物
は、地球温暖化の原因となる物質であることから、排ガ
スを大気に放出する前にフッ化物を除去しておく必要が
ある。
【０００３】しかし、上述のようなパーフルオロカーボ
ン等のフッ化物は、化学的に非常に安定で、分解処理が
困難な化合物であり、１０００℃程度の高温下で分解処
理を行わなければならず、処理コストが高いだけでな
く、さらに、固形廃棄物やフッ酸等の有害物質が大量に
発生するという問題もあり、その解決が求められてい
る。
ン等のフッ化物は、化学的に非常に安定で、分解処理が
困難な化合物であり、１０００℃程度の高温下で分解処
理を行わなければならず、処理コストが高いだけでな
く、さらに、固形廃棄物やフッ酸等の有害物質が大量に
発生するという問題もあり、その解決が求められてい
る。
【０００４】そこで本発明は、排ガス中に含まれる化学
的に安定なフッ化物を効率よく回収することができるフ
ッ化物の回収方法を提供することを目的としている。
的に安定なフッ化物を効率よく回収することができるフ
ッ化物の回収方法を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のフッ化物の回収方法は、半導体製造工程か
ら排出される排ガス中のフッ化物を回収する方法におい
て、前記排ガスを構成する主成分ガス中に含まれている
パーフルオロカーボン，ハイドロフルオロカーボン，三
フッ化窒素，六フッ化硫黄等の化学的に安定なフッ化物
以外の不純物成分をあらかじめ除去した後、前記化学的
に安定なフッ化物を、比表面積１１００〜１４００
ｍ２，細孔容積０．６５〜０．９９ｃｃ／ｇの活性炭に
吸着させて前記主成分ガスから分離回収することを特徴
としている。
め、本発明のフッ化物の回収方法は、半導体製造工程か
ら排出される排ガス中のフッ化物を回収する方法におい
て、前記排ガスを構成する主成分ガス中に含まれている
パーフルオロカーボン，ハイドロフルオロカーボン，三
フッ化窒素，六フッ化硫黄等の化学的に安定なフッ化物
以外の不純物成分をあらかじめ除去した後、前記化学的
に安定なフッ化物を、比表面積１１００〜１４００
ｍ２，細孔容積０．６５〜０．９９ｃｃ／ｇの活性炭に
吸着させて前記主成分ガスから分離回収することを特徴
としている。
【０００６】まず、半導体製造工程から排出される排ガ
スは、通常、窒素，酸素，水素等のキャリアガス（ベー
スガス）を主成分とし、これに前述のフッ化物や各種原
料ガス等が含まれた状態となっている。このような排ガ
ス中に含まれているパーフルオロカーボン，ハイドロフ
ルオロカーボン，三フッ化窒素，六フッ化硫黄等の化学
的に安定なフッ化物を回収するためには、フッ化物を回
収する工程に導入する前に排ガスを前処理設備に導入
し、該排ガス中に含まれているフッ化物の中でも、四フ
ッ化ケイ素（ＳｉＦ４），二フッ化カルボニル（ＣＯＦ
２），フッ化水素（ＨＦ）等の不安定で反応性の高いフ
ッ化物を含む各種ハロゲン化物や、冷却したときに固化
する水分や二酸化炭素等の不純物成分を除去しておく。
この前処理は、適当な吸着剤や除害剤を用いることによ
って周知の方法で行うことができ、このような前処理を
行うことにより、フッ化物回収工程には、化学的に安定
なフッ化物（以下、単にフッ化物という）を含むベース
ガスが導入されることになる。
スは、通常、窒素，酸素，水素等のキャリアガス（ベー
スガス）を主成分とし、これに前述のフッ化物や各種原
料ガス等が含まれた状態となっている。このような排ガ
ス中に含まれているパーフルオロカーボン，ハイドロフ
ルオロカーボン，三フッ化窒素，六フッ化硫黄等の化学
的に安定なフッ化物を回収するためには、フッ化物を回
収する工程に導入する前に排ガスを前処理設備に導入
し、該排ガス中に含まれているフッ化物の中でも、四フ
ッ化ケイ素（ＳｉＦ４），二フッ化カルボニル（ＣＯＦ
２），フッ化水素（ＨＦ）等の不安定で反応性の高いフ
ッ化物を含む各種ハロゲン化物や、冷却したときに固化
する水分や二酸化炭素等の不純物成分を除去しておく。
この前処理は、適当な吸着剤や除害剤を用いることによ
って周知の方法で行うことができ、このような前処理を
行うことにより、フッ化物回収工程には、化学的に安定
なフッ化物（以下、単にフッ化物という）を含むベース
ガスが導入されることになる。
【０００７】本発明におけるフッ化物回収工程は、上述
のフッ化物を含むベースガスを、比表面積が１１００〜
１４００ｍ２の範囲、細孔容積が０．６５〜０．９９ｃ
ｃ／ｇの範囲の活性炭を充填した吸着筒に流通させ、フ
ッ化物を前記活性炭に吸着させることによってベースガ
スから分離し、活性炭に吸着しているフッ化物を脱着さ
せることにより行われる。活性炭の比表面積や細孔容積
が前記範囲を外れると、フッ化物の吸着や脱着が困難に
なったり、ベ−スガスが吸着したりする。
のフッ化物を含むベースガスを、比表面積が１１００〜
１４００ｍ２の範囲、細孔容積が０．６５〜０．９９ｃ
ｃ／ｇの範囲の活性炭を充填した吸着筒に流通させ、フ
ッ化物を前記活性炭に吸着させることによってベースガ
スから分離し、活性炭に吸着しているフッ化物を脱着さ
せることにより行われる。活性炭の比表面積や細孔容積
が前記範囲を外れると、フッ化物の吸着や脱着が困難に
なったり、ベ−スガスが吸着したりする。
【０００８】フッ化物を前記活性炭に吸着させる際の圧
力及び温度は、通常、０．１〜０．５ＭＰ、−３０〜常
温の範囲で行うことができる。活性炭に吸着したフッ化
物の脱着は、活性炭に悪影響を与えない範囲（通常は２
００℃以下）で活性炭をヒーターや高温ガスで加熱した
り、筒内を減圧したり、これらを組み合わせた適宜な方
法、すなわち、通常の温度変動式吸着分離法や圧力変動
式吸着分離法と同様の吸脱着操作により行うことができ
る。
力及び温度は、通常、０．１〜０．５ＭＰ、−３０〜常
温の範囲で行うことができる。活性炭に吸着したフッ化
物の脱着は、活性炭に悪影響を与えない範囲（通常は２
００℃以下）で活性炭をヒーターや高温ガスで加熱した
り、筒内を減圧したり、これらを組み合わせた適宜な方
法、すなわち、通常の温度変動式吸着分離法や圧力変動
式吸着分離法と同様の吸脱着操作により行うことができ
る。
【０００９】活性炭から脱着させて筒外に取出したフッ
化物は、そのまま再利用することも可能であり、液化し
て貯蔵することもできる。また、容器に圧縮充填して他
の精製プラントや処理プラントに送り、そこで精製処理
を行ったり、分解処理を行ったりすることもできる。
化物は、そのまま再利用することも可能であり、液化し
て貯蔵することもできる。また、容器に圧縮充填して他
の精製プラントや処理プラントに送り、そこで精製処理
を行ったり、分解処理を行ったりすることもできる。
【００１０】
【実施例】実施例１ 図１に示すように、加熱用ヒーター１を備えた内径４３
ｍｍの吸着筒２内に、比表面積１２５０ｍ２、細孔容積
０．９９ｃｃ／ｇの活性炭を、充填密度０．７１ｇ／ｃ
ｃで高さ４００ｍｍ充填した。この吸着筒に化学的に安
定なフロン１１６（Ｃ２Ｆ６）を１％含む窒素ガスを、
常温（約２０℃）で毎分２．６リットル流し、吸着操作
を行った。また、脱着操作は、加熱用ヒーターによって
吸着筒全体を２００℃まで加熱するとともに、筒内に窒
素を毎分８０ｃｃ導入し、活性炭から脱着したフロン１
１６を筒外へ押し出すことにより行った。
ｍｍの吸着筒２内に、比表面積１２５０ｍ２、細孔容積
０．９９ｃｃ／ｇの活性炭を、充填密度０．７１ｇ／ｃ
ｃで高さ４００ｍｍ充填した。この吸着筒に化学的に安
定なフロン１１６（Ｃ２Ｆ６）を１％含む窒素ガスを、
常温（約２０℃）で毎分２．６リットル流し、吸着操作
を行った。また、脱着操作は、加熱用ヒーターによって
吸着筒全体を２００℃まで加熱するとともに、筒内に窒
素を毎分８０ｃｃ導入し、活性炭から脱着したフロン１
１６を筒外へ押し出すことにより行った。
【００１１】筒出口に設けたガスクロマトグラフ（島津
製作所製：ＧＣ−８Ａ）３にて出口ガスの分析を行った
ところ、吸着操作中は、窒素ガス以外のガスは検出され
なかった。また、脱着操作時には、吸着量の９９．９％
のフロン１１６が短時間で回収できた。吸着操作及び脱
着操作の時間を適当に設定して吸脱着操作を繰り返して
行ったが、活性炭の性能低下は生じなかった。
製作所製：ＧＣ−８Ａ）３にて出口ガスの分析を行った
ところ、吸着操作中は、窒素ガス以外のガスは検出され
なかった。また、脱着操作時には、吸着量の９９．９％
のフロン１１６が短時間で回収できた。吸着操作及び脱
着操作の時間を適当に設定して吸脱着操作を繰り返して
行ったが、活性炭の性能低下は生じなかった。
【００１２】実施例２ 図１に示す吸着筒２内に、比表面積１４００ｍ２、細孔
容積０．６５ｃｃ／ｇの活性炭を、充填密度０．６５ｇ
／ｃｃで高さ４００ｍｍ充填した。この吸着筒に化学的
に安定な四フッ化炭素（ＣＦ４）を１％含む窒素ガス
を、常温（約２０℃）で毎分２．６リットル流し、吸着
操作を行った。脱着操作は、実施例１と同様にして行っ
た。
容積０．６５ｃｃ／ｇの活性炭を、充填密度０．６５ｇ
／ｃｃで高さ４００ｍｍ充填した。この吸着筒に化学的
に安定な四フッ化炭素（ＣＦ４）を１％含む窒素ガス
を、常温（約２０℃）で毎分２．６リットル流し、吸着
操作を行った。脱着操作は、実施例１と同様にして行っ
た。
【００１３】その結果、吸着操作中の出口ガスには、窒
素ガス以外のガスは検出されなかった。また、脱着操作
時には、吸着量の９９．９％の四フッ化炭素が短時間で
回収できた。吸着操作及び脱着操作の時間を適当に設定
して吸脱着操作を繰り返して行ったが、活性炭の性能低
下は生じなかった。
素ガス以外のガスは検出されなかった。また、脱着操作
時には、吸着量の９９．９％の四フッ化炭素が短時間で
回収できた。吸着操作及び脱着操作の時間を適当に設定
して吸脱着操作を繰り返して行ったが、活性炭の性能低
下は生じなかった。
【００１４】比較例 吸着筒２内に、比表面積１０００ｍ２、細孔容積０．３
２ｃｃ／ｇの活性炭を、充填密度０．６６ｇ／ｃｃで高
さ４００ｍｍ充填した以外は、実施例１と同様の操作を
行った。その結果、吸着操作中でも出口ガス中に僅かな
フロン１１６が検出され、脱着操作中は、長時間にわた
ってフロン１１６が検出された。
２ｃｃ／ｇの活性炭を、充填密度０．６６ｇ／ｃｃで高
さ４００ｍｍ充填した以外は、実施例１と同様の操作を
行った。その結果、吸着操作中でも出口ガス中に僅かな
フロン１１６が検出され、脱着操作中は、長時間にわた
ってフロン１１６が検出された。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のフッ化物
の回収方法によれば、半導体製造工程から排出される排
ガス中の化学的に安定なフッ化物を効率よく、かつ、高
純度で回収することができる。
の回収方法によれば、半導体製造工程から排出される排
ガス中の化学的に安定なフッ化物を効率よく、かつ、高
純度で回収することができる。
【図１】 実施例で使用した吸着装置の系統図である。
１…加熱用ヒーター、２…吸着筒、３…ガスクロマトグ
ラフ
ラフ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮澤 和浩 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内 Ｆターム(参考） 4D002 AA22 AC10 BA04 CA07 DA41 EA02 EA08 GA01 GB12 4D012 BA03 CA12 CB12 CD05 CE03 CF10 CG10
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体製造工程から排出される排ガス中
のフッ化物を回収する方法において、前記排ガスを構成
する主成分ガス中の化学的に安定なフッ化物以外の不純
物成分をあらかじめ除去した後、前記化学的に安定なフ
ッ化物を、比表面積１１００〜１４００ｍ２，細孔容積
０．６５〜０．９９ｃｃ／ｇの活性炭に吸着させて前記
主成分ガスから分離回収することを特徴とするフッ化物
の回収方法。 - 【請求項２】 前記化学的に安定なフッ化物が、パーフ
ルオロカーボン，ハイドロフルオロカーボン，三フッ化
窒素，六フッ化硫黄の少なくともいずれか一種であるこ
とを特徴とする請求項１記載のフッ化物の回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10187188A JP2000015056A (ja) | 1998-07-02 | 1998-07-02 | フッ化物の回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10187188A JP2000015056A (ja) | 1998-07-02 | 1998-07-02 | フッ化物の回収方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000015056A true JP2000015056A (ja) | 2000-01-18 |
Family
ID=16201656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10187188A Pending JP2000015056A (ja) | 1998-07-02 | 1998-07-02 | フッ化物の回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000015056A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001302551A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Japan Pionics Co Ltd | パーフルオロカーボンの回収方法及び分解方法 |
| JP2002035527A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-05 | Japan Atom Energy Res Inst | ガス分離装置 |
| WO2003071051A1 (fr) * | 2002-02-21 | 2003-08-28 | Qb. Net Co., Ltd. | Salon compact de coiffure et de beaute |
| JP2009062295A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Air Water Inc | パーフルオロカーボンガスの精製方法および装置 |
| JP2009062294A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Air Water Inc | パーフルオロコンパウンドガスの精製方法および装置 |
-
1998
- 1998-07-02 JP JP10187188A patent/JP2000015056A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001302551A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Japan Pionics Co Ltd | パーフルオロカーボンの回収方法及び分解方法 |
| JP2002035527A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-05 | Japan Atom Energy Res Inst | ガス分離装置 |
| WO2003071051A1 (fr) * | 2002-02-21 | 2003-08-28 | Qb. Net Co., Ltd. | Salon compact de coiffure et de beaute |
| JP2009062295A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Air Water Inc | パーフルオロカーボンガスの精製方法および装置 |
| JP2009062294A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Air Water Inc | パーフルオロコンパウンドガスの精製方法および装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050628 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060620 |
|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061024 |