JPH0489387A - 単結晶引上装置用不活性ガス回収装置 - Google Patents
単結晶引上装置用不活性ガス回収装置Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、単結晶引上装置に使用される不活性ガス（
特にアルゴンガス）のリサイクルを可能にする不活性ガ
ス回収装置に関するものである。
特にアルゴンガス）のリサイクルを可能にする不活性ガ
ス回収装置に関するものである。
［従来の技術］
従来、単結晶引上装置に使用されるアルゴン等の不活性
ガスは、そのまま廃棄されていたが、近年、高価である
不活性ガスを回収循環使用する回収装置が種々提案され
ている。
ガスは、そのまま廃棄されていたが、近年、高価である
不活性ガスを回収循環使用する回収装置が種々提案され
ている。
例えば、特開昭５９−３９８００号公報、特公平２−１
４３１５号公報等がある。
４３１５号公報等がある。
従来の回収装置は、Ｃｏ、ＣＯ２，０２、Ｈ２等の不純
物を酸素または空気と反応させて除去するものである。
物を酸素または空気と反応させて除去するものである。
［発明が解決しようとする課題］
単結晶引上装置から回収されるアルゴンガス中のＣｏ、
ＣＯ２，０２等の不純物は濃度が変化する。つまり、引
上炉中に使用されているカーボンパーツのライフ（使用
回数）や炉内の圧力によって不純物の濃度が非常に変化
する。このため、回収アルゴンガス中に不純物が回収装
置の処理能力以上に含まれてぃる場合には、回収アルゴ
ンガスをそのまま廃棄せざるをえない。廃棄を避けるに
は、不純物濃度によって酸素供給量を変化させる装置を
増設し、かつ不純物吸着塔を増設しなければならない。
ＣＯ２，０２等の不純物は濃度が変化する。つまり、引
上炉中に使用されているカーボンパーツのライフ（使用
回数）や炉内の圧力によって不純物の濃度が非常に変化
する。このため、回収アルゴンガス中に不純物が回収装
置の処理能力以上に含まれてぃる場合には、回収アルゴ
ンガスをそのまま廃棄せざるをえない。廃棄を避けるに
は、不純物濃度によって酸素供給量を変化させる装置を
増設し、かつ不純物吸着塔を増設しなければならない。
また、従来の回収装置では、Ｎ２成分が除去できず、回
収リサイクル中にＮ２濃度が高くなり、２回程度の回収
リサイクルしか実行出来ないことが多かった。
収リサイクル中にＮ２濃度が高くなり、２回程度の回収
リサイクルしか実行出来ないことが多かった。
本発明の目的は不純物濃度に左右されず、しかも多くの
回収リサイクルが可能な単結晶引上装置用不活性ガス回
収装置を提供することである。
回収リサイクルが可能な単結晶引上装置用不活性ガス回
収装置を提供することである。
［課題を解決するための手段］
本発明は、単結晶引上装置から回収される不活性ガス中
の不純物を水によって除去するための液封式真空ポンプ
と、前記不活性ガスをＰＳＡ方式で精製するＰＳＡ精製
ユニットと、前記不活性ガスを触媒方式で精製する不活
性ガス精製ユニットを備えたことを特徴とする単結晶引
上用不活性ガス回収装置である。
の不純物を水によって除去するための液封式真空ポンプ
と、前記不活性ガスをＰＳＡ方式で精製するＰＳＡ精製
ユニットと、前記不活性ガスを触媒方式で精製する不活
性ガス精製ユニットを備えたことを特徴とする単結晶引
上用不活性ガス回収装置である。
［作用］
単結晶引上装置で使用された不活性ガス（例えばアルゴ
ンガス）は、液封式真空ポンプで引かれ、その液封式真
空ポンプ中の水によって、ＳｉＯ微粉が取り除かれる。
ンガス）は、液封式真空ポンプで引かれ、その液封式真
空ポンプ中の水によって、ＳｉＯ微粉が取り除かれる。
液封式真空ポンプは、油回転式の真空ポンプのようにＣ
ｏ、ＣＯ２ＣｎＨｍのガスを発生することがない。
ｏ、ＣＯ２ＣｎＨｍのガスを発生することがない。
液封式真空ポンプから送られたアルゴンガスはＰ Ｓ
Ａ （Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｗｉｎｇ Ａｂｓｏｒｐｔ
ｉｏｎガスの圧力変化により吸着・脱着をするカスの分
離精製）方式の精製ユニット（本明細書ではＰＳＡ精製
ユニットと略称する）によってＮ２ 、Ｃｏ、ＣＯ２ガ
スが除去される。
Ａ （Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓｗｉｎｇ Ａｂｓｏｒｐｔ
ｉｏｎガスの圧力変化により吸着・脱着をするカスの分
離精製）方式の精製ユニット（本明細書ではＰＳＡ精製
ユニットと略称する）によってＮ２ 、Ｃｏ、ＣＯ２ガ
スが除去される。
これらの不純物ガスが除去されたあと、アルゴンガスは
、不活性ガス精製ユニットに送られ、そこで０２、Ｎ２
、微量残留ＣＯ２等とアルゴンガスが分離精製される。
、不活性ガス精製ユニットに送られ、そこで０２、Ｎ２
、微量残留ＣＯ２等とアルゴンガスが分離精製される。
このようにして得られた高純度のアルゴンガスを回収し
てリサイクル使用する。
てリサイクル使用する。
［実施例］
第１図に示すように、それ自体公知の単結晶引上装置ｌ
ｌで使用されたアルゴンガスは、回収ガスとして液封式
つまり水封式の真空ポンプ２に引かれる。その水封式真
空ポンプ２内の水によって、そこに引かれたアルゴンガ
ス中に含まれるＳｉＯ微粉が取り除かれる。
ｌで使用されたアルゴンガスは、回収ガスとして液封式
つまり水封式の真空ポンプ２に引かれる。その水封式真
空ポンプ２内の水によって、そこに引かれたアルゴンガ
ス中に含まれるＳｉＯ微粉が取り除かれる。
しかるのち、アルゴンガスは一時貯蔵タンク３に貯蔵さ
れる。さらに、アルゴンガスはその一時貯蔵タンク３か
らＰＳＡ精製ユニット４に送られる。このＰＳＡ精製ユ
ニット４で、アルゴンガス中のＮ２ 、Ｃｏ５ＣＯ２等
の不純物ガス成分が分離されて除去される。
れる。さらに、アルゴンガスはその一時貯蔵タンク３か
らＰＳＡ精製ユニット４に送られる。このＰＳＡ精製ユ
ニット４で、アルゴンガス中のＮ２ 、Ｃｏ５ＣＯ２等
の不純物ガス成分が分離されて除去される。
第２図に示すように、ＰＳΔ精製ユニット４ては、コン
プレッサー２１によってアルゴンガスがゼオライトの吸
着剤の存在する吸着槽２２に送られる。アルゴンガスに
比べて吸着量の多いＮ２ ＣＯ，ＣＯ２が吸着槽２２
内の吸着剤によって吸着される。そのあと、アルゴンガ
スは吸着槽２２の上部から取り出される。
プレッサー２１によってアルゴンガスがゼオライトの吸
着剤の存在する吸着槽２２に送られる。アルゴンガスに
比べて吸着量の多いＮ２ ＣＯ，ＣＯ２が吸着槽２２
内の吸着剤によって吸着される。そのあと、アルゴンガ
スは吸着槽２２の上部から取り出される。
吸着が完了すると、吸着槽２２内は減圧される。そして
真空ポンプ２３で減圧脱着を行う。
真空ポンプ２３で減圧脱着を行う。
ＰＳＡ精製ユニット４で精製されたアルゴンガスは、Ｎ
２０２、微量残留ＣＯ２等を含んでいるため、不活性ガ
ス精製ユニット５に送られる。
２０２、微量残留ＣＯ２等を含んでいるため、不活性ガ
ス精製ユニット５に送られる。
第３図に示すように、不活性ガス精製ユニット５は、順
にコンプレッサー３１、パラジウム触媒塔３２、脱酸素
塔３３、吸着塔３４から構成されている。コンプレッサ
ー３１によって送られたアルゴンガス中のＮ２．０２や
、ＰＳＡ精製ユニット４で除去されなかった微量のＣ’
０．ＣＯ２は、触媒塔３２での酸素添加によりＮ２０、
ＣＯ２に変成され、回収ガス中のＮ２０、ＣＯ２ととも
に吸着塔３４で吸着され、半導体単結晶引上げに使用で
きるように除去される。
にコンプレッサー３１、パラジウム触媒塔３２、脱酸素
塔３３、吸着塔３４から構成されている。コンプレッサ
ー３１によって送られたアルゴンガス中のＮ２．０２や
、ＰＳＡ精製ユニット４で除去されなかった微量のＣ’
０．ＣＯ２は、触媒塔３２での酸素添加によりＮ２０、
ＣＯ２に変成され、回収ガス中のＮ２０、ＣＯ２ととも
に吸着塔３４で吸着され、半導体単結晶引上げに使用で
きるように除去される。
過剰の酸素は脱酸素基３３により反応除去される。
不純物が除去された高純度アルゴンガスは、貯蔵タンク
６に貯蔵され、再度、単結晶引上装置１に送られて使用
される。７は貯蔵タンク６へのバックアップラインを示
す。
６に貯蔵され、再度、単結晶引上装置１に送られて使用
される。７は貯蔵タンク６へのバックアップラインを示
す。
［変形例］
本発明は前述の実施例に限定されない。
ＰＳＡ精製ユニット４と不活性ガス精製ユニット５の順
序を逆にして、ＰＳＡ精製ユニット４を不活性ガス精製
ユニット５の後方に設けても、同様の効果が得られる。
序を逆にして、ＰＳＡ精製ユニット４を不活性ガス精製
ユニット５の後方に設けても、同様の効果が得られる。
ＰＳＡ精製ユニット４の吸着剤は第２図の実施例のゼオ
ライトに限らず適宜選択することができる。同様に、不
活性ガス精製ユニット５の触媒塔３２、脱酸素基３３、
吸着塔３４に使用する材料も、第３図の実施例のものに
限らず適宜選択できる。
ライトに限らず適宜選択することができる。同様に、不
活性ガス精製ユニット５の触媒塔３２、脱酸素基３３、
吸着塔３４に使用する材料も、第３図の実施例のものに
限らず適宜選択できる。
［発明の効果］
この発明の不活性ガス回収装置によれば、Ｃｏ、ＣＯ２
，０２等の不純物の濃度変化に関係なく、それらの不純
物を除去できる。
，０２等の不純物の濃度変化に関係なく、それらの不純
物を除去できる。
本発明の好ましい不活性ガス回収装置（第１図の例）の
各箇所ＡＳＢ、Ｃにおける不純物濃度（ｐｐｎ＋）を表
１に示す。
各箇所ＡＳＢ、Ｃにおける不純物濃度（ｐｐｎ＋）を表
１に示す。
表１からも分かるように、本発明の単結晶引上装置用不
活性ガス回収装置によれば、従来の回収装置では除去で
きなかったＮ２を除去でき、しかも何度も回収ガスのリ
サイクル利用が可能である。
活性ガス回収装置によれば、従来の回収装置では除去で
きなかったＮ２を除去でき、しかも何度も回収ガスのリ
サイクル利用が可能である。
第１図は本発明による単結晶引上装置用不活性ガス回収
装置の一例を示す概略系統図、第２図は第１図の不活性
ガス回収装置に使用するＰＳＡ精製ユニットの系統図、
第３図は第１図の不活性ガス回収装置に使用する不活性
ガス精製ユニットの系統図である。 ■９０．単結晶引上装置 ２１０．液封式真空ポンプ ３１０．−時貯蔵タンク ４９．、ＰＳＡ精製ユニット ５０９．不活性ガス精製ユニット ６０１．貯蔵タンク ２１、 コンプレッサー ２２０．吸着槽 ２３０．真空ポンプ コンプレッサー 触媒塔 脱酸素基 吸着塔
装置の一例を示す概略系統図、第２図は第１図の不活性
ガス回収装置に使用するＰＳＡ精製ユニットの系統図、
第３図は第１図の不活性ガス回収装置に使用する不活性
ガス精製ユニットの系統図である。 ■９０．単結晶引上装置 ２１０．液封式真空ポンプ ３１０．−時貯蔵タンク ４９．、ＰＳＡ精製ユニット ５０９．不活性ガス精製ユニット ６０１．貯蔵タンク ２１、 コンプレッサー ２２０．吸着槽 ２３０．真空ポンプ コンプレッサー 触媒塔 脱酸素基 吸着塔
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 単結晶引上装置から回収される不活性ガス 中の不純物を水によって除去するための液封式真空ポン
プと、前記不活性ガスをＰＳＡ方式で精製するＰＳＡ精
製ユニットと、前記不活性ガスを触媒方式で精製する不
活性ガス精製ユニットを備えたことを特徴とする単結晶
引上用不活性ガス回収装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2199276A JP2532297B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 単結晶引上装置用不活性ガス回収装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2199276A JP2532297B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 単結晶引上装置用不活性ガス回収装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0489387A true JPH0489387A (ja) | 1992-03-23 |
| JP2532297B2 JP2532297B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=16405098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2199276A Expired - Fee Related JP2532297B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 単結晶引上装置用不活性ガス回収装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2532297B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5706674A (en) * | 1997-01-17 | 1998-01-13 | Air Products And Chemicals, Inc. | Argon recovery from silicon crystal furnace |
| JP2002029884A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-29 | Komatsu Electronic Metals Co Ltd | 単結晶引き上げ装置の不活性ガス回収装置 |
| US7361316B2 (en) | 2002-09-13 | 2008-04-22 | Air Products And Chemicals, Inc. | Process for recovery, purification, and recycle of argon |
| JP2012101976A (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-31 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | アルゴンガスの精製方法および精製装置 |
| JP2012140254A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Covalent Materials Corp | 不活性ガス回収装置 |
| CN113277488A (zh) * | 2021-07-23 | 2021-08-20 | 苏州市兴鲁空分设备科技发展有限公司 | 氩尾气的回收提纯方法和装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508999A (ja) * | 1973-05-17 | 1975-01-29 | ||
| JPH0214315A (ja) * | 1988-12-12 | 1990-01-18 | Wacom Co Ltd | 電子黒板装置のマーカ |
-
1990
- 1990-07-30 JP JP2199276A patent/JP2532297B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS508999A (ja) * | 1973-05-17 | 1975-01-29 | ||
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| CN113277488A (zh) * | 2021-07-23 | 2021-08-20 | 苏州市兴鲁空分设备科技发展有限公司 | 氩尾气的回收提纯方法和装置 |
| CN113277488B (zh) * | 2021-07-23 | 2021-10-08 | 苏州市兴鲁空分设备科技发展有限公司 | 氩尾气的回收提纯方法和装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2532297B2 (ja) | 1996-09-11 |
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