DE744105C

DE744105C - Verfahren zur Erhoehung der Sekundaeremissionsausbeute von sekundaeremissionsfaehigen Schichten

Info

Publication number: DE744105C
Application number: DEZ25471D
Authority: DE
Inventors: Dr Paul Goerlich
Original assignee: Zeiss Ikon AG
Current assignee: Zeiss Ikon AG
Priority date: 1939-09-14
Filing date: 1939-09-14
Publication date: 1944-01-10

Description

Verfahren zur Erhöhung der Sekundäremissionsausbeute von sekundäremissionsfähigen Schichten Es hat sich gezeigt, daß Alkalimetalle bei Beschießung mit Elektronen in kompakter Form verhältnismäßig geringe Ausbeuten an Sekundärelektronen ergeben. Man ist deshalb dazu übergegangen, Alkalimetalle als dünne Schichten auf oxydierte Metallunterlagen aufzubringen. Die Ausbeute an Sekundärelektronen ist dann wesentlich größer. Man ist auch schon so vorgegangen, daß man, insbesondere bei den Erdalkalimetallen., Schichten auf Metallunterlagen aufgedampft und diese dann einer Temperatur- oder Sauerstoffbehandlung unterworfen hat. Die Größe des jeweils erzielten Sekundärelektronenfaktors hängt naturgemäß außer von dem Behandlungsverfahren von den jeweils verwendeten Stoffen (Metallunterlage und sekundäremissionsempfindliche Schicht) ab. So ergeben oxydierte Alkalimetalle auf Metallunterlagen bekanntlich eine höhere Ausbeute als in gleicher Weise behandelte Erdalkalimetallschichten. Die vorliegende Erfindung befaßt sich mit einem Verfahren zur Erhöhung der Sekundäremission. Die Erfindung besteht darin, daß die sekundäremissionsfähige Schicht eine bestimmte Zeit lang einer Glimmentladung in einem chemisch inaktiven Gas, beispielsweise Edelgas, ausgesetzt wird. Als besonders günstig haben sich Aufdampfschichten von Alkali-bzw. Erdalkalimetallen auf Wolfram-,. Silber-und Tantalunterlagen erwiesen. Auch oxydierte Aufdampfschichten können nach dem erfindungsgemäßen Verfahren behandelt werden.
Ein Beispiel soll zeigen, welche Erfolge mit dem Verfahren nach der Erfindung erzielbar sind.
Eine auf Silber aufgedampfte Berylliumschicht zeigte ohne Vorbehandlung einen Sekundäremissionsfaktor zwischen 1,2 und 1,5. Nach z1/2stündiger Glimmentladung im Argon gemäß der Erfindung dagegen konnte ein Sekundüremissionsfaktor in der Größe von 3,2 bis 3,5 erhalten werden. Wesentlich ist hierbei die Glimmentladung. Die alleinige Berührung der jeweiligen Schicht mit einem inaktiven Gas,, insbesondere Edelgas, reicht nicht aus, um einer Erhöhung der Ausbeute an Sekundärelektronen zu erzielen. Bei Ver-' Wendung von Edelgasen wählt man etwa einen Druck zwischen i und io inm Hg.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Erhöhung der Sekundäremissionsausbeute von sekundäreinissionsfäliien Schichten, dadurch gekennzeichnet,' daß diese eine bestimmte Zeit lang einer Glimmentladung . in einem chemisch inaktiven Gas, beispielsweise Edelgas, ausgesetzt werden.
2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß bei Verwendung von auf Silber aufgedampften Bervlliumschichteil eine etwa iif.stündige Glimmentladung im Argon bei einem Druck von etwa i bis io mm Hg vorgenommen wird.
3. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß Aufdampfschichten von Alkali- oder Erdalkalimetallen auf Wolfram-, Silber- oder Tantaltinterlagcn \Terwendung finden. .f. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Aufdanipfschichten vor Anwendung der Glimmentladung oxydiert werden. Zur Abgrenzung des Anmeldungsgegenstandes vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden: französische Patentschrift . . . 'N r. ##24 36.5; britische - . , . - 332 0o;.