DE69021918T2 - Akustische Oberflächenwellenanordnung. - Google Patents

Akustische Oberflächenwellenanordnung.

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Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine akustische Oberflächenwellenanordnungen mit einer piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht, die auf einem Silizium-Einkristallsubstrat hergestellt ist.
  • Akustische Oberflächenwellenanordnungen haben kleine Abmessungen und sind hinsichtlich der Temperatur und zeitlicher Veränderungen stabil, und man kann ihnen durch Veränderung der Konfiguration der kammartigen Elektroden eine gewünschte Filterkennlinie verleihen, und deshalb finden sie zum Beispiel als ZF-Filter in Fernsehempfängern, als ZF- Filter in Satellitenrundfunk, als Oszillatoren für Hochfrequenzkonverter in Videorekordern usw. eine breite Anwendung. Es wird verlangt, daß akustische Oberflächenwellenanordnungen einen möglichst großen effektiven elektromechanischen Kopplungskoeffizienten K² besitzen, welcher ein Maß für die Leistungsfähigkeit der Umwandlung der elektrischen Energie in akustische Oberflächenwellenenergie ist.
  • Wir haben bereits eine akustische Oberflächenwellenanordnung angegeben, welche eine piezoelektrische Aluminiumnitrid-Dünnschicht mit einer verhältnismäßig großen Dicke (zum Beispiel 20um bis 30um) enthält, die auf einem Substrat hergestellt ist, und bei der die Orientierungsrichtung der C-Achse der piezoelektrischen Schicht gegenüber angegebene Anordnung kann einen höheren Kopplungskoeffizienten ereichen, als vorher möglich war.
  • Im folgenden bezeichnet die C-Achse die [001]-Achse der piezoelektrischen Schicht, entsprechend dem üblichen Bezeichnungssystem, wie es zum Beispiel in "Grundlagen der physikalischen Chemie", R. Brdicka, Deutscher Verlag der Wissenschaften, Berlin 1982, auf den Seiten 302-306 beschrieben wird.
  • Wenn das Substrat, auf dem die piezoelektrische Schicht hergestellt werden soll, ein Silizium-Einkristall ist, dann lassen sich auf demselben Substrat auch andere Schaltungsanordnungen aufbringen, wodurch eine elektrische Schaltung einschließlich der akustischen Oberflächenwellenanordnung in Form eines einzigen Chips erzeugt werden kann, was vorteilhaft ist. Wenn die erzeugte piezoelektrische Aluminiumnitrid-Schicht dünn ist, dann wird es weiterhin möglich, eine akustische Oberflächenwellenanordnung mit einer verbesserten Leistungsfähigkeit gegenüber jenen herzustellen, bei denen die piezoelektrische Schicht kompakt ist oder eine große Stärke besitzt.
  • In dem Fall, daß die akustische Oberflächenwellenanordnung ein Silizium-Einkristallsubstrat und eine darauf erzeugte piezoelektrische Dünnschicht mit einer Dicke von zum Beispiel etwa 1 bis einige Mikrometer enthält, ist jedoch der Kopplungskoeffizient nicht nur von der Kristallstruktur, der Stärke und anderen Eigenschaften der piezoelektrischen Dünnschicht abhängig, sondern auch von der Kristallstruktur usw. des Substrates, so daß die vollständige Erforschung der Zusammenhänge hinsichtlich von Verbesserungen des Kopplungskoeffizienten noch aussteht. In den ungeprüften japanischen Patentveröffentlichungen JP-A-58059616, JP-A-5805617 und JP-A-5805618 waren zum Beispiel die Untersuchungen lediglich auf die Optimierung der Dicke der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht gerichtet, wobei die C-Achse der Dünnschicht parallel oder senkrecht zum Silizium-Einkristallsubstrat lag. In diesem Fall lag der Kopplungskoeffizient K² auch unter optimalen Bedingungen bei maximal 1,03%.
  • Das GB-A-2 181 917 beschreibt eine akustische Oberflächenwellenanordnung, die ein elastisches Siliziumeinkristallsubstrat mit einer AlN-Schicht enthält, die so auf dem elastischen Substrat aufgebracht ist, daß die piezoelektrische Achse der AlN-Schicht senkrecht oder parallel zur Hauptfläche des elastischen Substrates liegt. Auf der AlN-Schicht sind Elektroden angebracht.
  • Die Hauptaufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine akustische Oberflächenwellenanordnung zu schaffen, welche eine piezoelektrische Aluminiumnitrid-Dünnschicht enthält, die auf einem Siliziumeinkristallsubstrat hergestellt ist, und welche einen höheren Kopplungskoeffizienten als bisher möglich besitzt.
  • Dazu haben wir auf Grund einer Anregung aus den Forschungsarbeiten, die zu der akustischen Oberflächenwellenanordnung des US-A-4,868,44 geführt haben, weitere Forschungsarbeiten an akustischen Oberflächenwellenanordnungen mit einem Silizium-Einkristallsubstrat und einer darauf erzeugten piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht mit einer Dicke von einigen Mikrometern durchgeführt und gefunden, daß der Kopplungskoeffizient der Anordnung durch Einstellung der C- Achse der piezoelektrischen Dünnschicht auf einen geeigneten Neigungswinkel zur Normalen des Substrates verbessert werden kann. Die vorliegende Erfindung basiert auf diesen Ergebnissen.
  • Die Aufgabe wird durch eine akustische Oberflächenwellenanordnung entsprechend Anspruch 1 erfüllt. Die weiteren An- sprüche betreffen verschiedene Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung.
  • Bisher wurde ein Neigungswinkel θ von 0 Grad oder 90 Grad verwendet.
  • Die akustische Oberflächenwellenanordnung entsprechend der vorliegenden Erfindung weist einen Kopplungskoeffizient bis maximal 2,22 % auf, was weit über dem herkömmlichen Maximalwert, d.h. 1,03 % liegt. Der Kopplungskoeffizient wurde auf Basis eines allgemein als zuverlässig geltenden Modells einer akustischen Oberflächenwellenanordnung berechnet, welches später beschrieben werden soll, und durch exakte numerische Analyse des Modells auf einem Computer. Offenbar ist deshalb der theoretische Wert des Kopplungskoeffizienten sehr genau.
  • Bei der akustischen Oberflächenwellenanordnung, die in dem oben genannten US-A-4,868,44 beschrieben wird, wurde durch eine piezoelektrische Aluminiumnitrid-Dünnschicht mit einer verhältnismäßig großen Dicke (mindestens das Mehrfache der Wellenlänge λ der akustischen Oberflächenwelle) ein höherer Kopplungskoeffizient als im Stand der Technik für den Fall realisiert, daß die Ausbreitungscharakteristik der akustischen Oberflächenwelle nur durch die piezoelektrische Schicht bestimmt wird, wohingegen bei der vorliegenden Erfindung mit einer piezoelektrischen Schicht, welche dünn ist (weniger als die Wellenlänge λ der akustischen Oberflächenwelle, z.B. etwa 8 um), ein höherer Kopplungskoeffizient als bisher möglich für den Fall realisiert wurde, daß die Ausbreitungscharakteristik der akustischen Oberlächenwelle nicht nur von der piezoelektrischen Schicht beeinflußt wird, sondern auch von den elastischen und piezoelektrischen Eigenschaften des Substrates.
  • Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht des Aufbaus der akustischen Oberflächenwellenanordnung entsprechend der vorliegenden Erfindung;
  • Fig. 2 ist eine perspektivische Ansicht, die das Aussehen des Bausteins zeigt, der die Anordnung nach Fig. 1 enthält;
  • Fig. 3 bis 5 sind Diagramme der Kennlinien des Kopplungskoeffizienten K² in Abhängigkeit vom Neigungswinkel θ; und
  • Fig. 6 und 7 sind graf ische Darstellungen, die die Bereiche der Neigungswinkel zeigen, in denen sich hohe Kopplungskoeffizienten ergeben.
  • Fig. 1 zeigt eine akustische Oberflächenwellenanordnung, welche ein Silizium-Einkristallsubstrat 1 und eine piezoelektrische Dünnschicht 2 aus C-achsenorientiertem polykristallinem Aluminiumnitrid mit einer Dicke von etwa 1 bis 3 iim enthält. Auf der Oberfläche der piezoelektrischen Dünnschicht 2 sind einander gegenüberliegend eine Sendeelektrode 3 und eine Empfangselektrode 4 aufgebracht, die jeweils einem Kamm ähneln. In Richtung des Pfeiles W breitet sich von der Sendelektrode 3 zur Empfangselektrode 4 eine akustische Oberlächenwelle aus.
  • Alternativ können die Sendeelektrode 3 und die Empfangselektrode 4 zwischen dem Silizium-Einkristallsubstrat 1 und der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 angeordnet sein.
  • Fig. 1 zeigt die X-Achse, Y-Achse und Z-Achse, welche die Kristallachsen des Silizium-Einkristallsubstrats 1 darstellen. Die X-Achse stimmt mit der Achse 11 der Ausbreitungsrichtung der akustischen Oberflächenwelle überein. Die Z- Achse fällt mit der Achse 12 der Normalen auf das Silizium- Einkristallsubstrat 1 zusammen.
  • Die C-Achse 21 der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 wird in eine Richtung gelegt, bei der der Projektionsvektor 22 der C-Achse auf die Ebene, die zwischen der Achse 11 der Ausbreitungsrichtung der akustischen Oberflächenwelle und der Normalenachse 12 des Einkristallsubstrats 1 aufgespannt wird, d.h. auf die X-Z-Ebene, einen vorgegebenen Neigungswinkel e gegenüber der Achse 11 der Ausbreitungsrichtung bildet.
  • Die piezoelektrische Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 kann durch ein bekanntes Verfahren, wie z.B. eine Zerstäubungstechnologie (Sputtern) oder eine CVD-Technologie (chemical vapour deposition - chemische Abscheidung aus der Dampfphase) hergestellt werden.
  • Fig. 2 zeigt einen Baustein, der die Anordnung nach Fig. 1 einhüllt. Der Baustein enthält daraus hervorstehende Eingangsanschlüsse 5, 51, die mit der Sendeelektrode 3 verbunden sind, und Ausgangsanschlüsse 6, 61, die mit der Empfangselektrode 4 verbunden sind. Wenn den Eingangsanschlüssen 5, 51 von einer nichtdargestellten externen Schaltung ein elektrisches Signal zugeführt wird, wird bei Erregung von der Sendeelektrode 3 eine dem Eingangssignal entsprechende akustische Oberflächenwelle ausgesendet, von der Elektrode 4 empfangen und über die Ausgangsanschlüsse 6, 61 wieder als elektrisches Signal an die externe Schaltung geleitet.
  • Im Verlauf der Entwicklung der vorliegenden Erfindung simulierten wir die Abhängigkeit des Kopplungskoeffizienten K² von einer Veränderung der Kristalloberfläche des in Fig. 1 gezeigten Silizium-Einkristallsubstrates 1, des Winkels 8 zwischen dem Projektionsvektor 22 der C-Achse 21 und der Achse 11 der Ausbreitungsrichtung, der Dicke h der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2, der Wellenlänge λ der akustischen Oberflächenwelle und ähnlicher Bedingungen.
  • Der Kopplungskoeffizient wurde durch Anwendung der Theorien und Berechnungsverfahren ermittelt, die zum Beispiel in "A Method for Estimating Optical Crystal Cuts and Propagation Direction for Excitation of Piezoelectric Surface Waves" (IEEE Transaction on Sonics and Ultrasonics, Vol. SU-15, No. 4, October 1968, Seiten 209 - 217) und in "PHYSICAL ACOUSTICS-Principle and Methods-" (herausgegeben von WAR- RENT P. MASON und R.N. THURSTON, Vol. IX 1972, ACADEMIC PRESS, NEW YORK und LONDON) beschrieben werden.
  • Entsprechend diesen Berechnungsverfahren wird die piezoelektrische Grundgleichung unter Berücksichtigung der Anisotropie und der piezoelektrischen Eigenschaften der Ausbreitungsschicht der akustischen Oberflächenwelle, der Newtonschen Bewegungsgleichung, der Maxwellschen elektromagnetischen Gleichungen usw. durch numerische Analyse gelöst, um daraus die Ausbreitungsgeschwindigkeit Vm der Oberflächenwelle für den Fall, daß die Oberfläche der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht elektrisch kurzgeschlossen ist, und die Ausbreitungsgeschwindigkeit Vf auf der freien Oberfläche zu berechnen.
  • Der Kopplungskoeffizient K² errechnet sich unter Verwendung der Ausbreitungsgeschwindigkeiten Vm und Vf mit Hilfe der folgenden Gleichung.
  • K² = 2(Vf - Vm)/Vf
  • Die Fig. 3 bis 5 zeigen einige Ergebnisse der obigen Simulation, d.h. Kennlinien der Kopplungskoeffizienten K² bei einer Veränderung der Neigungswinkel θ von 0 Grad auf 90 Grad.
  • Die Kennlinien nach Fig. 3 zeigen die Ergebnisse für den Fall, daß die Oberfläche des Silizium-Einkristallsubstrates 1, auf der die piezoelektrische Dünnschicht hergestellt ist, die (001)-Kristallebene darstellt, die Achse 11 der Ausbreitungsrichtung der akustischen Oberflächenwel le gleich der [100]-Achse des Substrates 1l ist und die C-Achse 21 der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 in der X-Z-Ebene liegt, wobei die C-Achse 21 mit dem Projektionsvektor 22 zusammenfällt. Die Dicke der piezoelektrischen Dünnschicht 2 sei mit h und die Wellenlänge der akustischen Oberflächenwelle mit λ bezeichnet. Die Kurve A stellt die Kennlinie des Kopplungskoeffizienten für den Fall dar, daß = 2,0 beträgt, die Kurve B gilt für 2πh/λ = 2,5 und die Kurve C für 2πh/λ = 2,6.
  • Die Kennlinien A, B und C lassen erkennen, daß der Kopplungskoeffizient K² zunächst ansteigt, wenn der Neigungswinkel θ von 0 Grad beginnend größer wird, dann einen Scheitelwert erreicht und danach abfällt. Bei Neigungswinkein θ bis etwa 60 Grad ist der Kopplungskoeffizient K² größer als bei einem Neigungswinkel θ von 0 Grad, was dem Neigungswinkel der konventionellen akustischen Oberflächenwellenanordnung entspricht. Bei der Kurve A erreicht der Kopplungskoeffizient K² ein Maximum von 1,05 % bei einem Neigungswinkel θ von 35 Grad. Bei der Kurve B erreicht der Kopplungskoeffizient K² ein Maximum von 1,18 % bei einem Neigüngswinkel θ von 37 Grad. Bei der Kurve C erreicht der Kopplungskoeffizient K² ein Maximum von 1,20 % bei einem Neigungswinkel von 37 Grad und ist bei Neigungswinkeln θ von bis etwa 53 Grad größer als bei 0 Grad.
  • Weiterhin ist der Verlauf der Kennlinie um so flacher, je geringer der Wert 27πh/λ ist. Wenn dieser Wert weniger als etwa 1,8 ist, hat die Kurve keinen Scheitelwert (nicht gezeigt).
  • Fig. 4 zeigt die Kennlinien, die man erhält, wenn die Oberfläche des Silizium-Einkristallsubstrates l, auf der die piezoelektrische Dünnschicht aufgebracht ist, die (110)- Kristallebene darstellt, die Achse 11 der Ausbreitungsrichtung der akustischen Oberflächenwellen gleich der [001] - Achse des Substrates 1 ist und die C-Achse 21 der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 in der X-Z-Ebene liegt. Die Kurve D stellt die Kennlinie des Kopplungskoeffizienten dar, wenn 2πh/λ = 1.8 beträgt, und die Kurve E gilt für 2πh/λ= 2,6.
  • Diese Kennlinien D und E lassen ebenfalls die Tendenz erkennen, daß der Kopplungskoeffizient K² zunächst ansteigt, wenn der Neigungswinkel θ von 0 Grad beginnend ansteigt, dann einen Scheitelwert erreicht und danach abfällt. Bei Neigungswinkeln θ bis etwa 60 Grad ist der Kopplungskoeffiw zient K² größer als bei einem Neigungswinkel θ von 0 Grad, der für die konventionelle akustische Oberflächenwellenanordnung gilt. Bei Kurve D erreicht der Kopplungskoeffizient K² ein Maximum von 1,04 % bei einem Neigungswinkel von 33 Grad. Bei Kurve E erreicht der Kopplungskoeffizient K² ein Maximum von 1,18 % bei einem Neigungswinkel von 36 Grad und ist bei Neigungswinkeln bis etwa 55 Grad größer als bei 0 Grad.
  • Weiterhin ist der Verlauf der Kennlinie um so flacher, je geringer der Wert 2πh/λ ist. Wenn dieser Wert kleiner als etwa 1,8 ist, hat die Kurve keinen Scheitelwert (nicht gezeigt).
  • Fig. 5 zeigt die Kennlinien für den Fall, daß die Oberfläche des Silizium-Einkristallsubstrates 1, auf der die piezoelektrische Dünnschicht aufgebracht ist, die (111)- Kristallebene darstellt, die Achse 11 der Ausbreitungsrichtung der akustischen Oberflächenwelle gleich der [112]- Achse des Substrates 1 ist, und die C-Achse 21 der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 in der X-Z-Ebene liegt. Die Kurve F stellt die Kennlinie des Kopplungskoeffizienten dar, wenn 2πh/λ = 2,5 beträgt, und die Kurve G gilt für 2πh/λ = 2,6.
  • Diese Kennlinien F und G lassen erkennen, daß der Kopplungskoeffizient K² bei Neigungswinkeln θ im Bereich von etwa 20 Grad bis etwa 60 Grad größer als etwa 1 % ist. Bei der Kurve F erreicht der Kopplungskoeffizient K² ein Maximum von 2,22 % bei einem Neigungswinkel θ von 37 Grad. Bei der Kurve G erreicht der Kopplungskoeffizient K² ein Maximum von 2,12 % bei einem Neigungswinkel θ von 36 Grad.
  • Fig. 6 zeigt in schraffierter Form die Winkelbereiche von 0 Grad < &theta; &le; 60 Grad, welche sich im Falle der Fig. 3 und 4 besonders für die Erzielung eines großen Kopplungskoeffizienten eignen. Fig 7 zeigt in schraffierter Form die Winkelbereiche 20 Grad < &theta; &le; 60 Grad, welche sich im Falle der Fig. 5 in gleicher Weise besonders eignen. Aus Sicht der Kristallografie ist klar, daß die in Bezug zu den Kristallachsen symmetrisch liegend dargestellten Winkelbereiche eine genau identische Wirkung haben.
  • Die Fig. 3 bis 5 zeigen die Ergebnisse der Simulation für den Fall, daß das Siliziumeinkristallsubstrat 1 die oben genannten Kristallebenen und Kristallachsen in Verbindung mit der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 aufweist, es läßt sich aber in dem Fall, daß das Siliziumsubstrat 1 eine Ebene besitzt, die der oben genannten Kristallebene äguivalent ist, oder daß die Kristallachse geringfügig verschoben ist, im wesentlichen dasselbe Ergebnis wie oben erreichen.
  • Ferner zeigen die Fig. 3 bis 5 die Ergebnisse, die man in dem Fall erhält, daß die C-Achse 21 der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 in der X-Z-Ebene liegt, es läßt sich aber im wesentlichen dasselbe Ergebnis wie oben erzielen, wenn der Projektionsvektor 22 in derselben Richtung liegt, auch wenn sich die C-Achse 21 außerhalb der X- Z-Ebene befindet. Das wird aus dem Sachverhalt deutlich, daß die Kennlinien des C-achsenorientierten polykristallinen Aluminiumnitrids nur durch die C-Achse festgelegt sind und die A-Achse der B-Achse entspricht.
  • Weiterhin haben wird bezüglich der Dicke h der piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 festgestellt, daß im wesentlichen dasselbe Ergebnis wie in den Fig. 3 bis 5 dargestellt erreicht werden kann, wenn der Wert von 2&pi;h/&lambda; bis zu 20 beträgt.
  • Wie oben beschrieben wird, kann man der akustischen Oberflächenwellenanordnung entsprechend der vorliegenden Erfindung in dem Fall, daß die Dicke h der piezoelektrischen
  • Aluminiumnitrid-Dünnschicht 2 innerhalb des Bereiches von 20 &ge; 2&pi;h/&lambda; &ge; 1.8 liegt, einen höheren Kopplungskoeffizient als bisher möglich verleihen, indem der Neigungswinkel der C-Achse innerhalb des in Fig. 6 oder 7 gezeigten Winkelbereiches eingestellt wird.
  • Übrigens beträgt entsprechend der vorgenannten ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung SHO 58-59617, der Scheitelwert der Kurve, die der Kurve A in Fig. 4 der Erfindung entspricht und unter denselben Bedingungen gewonnen wurde, 0,98 %, der entsprechende Scheitelwert für Kurve C 1,02 % und der entsprechende Scheitelwert für Kurve C 1,03 %. Diese Werte sind kleiner als die vorigen Werte, die mit der Anordnung entsprechend der vorliegenden Erfindung gewonnen wurden.
  • Weiterhin beträgt entsprechend der vorgenannten ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung JP-A-5859618 der Scheitelwert der Kurve, die der Kurve D in Fig. 5 der Erfindung entspricht und unter denselben Bedingungen gewonnen wurde, 0,58% und der entsprechende Scheitelwert für Kurve E 0,91%. Diese Werte sind beide geringer als die vorigen Werte, die mit der vorliegenden Anordnung gewonnen wurden.
  • Die vorangegangene Beschreibung des Ausführungsbeispiels erfolgte nur zum Zwecke der Illustration der vorliegenden Erfindung und soll nicht als Einschränkung der beanspruchten Erfindung oder Verringerung ihres Umfangs aufgefaßt werden. Weiterhin ist der Aufbau der vorliegenden Anordnung nicht auf den des Ausführungsbeispiels beschränkt, sondern läßt sich selbstverständlich durch einen Fachmann vielfältig modifizieren, ohne vom Umfang der Erfindung, wie er in den anhängenden Ansprüchen definiert ist, abzuweichen.
  • Zum Beispiel kann das in dem obigen Ausführungsbeispiel verwendete C-achsenorientierte polykristalline Aluminiumnitrid durch eine piezoelektrische Dünnschicht aus einkristallinem Aluminiumnitrid ersetzt werden. Da die A-Achse des einkristallinen Aluminiumnitrids seiner B-Achse gleichartig ist, lassen sich die Eigenschaften der akustischen Oberflächenwellenanordnung in diesem Fall durch Festlegen der Orientierung der C-Achse bestimmen. Demzufolge kann die Anordnung, um denselben Effekt wie bereits beschrieben zu erzeugen, denselben Aufbau besitzen, als wenn C-achsenorientiertes polykristalines Aluminiumnitrid verwendet wird.

Claims (8)

1. Akustische Oberflächenwellenanordnung mit einem Silizium-Einkristallsubstrat (1), das eine ebene Oberfläche bildet, einem piezoelektrischen Dünnfilm (2) aus monokristallinem oder C-Achsen orientiertem polykristallinen Aluminiumnitrid, der auf der ebenen Oberfläche des Substrates (1) geformt ist, und Mitteln (3) zum Aussenden einer akustischen Oberflächenwelle mit vorgegebener Wellenlänge &lambda;, die sich in einer vorgegebenen Fortpflanzungsrichtung (11) längs der ebenen Oberfläche fortpflanzt, wobei die C-Achse (21) des piezoelektrischen Dünnfilms (2) in einer solchen Richtung angeordnet ist, daß der Projektionsvektor (22) der C-Achse auf eine Projektionsebene (X-Z), die die Fortpflanzungsachse (11) und die Normalenachse (12) des Substrats (1) enthält, einen vorgegebenen Neigungswinkel &theta; bezüglich der Achse (11) der Fortpflanzungsrichtung bildet, dadurch gekennzeichnet, daß der Neigungswinkel &theta; im Bereich 0º &le; &theta; &le; 60º liegt und daß der piezoelektrische Aluminiumnitrid-Dünnfilm (2) eine Dicke h hat, die der Beziehung 1,8 &le; 2&pi;h/&lambda; &le; 20 genügt.
2. Anordnung nach Anspruch 1, bei der die C-Achse (21) des piezoelektrischen Dünnfilms (2) in der Projektionsebene (X-Z) angeordnet ist.
3. Anordnung nach Anspruch 1, bei der die ebene Oberfläche des Silizium-Einkristallsubstrats (1) die (001) -Kristallebene oder eine dazu äquivalente Ebene ist.
4. Anordnung nach Anspruch 2 oder 3, bei der die Achse (11) der Fortpflanzungsrichtung in der [100]-Achse des Silizium- Einkristallsubstrates (1) angeordnet ist.
5. Anordnung nach Anspruch 1, bei der die ebene Oberfläche des Silizium-Einkristallsubstrats (1) die (110) -Kristallebene oder eine dazu äquivalente Ebene ist.
6. Anordnung nach Anspruch 2 oder 5, bei der die Achse (11) der Fortpflanzungsrichtung in der [001]-Achse des Silizium- Einkritallsubstrates (1) angeordnet ist.
7. Anordnung nach Anspruch 1, bei der die ebene Oberfläche des Silizium-Einkristallsubstrats (1) die (111)-Kristallebene oder eine dazu äquivalente Ebene ist.
8. Anordnung nach Anspruch 2 oder 7, bei der die Achse (11) der Fortpflanzungsrichtung in der [112] -Achse des Silizium- Einkristallsubstrats (1) angeordnet ist.
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