DE68908326T2 - Verfahren zum Herstellen elektrochromer Vorrichtungen. - Google Patents
Verfahren zum Herstellen elektrochromer Vorrichtungen.Info
- Publication number
- DE68908326T2 DE68908326T2 DE89309568T DE68908326T DE68908326T2 DE 68908326 T2 DE68908326 T2 DE 68908326T2 DE 89309568 T DE89309568 T DE 89309568T DE 68908326 T DE68908326 T DE 68908326T DE 68908326 T2 DE68908326 T2 DE 68908326T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrochromic
- layer
- oxide
- forming
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 30
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 15
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical group O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 10
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 8
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 7
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 claims description 2
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 65
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 55
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 24
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 13
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 6
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011244 liquid electrolyte Substances 0.000 description 4
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003091 WCl6 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 238000002144 chemical decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M lithium perchlorate Chemical compound [Li+].[O-]Cl(=O)(=O)=O MHCFAGZWMAWTNR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001486 lithium perchlorate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methyl-5-propan-2-ylcyclohex-2-en-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1CC(C(C)C)CC=C1C DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 241000206672 Gelidium Species 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020528 Na5YSi4O12 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002781 RbAg4I5 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008940 W(CO)6 Inorganic materials 0.000 description 1
- XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[V+5].[V+5] XHCLAFWTIXFWPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- -1 formaldehyde, alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 239000011245 gel electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(iv) oxide Chemical compound O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 1
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- GLNWILHOFOBOFD-UHFFFAOYSA-N lithium sulfide Chemical compound [Li+].[Li+].[S-2] GLNWILHOFOBOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002927 oxygen compounds Chemical class 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007784 solid electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 238000007614 solvation Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000007785 strong electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001935 vanadium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006163 vinyl copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001075 voltammogram Methods 0.000 description 1
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/217—FeOx, CoOx, NiOx
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/219—CrOx, MoOx, WOx
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/228—Other specific oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/229—Non-specific enumeration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/17—Deposition methods from a solid phase
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S359/00—Optical: systems and elements
- Y10S359/90—Methods
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Description
- Die vorliegende Ertindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung elektrochromer Vorrichtungen.
- Elektrochrome Vorrichtungen sind Vorrichtungen, in denen eine physikalische/chemische Änderung aufgrund eines induzierten elektrischen Feldes eine Änderung der reflektierenden (oder leitenden) Eigenschaften der Vorrichtungen bezüglich elekromagnetischer Strahlung, wie z. B. UV, IR und sichtbare Strahlung, bewirkt. Solche Vorrichtungen, eine Verwirklichung ist als Nummer 10 in Figur 1 der beigefügten Zeichnungen zu sehen, umfassen üblicherweise eine Beschichtung aus elektrochromem Material (12) und eine ionenleitende Sperrschicht (14), welche die Aufgabe einer Elektrolytschicht übernimmt. Die Beschichtung und die Elektrolytschicht berühren sich mit ihren Oberflächen zum Zwecke des Ionenaustausches zwischen der elektrochromen Beschichtung und der Elektrolytschicht. Zwei leitende Elektrodenschichten (16 und 18 in Fig. 1), von denen mindestens eine lichtdurchlässig ist, werden auf den gegenüberliegenden äußeren Oberflächen der Beschichtung und der Elektrolytschicht angebracht, damit eine Spannung über die gesamte Stärke der elektrochromen Beschichtung und der Elektrolytschicht angelegt werden kann. Die Elektrodenschichten (16 und 18 in Fig. 1) werden auf Substrate gebracht (20 und 22 in Fig. 1), deren Material z. B. Glas sein kann. Der beschriebene Aufbau wird außen mit einer elektrischen Vorrichtung zur Anlegung einer Spannung an die Elektroden versehen, welche die Färbung der elektrochromen Schicht bewirkt. Bei Umkehrung der Polarität der angelegten Spannung, wird die farbige elektrochrome Schicht farblos (entfärbt). Der Wechsel vom entfärbten zum farbigen Zustand oder vom farbigen zum entfärbten Zustand wird mit "Schalten" bezeichnet. Das elektrochrome Material kann entweder im farbigen oder im farblosen Zustand verharren. Unter "verharren" ist die Fähigkeit des Materials zu verstehen, nach Abnahme des elektrischen Feldes in dem geänderten Absorptionszustand zu verbleiben, im Unterschied zur beinahe sofortigen Rückkehr zum Ausgangszustand. Die Dauer, die ein Material in seinem Ausgangszustand verharrt, heißt "Gedächtnis". Für elektrochrome Vorrichtungen dieser Art gibt es bereits verschiedene Einsatzbereiche wie Anzeigen, Lichtfilter etc.
- Bei diesen Vorrichtungen enthält die elektrochrome Beschichtung normalerweise ein anorganisches Metalloxid, häufig ein Übergangsmetalloxid, insbesondere Wolframoxid. Die elektrochrome Metalloxidschicht wird mittels unterschiedlicher Techniken aufgebracht: Vakuumbedampfung, chemische Gasphasenabscheidung, Wärmebedampfung, Beschichtung durch Vakuumzerstäubung und Elektronenstrahlevaporation. Siehe auch US Patentschriften 4 194 812; 4 278 329; 4 645 308; 4 436 769; 4 500 878; 4 150 879; 4 652 090; 4 505 021 und 4 664 934. Wenn das elektrochrome Material Wolframoxid ist, wird die Elektrolytschicht für die Abgabe eines positiv geladenen Ions, vorzugsweise eines Protons oder eines Lithiumions adaptiert. Die Elektrolytschicht ist üblicherweise eine flüssige Elektrolytlösung, die Polymerisate oder Copolymerisate umfaßt, welche acidische Gruppen enthalten wie Polystyrolsulfosäure oder eine Verbindung wie Lithiumchlorid. Die Elektrolytschicht kann aber auch ein Gel sein oder aus festem Material bestehen.
- Eines der bis heute ungelösten Probleme ist, daß die elektrochromen Schichten dieser Vorrichtungen nicht durch Verfahren aufgebracht werden, die die Beschichtung großer Flächen ermöglichen, wie es z. B. notwendig wäre, wenn Sonnendächer oder Windschutzscheiben von Kraftfahrzeugen als elektrochrome Vorrichtungen ausgeführt werden sollen. Die Vorteile, solche Elemente als elektrochrome Vorrichtungen aus zuführen, sind klar ersichtlich, da diese bis zu einem gewünschten Grad eingefärbt werden können, und so nach Belieben für UV-, IR- und andere sichtbare Strahlung undurchlassig sind. Zum Beispiel könnte es wünschenswert sein, Sonnendach und Scheiben so zu "färben", daß nur noch ein minimaler Lichtdurchlaßgrad besteht, um an einem sonnigen Tag das Aufheizen des Innenraums eines geparkten Kraftfahrzeuges zu vermeiden. In einer anderen Verwirklichung kann die Windschutzscheibe soweit eingefärbt werden, daß die Führung des Kraftfahrzeuges weiterhin möglich ist, die Menge der sichtbaren Strahlung durch die Windschutzscheibe jedoch reduziert wird.
- Die gegenwärtig üblichen Verfahren zur Herstellung elektrochromer Schichten ermöglichen es meist nicht, eine elektrochrome Schicht aufzubauen, die eine ausreichend niedrige Durchlässigkeit für elektromagnetische Strahlung aufweist. Es ist wichtig, Vorrichtungen mit niedriger Durchlässigkeit zu schaffen, insbesondere für IR-Strahlung, wenn dies Vorrichtungen als Sonnendächer oder Windschutzscheiben bei Kraftfahrzeugen eingesetzt werden sollen. Ein weiteres, derzeit ungelöstes Problem besteht darin, daß elektrochrome Vorrichtungen mit der Zeit die Fähigkeit des Schaltens verlieren, d. h. nach zahlreichen Schaltvorgängen steigt der Prozentsatz elektromagnetischer Strahlendurchlässigkeit im farbigen Zustand. Das ist besonders problematisch, wenn die Vorrichtungen für zahlreiche Zyklen gebraucht werden, um unerwünschte Strahlung abzublocken, wie es für Sonnendächer oder Windschutzscheiben bei Kraftfahrzeugen oder für Fenster eines Gebäudes Voraussetzung wäre. Ein weiteres Problem solcher Vorrichtungen ist, daß das elektrochrome Material, wenn es mit einer flüssigen Elektrolytschicht gekuppelt ist, dazu neigt von der flüssigen Elektrolytschicht solvatisiert zu werden. Das verkürzt die Haltbarkeit der Vorrichtungen wie auch die Anzahl der Schaltvorgänge, Voraussetzung zur Gewährleistung der Funktion.
- Ein Versuch, den Widerstand des elektrochromen Materials gegenüber den zersetzenden Auswirkungen des Elektrolyts zu verbessern, wird in der US Patentschrift 4 233 339 (Leibowitz et al.) angeführt. Darin wird offenbart, daß, wenn dünne elektrochrome Schichten, aufgebracht auf Substratelektroden, einer speziellen Wärmebehandlung bei einer bestimmten Temperatur für eine bestimmte Zeit ausgesetzt werden, zumindest ein Teil jeder Schicht von der amorphen zur kristallinen Form umgeformt wird. Weiterhin wird gelehrt, daß diese äußere Schicht des elektrochromen Materials den Widerstand der elektrochromen Schicht gegenüber der zersetzenden Wirkung des flüssigen Elektrolyts signifikant erhöht. In der US Patentschrift 4 175 837 (Yano et al.), wird offenbart, daß die Solvatation einer Wolframoxidbeschichtung durch die Aufbringung einer WO&sub3;-Beschichtung auf einem Glassubstrat verringert werden kann, vorausgesetzt das Substrat wird bei einer hohen Temperatur gehalten, d. h. zwischen 250ºC und 450ºC. Nach dieser Patentschrift wird die WO&sub3;-Beschichtung durch Wärmebedampfung und Vakuumbedampfung aufgebracht. Allerdings wird die Transparenz der WO&sub3;-Beschichtung unerwünschtermaßen vermindert, wenn das Substrat während der Aufbringung der WO&sub3;-Beschichtung einer Temperatur von über 450ºC ausgesetzt wird.
- Es wäre erstrebenswert, ein Verfahren zur Herstellung dauerhafter elektrochromer Vorrichtungen zu erfinden, die in der Lage wären, den Durchfluß elektromagnetischer Strahlung wesentlich zu reduzieren, ein Verfahren, das gleichzeitig das Schalten der Vorrichtungen auf längere Zeit ermöglicht, ohne daß die elektrochrome Aktivität wesentlich nachläßt, und schließlich müßte die elektrochrome, auf eine Oberfläche aufgebrachte Schicht (d. h. auf einer Elektrode) widerstandsfähig gegen die Zersetzung durch das Elektrolyt sein. Es wäre höchst vorteilhaft, wenn ein Verfahren zur Herstellung einer solchen elektrochromen Schicht einfach und technisch nutzbar wäre, zur problemlosen Beschichtung großer Flächen.
- Die hier offenbarte Erfindung ermöglicht es, die zuvor beschriebenen Probleme des derzeitigen Standes der Technik zu lösen. Die Erfindung umfaßt die Bildung einer elektrochromen Schicht durch pyrolytische Abscheidungstechniken.
- Pyrolytische Abscheidungstechniken beinhalten das Erhitzen einer Oberfläche und Aufbringung eines Gemisches bei Raumtemperatur auf die erhitzte Oberfläche. Der Einfachheit halber wird das Gemisch im allgemeinen auf die erhitzte Oberfläche aufgesprüht. Die Wärme der heißen Oberfläche führt zur chemischen Zersetzung des aufgesprühten Gemisches und anschließender neuer Verbindung der Bestandteile des zersetzten Materials mit dem Gas der Umgebung und so zur Bildung eines Materials auf der Oberfläche. Mehrere US Patentschriften beschreiben pyrolytische Abscheidungstechniken von Metalloxiden auf Glas, um dessen sichtbare Farbe zu ändern, oder um die Durchlässigkeit elektromagnetischer Strahlung zu reduzieren. Siehe z. B. US Patentschriften 4 217 392; 4 349 369 und 3 374 156. Keine dieser Patentschriften lehrt oder offenbart elektrochrome Vorrichtungen, in denen die elektrochrome Schicht sauerstoffarmes Metalloxid beinhaltet, welches, wie in dieser Erfindung, durch pyrolytische Abscheidungstechniken aufgebracht wurde.
- Die hier vorliegende Erfindung beschreibt ein Verfahren zur Bildung elektrochromer Vorrichtungen wie in Anspruch 1 dargelegt.
- Vorzugsweise wird die elektrochrome Schicht unter Bedingungen hergestellt, in denen die Oberfläche eine Temperatur zwischen 371ºC (700ºF) und 593ºC (1100ºF) hat, am günstigsten ist eine Temperatur zwischen 454ºC (850ºF) und 593ºC (1100ºF). Bei diesen Bauelementen ist zumindest eine der beiden Elektrodenschichten transparent und jede Elektrodenschicht hat Kontakt mit einem der Substrate.
- Es wurde festgestellt, daß die bevorzugten Verwirklichungen dieser Erfindung den Vorteil haben, den Durchlaß aller elektromagnetischer Strahlung im wesentlichen zu verhindern. Außerdem gelingt es mittels des Verfahrens der vorliegenden Erfindung, elektrochrome Beschichtungen zu schaffen, die haltbarer sind als jene, die mittels konventioneller Abscheidungstechniken aufgebracht werden. Es wurde festgestellt, daß Verwirklichungen dieser erfundenen Vorrichtungen einen sehr langen Zeitraum schalteten und während dieser Schaltvorgänge die Fähigkeit beibehielten, sich während des Schaltens mit der gleichen Intensität zu verfärben. Außerdem haben die erfindungsgemäßen Verwirklichungen der elektrochromen Schicht dieser Vorrichtungen ihre Widerstandsfähigkeit gegen chemische Zersetzung in Gegenwart der ionenleitenden Schicht (Elektrolyt) bewiesen.
- Wie bereits dargelegt beinhalten die elektrochromen Vorrichtungen dieser Erfindung zwei Substrate, zwischen denen sich - in der genannten Reihenfolge - eine Elektrodenschicht, eine kathodische elektrochrome Schicht, eine ionenleitende Schicht und eine weitere Elektrodenschicht befindet. Fachleuten ist bekannt, daß kathodische elektrochrome Materialien in den farbigen Zustand schalten, wenn am Pol der Nachbarelektrode der elektrochromen Schicht eine negative Spannung angelegt wird. Vorrichtungen dieses allgemeinen Typs sind in diesem Bereich der Technik wohl bekannt und beispielsweise in den vorgenannten US Patentschriften offenbart.
- Wie oben offenbart, wurde festgestellt, daß bei Einbringung eines nichtstöchiometrischen, sauerstoffarmen Metalloxids (als elektrochromes Kathodenmaterial) durch pyrolytische Abscheidungstechniken hervorragende elektrochrome Vorrichtungen hergestellt wurden. Die Bildung der elektrochromen Kathodenschicht mittels dieses Verfahrens, ebenso wie die weiteren Komponenten der elektrochromen Vorrichtungen, werden folgenden ausführlich dargelegt.
- Exemplarisch für die ausgewählte Gruppe nichtstöchiometrischer, sauerstoffarmer Metalloxide, die für diese Erfindung als elektrochromes Kathodenmaterial verwendbar sind, seien hier genannt: Wolframoxide, Molybdänoxide, Vanadiumoxide, Titanoxide und Kupferoxide, wobei bei jedem dieser Oxide der Sauerstoffgehalt geringer als stöchiometrisch ist.
- Gutes elektrochromes Kathodenmaterial sollte die allgemeine Formel MOx haben, wobei M ein Metall variabler Valenz ist, und x um eine Zahl kleiner ist, als jene, welche eine stöchiometrische Verbindung schaffen würde. Das heißt, gutes, elektrochromes Kathodenmaterial sollte eine sauerstoffarme Verbindung sein, d. h. in einem reduzierten Zustand sien. Folglich ist, wie in der anhängigen US Patentanmeldung Seriennummer 138 234 von Demiryont, eingereicht am 28. Dezember 1987, beschrieben wird, WOx mit x kleiner als 3 gutes elektrochromes Kathodenmaterial, während WO&sub3; kein gutes Material ist. (Zur Zeit schreibt man WO&sub3; elektrochrome Eigenschaften zu, wobei die elektrochrome Qualität aber minderwertig ist.) Ähnlich wird auch in der anhängigen US Patentanmeldung Seriennummer 179 825 von Demiryont, eingereicht am 11. April 1988, VOx mit x kleiner als 2,5 als gutes elektrochromes Kathodenmaterial beschrieben, während das stöchiometrische V&sub2;O&sub5; kein elektrochromes Material ist. Keine dieser Anmeldungen offenbart die Erzeugung einer elektrochromen Beschichtung durch pyrolytische Zersetzungstechniken.
- Das Metalloxid muß, um die für diese Erfindung gewünschten elektrochremen Eigenschaften aufzuweisen, ein nichtstöchiometrisches, sauerstoffarmes Metalloxid sein. Der Grad, bis zu welchem das Metalloxid nichtstöchiometrisch ist, ist abhängig von dem jeweiligen Metalloxid, das als elektrochromes Material verwendet wird. Die optimale nichtstöchiometrische Verbindung für die einzelnen Metalloxide, die als elektrochromes Material verwendet werden können, werden für jeden Fachmann in Kenntnis der vorliegenden Offenbarung offensichtlich sein. Jedoch können andere Metalloxide oder kompatible Gemische davon für die Erfindung benutzt werden. Die Auswahl anderer Metalloxide ist für Fachleute in Kenntnis der vorliegenden Offenbarung offensichtlich.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung wird die elektrochrome Schicht aus einem nichtstöchiometrischem, sauerstoffarmen Metalloxid auf die Oberfläche durch pyrolytische Abscheidung aufgebracht, wobei die Oberfläche eine Temperatur zwischen ca. 260ºC (500ºF) und ca. 648ºC (1200ºF), vorzugsweise zwischen ca. 371ºC (700ºF) und ca. 593ºC (1100ºF), idealerweise aber zwischen ca. 454ºC (850ºF) und 593ºC (1100ºF) hat. Die Oberfläche wird ausgewählt vom der Oberfläche einer Elektrodenschicht und einer Oberfläche der ionenleitenden Schicht der Vorrichtungen. Das nichtstöchiometrische, sauerstoffarme Metalloxid kann gebildet werden durch pyrolytische Abscheidung eines pulverigen oder flüssigen Gemisches, welches Bestandteile aufweist, die ein Metall mit variabler Oxydationszahl beinhalten; dieses Gemisch muß in seine Bestandteile zerlegt werden können, wenn es hohen Temperaturen ausgesetzt wird und mit Sauerstoff reagieren, um ein nichstöchiometrisches Metalloxid zu bilden.
- Wie oben offenbart, können die Gemische zur Aufbringung der elektrochromen Schicht flüssig oder pulverig sein. Diese Gemische beinhalten anorganische Substanzen mit zumindest einem Metall mit variabler Oxydationszahl, das heißt mindestens ein Element aus dem Periodensystem der Elemente, das mehr Oxydationsstufen haben kann als Null. Diese schließen Materialien ein, die ein Ubergangsmetall beinhalten (einschließlich Lanthaniden- und Actinidengruppen) und Materialien mit nichtalkalischen Metallen wie Kupfer. Bevorzugte Materialien dieser Klasse sind Übergangsmetallverbindungen in denen das Übergangsmetall jede Oxydationszahl von +2 bis +8 annehmen kann. Besonders günstige Metallverbindungen sind solche mit folgenden Metallen: Wolfram, Molybdän, Vanadium, Titan, Blei, Wismuth und Kupfer. Wenn es sich um eine Flüssigkeit handelt, beinhaltet die Flüssigkeitsverbindung eine dispersions- oder lösliche Metallverbindung. Beispielhaft für eine Flüssigkeitszusammensetzung, die z. B. verwendet werden kann, um eine Wolframoxidbeschichtung aufzubringen, ist eine, die Wolframhexachlorid gelöst in Lösungsmitteln wie N,N-dimethylformamid, Flourwasserstoffsäure und Pol-Lösemittel einschließlich Wasser enthält. Eine Kupferoxidbeschichtung kann mittels einer Lösung aufgebracht werden, die z. B. wässeriges Kupfernitrat enthält. Eine Nickeloxidbeschichtung kann beispielsweise unter Verwendung einer Lösung, die Nikkelacetat in Äthylalkohol/flüssiges Ammoniak enthält, aufgebracht werden. Eine Molybdänbeschichtung kann zum Beispiel mit einer Lösung, die Cyclopentadinylmolybdäntricarbonyl Dimer in Methylenchlorid enthält, aufgebracht werden.
- Beispiele für Pulvergemische, die entsprechend der vorliegenden Erfindung für pyrolytische Aufbringungsverfahren elektrochromer Schichten verwendet werden können, schließen Metallcarbonyle, Metallazetylazetonate und Titanisopropylate ein, wobei die Carbonyle vorzuziehen sind. Das Gemisch, welches gemäß dieser Erfindung für pyrolytischen Abscheidungsverfahren verwendet wird, kann ebenfalls ein Gemisch aus verschiedenen Metallverbindungen sein, wobei das Metall oder ein anderer Teil der Verbindung verschieden ist, wie es dem Fachmann in Kenntnis der vorliegende Offenbarung offensichtlich ist.
- Wie oben offenbart, ist für diese Erfindung von wesentlicher Bedeutung, daß die geschaffene elektrochrome Kathodenschicht ein Übergangsmetalloxid enthält, das nichtstöchiometrisch und sauerstoffarm ist. Die Aufbringung eines nichtstöchiometrischen Metalloxids kann durch folgende Bedingungen verstärkend unterstützt werden: (1) Zugabe eines Reduktionsmittels in das Pulvergemisch oder in die Flüssigkeit, (2) Zugabe eines Gases, das Inertgas oder Reduktionsgas enthält, als Trägergas für das Pulvergemisch oder die Flüssigkeit, (3) während der pyrolytischen Aufbringung der elektrochromen Schicht durch Zugabe eines Gases, das Inertgas oder Reduktionsgas enthält, nahe der Oberfläche, auf welcher besagte elektrochrome Schicht aufgebracht wird, (4) durch Regulierung der Temperatur der Oberfläche, auf welche die elektrochrome Schicht aufgebracht wird und (5) durch Regulierung der Aufbringungsrate des Gemisches, d. h. der Menge des Materials/Zeit, das durch die Aufbringungsvorrichtung verstäubt wird. Diese Bedingungen können nach Wunsch einzeln oder kombiniert eingesetzt werden. In Kenntnis dieser Offenbarung werden Fachleute noch andere Wege zur Aufbringung einer nichtstöchiometrischen Metalloxidbeschichtung kennen.
- Beispiele für Reduktionsmittel, die gemäß dieser Erfindung benutzt werden können, sind u. a. Phenylhydrazin, Formaldehyd, Alkohole und anorganische Reduktionsmittel wie Hydroxylamin und Wasserstoff. Reduktionselemente wie Au, F, Pb etc. können ebenfalls in das Gemisch eingebracht werden. Solche Reduktionselemente würden gmeinsam mit dem elektrochromen Material aufgebracht werden und sich mit der elektrochromen Kathodenbeschichtung verbinden. Wie oben offenbart, ist die Schaffung einer Reduktionsumgebung durch ein Trägergas oder durch ein Gas in der Nähe der Oberfläche, auf welcher die elektrochrome Schicht aufgebracht wird, eine weitere Möglichkeit, die Bildung nichtstöchiometrischer Metalloxidbeschichtungen zu fördern. Gemäß dieser Erfindung kann das zu verwendende Trägergas, wenn auf diesem Wege eine Reduktionsumgebung geschaffen werden soll, ein Gas beinhalten, das von der Gruppe der Inertgase oder Reduktionsgase ausgewählt wurde, einschließlich - aber nicht beschränkt - auf Gase wie Stickstoff, Argon, Kohlenmonoxid, Kohlendioxid und Wasserstoff, Gasgemische, einschließlich Luft + Stickstoff, Luft + Stickstoff + Argon und dgl. mehr. Es ist beabsichtigt daß, während ein Trägergas, welches z.B. ein Inertgas wie Stickstoff enthält, benutzt werden kann, um eine Reduktions .PA Umgebung zu schaffen, noch immer Sauerstoff nahe der Oberfläche derjenigen Oberfläche ist, auf welcher die Beschichtung aufgebracht wird. Die Menge des Sauerstoffs in der Nähe dieser Oberfläche kann jedoch im Vergleich zu der dort üblicherweise anzutreffenden Menge verringert werden durch Verwendung eines Trägergases (das ein Inertgas oder Reduktionsgas beinhaltet) oder durch Zuführung eines Gases in die Nähe der Oberfläche, welches dazu neigt, Teile des Sauerstoffs, der sich normalerweise in der Nähe dieser Oberfläche befindet, zu verdrängen. Die optimale Menge des Inert- bzw. Reduktionsgases oder Reduktionsmittels, welches erfindungsgemäß verwendet werden kann, ist solche, die das erfindungsgemäß gewünschte, nichtstöchiometrische, sauerstoffarme Metalloxid schaffen kann. Die Bestimmung der optimalen Menge dieser Materialien (z. B. Inertgas und/oder Reduktionsmittel) wird Fachleuten in Kenntnis dieser Offenbarung offensichtlich sein. Gemäß der hier offenbarten Erfindung ist ebenfalls beabsichtigt, daß das Trägergas Sauerstoff beinhalten oder sogar im wesentlichen aus Sauerstoff bestehen kann, wenn eine Reduktionsumgebung geschaffen wird, z. B. durch Einschluß eines Reduktionsmittels in der Zusammensetzung des Aufbringungsgemisches oder durch Modifizierung der Temperatur der Vorrichtung wie hier beschrieben.
- Die Aufbringung einer nichtstöchiometrischen Metalloxidbeschichtung kann durch Beeinflussung anderer Abscheidungsparamter unterstützt werden, wie zum Beispiel der Temperatur der Vorrichtung wie oben beschrieben. Wenn z. B. die Oberfläche während der Aufbringung der Metalloxidschicht darauf auf sehr hohen Temperaturen wie 621ºC (1150ºF) gehalten wird, wird die Bildung stöchiometrischer Metalloxide gefördert. Folglich wird bei Aufbringung des Metalloxids auf eine Oberfläche mit niedrigerer Temperatur, wie z. B. ca. 480ºC (900ºF) die Bildung substöchiometrischer Metalloxide gefördert.
- Während die elektrochrome Beschichtung auf pyrolytischem Wege mittels flüssigen und pulverigen Gemischen mit Metallverbindungen aufgebracht werden kann, wird bei bestimmten Realisierungen die pyrolytische Abscheidung der elektrochromen Schicht mittels eines Pulvergemisches vorgezogen, um bei der Transmission von Sonnenlicht optimale Reduzierung zu erzielen. Bei solchen Realisierungen wird die Schicht außerdem vorzugsweise unter Verwendung eines Trägergases aufgebracht, insbesondere eines Inertgases wie Stickstoff für das Pulvergemisch.
- Die elektrochrome Schicht weist in der Hauptsache, wenn nicht gänzlich, amorphe Strukturen auf, d. h. im Vergleich zu kristallinischen Strukturen. Diese lockere, weniger kompakte, amorphe Form ist von großem Vorteil für die Elektronenwanderung in der ganzen elektrochromen Schicht während der Schaltvorgänge. Es wurde festgestellt, daß gemäß einiger Realisierungen das Gemisch der aufgebrachten Schicht von der Temperatur auf der Oberfläche abhängig ist. Zum Beispiel wurde festgestellt, daß bei Temperaturen, die höher als 582ºC (1080ºF) sind, und Wolframoxid die aufgebrachte elektrochrome Schicht ist, diese eine relativ dünne Schicht stöchiometrischen Wolframoxids angrenzend an der Oberfläche aufweist und darüber eine relativ dikke, nichtstöchiometrische Schicht des Metalloxids. Bei einer niedrigeren Oberflächentemperatur, wie z. B. 482ºC (900ºF), wird während einer pyrolytischen Abscheidung die Wolframoxidbeschichtung eher einheitlich nichtstöchiometrisch. Es ist anzunehmen, daß eine relativ dünne Schicht eines stöchiometrischen Wolframoxids angrenzend an der Oberfläche bessere Adhäsion zwischen Schicht und Oberfläche schafft. Gemäß bestimmter Realisierungen konnte ebenfalls festgestellt werden, daß sauerstoffärmere Beschichtungen aufgebracht werden können, wenn die Aufbringungsrate (d. h. die Menge des aufgebrachten Materials/Zeit) erhöht wird.
- Normalerweise liegt die Stärke der elektrochromen Beschichtung zwischen 0,1 und 100 Mikrometer. Da jedoch ein niedriges Potential eine enorme Feldstärke über dünne Beschichtungen schaffen kann, werden Beschichtungen von 0,1 - 10 Mikrometer Stärke bevorzugt. Die optimale Stärk wird ebenfalls durch das Beschichtungsmaterial bestimmt. Im allgemeinen würde es auf eine der Elektroden des elektrochromen Elementes aufgebracht. Die elektrochrome Beschichtung kann aber auch auf dem ionenleitenden Material aufgebracht werden, wenn das ionenleitende Material bei den Abscheidungstemperaturen beständig und in der Lage ist, eine pyrolytisch aufgebrachte Schicht eines Reduktionsmetalloxids zu akzeptieren. Fachleute wissen, daß die Verwendung fester ionenleitender Materialien als Oberfläche, auf der erfindungsgemäß eine elektrochrome Schicht aufgebracht werden kann, günstiger ist als der Einsatz flüssiger oder gelartiger Materialien.
- Elektrochromes Material, das gemäß der Verfahren dieser Erfindung hergestellt wird, zeigt kurze Schaltzeiten, ein langes Lebenszeitgedächtnis, einen hohen Kontrast zwischen farbigem und entfärbtem Zustand und ausgezeichnete Reduzierung von Sonnenstrahlung, insbesondere im Vergleich zu elektrochromen Materialien, die mit konventionellen Abscheidungsverfahren hergestellt wurden. Es wurde festgestellt, daß Realisierungen elektrochromer Beschichtungen, die gemäß dieser Erfindung aufgebracht wurden, gute mechanische Haltbarkeit und Haltbarkeit bei säurehaltiger Umgebung bewiesen. Es wurde ebenfalls festgestellt, daß Realisierungen der Beschichtungen, z. B. WOx Beschichtungen, die entsprechend der Verfahren dieser Erfindung aufgebracht wurden, ihren farbigen Zustand regelmäßig mindestens 4-6 Wochen beibehielten, ohne daß Spannung angelegt wurde. Realisierungen von Testelementen unter Verwendung von WOx Beschichtungen erfindungsgemäßer Aufbringung, die bei Raumtemperatur insgesamt 81000 Zyklen durchliefen, ließen kein merkliches Nachlassen der elektrochromen Eigenschaften erkennen. Ein repräsentatives Testelement mit lichtdurchlässigen Flourdotierten Zinnoxidelektroden, einer WOx-Beschichtung von ca. 400um Dicke und einem Elektrolyt mit einem Gemisch von 1 Molar Lithiumperchlorat in Propylenkarbonat wurde hergestellt. Das Element hatte die ungefähren Maße von 5,08cm x 3,81cm. Ein Drehfeldvoltamogramm wurde zur Messung der elektrochromen Reaktionen eingesetzt. Die Vorrichtung wurde bei Raumtemperatur, einer Spannung zwischen -2,5 V und +1,5 V und einem Scan-Wert von 50mv/s getestet. Dies entspricht 180s/Zyklus. Die Vorrichtung hatte eine tiefblaue Färbung (ca. 3% Lichtdurchlässigkeit) während des Färbezyklus und entfärbte sich zu einem ganz schwachen Hellblau während des Entfärbezyklus. Daraus und aus ähnlichen Versuchen wurde geschlossen, daß solch eine Vorrichtung mehr als eine Million Zyklen durchlaufen und dabei die elektrochrome Aktivität beibehalten kann.
- Die Elektroden der elektrochromen Vorrichtungen dieser Erfindung können aus jedem Material sein, welches, relativ zur elektrochromen Beschichtung, elektrisch leitend ist. Mindestens eins der Elektrodensubstrate ist lichtdurchlässig, es können aber auch beide lichtdurchlässig sein. Wenn beabsichtigt wird, daß die Elektrode lichtdurchlässig sein soll, kann eine lichtdurchlässige Beschichtung eines elektrisch leitenden Metalloxids wie zum Beispiel dotiertes oder nicht dotiertes Zinnoxid, Indiumoxid, Zinkoxid und dgl. verwendet werden. Die Stärke der lichtdurchlässigen Elektrodenschicht liegt üblicherweise im Bereich von 0,01 bis zu einigen Mikrometern, wobei sich die Lichtdurchlässigkeit und der Widerstand entsprechend ändern. Die lichtdurchlässige Elektrodenschicht kann mittels jeder bekannten Technik auf dem Substrat aufgebracht werden, einschließlich der Vakuumbedampfung, der reaktiven Abscheidung, Ionengalvanisation, reaktiver Ionengalvanisation und Beschichtung durch Vakuumzerstäubung. Das für die Vorrichtung verwendete Substrat kann jedes Material beinhalten, das beständig gegen die Temperaturen, Herstellungsbedingen und Einsatz der Vorrichtung ist. Allgemein gebräuchliche Materialien für Substrate solcher Vorrichtungen sind z - B. Glas, Quarz etc. Die Auswahl des optimalen Materials für eines oder beide Substrate der Vorrichtung ist für den Fachmann in Kenntnis dieser Offenbarung kein Problem. Die lichtdurchlässige Elektrodenschicht kann durch die sogenannten "dicken Beschichtungsverfahren" wie Filmdruck oder Ummantelung gebildet werden. Wenn "dicke Mengenbeschichtungsverfahren eingesetzt werden, wird (1) eine Masse aus Mikropartikeln einer Metallverbindung oder (2) ein Lösung einer organischen Metallverbindung wie Metallalkoholat oder dessen Oligomer zur Bildung der lichtdurchlässigen Elektrodenschicht umhüllend beschichtet und gesintert. Vorzugsweise besteht das lichtdurchlässige Elektrodenmaterial aus Flour-dotiertem Zinnoxid. Das lichtundurchlässige Elektrodenmaterial wird ausgewählt aus den lichtreflektierenden Elektrodenmaterialien (z. B. Al, Ag, Pt oder Ni) oder aus anderen Elektrodenmaterialien (z. B.) Au, Pd, Cr, Ir, Ru, Rh oder C). Die Elektroden können in Serie oder in Gitterform angeordnet sein.
- Die ionenleitende Schicht (oft auch mit Elektrolyt bezeichnet) kann aus verschiedenen Materialien bestehen. Beispiele für dielektrische Materialien für ionenleitende Schichten sind Tantaloxid (TA&sub2;O&sub5;), Niobiumoxid (Nb&sub2;O&sub5;), Zirkonoxid (ZrO&sub2;), Titanoxid (TiO&sub2;) , Hafniumoxid (HfO&sub2;), Aluminiumoxid (Al&sub2;O&sub3;), Yttriumoxid (Y&sub2;O&sub3;), Lanthanoxid (La&sub2;O&sub3;), Silikonoxid (SiO&sub2;), Magnesiumflourid, Zirkonphosphat oder ein Gemisch davon (eine dünne Beschichtung solchen dielektrischen Materials dient als Sperrschicht für Elektronen aber als Leiter für Protonen (H+) und Radikale (OH&supmin;)). Beispiele für feste Elektrolyte, die als ionenleitende Schicht eingesetzt werden können, sind Natriumchlorid, Kaliumchlorid, Natriumbromid, Kaliumbromid, Na&sub3;Zr&sub2;Si&sub2;P&sub1;&sub2;, Na1+xZrSixP3-xO&sub1;&sub2;, Na&sub5;YSi&sub4;O&sub1;&sub2; oder RbAg&sub4;I&sub5;. Die ionenleitende Schicht kann aber auch Wasser oder eine Protonenquelle sein, die ein synthetisches Kunstharzcopolymer des b - Hydroxyäthyl-Methacrylsäureester mit 2-Acrylamid-2- Methylpropansulfosäure, ein Vinylcopolymerhydrat (z.B. ein Methyl-Methacrylsäureestercopolymerhydrat oder ein Polyesterhydrat) enthält. Die ionenleitende Schicht kann eine elektrolytische Säurelösung sein (z. B. Schwefelsäure, Chlorwasserstoffsäure, Phosphorsäure, Äthansäure, Buttersäure oder Oxalsäure) oder eine wässerige Lösung davon, oder eine wässerige Alkalilösung (z. B. Natriumhydroxid oder Lithiumhydroxid) oder eine wässerige Lösung eines festen, starken Elektrolyts (z. B. Natriumhydroxid, Lithiumchlorid, Kaliumchlorid oder Lithiumsulfid). Beispiele für halbfeste Gelelekrolyte, die als ionenleitende Schicht verwendet werden können, sind u. a. jene, die durch Gelierung einer elektrolytischen wasserigen Lösung mittels eines Geliermittels (z. B. Polyvinylalkohol, Natriumcelluloseglycolat, Agar-Agar oder Gelatine) hergestellt werden. Vorzugsweise wird die ionenleitende Schicht aus einem Material ausgesucht, welches Alkalimetallverbindungen beinhaltet. Am günstigsten sind Verbindungen der Nitratsalze und Chloridsalze von Alkalimetallverbindungen. Lithium, Kalium und Natrium sind die bevorzugten Alkalimetalle für solche Verbindungen.
- Für den Fachmann in Kenntnis dieser Offenbarung ist klar ersichtlich, daß die Verfahren dieser Erfindung für alle elektrochromen Vorrichtungen anwendbar sind. Solche Vorrichtungen können andere Teile beinhalten wie z. B. Gegenelektroden, eine zweite elektrochrome Schicht usw. Gegenelektroden werden hauptsächlich zwischen der ionenleitenden Schicht und einer Elektrode der Vorrichtung (d. h. zwischen Schichten 14 und 18 der Vorrichtung in Fig. 1) eingesetzt, um die Funktion der Vorrichtung zu verbessern. Eine Gegenelektrode kann z. B. aus WO&sub3; dotiert mit einem Alkalimetallion gebildet werden. Es kann mit allen Abscheidungstechniken gearbeitet werden, einschließlich der pyrolotischen Abscheidung. In diesem Fall jedoch wird, im Gegensatz zu den hier offenbarten Verfahren, das Gegenelektrodenmaterial nicht in einer Reduktionsumgebung aufgebracht, da dieses Material grundsätzlich kein elektrochromes Material ist.
- Die folgenden Beispiele sind eine Beschreibung der hier offenbarten Erfindung. Sie legen das beste Verfahren dar, das der Erfinder in Betracht gezogen hat, was aber nicht heißt, daß sich die möglichen Verfahren allein auf die hier angeführten Beispiele beschränken.
- In diesem Beispiel wurde eine elektrochrome Vorrichtung mit einer reduzierten Wolframoxidbeschich tung, WOx gemäß der Verfahren der Erfindung hergestellt. Eine 30,5 cm lange, quadratische Seite eines Glassubstrats von O,318cm Stärke wurde mit einer 200nm starken Schicht eines Elektrodenmaterials versehen, welches SnO&sub2; dotiert mit Flour beinhaltet, dessen Schicht einen Widerstand von 30 Ohm/Quadrat hat. Diese leitende Schicht wurde entsprechend der Abscheidungstechnik der US Patentschrift 4 721 632 aufgebracht. Das Glas/Elektrodensystem hat eine Lichtdurchlässigkeit von ca. 80% der sichtbaren Strahlung.
- Das Glas/Elektrodensystem wurde auf eine Temperatur von 582ºC (1080ºF) in einem vertikalen Ofen erwärmt. Nachdem das System aus dem Ofen in Raumtemperatur kam, wurde eine WCl&sub6; Lösung gelöst in N, N-dimethyl Formamid, die ebenfalls Raumtemperatur hatte, auf die Elektrodenoberfläche mit einer "Devilbiss" Handsprühpistole Modell JGV-560 aufgebracht, wobei Luft als Träger(Zerstäubungs)gas verwendet wurde. Der Lösungszerstäubungsdruck betrug 3,52Kgf/cm², der Abstand zwischen Elektrodenoberfläche und Pistolendüse betrug ungefähr 15 cm. Die aufgebrachte WOx-Beschichtung hatte eine Stärke von ca. 110nm.
- Ein zweites Glas/Elektrodensystem wurde wie oben beschrieben hergestellt. Um eine elektiochrome Vorrichtung herzustellen, wurde das Glas/Elektrodensystem und das Glas/Elektroden/WOx-System in diesem Beispiel parallel zueinander wie in Figur 1 angeordnet. Drei korrespondierende Ecken des Systems wurden mit einem Silikonkunstharz versiegelt, um einen Hohlraum zwischen Elektrode und Wox-Beschichtung zu bilden. Eine Elektrolytlösung, die 1 Mol Lithiumperchlorat in Propylencarbonat enthält, wurde in die Höhlung zur Bildung der elektrochromen Vorrichtung geschüttet.
- Die Sonnenlichtdurchlässigkeit (IR, UV und sichtbare Lichtdurchlässigkeit) der Vorrichtung im "entfärbten" (farblosen) Zustand wurde mittels eines Spectrophotometers gemessen. Die Ergebnisse sind in Figur 2 und Tabelle I Punkt (a) aufgeführt. Ein Kupferdraht wurde mit Jeder Elektrode verbunden. Eine direkte Gittervorspannung von 5 V wurde für 1,5 Minuten an die Elektroden angelegt wobei die Elektrode, die der Wox- Beschichtung am nächsten war, der Minus-Pol war. (Die gleiche Spannung wurde über die gleiche Zeitspanne 5 V/1,5 Minuten in den unten folgenden Beispielen angelegt.) Durch Anlegung dieser Spannung verfärbte sich das elektrochrome Material dieser Vorrichtung blau (hier farbiger Zustand genannt). Die Durchlässigkeit des Sonnenlichtes dieser Vorrichtung im "farbigen" Zustand wurde mittels eines Spectrophotometers gemessen. Die Ergebnisse sind in Figur 2 und Tabelle I Punkt (a) aufgeführt. Diese Ergebnisse zeigen wesentliche Änderungen bezüglich der Durchlässigkeit der Sonneneinstrahlung wie auch hinsichtlich der Farbe, wenn das Wolframoxid der elektrochromen Vorrichtung vom entfärbten zum farbigen Zustand wechselte.
- In diesem Beispiel wurde eine elektrochrome Vorrichtung mit einer reduzierten Wolframoxidbeschichtung Wox gemäß des Verfahrens dieser Erfindung hergestellt. Die Vorrichtung dieses Beispiels entspricht der von Beispiel 1 mit dem Unterschied, daß das Wox wie folgt hergestellt wurde: Bei Entnahme des erhitzten Glas- Elektrodensystems aus dem Ofen, wurden 5 Gramm des W(CO)&sub6; Pulvers mit einer Binks Handbeflockungspistole Modell 171 aufgesprüht. Der Abstand zwischen Elektrode und Pistole betrug ungefähr 12,7 cm der Pulverpartikelzerstäubungsdruck betrug 3,52Kgf/cm². Als Zerstäubungsmittel diente Stickstoffgas. Eine fortlaufende Beschichtung von ca. 108 nm wurde auf die Elektrode aufgebracht.
- Die Durchlässigkeit des Sonnenlichts dieser Vorrichtung im entfärbten und farbigen Zustand wurde wie in Beispiel 1 gemessen. Die Ergebnisse sind in Figur 3 und Tabelle I (b) dargestellt. Diese Ergebnisse zeigen, daß eine Wox-Beschichtung aufgebracht mittels einer Pulvermischung im Vergleich zu jener Beschichtung, aufgebracht mittels der Lösung in Beispiel 1, eine Vorrichtung mit dem gewünschten Effekt zeitigte, nämlich die Durchlässigkeit des Sonnenlichts deutlich zu vermindern (d. h. von 58,1 auf 25,0 im Vergleich zu 58,7 auf 38,9 gesamt) und eine größere Änderung im Kontrast mit sich brachte (d. h. eine größere Änderung in der Differenz zwischen der Lichtdurchlässigkeit im gebleichten und farbigen Zustand), wenn die elektrochrome Schicht vom gebleichten in den farbigen Zustand geschaltet wurde.
- In diesem Beispiel wurde eine elektrochrome Vorrichtung mit einer reduzierten Wolfiamoxidbeschichtung Wox gemäß des Verfahrens dieser Erfindung hergestellt. Die Vorrichtung wurde entsprechend der in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren hergestellt, mit dem Unterschied, daß die aufgebrachte Wox-Beschichtung mit einer Stärke von 400 nm stärker war im Vergleich zur Stärke der WOx-Beschichtung von 108 nm in Beispiel 1. In beiden Beispielen wurde die WOx-Beschichtung durch die Aufbringung von einer Lösung WCl&sub6; gelöst in N, N-Dimethylformamid gebildet.
- Zur Färbung der elektrochromen Beschichtung wurde das gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 angewandt, und, ebenfalls wie in Beispiel 1, wurde die Durchlässigkeit für Sonnenlicht im gebleichten und gefärbten Zustand gemessen. In Figur 4 und Tabelle I (c) sind die Ergebnisse aufgelistet. Wie diese Ergebnisse im Vergleich mit denen aus Beispiel 1 und 2 zeigen, erzielt die Aufbringung einer dickeren Beschichtung von einer Lösung oder einem Pulver eine Vorrichtung mit dem erwünschten Effekt, die Durchlässigkeit des Sonnenlichtes weiter zu vermindern.
- In diesem Beispiel wurde eine elektrochrome Vorrichtung mit einer reduzierten Wolframoxidbeschichtung W0x entsprechend des Verfahrens dieser Erfindung hergestellt. Die Vorrichtung wurde entsprechend der in Beispiel 2 beschriebenen Verfahren hergestellt, mit dem Unterschied, daß die aufgebrachte Wox-Beschichtung mit einer Stärke von 400 nm stärker war im Vergleich zur Stärke der WOx-Beschichtung von 108 nm in Beispiel 1. In diesem Beispiel wurde wie in Beispiel 2 die WOx- Beschichtung mittels eines W(CO&sub6;) Pulvers aufgebracht.
- Das gleiche Verfahren wie in Beispiel 2 wurde angewendet, um die elektrochrome Beschichtung zu färben und, wie in Beispiel 2, wurde die Messung der Durchlässigkeit des Sonnenlichts im entfärbten und farbigen Zustand vorgenommen. In Figur 5 und Tabelle I (d) sind die Ergebnisse aufgelistet. Wie diese Ergebnisse im Vergleich zu jenen von Beispiel 2 zeigen, bewirkt die Aufbringung einer dickeren Beschichtung der gleichen Pulvermischung den gewünschten Effekt einer größeren Verminderung der Durchlässigkeit von Sonnenlicht und einen größeren Farbkontrast. Wenn die Ergebnisse dieses Beispiels mit den Ergebnissen von Beispiel 3 verglichen werden, so zeigt sich, daß eine Beschichtung aufgebracht mittels einer Pulvermischung im Vergleich mit einer Beschichtung aufgebracht mittels einer Flüssigkeit wieder (wie in Beispielen 1 und 2) den erwünschten Effekt zeitigte, nämlich die Durchlässigkeit des Sonnenlichts weiter zu vermindern und den Farbkontrast zwischen entfärbtem und farbigem Zustand zu vergrößern. Tabelle I Sonnenlichtdurchlässigkeit (%) der elektrochromen Zellen Unter Verwendung pyroltischer Wolframoxidbeschichtungen (Angelegte Spannung: 5.UV; Zeit:90s, Td-582ºC 1080ºF) Stärke Quelle sichtbar Wox-entfärbt Wox-farbig
Claims (10)
1. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung (10), bestehend aus zwei Substraten (20, 22)
und dazwischen, in genannter Reihenfolge, eine
Elektrodenschicht (16), eine elektrochrome Schicht (12),
eine ionenleitende Schicht (14) und eine weitere
Elektrodenschicht, wobei mindestens eine der genannten
einen Elektrodenschicht (16) und der genannten anderen
Elektrodenschicht (18) lichtdurchlässig ist, und jede
Elektrodenschicht (16, 18) Kontakt mit einem der
genannten Substrate (20, 22) hat, wobei die genannte
ionenleitende Schicht (14), welche eine Ionenquelle
beinhaltet, zur Lieferung von Ionen an die genannte
elektrochrome Schicht bei Anlegen einer Spannung über
die genannten Elektrodenschichten (16,18), dadurch
gekennzeichnet, daß genannte elektrochrome Schicht
(12) gebildet wird mit einem nichtstöchiometrischen,
sauerstoffarmen Metalloxid mit variabler
Oxydationszahl, mittels pyrolytischem Abscheidungsverfahren auf
eine Oberfläche, gewählt von einer Oberfläche der
genannten ionenleitenden Schicht (14) und einer
Oberfläche der genannten Elektrodenschicht (18), während
genannte Oberfläche eine Temperatur zwischen 260ºC
(500ºF) und 648ºC (1200ºF) hat.
2. Verfahren zur Hildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Temperatur der genannten Oberfläche zwischen
ungefähr 371ºC (700ºF) und 593ºC (1100ºF) liegt.
3. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß das Metalloxid der genannten elektrochromen
Schicht gewählt wird von Wolframoxid, Molybdänoxid,
Kupferoxid, Nickeloxid, Kobaltoxid und Gemischen
davon.
4. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die genannte eine
Elektrodenschicht und genannte andere Elektrodenschicht einzeln
aus Elektrodenmaterial ausgewählt werden, das im
wesentlichen aus dotiertem oder nicht dotiertem (a)
Zinnoxid, (b) Indiumoxid, (c) Indiumzinnoxid, (d)
Zinkoxid und (e) jeglichem Gemisch davon besteht.
5. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach sämtlichen der oben angeführten
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die ionenenleitende
Schicht aus einem Material ausgewählt wird, welches
Alkalimetallverbindungen enthält.
6. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
genannte Alkalimetallverbindungen ausgewählt werden
aus Verbindungen die Nitrate und Chloride der
Alkalimetalle beinhalten.
7. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach sämtlichen der oben angeführten
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das genannte
Metalloxid durch pyrolytische Aufbringung eines Gemisches,
das aus einem Pulvergemisch, welches eine
Metallverbindung mit variabler Oxydationszahl enthält und einem
flüssigen Gemisch, welches eine Metallverbindung mit
variabler Oxydationszahl enthält ausgewählt wird.
8. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
genanntes Pulvergemisch oder genanntes flüssiges
Gemisch außerdem ein Reduktionsmittel enthält.
9. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Trägergas ein Gas enthält, ausgewählt aus Inertgas
und Reduktionsgas, das als Träger für genanntes
Pulvergemisch des genannten Lösungsgemisches eingesetzt
wird.
10. Verfahren zur Bildung einer elektrochromen
Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß
während der pyrolytischen Aufbringung der genannten
elektrochromen Schicht, die Umgebung nahe der
Oberfläche der genannten Elektrode oder des ionenleitenden
Materials, auf dem besagte elektrochrome Schicht
aufgebracht wird, ein Inertgas enthält.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/253,656 US4960324A (en) | 1988-10-05 | 1988-10-05 | Electrochromic, oxygen deficient metal oxide films provided by pyrolytic deposition |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE68908326D1 DE68908326D1 (de) | 1993-09-16 |
DE68908326T2 true DE68908326T2 (de) | 1993-12-09 |
Family
ID=22961168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE89309568T Expired - Lifetime DE68908326T2 (de) | 1988-10-05 | 1989-09-20 | Verfahren zum Herstellen elektrochromer Vorrichtungen. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4960324A (de) |
EP (1) | EP0363044B1 (de) |
CA (1) | CA1318386C (de) |
DE (1) | DE68908326T2 (de) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5253101A (en) * | 1987-12-28 | 1993-10-12 | Ford Motor Company | Electrochromic material and method of making an electrochromic material |
US5130841A (en) * | 1988-04-11 | 1992-07-14 | Ford Motor Company | Method of making an electrochromic material and new electrochromic material |
US5016991A (en) * | 1989-03-27 | 1991-05-21 | Ford Motor Company | Flexible, solid electrolyte useful in electrochromic devices |
US5071233A (en) * | 1990-10-29 | 1991-12-10 | General Motors Corporation | Electrochromic device with oxymethylene-polyoxyethylene electrolyte |
US5185182A (en) * | 1990-12-10 | 1993-02-09 | Ford Motor Company | Method for inhibiting significant oxidation of a film on a substance during heating |
US5293546A (en) * | 1991-04-17 | 1994-03-08 | Martin Marietta Corporation | Oxide coated metal grid electrode structure in display devices |
US5268208A (en) * | 1991-07-01 | 1993-12-07 | Ford Motor Company | Plasma enhanced chemical vapor deposition of oxide film stack |
US5213842A (en) * | 1991-07-18 | 1993-05-25 | Ford Motor Company | Method of improving the pyrolytic deposition rate of copper oxide film on a glass surface |
EP0526995A3 (en) * | 1991-07-18 | 1993-12-15 | Ford Motor Co | An electrochromic material |
US6573982B1 (en) * | 1991-09-18 | 2003-06-03 | Raytheon Company | Method and arrangement for compensating for frequency jitter in a laser radar system by utilizing double-sideband chirped modulator/demodulator system |
WO1993021557A1 (en) * | 1992-04-10 | 1993-10-28 | Sun Active Glass Electrochromics, Inc. | Electrochromic structures and methods |
US5404244A (en) * | 1992-04-10 | 1995-04-04 | Sun Active Glass Electrochromics, Inc. | Electrochromic structures and methods |
WO1994016356A1 (en) * | 1993-01-05 | 1994-07-21 | Martin Marietta Corporation | Improved electrode for display devices |
US5326545A (en) * | 1993-03-30 | 1994-07-05 | Valence Technology, Inc. | Method of making lithium battery electrode compositions |
FR2709307B1 (fr) * | 1993-08-25 | 1996-01-26 | Toyoda Automatic Loom Works | Composition de couche colorante pour un dispositif de formation de couleurs et procédé de fabrication d'un dispositif de formation de couleurs en utilisant la composition. |
CA2172266A1 (en) * | 1993-09-27 | 1995-04-06 | Denis G. Fauteux | Small particle electrodes by aerosol process |
US5729379A (en) * | 1994-10-26 | 1998-03-17 | Donnelly Corporation | Electrochromic devices |
ATE237827T1 (de) * | 1995-05-25 | 2003-05-15 | Isoclima Spa | Monolithisches elektrochromes mehrschicht- verbundsystem mit inneren pufferschichten |
WO1998048323A1 (en) * | 1997-04-18 | 1998-10-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Electrochromic element, a display device provided with same and a method of manufacturing an electrochromic layer |
US6200674B1 (en) | 1998-03-13 | 2001-03-13 | Nanogram Corporation | Tin oxide particles |
US6040939A (en) * | 1998-06-16 | 2000-03-21 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Anti-solar and low emissivity functioning multi-layer coatings on transparent substrates |
US6355300B1 (en) * | 1998-12-07 | 2002-03-12 | Seagate Technology Llc | Disc lubrication for the load/unload head disc interface |
US6805960B1 (en) | 1999-06-08 | 2004-10-19 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari | Thermostable glazing |
US6647166B2 (en) * | 2000-08-17 | 2003-11-11 | The Regents Of The University Of California | Electrochromic materials, devices and process of making |
US7042615B2 (en) * | 2002-05-17 | 2006-05-09 | The Regents Of The University Of California | Electrochromic devices based on lithium insertion |
KR100546324B1 (ko) * | 2003-04-22 | 2006-01-26 | 삼성전자주식회사 | Ald에 의한 금속 산화물 박막 형성 방법, 란탄 산화막 형성 방법 및 반도체 소자의 고유전막 형성 방법 |
US7372610B2 (en) | 2005-02-23 | 2008-05-13 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
US7593154B2 (en) * | 2005-10-11 | 2009-09-22 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices having improved ion conducting layers |
US9782949B2 (en) | 2008-05-30 | 2017-10-10 | Corning Incorporated | Glass laminated articles and layered articles |
US7715082B2 (en) * | 2008-06-30 | 2010-05-11 | Soladigm, Inc. | Electrochromic devices based on lithium insertion |
US8054669B2 (en) * | 2008-08-12 | 2011-11-08 | International Business Machines Corporation | Non-volatile programmable optical element employing F-centers |
US8432603B2 (en) | 2009-03-31 | 2013-04-30 | View, Inc. | Electrochromic devices |
KR101597764B1 (ko) * | 2009-07-02 | 2016-02-25 | 삼성전자 주식회사 | 전기 변색 물질 및 이를 포함하는 전기 변색 소자 |
FR2948356B1 (fr) | 2009-07-22 | 2011-08-19 | Saint Gobain | Dispositif electrochrome |
KR20220120709A (ko) | 2011-12-12 | 2022-08-30 | 뷰, 인크. | 박막 디바이스 및 제조 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU548136A1 (ru) * | 1975-12-22 | 1978-08-30 | Латвийский Государственный Университет Им.Петра Стучки | Способ изготовлени твердотельного электрохромного устройствп |
FR2344619A1 (fr) * | 1976-03-19 | 1977-10-14 | Anvar | Materiau electrochrome et photochrome, son procede de fabrication et dispositif d'affichage mettant en oeuvre ledit materiau |
JPS5814652B2 (ja) * | 1977-02-17 | 1983-03-22 | シャープ株式会社 | エレクトロクロミツク表示装置 |
DE2828332C3 (de) * | 1978-06-28 | 1981-07-09 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz | Elektrochrome Schichten mit erhöhter Kristallisationsbeständigkeit |
US4233339A (en) * | 1978-10-23 | 1980-11-11 | Timex Corporation | Method for making electrochromic films having improved etch resistance |
JPS58209721A (ja) * | 1982-06-01 | 1983-12-06 | Asahi Glass Co Ltd | エレクトロクロミツク表示体 |
JPS6051820A (ja) * | 1983-09-01 | 1985-03-23 | Fujitsu Ltd | エレクトロクロミック表示素子 |
US4889414A (en) * | 1984-08-21 | 1989-12-26 | Eic Laboratories, Inc. | Light modulating device |
US4571350A (en) * | 1984-09-24 | 1986-02-18 | Corning Glass Works | Method for depositing thin, transparent metal oxide films |
JPS62204236A (ja) * | 1986-03-04 | 1987-09-08 | Hitachi Maxell Ltd | エレクトロクロミツク表示素子の製造方法 |
FR2601150B1 (fr) * | 1986-07-04 | 1991-05-31 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage a transmission variable du type electrochrome |
US4790636A (en) * | 1986-12-18 | 1988-12-13 | Ford Motor Company | Method of forming a counter electrode for an electrochromic optical shutter |
US4805996A (en) * | 1986-12-18 | 1989-02-21 | Ford Motor Company | Electrochromic optical shutter |
-
1988
- 1988-10-05 US US07/253,656 patent/US4960324A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-08-04 CA CA000607601A patent/CA1318386C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-20 DE DE89309568T patent/DE68908326T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-20 EP EP89309568A patent/EP0363044B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0363044A1 (de) | 1990-04-11 |
DE68908326D1 (de) | 1993-09-16 |
EP0363044B1 (de) | 1993-08-11 |
CA1318386C (en) | 1993-05-25 |
US4960324A (en) | 1990-10-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE68908326T2 (de) | Verfahren zum Herstellen elektrochromer Vorrichtungen. | |
DE68907843T2 (de) | Elektrochrome Vorrichtungen mit einem Gradienten der Farbintensitäten. | |
DE69738099T2 (de) | Elektrochemische Vorrichtung | |
DE3851011T2 (de) | Elektrochromes Fenster mit einer als Metallgitter ausgebildeten Gegenelektrode. | |
DE3008768C2 (de) | Elektrochromer Spiegel | |
DE3514281C2 (de) | Elektrochrome Vorrichtung | |
DE69333252T2 (de) | Elektrochrome vorrichtung | |
DE69012902T2 (de) | Elektrochrome Verglasung. | |
DE3614547C2 (de) | ||
DE3784536T2 (de) | Elektrochromer spiegel. | |
DE69830566T2 (de) | Elektrochromes system | |
DE2433044C2 (de) | Steuerbare elektrochrome Anzeigevorrichtung mit nichtpolarisierbarer Elektrode | |
DE4111944C2 (de) | ||
DE3900244A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines elektrochromen bauelements | |
DE2600637C2 (de) | Elektrochrome Anzeigevorrichtung | |
EP0984318A2 (de) | Verbundglasscheibe mit elektrisch steuerbarem Reflexionsgrad | |
DE68918063T2 (de) | Gegen-Elektrode für elektrochrome Vorrichtungen. | |
DE2924898A1 (de) | Gegenelektrode fuer eine elektrochrome einrichtung | |
DE19816352B4 (de) | Elektrochromes Schichtsystem, insbesondere für Kraftfahrzeugspiegel | |
DE68907774T2 (de) | Elektrochromes fensterglas mit variabler transmission. | |
DE2846101A1 (de) | Elektrochrome vorrichtung und verfahren zu ihrer herstellung | |
EP1739476A1 (de) | Elektrochromes Element | |
DE2741440A1 (de) | Elektrochromatische anzeigevorrichtung | |
DE3643691C1 (de) | Thermalkontrollschicht | |
DE2827532A1 (de) | Elektro-optische anzeigevorrichtung mit einem glasartigen festen ionenleiter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8330 | Complete renunciation |