DE602005005831T2

DE602005005831T2 - Offsetdruckplattenvorläufer

Info

Publication number: DE602005005831T2
Application number: DE602005005831T
Authority: DE
Inventors: Yasuhiko Kojima
Original assignee: Eastman Kodak Co
Current assignee: Eastman Kodak Co
Priority date: 2004-08-23
Filing date: 2005-08-17
Publication date: 2009-05-07
Anticipated expiration: 2025-08-18
Also published as: US7670753B2; WO2006023667A1; CN100585495C; JP4499507B2; EP1782127B1; US20080261146A1; JP2006058796A; CN101027611A; DE602005005831D1; EP1782127A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Offsetdruckplattenvorläufer und insbesondere einen negativ oder positiv arbeitenden Offsetdruckplattenvorläufer mit großem Entwicklungsspielraum, der zudem keine Flecken im nicht bildtragenden Bereich erzeugt.
Im Zuge der Fortschritte der Computerbildverarbeitungstechniken ist in jüngster Zeit ein Verfahren zum direkten Schreiben von Bildern auf eine lichtempfindliche Schicht durch Lichtstrahlung in Abhängigkeit von digitalen Signalen entwickelt worden, und es wurde großes Interesse an einem Computer-to-Plate-System (CTP) bekundet, in dem Bilder direkt auf einer lichtempfindlichen Offsetdruckplatte ausgebildet werden, ohne diese auf einem Silberhalogenidmaskierfilm auszugeben, indem das Verfahren in einem Offsetdruckplattenvorläufer verwendet wird. Das CTP-System, das einen Hochleistungslaser mit einer maximalen Stärke innerhalb des Nahinfrarot- oder des Infrarotbereichs als Lichtquelle für die Lichtstrahlung nutzt, hat folgende Vorteile: Bilder mit hoher Auflösung können durch Belichtung in kurzer Zeit erzeugt und die in dem System verwendete lichtempfindliche Offsetdruckplatte kann in einem Tageslichtraum verarbeitet werden. Was Festkörper- und Halbleiterlaser angeht, die Infrarotstrahlen mit einer Wellenlänge von 706 bis 1200 nm abzustrahlen vermögen, sind portable Hochleistungslaser ohne Weiteres verfügbar.
Ein positiv arbeitendes, lichtempfindliches Offsetdruckplatten material für ein CTP-System, beispielsweise ein Druckplattenmaterial, das durch Hinzufügen eines fotothermischen Umwandlungsmaterials und einer Chinondiazidverbindung zu einem alkalilöslichen Harz erzeugt wird, ist in der Technik bekannt. In der Bildfläche der positiv arbeitenden Offsetdruckplatte dient die Chinondiazidverbindung als Lösungsinhibitor, der im Wesentlichen die Alkalilöslichkeit des alkalilöslichen Harzes herabsetzt In dem nicht bildtragenden Bereich wird die Chinondiazidverbindung durch Wärme zersetzt und verliert dadurch ihre Lösungsinhibitorfunktion, wodurch das alkalilösliche Harz von einem Alkalientwickler entfernt wird, um ein Bild auszubilden.
Als eine negativ arbeitende, lichtempfindliche Offsetdruckplatte für ein CTP-System ist eine Druckplatte bekannt, in der durch Einbringen einer Substanz in eine lichtempfindliche Schicht, die eine Säure durch Licht- oder Wärmeeinwirkung erzeugt, eine Kondensationsvernetzungsreaktion durch Wärmebehandlung nach Belichtung bewirkt wird, wobei die bei Belichtung erzeugte Säure als Katalysator dient, und bei der die lichtempfindliche Schicht des belichteten Bereichs zur Ausbildung eines Bildes gehärtet wird. Weiterhin ist eine Druckplatte bekannt, in der durch Einbringen einer Substanz in eine lichtempfindliche Schicht, die ein Radikal durch Licht- oder Wärmeeinwirkung erzeugt, eine Polymerisationsreaktion durch Verwendung der Säure, die bei Belichtung erzeugt wird, als Katalysator bewirkt wird, und bei der die lichtempfindliche Schicht des belichteten Teils zur Ausbildung eines Bildes gehärtet wird.
In Bezug auf den in einem derartigen Offsetdruckplattenvorläufer verwendeten Träger wurden umfangreiche Forschungen durchgeführt, um die Oberfläche des Trägers hydrophil zu machen und somit Flecken in den nicht bildtragenden Bereichen zu verhindern. Bei Verwendung eines Metallträgers als Substrat, wie z. B. einer Aluminiumplatte, werden verschiedene Techniken, wie z. B. die Anodisierung des Aluminiumsubstrats oder die Silicatbehandlung eines anodisierten Aluminiumsubstrats zur weiteren Verbesserung der Hydrophilie beschrieben.
Allerdings sind verschiedene Behandlungen zur Verbesserung der Hydrophilie nicht immer der Affinität der lichtempfindlichen Schicht dienlich. In einigen Fällen trat zudem das Problem auf, dass die Haftung zwischen dem Träger und der darauf ausgebildeten lichtempfindlichen Schicht beeinträchtigt wird, so dass sich die lichtempfindliche Schicht unter erschwerten Druckbedingungen ablöst und keine ausreichende Druckhaltbarkeit erzielt werden kann.
Es wurde daher ein Verfahren vorgeschlagen, in dem verschiedene Substratschichten zwischen dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht ausgebildet werden, um die Haftung zwischen der hydrophilisierten Trägerfläche und der lichtempfindlichen Schicht zu verbessern. Wenn ein Material mit einer Funktionsgruppe, die eine sehr gute Affinität gegenüber einem Harzmaterial hat, die lichtempfindliche Schicht oder die Trägeroberfläche bildet, als Substratschicht verwendet wird, wird die Haftung in dem Bildbereich verbessert und es kann eine ausreichende Druckhaltbarkeit erzielt werden.
In dem nicht bildtragenden Bereich wird die lichtempfindliche Schicht bei Entwicklung allerdings nicht vollständig entfernt und verbleibt auf der Trägeroberfläche, wodurch das Problem auftritt, dass die Haftung der Tinte auf der verbleibenden Schicht Flecken in dem nicht bildtragenden Bereich verursacht. Es besteht daher Bedarf nach Entwicklung eines Offsetdruckplattenvorläufers, der eine sehr gute Oberflächenhydrophilie aufweist und zudem sowohl eine sehr gute Haftung auf einer lichtempfindlichen Schicht in dem bildtragenden Bereich als auch eine sehr gute Entfernbarkeit der lichtempfindlichen Schicht in dem nicht bildtragenden Bereich aufweist.
Als Offsetdruckplattenvorläufer wird ein Offsetdruckplattenvorläufer vorgeschlagen, der mit einer Zwischenschicht aus einem Polymer versehen ist, das ein Monomer mit einer Säuregruppe und ein Monomer mit einer Oniumgruppe enthält (siehe Patentdokument 1). Dieser Offsetdruckplattenvorläufer verbessert die Haftung eines Trägers und einer lichtempfindlichen Schicht, wodurch die Druckhaltbarkeit weiter verbessert und die Erzeugung von Flecken in dem nicht bildtragenden Bereich unterdrückt wird. Es ist allerdings wünschenswert, die Erzeugung von Flecken in dem nicht bildtragenden Bereich weiter zu reduzieren und den Entwicklungsspielraum zu verbessern.

[Patentdokument 1] Japanese Unexamined Patent Publication (ungeprüfte japanische Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2000-108538 .

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Offsetdruckplattenvorläufer bereitzustellen, der keine Flecken im nicht bildtragenden Bereich und zudem einen sehr guten Entwicklungsspielraum aufweist.
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung wird mit einem Offsetdruckplattenvorläufer gelöst, der einen Träger und eine lichtempfindliche Schicht umfasst, wobei der Offsetdruckplattenvorläufer zudem eine Substratschicht umfasst, die ein Maleinsäure-(Co)polymer enthält, in dem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, die zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Träger angeordnet ist.
Das Maleinsäure-(Co)polymer, in welchem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, enthält vorzugsweise eine Einheit der folgenden Formel: Chemische Formel 1
wobei
Y¹ für eine Oniumgruppe der Formel 1 steht: Chemische Formel 2
wobei
R¹ und R² jeweils unabhängig für eine C₁-C₄ Alkylgruppe stehen;
R³ für ein Wasserstoffatom oder eine C₁-C₄ Alkylgruppe steht;
X^– für ein Gegenanion steht; und
Z für eine zweiwertige organische Gruppe steht, und
Y² für ein Wasserstoffatom oder eine Oniumgruppe der Formel 1) steht.
Das Maleinsäure-(Co)polymer, in dem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, wird vorzugsweise hergestellt in einem ersten Schritt des Reagierens eines Malein-Anhydrid-(Co)polymers mit einem N,N-dialkylamingruppenhaltigen Amin zur Erzeugung eines Maleinsäure-(Co)polymers, und einem zweiten Schritt des Reagierens des Maleinsäure-(Co)polymers mit einem Alkylhalogenid, einem Alkylsulfonatester oder einer Säureverbindung. Der erste und zweite Schritt können nacheinander oder gleichzeitig in demselben Behälter ausgeführt werden. Die ein Amin enthaltende N,N-Dialkylamingruppe ist vorzugsweise N,N-di C1-C4 Alkylamin C1-C4 Alkylamin.
Das Maleinanhydrid-(Co)polymer ist vorzugsweise ein Copolymer, erzeugt durch Copolymerisieren von Maleinanhydrid mit mindestens einem vinylbasierten Monomer, ausgewählt aus der Gruppe, die aus Ethylen, Propylen, Styrol, α-Methylstyrol und Acrylnitril besteht.
Erfindungsgemäß kann ein Offsetdruckplattenvorläufer bereitgestellt werden, der eine Druckplatte durch Exposition anhand digitaler Signale direkt herzustellen vermag, wodurch in dem nicht bildtragenden Bereich keine Flecken erzeugt werden, und welcher zudem einen sehr guten Entwicklungsspielraum aufweist.
Der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer umfasst einen Träger und eine lichtempfindliche Schicht, wobei der Offsetdruckplattenvorläufer zudem eine Substratschicht umfasst, die ein Maleinsäure-(Co)polymer enthält, in dem mindestens ein Wasser stoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, die zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Träger angeordnet ist. Der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer wird nachfolgend detaillierter beschrieben.
Substratschicht
Die Substratschicht des Offsetdruckplattenvorläufers der vorliegenden Erfindung ist ein kennzeichnendes Merkmal der vorliegenden Erfindung und nicht in bestimmter Weise eingeschränkt, insofern sie ein Maleinsäure-(Co)polymer enthält, in dem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist. Der Anteil des Copolymers in der Substratschicht beträgt vorzugsweise 50 Gew.-% oder mehr und vorzugsweise 70 Gew.-% oder mehr und besser 90 Gew.-% oder mehr und am besten 100 Gew.-%.
Die Oniumgruppe ist vorzugsweise eine Oniumgruppe, in der ein Atom mit einer positiven Ladung in der Oniumgruppe ausgewählt ist aus einem Stickstoffatom, einem Phosphoratom und einem Schwefelatom, und sie ist vorzugsweise eine Oniumgruppe, in der ein Atom mit einer positiven Ladung ein Stickstoffatom ist.
Das Maleinsäure-(Co)polymer, in dem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, hat eine Struktur, bei der eine Carboxylgruppe und eine Carbamoylgruppe an zwei benachbarte Atome in der Hauptkette gebunden sind, und das Atom mit positiver Ladung in der Oniumgruppe kann direkt an ein Stickstoffatom gebunden sein, das aus der Carbamoylgruppe besteht, oder es kann indirekt über eine zweiwertige organische Gruppe gebunden sein.
Das Maleinsäure-(Co)polymer, in welchem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, enthält vorzugsweise eine Einheit der folgenden allgemeinen Formel: Chemische Formel 3
wobei
Y¹ für eine Oniumgruppe der Formel 1 steht: Chemische Formel 4
worin,
R¹ und R² jeweils unabhängig für eine C₁-C₄ Alkylgruppe stehen;
R³ für ein Wasserstoffatom oder eine C₁-C₄ Alkylgruppe steht;
X^– für ein Gegenanion steht; und
Z für eine zweiwertige organische Gruppe steht, und
Y² für ein Wasserstoffatom oder eine Oniumgruppe der Formel (1) steht. Die Zahl der Grundeinheiten liegt normalerweise im Bereich von 1 bis 1.000.000.
Beispiele zweiwertiger organischer Gruppen sind eine aliphatische Gruppe, eine aromatische Gruppe, eine alizyklische Gruppe, eine heterozyklische Gruppe und eine aroma-aliphatische Gruppe, wobei eine aliphatische Gruppe bevorzugt wird. Die aliphatische Gruppe wird vorzugsweise eine Alkylengruppe, und die Alkylengruppe ist vorzugsweise eine C₁-C₁₀ Alkylengruppe, besser eine C₁-C₅ Alkylengruppe und insbesondere eine C₁-C₄ Alkylengruppe. Falls erforderlich, kann die Alkylengruppe durch ein oder mehrere Halogenatome substituiert werden, wie Fluor-, Chlor-, Brom- und Iodatome, und ein oder mehrere Substituenten, wie eine C₁-C₄ Alkylguppe, eine Amingruppe, eine mono-C₁-C₄-alkylsubstituierte Amingruppe und eine di-C₁-C₄-alkylsubstituierte Amingruppe.
Das Maleinsäure-(Co)polymer, in dem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, wird vorzugsweise, hergestellt durch beispielsweise aufeinanderfolgendes oder gleichzeitiges Ausführen des ersten Schritts des Reagierens eines Malein-Anhydrid-(Co)polymers mit einem N,N-dialkylamingruppenhaltigen Amin zur Erzeugung eines Maleinsäure-(Co)polymers, und des zweiten Schritts des Reagierens des Maleinsäure-(Co)polymers mit einem Alkylhalogenid, einem Alkylsulfonatester oder einer Säureverbindung in demselben Behälter.
In dem ersten Schritt wird ein Malein-Anhydrid-(Co)polymer, in dem eine Carboxylgruppe und eine N-substituierte Carbamoylgruppe an zwei benachbarte Kohlenstoffatome in der Hauptkette gebunden sind, von der durch folgende Formel dargestellten Reaktion erzeugt: Chemische Formel 5
worin R¹, R² und Z wie zuvor definiert sind. Die Reaktionstemperatur des ersten Schritts liegt zwischen 20 und 150°C, vorzugsweise zwischen 40 und 100°C und am besten zwischen 60 und 80°C. Das Reaktionslösungsmittel ist nicht vorzugsweise ein wässriges Lösungsmittel, wie Wasser, und ist vorzugsweise ein organisches Lösungsmittel, wie Acetamid, Dimethylacetamid oder Diethylacetamid. Das resultierende Maleinsäure-(Co)polymer ist in Wasser oder in einem organischen Lösungsmittel, wie Ethylacetat, etwas unlöslich.
In dem zweiten Schritt, wenn ein Alkylhalogenid verwendet wird, wird eine N-substituierte Carbamoylgruppe in eine N-oniumsubstituierte Carbamoylgruppe durch die in folgender Formel dargestellte Reaktion umgewandelt: Chemische Formel 6
worin R¹, R², R³, X und Z wie zuvor definiert sind. Die Reaktionstemperatur des zweiten Schritts liegt zwischen 20 und 150°C, vorzugsweise zwischen 60 und 120°C und am besten zwischen 80 und 110°C. Das Reaktionslösungsmittel ist vorzugsweise ein organisches Lösungsmittel, wie Acetamid, Dimethylacetamid oder Diethylacetamid. Das Malein-Anhydrid-(Co)polymer, in dem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, das durch diese Reaktion erzeugt wird, ist in einem organischen Lösungsmittel, wie Ethylacetat, etwas löslich, aber in Wasser löslich.
Als Amin enthaltende N,N-Dialkylamingruppe ist vorzugsweise N,N-di C₁-C₄ Alkylamin C₁-C₄ Alkylamin verwendbar. Als N,N-di C₁-C₄ Alkylamin C₁-C₄ Alkylamin ist beispielsweise N,N-Dimethylaminmethylamin, N,N-Dimethylaminthylamin, N,N-Dimethylaminpropylamin, N,N-Dimethylaminbutylamin, N,N-Diethylaminmethylamin, N,N-Diethylaminthylamin, N,N-Diethylaminpropylamin, N,N-Di-ethylaminbutylamin, N,N-Dipropylaminmethylamin, N,N-Dipropylaminthylamin, N,N-Dipropylaminpropylamin, N,N-Dipropylaminbutylamin, N,N-Dibutylaminmethylamin, N,N-Dibutylaminthylamin, N,N-Dibutylaminpropylamin, N,N-Dibutylaminbutylamin, N,N-Methylethylaminmethylamin, N,N-Methylpropylaminmethylamin, N,N-Methylbutylaminmethylamin, N,N-Ethylpropylaminmethylamin, N,N-Ethylbutylaminmethylamin, N,N-Propylbutylaminmethylamin, N,N-Methylethylaminthylamin, N,N-Methylpropylaminthylamin, N,N-Methylbutylaminthylamin, N,N-Ethylpropylaminthylamin, N,N-Ethylbutylaminthylamin, N,N-Propylbutylaminthylamin, N,N-Methylethylaminpropylamin, N,N-Methylpropylaminpropylamin, N,N-Methylbutylaminpropylamin, N,N-Ethylpropylaminpropylamin, N,N-Ethylbutylaminpropylamin, N,N-Propylbutylaminpropylamin, N,N-Methylethylaminbutylamin, N,N-Methylpropylaminbutylamin, N,N-Methylbutylaminbutylamin, N,N-Ethylpropylaminbutylamin, N,N-Ethylbutylaminbutylamin, N,N-Propylbutylaminbutylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-2-propylamin, 2-(N,N-Dimethylamin)-1-propylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-2-butylamin, 2-(N,N-Dimethylamin)-1-butyl-amin, 1-(N,N-Dimethylamin)-2-t-butylamin, 2-(N,N-Dimethylamin)-1-t-butylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-5-pentylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-6-hexylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-7-heptylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-8-octylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-9-nonyl-amin, 1-(N,N-Dimethylamin)-10-decanylamin, 1-(N,N-Dimethyl-amin)-12-dodecanylamin, 4-(N,N-Dimethylamin)-benzoamin, 4-(N,N-Dimethylamin)-benzylamin, 4-(N,N-Dimethylamin)-2-amintoluol, 6-(N,N-Dimethylamin)-2-amintoluol, 4-(N,N-Dimethyl-aminmethyl)-2,6-dimethylxylylamin, 1-(N,N-Dimethylamin)-5-aminnaphthalene, 1-(N,N-Dimethylamin)-8-aminnaphthalen, 4-Amin-4'-(N,Ndimethylamin)-stilben, 3-(N,N-Dimethylamin)-cyclohexylamin, 4-(N,N-Dimethylamin)-cyclohexylamin, 2-(N,N-Dimethylaminmethyl)-cyclopentylamin, and 3-(N,N-Dimethylaminmethyl)-cyclopentylamin.
Als Alkylhalogenid ist vorzugsweise ein C₁-C₄ Alkylhalogenid verwendbar. Beispiele dafür umfassen Methylchlorid, Ethylchlorid, Propylchlorid, Butylchlorid, Methylbromid, Ethylbromid, Propylbromid, Butylbromid, Methyliodid, Ethyliodid, Propyliodid und Butyliodid.
In dem zweiten Schritt ist ein Alkylphosphonatester oder eine Säureverbindung anstelle des Alkylhalogenids verwendbar.
Als Alkylsulfonatester ist ein Sulfonatester einer Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen verwendbar. Als Säureverbindung sind Schwefelsäure, Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure, Fluorborsäure und Alkylschwefelsäure mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen verwendbar.
Das Maleinanhydrid-(Co)polymer kann ein Homopolymer von Maleinanhydrid sein, ist aber vorzugsweise ein Copolymer von Maleinanhydrid und ein Monomer, welches mit Maleinanhydrid durch Radikale polymerisierbar ist, insbesondere mindestens ein ethylenisch ungesättigtes Monomer.
Beispiele des Monomers, das durch Radikale mit dem Maleinanhydrid polymerisierbar ist, sind:

1) (Meth)acrylamid mit einer Hydroxylgruppe, wie N-(4-Hydroxyphenyl)acrylamid oder N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamid;
2) Hydroxystyrol, wie o-, m- oder p-Hydroxystyrol, o- oder m-Brom-p-Hydroxystyrol oder o- oder m-Chlor-p-Hydroxystyrol;
3) (Meth)acrylat mit einer aromatischen Hydroxygruppe, wie o-, m- oder p-Hydroxyphenylacrylat oder Methacrylat;
4) Acrylamid, wie N-(o-Aminsulfonylphenyl)acrylamid, N-(m-Aminsulfonylphenyl)acrylamid, N-(p-Aminsulfonylphenyl)acryl-amid, N-[1-(3-Aminsulfonyl)naphthyl]aorylamid oder N-(2-Amin-sulfonylethyl)acrylamid;
5) Methacrylamid, wie N-(o-Aminsulfonylphenyl)methacrylamid, N-(m-Aminsulfonylphenyl)methacrylamid, N-(p-Aminsulfonylphenyl)methacrylamid, N-[1-(3-Aminsulfonyl)naphthyl]methacrylamid oder N-(2-Aminsulfonylethyl)methacrylamid;
6) Acrylsäureester, wie o-Aminsulfonylphenylacrylat, m-Aminsulfonylphenylacrylat, p-Aminsulfonylphenylacrylat oder 1-(3-Aminsulfonylphenylnaphthyl)acrylat;
7) Methacrylsäureester, wie o-Aminsulfonylphenylmethacrylat, m-Aminsulfonylphenylmethacrylat, p-Aminsulfonylphenylmethacrylat oder 1-(3-Aminsulfonylphenylnaphthyl)methacrylat;
8) (Meth)acrylat mit einer aliphatischen Hydroxygruppe, wie 2-Hydroxyethylacrylat oder 2-Hydroxyethylmethacrylat;
9) (substituierte) Acrylsäureester, wie Methylacrylat, Ethylacrylat, Propylacrylat, Butylacrylat, Amylacrylat, Hexylacrylat, Cyclohexylacrylat, Octylacrylat, Phenylacrylat, Benzylacrylat, 2-Chlorethylacrylat, 4-Hydroxybutylacrylat, Glycidacrylat und N-Dimethylaminethylacrylat;
10) (substituierte) Methacrylsäureester, wie Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Propylmethacrylat, Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Octylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat, 2-Chlorethylmethacrylat, 4-Hydroxybutylmethacrylat, Glycidylmethacrylat und N-Dimethylaminethylmethacrylat;
11) (Meth)acrylamid, wie Acrylamid, Methacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Methylolmethacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-Hexylacrylamid, N-Hexylmethacrylamid, N-Cyclohexylacrylamid, N-Cyclohexylmethacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Benzylmethacrylamid, N-Nitro phenylacrylamid, N-Nitrophenylmethacrylamid oder N-Ethyl-N-Phenylacrylamid und N-Ethyl-N-Phenylmethacrylamid;
12) Vinylether, wie Ethylvinylether, 2-Chlorethylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Propylvinylether, Butylvinylether, Octylvinylether oder Phenylvinylether;
13) Vinylester, wie Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylbutyrat oder Vinylbenzoat;
14) Styrolderivativ, wie Styrol, α-Methylstyrol, Methylstyrol oder Chlormethylstyrol;
15) Vinylketon, wie Methylvinylketon, Ethylvinylketon, Propylvinylketon oder Phenylvinylketon;
16) Olefin, wie Ethylen, Propylen, Isobutyren, Butadien oder Isopren;
17) N-Vinylpyrrolidon, N-Vinylcarbazol, 4-Vinylpyridin, Acrylnitril oder Methacrylnitril;
18) Lactongruppenhaltiges Monomer, wie Pantoyllacton(meth)acrylat, α-(Meth)acryloyl-γ-butyrolacton oder β-(Meth)acryloyl-γ-butyrolacton; und
19) Ethylenoxidgruppenhaltiges Monomer, wie Polyethylenglycolmono(meth)acrylat, Polypropylenglycolmono(meth)acrylat oder Methoxypolyethylenglycolmono(meth)acrylat.

Das Monomer, das durch Radikale mit Maleinanhydrid polymerisierbar ist, ist vorzugsweise Ethylen, Propylen, Styrol, α-Methyl styrol oder Acrylnitril und insbesondere vorzugsweise Styrol, α-Methylstyrol oder Acrylnitril.
Als ein Verfahren zur Herstellung eines Maleinanhydrid-(Co)polymers sind bekannte Verfahren, wie die Suspensionspolymerisation und die Lösungspolymerisation, verwendbar. Wenn das Maleinanhydrid-(Co)polymer ein Copolymer ist, kann es ein beliebiges Blockcopolymer, ein statistisches Copolymer oder ein Pfropfcopolymer sein. Ein kommerziell verfügbares Produkt ist auch als Maleinanhydrid-Copolymer verwendbar, und Beispiele des kommerziell verfügbaren Maleinanhydridcopolymers sind u. a. die RX- und GSM-Reihen des Maleinanhydridcopolymers von Gifu Shellac Mfg., Co., Ltd.
Bei Verwendung eines Copolymers von Maleinanhydrid und einem Monomer, das mit Maleinanhydrid durch Radikale polymerisierbar ist, beträgt der Gehalt des Maleinanhydrids in dem gesamten Monomer vorzugsweise 1 Mol% oder mehr, vorzugsweise 5 Mol% oder mehr, vorzugsweise 15 Mol% oder mehr, vorzugsweise 20 Mol% oder mehr, vorzugsweise 25 Mol% oder mehr, vorzugsweise 30 Mol% oder mehr, vorzugsweise 35 Mol% oder mehr, vorzugsweise 40 Mol% oder mehr, vorzugsweise 45 Mol% oder mehr, und insbesondere vorzugsweise 50 Mol% oder mehr.
Das gewichtsmittlere Molekulargewicht des Maleinsäure-(Co)polymers, in welchem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, beträgt vorzugsweise zwischen 500 und 1.000.000 und insbesondere zwischen 1.000 und 500.000.
Die Substratschicht lässt sich auf einem Träger mit verschiedenen, nachfolgend beschriebenen Verfahren auftragen. Beispiele des typischen Verfahrens zur Ausbildung der Substratschicht umfassen:

1) Ein Verfahren zum Auftragen einer Lösung, die durch Lösen eines Maleinsäure-(Co)polymers, worin mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert sind, in einem organischen Lösungsmittel, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder einer Lösungsmittelmischung daraus, oder einer Lösungsmittelmischung aus diesen organischen Lösungsmitteln und Wasser auf einem Träger hergestellt wird, gefolgt vom Trocknen zum Ausbilden einer Substratschicht, und
2) Ein Verfahren zum Tauchen eines Trägers in eine Lösung, die durch Lösen eines Maleinsäure-(Co)polymers, worin mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist, in einem organischen Lösungsmittel, wie Methanol, Ethanol oder Methylethylketon, oder einer Lösungsmittelmischung daraus, oder einer Lösungsmittelmischung aus diesen organischen Lösungsmitteln und Wasser hergestellt wird, gefolgt vom Trocknen zum Ausbilden einer Substratschicht, und

In dem Verfahren 1) ist eine (Co)polymerlösung mit einer Konzentration von 0,005 bis 10 Gew.-% anhand verschiedener Verfahren auftragbar. Das Beschichtungsverfahren kann ein beliebiges Verfahren sein, u. a. Rakelbeschichten, Schleuderbeschichten, Sprühbeschichten und Vorhangsbeschichten. In dem Verfahren (2) beträgt die Konzentration der Lösung zwischen 0,005 und 20 Gew.-% und vorzugsweise zwischen 0,01 und 10 Gew.-%, und die Tauchtemperatur beträgt zwischen 0 und 70°C und vorzugsweise zwischen 5 und 60°C.
Die Tauchzeit liegt zwischen 0,1 Sekunden und 5 Minuten und vorzugsweise zwischen 0,5 und 120 Sekunden.
Der pH-Wert der zuvor genannten Lösung ist mit einer basischen Substanz einstellbar, wie Ammoniak, Triethylamin oder Kaliumhydroxid; einer anorganischen Säure, wie Chlorwasserstoffsäure, Phosphorsäure, Schwefelsäure oder Salpetersäure; einer organischen Schwefelsäure, wie Nitrobenzolsulfonsäure oder Naphthalensulfonsäure; einer organischen Phosphonsäure, wie Phenylphosphonsäure; einer organischen Carbonsäure, wie Benzoesäure, Coumarinsäure oder Maleinsäure; und einem organischen Chlorid, wie Naphthalensulfonylchlorid oder Benzolsulfonylchlorid, sodass die Lösung innerhalb des Bereichs von pH = 0 bis 12, vorzugsweise pH = 0 bis 6, verwendbar ist. Eine Substanz, die ultraviolette Strahlung, sichtbare Strahlung oder Infrarotstrahlung absorbiert, kann der Lösung zugegeben werden, um die Tonreproduzierbarkeit der lichtempfindlichen Offsetdruckplatte zu verbessern.
In der Erfindung beträgt die Gesamtmenge der aufgetragenen Substratschicht nach Trocknen ordnungsgemäß zwischen 1 und 100 mg/m², vorzugsweise zwischen 1,5 und 70 mg/m².
Lichtempfindliche Schicht
Hinsichtlich der in der Erfindung verwendeten lichtempfindlichen Schicht gibt es keine Einschränkungen, und es sind verschiedene lichtempfindliche Schichten für Offsetdruckplattenvorläufer verwendbar. Typische Beispiele hierzu umfassen lichtempfindliche Schichten, wie lichtempfindliche Schichten und wärmeempfindliche Schichten, und bevorzugte Beispiele dazu umfassen herkömmliche positive Schichten, herkömmliche negative Schichten, Fotopolymerchichten, wärmeempfindliche, positive Schichten, wärmeempfind liche negative Schichten und unbehandelte Arten lichtempfindlicher Schichten. Diese bevorzugten lichtempfindlichen Schichten werden nachfolgend beschrieben.
Herkömmliche positive Schicht
Eine herkömmliche positive Art einer lichtempfindlichen Schicht besteht vorzugsweise aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung mit einer o-Chinondiazidverbindung und einer alkalilöslichen Polymerverbindung.
Beispiele der o-Chinonazidverbindung umfassen Ester von 1,2-Naphthochinon-2-Diazid-5-Sulfonylchlorid mit einem Phenol-/Formaldehydharz oder einem Cresol-/Formaldehydharz und Ester von 1,2-Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid mit einem Pyrogallol-/Acetonharz, wie in US-A-3,635,709 beschrieben.
Beispiele der alkalilöslichen Polymerverbindungn umfassen ein Phenol-/Formaldehydharz, ein Cresol-/Formaldehydharz, ein Phenol-/Cresol-/Formaldehyd-Copolykondensationsharz, Polyhydroxystyrol, ein N-(4-Hydroxyphenyl)methacrylamidcopolymer und ein carboxygruppenhaltiges Polymer, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 7-36184 beschrieben. Verschiedene alkalilösliche Polymerverbindungen, wie Acrylharz, das eine Phenolhydroxylgruppe enthält, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 51-34711 beschrieben, und ein Acrylharz oder Urethanharz, das eine Sulfonamidgruppe aufweist, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2-866 beschrieben, sind ebenfalls verwendbar.
Vorzugsweise werden der herkömmlichen, positiven lichtempfindlichen Schicht Verbindungen zugesetzt, wie ein Lichtempfindlichkeitseinsteller, ein Ausdruckmittel und Farbstoff, wie in Absätzen [0024] bis [0027] der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 7-92660 beschrieben 7-92660 , oder ein Tensid zur Verbesserung der Beschichtbarkeit, wie in Absatz [0031] derselben Publikation beschrieben.
Herkömmliche negative Schicht
Eine herkömmliche negative lichtempfindliche Schicht besteht vorzugsweise aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung mit einem Diazoharz und einer alkalilöslichen oder quellenden Polymerverbindung (Bindemittel).
Beispiele für das Diazoharz sind Kondensate eines aromatischen Diazoniumsalzes und einer aktiven carbonylgruppenhaltigen Verbindung, wie Formaldehyd, und in organischem Lösungsmittel lösliche anorganische Diazoharzsalze, bei denen es sich um Produkte handelt, die aus der Reaktion eines Kondensats eines p-Diazophenylamins und eines Formaldehyds mit einem Hexafluorphosphat oder einem Tetrafluorborat entstehen. Eine hochmolekulare Diazoverbindung, die mindestens 20 Mol% eines Hexamers enthält, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 59-78340 beschrieben, ist besonders zu bevorzugen.
Bevorzugte Beispiele des Bindemittels sind Copolymere, die Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure oder Maleinsäure als wesentliche Komponente enthalten. Beispiele dafür umfassen Mehrkomponenten-Copolymere, einschließlich Monomere, wie 2-Hydroxy ethyl(meth)acrylat, (Meth)acrylnitril und (Meth)acrylsäure, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 50-118802 beschrieben; und Mehrkomponenten-Copolymere, einschließlich Alkylacrylat, (Meth)acrylnitril und ungesättigte Carbonsäure, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 56-4144 beschrieben.
Vorzugsweise werden der herkömmlichen, negativen lichtempfindlichen Schicht Verbindungen zugesetzt, wie ein Ausdruckmittel und Farbstoff, ein Weichmacher, um Folien Biegsamkeit oder Abriebbeständigkeit zu verleihen, ein Entwicklungsbeschleuniger oder ein Tensid zur Verbesserung der Beschichtbarkeit, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 7-281425 beschrieben.
Fotopolymerschicht
Eine lichtempfindliche Fotopolymerschicht wird aus einer fotopolymerisierbaren lichtempfindlichen Zusammensetzung gebildet, (nachfolgend als „fotopolymerisierbare Zusammensetzung" bezeichnet) und enthält eine ethylenisch ungesättigte, bindemittelhaltige Verbindung, die additionspolymerisierbar ist (nachfolgend als „ethylenisch ungesättigte Bindung enthaltende Verbindung" bezeichnet), einen Fotopolymerisationsinitiator und ein Polymerbindemittel als wesentliche Komponenten und enthält wahlweise verschiedene Verbindungen, wie Farbmittel, Weichmacher und Thermopolymerisationsinhibitor.
Die ethylenisch ungesättigte, bindemittelhaltige Verbindung ist eine ethylenisch ungesättigten Verbindung, die additionspolymerisiert, vernetzt und durch eine Tätigkeit des Fotopolymerisationsinitiators gehärtet ist, wenn die fotopolymerisierbare Zusammensetzung mit Licht bestrahlt wird. Die ethylenisch ungesättigte Bindung enthaltende Verbindung kann willkürlich aus Verbindungen mit mindestens einer endständigen, ethylenisch ungesättigten Bindung ausgewählt werden, vorzugsweise aus zwei oder mehr endständigen ethylenisch ungesättigten Bindungen, und hat die chemische Morphologie eines Monomers, eines Prepolymers (d. h. Dimer, Trimer oder Oligomer), einer Mischung daraus oder eines Copolymers daraus oder in einer anderen chemischen Morphologie. Beispiele des Monomers umfassen ein Ester einer ungesättigten Carbonsäure (z. B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure oder Maleinsäure) mit einer aliphatischen Polyalkoholverbindung und einem Amid einer ungesättigten Carbonsäure mit einer aliphatischen Aminverbindung mit mehreren Hydroxylgruppen. Urethanbasierte, additionspolymerisierbare Verbindungen werden ebenfalls bevorzugt.
Der Fotopolymerisationsinitiator kann entsprechend aus verschiedenen Fotopolymerisationsinitiatoren und Kombinationssystemen aus zwei oder mehreren Fotopolymerisationsinitiatoren (Fotoinitiatorsysteme) ausgewählt werden, je nach Wellenlänge der verwendeten Lichtquelle. Beispielsweise werden Initiatorsysteme bevorzugt, wie sie in Absatz [0021] bis [0023] in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-22079 beschrieben werden.
Als Polymerbindemittel, werden alkaliwasserlösliche oder quellbare organische Polymere verwendet, weil das Bindemittel, das als Mittel zur Ausbildung des Films der fotopolymerisierbaren Zusammensetzung dient, die Lösung der lichtempfindlichen Schicht in einem alkalischen Entwickler bewirken muss. Als Polymere sind die in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-22079 beschriebenen geeignet. Vorzugsweise werden der fotopolymerisierbaren Zusammensetzung die Additive zugegeben (z. B. als Tenside zur Verbesserung der Beschichtbarkeit), die in den Absätzen [0079] bis [0088] in derselben Veröffentlichtung beschrieben werden.
Um die Polymerisationsinhibierung des Sauerstoffs zu verhindern, wird bevorzugt, eine sauerstoffsperrende Schutzschicht auf oder über der lichtempfindlichen Schicht anzuordnen. Beispiele des in der sauerstoffsperrenden Schutzschicht enthaltenden Polymers sind Polyvinylalkohol und Copolymere davon.
Thermische positive Schicht
Eine wärmeempfindliche Schicht der thermischen positiven Art enthält eine alkalilösliche Polymerverbindung und ein fotothermisches Umwandlungsmaterial. Bevorzugte Beispiele des alkalilöslichen Polymerverbindung umfassen Homopolymere mit einer Säuregruppe in den Polymeren, Copolymere davon und Mischungen daraus. Aus Sicht der Löslichkeit in Alkalientwickler werden insbesondere Polymerverbindungen mit einer Säuregruppe bevorzugt, wie in den folgenden Absätzen 1) oder 2) beschrieben:

1) Phenolhydroxygruppe (-Ar-OH), und
2) Sulfonamidgruppe (-SO₂NH-R)

Vor allem wird bevorzugt, dass Polymerverbindungen eine Phenolhydroxylgruppe aufweisen, und zwar unter dem Gesichtspunkt der überlegenden Bilderzeugungseigenschaften bei Belichtung mit einem Infrarotlaser. Konkrete Beispiele dazu umfassen Novolakharze, wie Phenolformaldehydharz, m-Cresolformaldehydharz, p-Cresolformaldehydharz, m-/p-gemischtes Cresolformaldehydharz und phenol/(m-, p-or m-/p-gemischtes)cresolgemischtes Formaldehydharz und Pyro gallolacetonharz. Insbesondere werden Polymere bevorzugt, wie in Absätzen [0023] bis [0042] der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-305722 und in WO 02/053627 beschrieben.
Das fotothermische Umwandlungsmaterial ermöglicht es, Belichtungsenergie in Wärme umzuwandeln und eine effiziente Interaktionsunterdrückung in dem belichteten Bereich der wärmeempfindlichen Schicht zu erzielen. Vom Standpunkt der Aufzeichnungsempfindlichkeit wird ein Pigment oder Farbstoff mit einer Lichtabsorptionswellenlänge innerhalb eines Infrarotbereichs bevorzugt, der Wellenlänge zwischen 700 und 1200 nm entspricht. Konkrete Beispiele des Farbstoffs umfassen Azofarbstoffe, Metallkomplexsalzazofarbstoffe, Pyrrozolonazofarbstoffe, Naphthochinonfarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumfarbstoffe und Metallthiolatkomplexe (z. B. einen Nickelthiolatkomplex). Besonders bevorzugt werden Cyaninfarbstoffe, beispielsweise Cyaninfarbstoffe, die durch die allgemeine Formel (I) der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-305722 beschrieben werden. Vorzugsweise wird der thermischen positiven Zusammensetzung der gleiche Empfindlichkeitseinsteller, das gleiche Ausdruckmittel, der gleiche Farbstoff, das gleiche Tensid zur Verbesserung der Anwendungsleistung und andere Verbindungen, ähnlich wie für den Fall der zuvor beschriebenen herkömmlichen positiven Schicht zugegeben. Insbesondere werden Verbindungen bevorzugt, wie sie in Absatz [0053] bis [0059] in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-305722 beschrieben werden.
Die wärmeempfindliche Schicht der thermischen positiven Art kann eine Monoschichtstruktur oder eine Zweischichtstruktur aufweisen, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 11-218914 beschrieben.
Thermische negative Schicht
Eine wärmeempfindliche Schicht der thermischen negativen Art ist eine negative wärmeempfindliche Schicht, worin die bestrahlten Bereiche bei Bestrahlung mit Infrarotlaser ausgehärtet werden, um Bildbereiche zu bilden. Ein bevorzugtes Beispiel einer solchen wärmeempfindlichen Schicht der wärmeempfindlichen negativen Art ist eine polymerisierbare Schicht (nachfolgend als "polymerisierbare Schicht" bezeichnet). Die polymerisierbare Schicht enthält (A) ein Infrarotabsorptionsmittel, (B) einen Radikalenerzeuger (Initiator für Polymerisation durch Radikale), (C) eine durch Radikale polymerisierbare Verbindung, die einer Polymerisationsreaktion aufgrund erzeugter Radikale unterzogen wird, um ausgehärtet zu werden, und (D) ein Bindemittelpolymer.
In der polymerisierbaren Schicht wird Infrarotlicht, dass das Infrarotabsorptionsmittel absorbiert, in Wärme umgewandelt, und die zu diesem Zeitpunkt erzeugte Wärme bewirkt, dass sich der Initiator für die Radikalenpolymerisation, wie z. B. ein Oniumsalz, zersetzt, um Radikale zu erzeugen. Die Verbindung zur Polymerisation durch Radikale ist aus Verbindungen ausgewählt, die eine endständige, ethylenisch ungesättigte Bindung aufweisen, und werden einer Polymerisationskettenreaktion aufgrund der erzeugten Radikale unterworfen, so dass die Verbindung aushärtet.
Das Infrarotabsorptionsmittel (A) ist beispielsweise das zuvor erwähnte fotothermische Umwandlungsmaterial, das in der zuvor genannten thermischen negativen wärmeempfindlichen Schicht vorhanden ist. Konkrete Beispiele des Cyaninfarbstoffs umfassen die in Absatz [0017] bis [0019] in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-133969 beschriebenen.
Der Radikalenerzeuger (B) ist beispielsweise ein Oniumsalz. Zu konkreten Beispielen des Oniumsalzes, das vorzugsweise verwendet wird, zählen die in Absatz [0030] bis [0033] in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-133969 beschriebenen.
Die durch Radikale polymerisierbare Verbindung (C) ist aus Verbindungen ausgewählt, die eine oder mehrere (vorzugsweise zwei oder mehr) endständige, ethylenisch ungesättigte Bindungen haben.
Das Bindepolymer (D) ist vorzugsweise ein lineares organisches Polymer und ist aus linearen organischen Polymeren ausgewählt, die in Wasser oder schwach alkalischem Wasser löslich oder quellbar sind. Unter diesen Polymeren werden (Meth)acrylharze mit einer Benzylgruppe oder einer Allylgruppe und einer Carboxylgruppe auf der Seitenkette besonders bevorzugt, weil das Harz sehr gute Eigenschaften in Bezug auf eine Ausgewogenheit zwischen Filmfestigkeit, Empfindlichkeit und Entwicklungseigenschaften aufweist.
Als durch Radikale polymerisierbare Verbindung (C) und das Bindepolymer (D) sind Materialien verwendbar, die in Absatz [0036] bis [0060] in derselben Veröffentlichung beschrieben werden. Als weitere Additive werden vorzugsweise Additive verwendet (beispielsweise ein Tensid zur Verbesserung der Beschichtbarkeit), wie sie in Absatz [0061] bis [0068] beschrieben werden.
Ein bevorzugtes Beispiel der thermischen negativen wärmeempfindlichen Schicht ist neben der polymerisierenden Schicht eine säurevernetzbare Schicht (hier als "säurevernetzbare Schicht" bezeichnet). Die säurevernetzbare Schicht enthält (E) eine Verbindung, die eine Säure aufgrund von Licht- oder Wärmeeinwirkung zu erzeugen vermag (nachfolgend als „Säuregenerator" bezeichnet), und (F) eine Verbindung, die durch die erzeugte Säure vernetzbar ist (nachfolgend als „Vernetzungsmittel" bezeichnet) und zudem (G) eine alkalilösliche Polymerverbindung, die mit dem Vernetzungsmittel in Anwesenheit der Säure zu reagieren vermag. Um die Energie eines Infrarotlasers effektiv zu nutzen, ist das Infrarotabsorptionsmittel (A) in die säurevernetzbare Schicht integriert.
Der Säuregenerator (E) kann eine Verbindung sein, die thermisch zersetzbar ist, um eine Säure zu erzeugen; Beispiele sind ein Fotoinitiator für die Fotopolymerisation, ein Fotoalterant für Farbstoffe, ein Säuregenerator in Mikroschutzlacken.
Beispiele für das Vernetzungsmittel (F) sind (i) aromatische Verbindungen, die mit einer Hydroxymethylgruppe oder einer Alkoxymethylgruppe substituiert sind, (ii) Verbindungen mit einer N-Hydroxymethyl-, N-Alkoxymethyl- oder N-Acyloxymethylgruppe und (iii) Epoxyverbindungen.
Beispiele der alkalilöslichen Polymerverbindung (G) sind Novolakharz und ein Polymer mit einer Hydroxyarylgruppe an der Seitenkette.
Prozesslose Schicht
Eine wärmeempfindliche Schicht der prozesslosen Art ist als eine Schicht klassifiziert, die ein thermoplastisches Feinpartikelpolymer, Mikrokapselpolymer oder sulfonsäureerzeugendes Polymer enthält. Die vorliegende Erfindung ist insbesondere für eine prozesslose Art von Schicht geeignet, die in einer Druckmaschine entwickelt wird.
Thermoplastische Feinpartikelpolymerschicht
In der thermoplastischen Feinpartikelpolymerschicht sind hydrophobe Feinpartikel (H) aus wärmeschmelzbarem Harz in einer hydrophilen Polymermatrix dispergiert (J). Während der Bestrahlung wird das hydrophobe Polymer in den bestrahlten Bereichen durch Wärme geschmolzen, so dass die geschmolzenen Polymerbereiche miteinander verschmelzen. Infolgedessen werden aus dem Polymer bestehende hydrophobe Teile, also Bildbereiche, ausgebildet. Die hydrophoben, wärmeschmelzbaren feinen Harzpartikel (H) (nachfolgend als „Polymerfeinpartikel" bezeichnet) werden vorzugsweise durch Wärme geschmolzen und miteinander verbunden, und die Partikel sind vorzugsweise Partikel mit hydrophilen Oberflächen und können in einer hydrophilen Komponente, wie Feuchtwasser, dispergiert sein.
Bevorzugte Beispiele der Polymerfeinpartikel sind thermoplastische Polymerfeinpartikel, beschrieben in der Forschungsveröffentlichung Nr. 33303 (Januar 1992), der ungeprüften japanischen Patenteer-öffentlichung (Kokai) Nr. 9-123387 , 9-131850 , 9-171249 und 9-171250 , EP Nr. 931,647 . Konkrete Beispiele dazu umfassen Homopolymere und Copolymere von Monomeren, wie Ethylen, Styrol, Vinylchlorid, Methylacrylat, Ethylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, Vinylidenchlorid, Acryl nitril und Vinylcarbazol sowie Mischungen daraus. Besonders bevorzugt sind Polystyrol und Polymethylmethacrylat.
Die Polymerfeinpartikel mit hydrophilen Oberflächen umfassen beispielsweise Substanzen, in denen Polymere selbst hydrophil sind, wie z. B. Substanzen, in denen die Feinpartikel, aus denen die Polymere bestehen, selbst hydrophil sind, oder Substanzen, denen die Hydrophilie verliehen wird durch Einbringen von hydrophilen Gruppen in die Hauptketten oder Seitenketten von Polymeren, und Substanzen, deren Oberflächen hydrophil gemacht werden, indem zugelassen wird, dass ein hydrophiles Polymer, ein hydrophiles Oligomer oder eine hydrophile Verbindung mit geringer Molmasse, wie Polyvinylalkohol oder Polyethylenglycol, auf den Oberflächen der Polymerfeinpartikel absorbiert wird. Als Polymerfeinpartikel werden Polymerfeinpartikel mit reaktiven funktionalen Gruppen stärker bevorzugt. Durch Dispergieren von Polymerfeinpartikeln, wie zuvor beschrieben, in der hydrophilen Polymermatrix (J) werden die Entwicklungseigenschaften in der Druckmaschine im Falle dieser Entwicklungstechnik besser, und es verbessert sich zudem die Filmfestigkeit der wärmeempfindlichen Schicht.
Mikrokapselschicht
Bevorzugte Beispiele der Mikrokapselschicht sind u. a. eine in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2000-118160 beschriebene Art und eine Mikrokapselschicht, in der eine Verbindung mit einer thermisch reaktiven funktionalen Gruppe gekapselt ist, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 2001-277740 beschrieben.
Schicht mit sulfonsäureerzeugendem Polymer
Beispiele des sulfonsäureerzeugenden Polymers sind Polymere, die auf den Seitenketten Sulfonsäureestergruppen, Disulfongruppen oder Sec- oder Tert-Sulfonamidgruppen aufweisen, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 10-282672 beschrieben.
Durch Einbringen eines hydrophilen Harzes in die prozesslose Art der wärmeempfindlichen Schicht werden die Entwicklungseigenschaften in der Druckmaschine verbessert und die Filmfestigkeit der wärmeempfindlichen Schicht wird ebenfalls verbessert. Das hydrophile Harz kann vernetzt und gehärtet werden, so dass ein Offsetdruckplattenvorläufer, für den keine Behandlung durch Entwicklung erforderlich ist, erzeugt wird.
Bevorzugte Beispiele des hydrophilen Harzes umfassen Harze mit einer hydrophilen Gruppe, wie einer Hydroxyl-, Carboxyl-, Hydroxylethyl-, Hydroxylpropyl-, Amino-, Aminoethyl-, Aminopropyl- oder Carboxylmethylgruppe und hydrophiles Sol-Gel-umwandelbares Bindemittelharz. Konkrete Beispiele des hydrophilen Harzes sind die gleichen, wie als Beispiele des hydrophilen Harzes mit der hydrophilen Polymermatrix (J) beschrieben, welche in der lichtempfindlichen Fotopolymerschicht verwendet werden. In der prozesslosen wärmeempfindlichen Schicht wird von den hydrophilen Harzen vorzugsweise Sol-Gel-umwandelbares Bindemittelharz verwendet.
Der prozesslosen wärmeempfindlichen Schicht muss ein fotothermisches Umwandlungsmaterial beigegeben werden. Das fotothermische Umwandlungsmaterial kann ein beliebiges Material sein, das Licht mit einer Wellenlänge von 700 nm oder mehr zu absorbieren vermag. Besonders bevorzugt sind dieselben Farbstoffe, die auch Infrarotstrahlung zu absorbieren vermögen, wie sie in der zuvor beschriebenen thermischen positiven Schicht Verwendung finden.
Die lichtempfindliche Schicht in der Erfindung kann bereitgestellt werden, indem auf einem Träger eine Lösung aufgebracht wird, die die Komponenten der lichtempfindlichen Schicht enthält.
Beispiele des in der Beschichtungslösung verwendeten Lösungsmittels sind u. a. Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglycolmonomethylether, 1-Methoxy-2-Propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetoamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylurea, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolaton und Toluol. Bei Verwendung einer wasserlöslichen, lichtempfindlichen Schicht sind Beispiele des Lösungsmittels wässrige Lösungsmittel, wie Wasser und Alkohole. Das Lösungsmittel ist jedoch nicht auf diese Beispiele beschränkt und kann in geeigneter Weise nach den physischen Eigenschaften der bilderzeugenden Schicht ausgewählt werden. Diese Lösungsmittel werden alleine oder in Form einer Mischung verwendet. Die Konzentration der zuvor erwähnten Komponenten (alle Feststoffinhalte, einschließlich der Additive) in dem Lösungsmittel beträgt vorzugsweise zwischen 1 und 50%, bezogen auf die Masse.
Die Aufbringungsmenge (aller Feststoffinhalte) auf den Träger, nachdem die Lösung aufgebracht und getrocknet ist, variiert je nach Verwendung. Bezüglich eines Offsetdruckplattenvorläufers beträgt die Aufbringungsmenge im Allgemeinen vorzugsweise zwischen 0,5 und 5,0 g/m². Mit kleiner werdender Aufbringungs menge steigt die scheinbare Empfindlichkeit, während die Membraneigenschaft der Aufzeichnungsschicht schlechter wird. Die auf den Träger aufgebrachte lichtempfindliche Zusammensetzung wird normalerweise bei Normaltemperatur getrocknet. Um innerhalb kurzer Zeit zu trocknen, kann die lichtempfindliche Zusammensetzung bei 30 bis 150°C für 10 Sekunden bis 10 Minuten mit einem Warmlufttrockner oder einem Infrarottrockner getrocknet werden.
Als Aufbringungsverfahren ist ein beliebiges Verfahren wählbar, u. a. Walzenbeschichten, Tauchbeschichten, Luftrakelbeschichten, Gravurstreichverfahren, Gravur-Offsetverfahren, Trichterbeschichten, Lamellenbeschichten, Draht-Rakel-Beschichten und Sprühbeschichten.
Weitere Schichten
Der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer kann nicht nur die Substratschicht und die lichtempfindliche Schicht umfassen, sondern auch andere Schichten, wie die Deckschicht und eine Rückschicht, je nach den erwünschten Eigenschaften. Bevorzugte Beispiele der Rückschicht sind Beschichtungen aus einer organischen Polymerverbindung, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 5-45885 beschrieben, und Beschichtungen aus einem Metalloxid, das durch Hydrolisieren und Polykondensieren einer organischen oder anorganischen Metallverbindung erzeugt wird, wie in der ungeprüften japanischen Patentveröffentlichung (Kokai) Nr. 6-35174 beschrieben. Unter diesen Beschichtungen wird insbesondere die Beschichtung aus dem Metallxid bevorzugt, das aus einer Alkoxylverbindung von Silicium erzeugt wird, wie Si(OCH₃)₄Si(OC₂H₅)₄ _, Si(OC₃H₇)₄ oder Si(OC₄H₉)₄, das preisgünstig und einfach erhältlich ist, weil die Beschichtung eine sehr gute Entwicklungsbeständigkeit aufweist.
Träger
Der in der vorliegenden Erfindung verwendete Träger kann beliebig aus Materialien mit den nötigen Eigenschaften, wie Festigkeit, Haltbarkeit und Biegsamkeit, gewählt werden.
Beispiele für den verwendeten Träger sind Metallplatten, wie Aluminium-, Zink-, Kupfer-, Edelstahl- und Eisenplatten, Kunststofffolien, wie Polyethylenterephthalat-, Polycarbonat-, Polyvinylacetal- und Polyethylenfolien, Verbundmetalle, die durch Vakuumaufdampfen oder Laminieren einer Metallschicht auf Papiere oder Kunststofffolien hergestellt werden, auf denen ein synthetisches Harz schmelzbeschichtet oder auf die eine synthetische Harzlösung aufgetragen wird, und Materialien, die als Träger der Druckplatten verwendet werden. Unter diesen Trägern werden Aluminium- und Verbundträger, die mit Aluminium beschichtet sind, besonders bevorzugt.
Die Oberfläche des Aluminiumträgers wird vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung unterzogen, um die Wasserbeständigkeit und die Haftung gegenüber der lichtempfindlichen Schicht zu verbessern. Beispiele einer solchen Oberflächenbehandlung sind Aufrauverfahren, wie Bürstenpolieren, Kugelpolieren, elektrolytisches Ätzen, chemisches Polieren, Flüssigkeitshonen, Sandstrahlen und eine Kombination dieser Verfahren. Unter diesen Oberflächenbehandlungstechniken wird das Aufrauen der Oberfläche mithilfe eines elektrolytischen Ätzverfahrens bevorzugt.
Als ein beim elektrolytischen Ätzen verwendetes elektrolytisches Bad kommt eine wässrige Lösung, die Säure, Alkali oder ein Salz davon enthält, oder eine wässrige Lösung, die ein organisches Lösungsmittel enthält, zum Einsatz. Von diesen wird eine Elektrolytlösung, die Chlorwasserstoffsäure, Salpetersäure oder ein Salz davon enthält, bevorzugt.
Die der Aufrauung der Oberfläche unterzogene Aluminiumplatte wird in einer wässrigen Lösung aus einer Säure oder einer Base, falls nötig, gesäubert. Der so hergestellte Aluminiumträger wird vorzugsweise einer anodischen Oxidationsbehandlung unterzogen. Eine anodische Oxidationsbehandlung mit einem Bad aus Schwefelsäure oder Phosphorsäure wird besonders bevorzugt.
Der Aluminiumträger wird vorzugsweise einer Hydrophilisierungsbehandlung unterzogen, nachdem er der Oberflächenaufraubehandlung (Aufrauen) und anodischen Oxidationsbehandlung unterzogen worden ist. Die Hydrophilisierungsbehandlung kann durch Eintauchen des Aluminiumträgers in heißes Wasser oder eine Heißwasserlösung aus einem anorganischen oder organischen Salz erfolgen, Nachverdichtungsbehandlung im Dampfbad, Silicatbehandlung (Natriumsilicat, Kaliumsilicat), Kaliumfluorzirconatbehandlung, Phosphomolybdatbehandlung, Alkyltitanatbehandlung, Polyacrylsäurebehandlung, Polyvinylsulfonsäurebehandlung, Polyvinylphosphonsäurebehandlung, Phytinsäurebehandlung, Behandlung mit einem Salz aus einer hydrophilen organischen Polymerverbindung und einem zweiwertigen Metall, Hydrophilisierungsbehandlung durch Grundieren mit einem wasserlöslichen Polymer mit einer Sulfonsäuregruppe, Farbbehandlung mit einem sauren Farbstoff und Elektroabscheidung mit Silicat.
Der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer kann wie zuvor beschrieben hergestellt werden.
Belichtung und Entwicklung
Der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer wird mit Licht bildweise gemäß den Eigenschaften der darauf angeordneten lichtempfindlichen Schichten belichtet. Konkrete Beispiele des Belichtungsverfahrens umfassen die Bestrahlung mit Licht, wie z. B. Bestrahlung mit dem Infrarotstrahl eines Infrarotlasers, Bestrahlung mit dem Ultraviolettstrahl einer Ultraviolettlampe, Bestrahlung mit sichtbarem Lichtstrahl, Elektronenstrahlbestrahlung, wie z. B. γ-Strahl-Bestrahlung, und Wärmeenergieanwendung mit einem Thermokopf, einer Wärmewalze, einer Heizzone unter Verwendung eines kontaktfreien Heizelements oder eines Warmluftstroms usw. Der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer ist als sogenannte CTP-Platte (Computer-to-Plate) verwendbar, bei der Bilder mit einem Laser abhängig von den digitalen Bildinformationen aus einem Computer direkt auf eine Platte geschrieben werden können. Es ist zudem möglich, Bilder mit einem als GLV bezeichneten Verfahren (Grating Light Valve) oder einem DMD (Digital Mirror Device) als digitales Bebilderungsmittel zu schreiben.
Als Laserlichtquelle für die Belichtung des erfindungsgemäßen Offsetdruckplattenvorläufers wird ein Hochleistungslaser mit maximaler Intensität im Nahinfrarot- oder Infrarotbereich am meisten bevorzugt. Beispiele des Hochleistungslasers mit einer maximalen Intensität im Nahinfrarot- oder Infrarotbereich sind verschiedene Laser mit einer maximalen Intensität im Nahinfrarot- oder Infrarotbereich von 760 bis 3.000 nm, beispielsweise Halbleiterlaser und YAG-Laser. Falls nötig, kann, nachdem die Bilder mit dem Laser auf die lichtempfindliche Schicht geschrieben worden sind, eine Entwicklungsbehandlung und eine Wärmebehandlung in einem Wärmeofen durchgeführt werden.
Der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer wird in eine Offsetdruckplatte umgewandelt, auf der der Bildbereich durch Schreiben von Bildern auf die lichtempfindliche Schicht mittels Laser ausgebildet ist, gefolgt von einer Entwicklungsbehandlung und dem Entfernen der nicht bildtragenden Bereiche mithilfe eines Nassverfahrens. Als Entwickler für die Entwicklungsbehandlung ist Wasser oder ein wässriger Entwickler verwendbar.
Eine wässrige Alkalilösung mit einem pH-Wert von 12 oder höher wird normalerweise als wässriger Entwickler verwendet.
Beispiele des in dem Entwickler verwendeten Alkalimittels sind u. a. anorganische Alkaliverbindungen, wie Natriumsilicat, Kaliumsilicat, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid, Natrium, Kalium- oder Ammoniumsalze der sekundären oder tertiären Phosphorsäure, Natriummetasilicat, Natriumcarbonat und Ammoniak, sowie organische alkalische Verbindungen, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamid, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Di-n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Ethylenimin und Ethylendiamin.
Der Inhalt des Alkalimittels in dem Entwickler liegt vorzugsweise im Bereich von 0,005 bis 10 Masse-%, am besten im Bereich von 0,05 bis 5 Masse-%. Der Inhalt des Alkalimittels in dem Entwickler von kleiner als 0,005 Masse-% ist nicht zu bevorzugen, weil die Entwicklung nicht ausreichend durchgeführt werden kann. Ein Inhalt von mehr als 10 Masse-% ist nicht zu bevorzugen, weil ein nachteiliger Einfluss, wie die Korrosion des Bildbereichs, bei der Entwicklung ausgeübt wird.
Dem Entwickler kann auch ein organisches Lösungsmittel zugegeben werden. Beispiele des organischen Lösungsmittels, das dem Entwickler zugegeben werden kann, sind u. a. Ethylacetat, Butylacetat, Amylacetat, Benzylacetat, Ethylenglycolmonobutylacetat, Butyllactat, Butyllevulinat, Methylethylketon, Ethylbutylketon, Methylisobutylketon, Cyclohexanon, Ethylenglycolmonobutylether, Ethylenglycolmonobenzylether, Ethylenglycolmonophenylether, Benzylalkohol, Methylphenylcarbitol, n-Amylalkohol, Methylamylalkohol, Xylen, Methylendichlorid, Ethylendichlorid und Monochlorbenzol. Wenn dem Entwickler das organische Lösungsmittel zugegeben wird, beträgt der Inhalt des organischen Lösungsmittels vorzugsweise 20 Masse-% oder weniger und am besten 10 Masse-% oder weniger.
Falls nötig, ist es zudem möglich, dem Entwickler wasserlösliche Sulfite, wie Lithiumsulfid, Natriumsulfit, Kalimsulfit und Magnesiumsulfit, zuzugeben; hydroxyaromatische Verbindungen, wie eine alkalisch lösliche Pyrazolonverbindung, eine alkalisch lösliche Thiolverbindung und Methylresorcin; Wasserweichmacher, wie Polyphosphat und Aminopolycarboxylsäuren; verschiedene Tenside, z. B. anionische, kationische, amphotere und fluorbasierende Tenside, wie Natriumisopropylnaphthalensulfonat, Natrium-n-Butylnaphthalensulfonat, Natrium-N-Methyl-N-Pentadecylaminacetat und Natriumlaurylsulfat sowie verschiedene Schaumhemmer. Der Entwickler kann zudem Farbstoffe, Weichmacher, Chelatisierungsmittel und Stabilisatoren enthalten.
Als Entwickler sind kommerziell verfügbare Entwickler für die negative oder positive PS-Platte verwendbar. Konkret ist eine Lösung als Entwickler in der vorliegenden Erfindung verwendbar, die durch 1- bis 1000-faches Verdünnen eines kommerziell erhält lichen, konzentrierten Entwicklers für negative oder positive PS-Platten hergestellt wird.
Der prozesslose, erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer kann mit Wasser nach den Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht entwickelt werden. Nachdem Bilder mit Laser auf die lichtempfindliche Schicht geschrieben und die Platte in eine Druckmaschine eingespannt worden ist, ohne sie einer herkömmlichen Entwicklungsbehandlung mit einem stark alkalischen Entwickler zu unterziehen, wird der Offsetdruckplatte auf der Druckmaschine Feuchtwasser zugeführt, wodurch die Entwicklung mit dem Feuchtwasser ermöglicht wird.
Die Temperatur des Entwicklers liegt vorzugsweise in einem Bereich von 5 bis 90°C, besser im Bereich von 10 bis 50°C. Die Eintauchzeit liegt vorzugsweise im Bereich von 1 Sekunde bis 5 Minuten. Falls notwendig, kann die Oberfläche während der Entwicklung etwas abgerieben werden.
Nach dem Abschluss der Entwicklungsbehandlung wird die Offsetdruckplatte mit Wasser gewaschen und/oder einer Behandlung mit einem wässrigen Desensibilisierungsmittel unterzogen. Beispiele des wässrigen Desensibilisierungsmittels umfassen wässrige Lösungen aus wasserlöslichen, natürlichen Polymeren, wie Gummiarabicum, Dextrin und Carboxymethylcellulose, sowie wässrige Lösungen aus wasserlöslichen synthetischen Polymeren, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon und Polyacrylsäure. Falls nötig, werden diesen wässrigen Desensibilisierungsmitteln Säuren oder Tenside zugegeben. Nach Behandeln mit dem Desensibilisierungsmittel wird die Offsetdruckplatte getrocknet und dann für das Drucken als Druckplatte verwendet.
Feste Bilder lassen sich durch Wärmebehandlung nach Entwicklung erzielen. Die Wärmebehandlung wird vorzugsweise bei einer Temperatur im Bereich von 70 bis 300°C durchgeführt. Bevorzugte Wärmezeiten variieren je nach Heiztemperatur und liegen zwischen ca. 10 Sekunden und 30 Minuten.
Wie zuvor beschrieben, ist der erfindungsgemäße Offsetdruckplattenvorläufer in der Lage, Bilder durch Abtastbelichtung anhand von digitalen Signalen aufzuzeichnen, und die aufgezeichneten Bilder können mit Wasser oder einem wässrigen Entwickler entwickelt werden. Alternativ hierzu kann das Drucken durch Einspannen der Druckplatte in einer Druckmaschine erfolgen, ohne dass die Druckplatte einer Entwicklungsbehandlung unterzogen wird.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend anhand von Beispielen beschrieben, ohne dass die vorliegende Erfindung auf den Schutzbereich der folgenden Beispiele beschränkt wäre.
Synthesebeispiel 1
Schritt 1:
In ein 200 Milliliter fassendes Reaktionsgefäß, das mit einem Rückflusskühler, einem Thermometer, einer Tropfvorrichtung und einem Rührer ausgestattet war, wurden 25,0 g eines Copolymers GSM-601 (Gifu Shellac Mfg., Co., Ltd.: Monomerverhältnis, Maleinsäureanhydrid/Styrol = 40/60, Mwt = 5.500) von Maleinsäureanhydrid und 75,0 g Dimethylacetamid eingebracht. Nach dem Erwärmen auf 80°C wurde eine Lösungsmischung aus 10,0 g N,N- Dimethylaminopropylamin und 15,0 g Dimethylacetamid in das Reaktionsgefäß zugegeben. Nach Abschluss der tropfenweisen Zugabe wurde die Innentemperatur für 30 Minuten auf 80°C gehalten, um ein Maleinsäurecopolymer zu erhalten. Nach Abschluss der Reaktion wurde eine kleine Menge einer Probe gesammelt, und die Löslichkeit in Ethylacetat oder Wasser wurde untersucht. Das Ergebnis war, dass das Maleinsäurecopolymer weder in Ethylacetat noch in Wasser gelöst wurde.
Schritt 2:
Nach Abschluss der Reaktion aus Schritt 1 wurde die Reaktionsmischung erwärmt, und eine Lösungsmischung aus 12,0 g Brompropan und 15,0 g Dimethylacetamid wurde tropfenweise bei 80°C zur Reaktionsmischung aus Schritt 1 zugegeben. Nach Abschluss der tropfenweisen Zugabe wurde die Reaktion für eine Stunde bei 110°C durchgeführt. Nach Abschluss der Reaktion wurde die Reaktionsmischung auf Raumtemperatur abgekühlt. Die Reaktionsmischung wurde in Wasser gelöst, jedoch nicht in Ethylacetat.
Schritt 3:
Die Reaktionsmischung wurde in 1 Liter Ethylacetat gegossen, um das Zielprodukt zu verfestigen und auszufällen. Die resultierende feste Masse wurde durch Filtration gesammelt und dann getrocknet, um 45,1 g (Ertrag: 96%) eines Maleinsäurecopolymers zu erhalten, in dem ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe subsituiert ist.
Synthesebeispiele 2 bis 19

In derselben Weise wie in Synthesebeispiel 1 wurden mit Onium N-substituierte Maleinsäurecopolymere, in denen ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe ersetzt ist, aus verschiedenen Maleinsäureanhydrid-Copolymeren erzeugt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 aufgeführt. Tabelle 1 Tabelle 1: Synthesebeispiel eines Maleinsäureanhydrid-Copolymers, in dem ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe substituiert ist.

		Maleinsäureanhydrid-Copolymer				Onium N-substituiertes Maleinsäure-Copolymer
		Maan	Sty	αMSty	AN	Mwt	Ertrag (%)	Löslichkeit
Synthesebeispiel 2	RV-89	25	75			6000	86	WS
Synthesebeispiel 3	RV-11	20	80			8000	70	WS/WD
Synthesebeispiel 4	RV-12	20	40		40	6000	68	WD
Synthesebeispiel 5	RV-13	20	50		30	8000	72	WS
Synthesebeispiel 6	RV-14	20	60		20	8000	70	WS
Synthesebeispiel 7	RV-11	20	80			8000	40	WS
Synthesebeispiel 8	RV-89	25	75			6000	61	WS
Synthesebeispiel 9	AAP-31	10	90			10800	33	WS
Synthesebeispiel 10	RV-32	15	55		30	8000	68	WS
Synthesebeispiel 11	RV-33	20		50	30	8000	88	WS
Synthesebeispiel 12	RV-34	15		55	30	8000	35	WS
Synthesebeispiel 13	RV-32	15	55		30	8000	60	WS
Synthesebeispiel 14	RV-32	15	55		30	8000	67	WS
Synthesebeispiel 15	RV-32	15	55		30	8000	41	WD
Synthesebeispiel 16	RV-12	20	40		40	6000	72	WD
Synthesebeispiel 17	GSM-601	40	60			5500	96	WS
Synthesebeispiel 18	GSM-10001	40	60			98000	98	WS
Synthesebeispiel 19	GSM-1001	40	60			9000	98	WS

Hinweise:

Maan

= Maleinsäureanhydrid

Sty

= Styrol

αMSty

= Alphamethylstyrol

AN

= Acrylnitril

RV-, GSM-

= Handelsbezeichnung für das von Gifu Shellac Mfg., Co., Ltd. hergestellte Maleinsäureanhydrid-Copolymer.

AAP

= In einem Labor synthetisiertes Maleinsäureanhydrid-Copolymer

WS

= Wasserlöslichkeit

WD

= Wasserdispersionsvermögen

Synthesebeispiel 20
In einen 200-ml-Behälter, der mit einem Rückflusskondensator, einem Thermometer, einer Tropfvorrichtung, einem Rührer und einem Gaseinlass ausgerüstet war, wurden 3,75 g Maleinsäureanhydrid-Monomer, 13,75 g Styrolmonomer, 7,5 g Acrylnitrilmonomer und 75,0 g Dimethylacetamid eingebracht. Nach Durchleiten von Stickstoffgas für eine Stunde und Erwärmen auf 80°C wurden 0,2 g 2,2'-Azobisisobutyronitril (AIBN) zugegeben. Während 0,2 g AIBN alle 30 Minuten zugegeben wurden, wurde die Reaktion für 3 Stunden fortgesetzt. Nach Abschluss der Reaktion wurde die Reaktionsmischung gekühlt und die Viskosität der Reaktionsmischung gemessen. Das Ergebnis war VIS A (Gardener-Viskosität: 25°C). Die Reaktionsmischung war in Ethylacetat löslich, jedoch nicht in Wasser.
Unter Beibehaltung einer Temperatur von 80°C, ohne die Reaktionsmischung aus dem Gefäß zu entnehmen, wurde eine Lösungsmischung aus 3,75 g N,N-Dimethylaminpropylamin und 15,0 g Dimethylacetamid tropfenweise zugegeben. Nach Abschluss der tropfenweisen Zugabe wurde die Reaktion für 30 Minuten bei 80°C fortgesetzt. Ein Teil der Reaktionsprobe wurde herausgenommen, und die Löslichkeit wurde untersucht. Die Probe war weder in Ethylacetat noch in Wasser löslich.
Anschließend wurde eine Lösungsmischung aus 4,5 g Bromopropan und 15 g Dimethylacetamid tropfenweise bei 80°C zugegeben. Nach Abschluss der tropfenweisen Zugabe wurde die Reaktion für eine Stunde bei 110°C durchgeführt. Die Reaktionsmischung wurde in Wasser löslich, jedoch nicht in Ethylacetat.
Nach Abschluss der Reaktion wurde die Reaktionsmischung abgekühlt und dann unter Rühren in 1 Liter Ethylacetat gegossen, um das Zielprodukt zu verfestigen und auszufällen. Der Ertrag belief sich auf 22,6 g (68%).
Wie zuvor beschrieben, ist das Maleinsäure-Copolymer, in dem ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe substituiert ist, durch fortlaufende Reagieren eines Monomers, bei dem es sich um ein Material eines Copolymers als Ausgangsmaterial handelt, ohne ein Zwischenprodukt zu entnehmen und unter Verwendung eines einzigen Gefäßes synthetisierbar.
Beispiele 1–5 und Vergleichsbeispiele 1–5
Eine wässrige Lösung von 0,5 Gew.-% des Maleinsäure-Copolymers, in dem ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe substituiert ist, wie in Synthesebeispiel 1 synthetisiert, wurde auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen, das einer Silicatbehandlung unterzogen worden war, und auf ein Aluminiumsubstrat, das einer anodischen Oxidationsbehandlung nach elektrochemischem Aufrauen unterzogen worden war, um eine Substratschicht zu bilden, worauf lichtempfindliche Schichten A–E auf beiden Substraten ausgebildet wurden (Beispiele 1–5). In derselben Weise wie in den Beispielen 1–5, mit dem Unterschied, dass keine Substratschicht gebildet wurde, wurden lichtempfindliche Schichten A–E auf beiden Substraten ausgebildet (Vergleichsbeispiele 1–5). Beispiele 1–5 und Vergleichsbeispiele 1–5 werden anschließend im Detail beschrieben.
Beispiel 1

Eine lichtempfindliche Beschichtungslösung A mit folgender Zusammensetzung wurde hergestellt. Tabelle 2 Tabelle 2: Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungslösung A

Komponenten	Menge (g)
Esterverbindung aus 1,2-Naphthochinondiazid-5-Sulfonsäurechlorid und 2,3,4-Trihydroxybenzo-phenon	0,2
Kondensationsverbindung (gewichtsmittlere Molmasse: 6.000) aus m/p-Cresol (Verhältnis m/p ist 6/4) und Formaldehyd	0,78
2-(4-Methoxynaphthyl)-4,6-Bis(trichlor-methyl)-S-Triazin	0,01
Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.)	0,01
Methylethylketon	5,00
Ethylenglycolmonomethylether	5,00

Mithilfe eines Rakelbeschichters mit Rakelnummer 12 wurde die lichtempfindliche Beschichtungslösung A jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht versehen waren, und dann bei 110°C für 3 Minuten getrocknet, um zwei Arten von positiven Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die eine Substratschicht und eine lichtempfindliche Schicht A umfassten.
Vergleichsbeispiel 1
Die lichtempfindliche Beschichtungslösung A wurde jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils keine darauf ausgebildete Substratschicht aufwiesen, und dann bei 110°C für 3 Minuten getrocknet, um zwei Arten von positiven Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die nur eine lichtempfindliche Schicht A umfassten.
In den Offsetdruckplattenvorläufern aus Beispiel 1 und dem Vergleichsbeispiel 1 betrug die Menge einer trockenen Beschichtung der lichtempfindlichen Schicht A 2,0 g/m². Eine Graustufe (Differenz der optischen Dichte: 0,15) wurde mit dem resultierenden Offsetdruckplattenvorläufer in Vakuumkontakt gebracht, und dieser anschließend aus einer Entfernung von 1 m mit 20 Zählungen unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe von 3 kW belichtet. Unter Verwendung eines Entwicklers, der hergestellt wurde, indem eine PD1 Entwicklungslösung (hergestellt von Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd.) mit Wasser 9-fach verdünnt wurde, wurde eine Entwicklungsbehandlung in einem automatischen Prozessor des Typs PD-912, hergestellt von Dainippon Screen Mfg. Co. Ltd., bei 30°C für 12 Sekunden durchgeführt, um eine Offsetdruckplatte anzufertigen.
Beispiel 2

Eine lichtempfindliche Beschichtungslösung B mit folgender Zusammensetzung wurde hergestellt. Tabelle 3 Tabelle 3: Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungslösung B

Komponenten	Menge (g)
Ethylenglycolmonomethylether	450,0
Methylethylketon	450,0
Resolharz GP 649D99 (hergestellt von der Georgia-Pacific Corporation)	35,0
Kondensat (gewichtsmittlere Molmasse: 12.000) von m-Cresol und Formaldehyd	50,0
3-Diazo-4-Methoxydiphenylamin-Trifluormethansulfonat	6,0
Cyaninfarbstoff A	6,0
Cyaninfarbstoff B	2,0
D-11 (hergestellt von PCAS Co.)	1,0
DC190 (hergestellt von Dow Corning Co.)	0,6

Cyaninfarbstoff A =

Cyaninfarbstoff B

D-11 =

Mithilfe eines Rakelbeschichters mit Rakelnummer 8 wurde die lichtempfindliche Beschichtungslösung B jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht versehen waren, und dann bei 110°C für 40 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von positiven Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die nur eine Substratschicht und eine lichtempfindliche Schicht B umfassen.
Vergleichsbeispiel 2
Die lichtempfindliche Beschichtungslösung B wurde jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils keine darauf ausgebildete Substratschicht aufwiesen, und dann bei 110°C für 40 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von positiven Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die nur eine lichtempfindliche Schicht B umfassen.
In den Offsetdruckplattenvorläufern aus Beispiel 2 und dem Vergleichsbeispiel 2 betrug die Menge einer trockenen Beschichtung der lichtempfindlichen Schicht B 1,50 g/m². Eine Graustufe (Differenz der optischen Dichte: 0,15) wurde mit dem resultierenden Offsetdruckplattenvorläufer in Vakuumkontakt gebracht, und dieser anschließend aus einer Entfernung von 1 m mit 20 Zählungen unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe von 3 kW belichtet. Unter Verwendung eines Entwicklers, der hergestellt wurde, indem eine PD1 Entwicklungslösung (hergestellt von Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd.) mit Wasser 28-fach verdünnt wurde, wurde eine Entwicklungsbehandlung in einem automatischen Prozessor des Typs PD-912, hergestellt von Dainippon Screen Mfg. Co. Ltd., bei 30°C für 12 Sekunden durchgeführt, um eine Offsetdruckplatte anzufertigen.
Beispiel 3

Eine lichtempfindliche Beschichtungslösung C mit folgender Zusammensetzung wurde hergestellt. Tabelle 4 Tabelle 4: Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungslösung C

Komponenten	Menge (g)
Methyl-N-Methacryloylcarbamatcopolymer	10,0
4-Dodecylbenzolsulfonat eines Kondensats von 4-Diazophenylamin und Paraformaldehyd	2,0
Maleinsäure	0,1
Victoria Pure Blue BOH (hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.)	0,2
Ethylenglycolmonomethylether	200

Methyl N-Methacryloylcarbamatcopolymer ist ein Harz mit einer gewichtsmittleren Molmasse von 24000 (24.000), das durch Copolymerisieren bei einer Zusammensetzung der Monomere (nach Gewicht) im Verhältnis von Methyl-N-Methacryloylcarbamat/Methylmethacrylat/Acrylnitril von 10/7/8 hergestellt wird.
Mithilfe eines Rakelbeschichters mit Rakelnummer 12 wurde die lichtempfindliche Beschichtungslösung C aus der zuvor genannten Zusammensetzung jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht versehen waren, und dann bei 110°C für 40 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von negativen Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die eine Substratschicht und eine lichtempfindliche Schicht C umfassen.
Vergleichsbeispiel 3
Die lichtempfindliche Beschichtungslösung C wurde jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils keine darauf ausgebildete Substratschicht aufwiesen, und dann bei 1ß0°C für 40 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von negativen Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die nur eine lichtempfindliche Schicht C umfassten.
In den Offsetdruckplattenvorläufern aus Beispiel 3 und dem Vergleichsbeispiel 3 betrug die Menge einer trockenen Beschichtung der lichtempfindlichen Schicht C 2,0 g/m². Eine Graustufe (Differenz der optischen Dichte: 0,15) wurde mit dem resultierenden Offsetdruckplattenvorläufer in Vakuumkontakt gebracht, und dieser anschließend aus einer Entfernung von 1 m mit 32 Zählungen unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe von 3 kW belichtet. Unter Verwendung eines Entwicklers, der hergestellt wurde, indem eine ND1 Entwicklungslösung (hergestellt von Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd.) mit Wasser 9-fach verdünnt wurde, wurde eine Entwicklungsbehandlung in einem automatischen Prozessor des Typs PD-912, hergestellt von Dainippon Screen Mfg. Co. Ltd., bei 30°C für 12 Sekunden durchgeführt, um eine Offsetdruckplatte anzufertigen.
Beispiel 4

Eine lichtempfindliche Beschichtungslösung D mit folgender Zusammensetzung wurde hergestellt. Tabelle 5 Tabelle 5: Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungslösung D

Komponenten	Menge (g)
Bindemittelharz	4,8
Oniumsalz	0,9
Dipentaerythritolhexaacrylat	3,0
Organischer Boratinitiator	0,6
Infrarotabsorbtionsmittel	0,2
DC190 (hergestellt von Dow Corning Co.)	0,06
Crystal Violet (hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.)	0,3
Ethylenglycolmonomethylether	70,0
Methylethylketon	20,0

Bindemittelharz =

Oniumsalz =

Organischer Boratinitiator =

Infrarotabsorbtionsmittel =

Mithilfe eines Rakelbeschichters mit Rakelnummer 12 wurde die lichtempfindliche Beschichtungslösung D aus der zuvor genannten Zusammensetzung jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht versehen waren, und dann bei 110°C für 30 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von Fotopolymer-Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die eine Substratschicht und eine lichtempfindliche Schicht D umfassen.
Vergleichsbeispiel 4
Die lichtempfindliche Beschichtungslösung D wurde jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils keine darauf ausgebildete Substratschicht aufwiesen, und dann bei 110°C für 30 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von Fotopolymer-Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die nur eine lichtempfindliche Schicht D umfassten.
In den Offsetdruckplattenvorläufern aus Beispiel 4 und dem Vergleichsbeispiel 4 betrug die Menge einer trockenen Beschichtung der lichtempfindlichen Schicht D 2,0 g/m². Der resultierende lichtempfindliche Offsetdruckplattenvorläufer wurde bildweise mit einem Gelichter des Typs Trendsetter 3244 (hergestellt von CREO Corp.) mit 10 W und 150 U/Min belichtet und dann mit einer Entwicklungslösung des Typs TCD-900 (hergestellt von Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd.) in einem automatischen Prozessor des Typs PD-912, hergestellt von Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd., bei 27°C für 15 Sekunden entwickelt, um eine Offsetdruckplatte anzufertigen.
Beispiel 5

Eine lichtempfindliche Beschichtungslösung E mit folgender Zusammensetzung wurde hergestellt. Tabelle 6 Tabelle 6: Zusammensetzung der lichtempfindlichen Beschichtungslösung E

Komponenten	Menge (g)
Bindemittelharz	1,0
Wässrige 18%ige Ammoniaklösung	0,5
Ethanol	2,5
Cyaninfarbstoff A	0,1
DC190 (hergestellt von Dow Corning Co.)	0,02
Crystal Violet (hergestellt von Hodogaya Chemical Co., Ltd.)	0,01
Destilliertes Wasser	9,0

Die chemische Formel 7 zeigt einen Cyaninfarbstoff A, während die chemische Formel 10 ein Bindemittelharz zeigt.
Mithilfe eines Rakelbeschichters mit Rakelnummer 12 wurde die lichtempfindliche Beschichtungslösung E aus der zuvor genannten Zusammensetzung jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht versehen waren, und dann bei 80°C für 60 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von Fotopolymer-Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die eine Substratschicht und eine lichtempfindliche Schicht E umfassen.
Vergleichsbeispiel 5
Die lichtempfindliche Beschichtungslösung E wurde jeweils auf das silicatbehandelte Aluminiumsubstrat und das anodisierte Aluminiumsubstrat aufgebracht, die jeweils keine darauf ausgebildete Substratschicht aufwiesen, und dann bei 80°C für 60 Sekunden getrocknet, um zwei Arten von Fotopolymer-Offsetdruckplattenvorläufern zu erhalten (mit verschiedenen Substraten), die nur eine lichtempfindliche Schicht E umfassten.
In den Offsetdruckplattenvorläufern aus Beispiel 5 und dem Vergleichsbeispiel 5 betrug die Menge einer trockenen Beschichtung der lichtempfindlichen Schicht E 2,0 g/m². Der resultierende lichtempfindliche Offsetdruckplattenvorläufer wurde bildweise mit einem Gelichter des Typs Trendsetter 3244 (hergestellt von CREO Corp.) mit 8,5 W und 180 U/Min belichtet und dann mit einer Entwicklungslösung des Typs TCD-500 (hergestellt von Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd.) in einem automatischen Prozessor des Typs PD-912, hergestellt von Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd., bei 27°C für 20 Sekunden entwickelt, um eine Offsetdruckplatte anzufertigen.
Die in den Beispielen 1–5 und in den Vergleichsbeispielen 1–5 angefertigten Offsetdruckplatten wurden einem Farbfleckentest unterzogen. Auf jede der resultierenden Druckplatten wurde dazu Farbe (GEOS-G, Beni, N; hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated) mit einer Walze aufgetragen, die dann 15 Minuten einwirken konnte. Nachdem die mit Farbe versehene Druckplatte leicht mit einem mit Farbe getränkten Tuch in Wasser abgerieben wurde, wurde die Farbe der nicht bildtragenden Bereiche entfernt, was auf eine sehr gute Hydrophilie der Substratschicht hinweist, sodass einwandfrei klare Bilder erzielt wurden. Bei schlechter Hydrophilie verbleibt die Farbe auf den nicht bildtragenden Bereichen, und es werden Farbflecken erzeugt. Die Ergebnisse sind wie folgt: 5: sehr gut, 4: gut, 3: zufriedenstellend, 2: nicht zufriedenstellend, 1: schlecht. Die Ergebnisse sind in Tabelle 7 aufgeführt.
In den Offsetdruckplatten mit einer Substratschicht aus den Beispielen 1–5 wurden gute Effekte im Vergleich zu den Offsetdruckplatten ohne Substratschichten aus den Vergleichsbeispielen 1–5 erzielt.
Beispiele 6, 7 und Vergleichsbeispiele 6, 7
Eine wässrige Lösung von 0,5 Gew.-% des Maleinsäure-Copolymers, in dem ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe substituiert ist, wie in Synthesebeispiel 1 synthetisiert, wurde mit einem Rakelstab Nr. 12 auf ein Aluminiumsubstrat aufgetragen, das einer Silicatbehandlung bzw. einer anodischen Oxidationsbehandlung nach elektrochemischem Aufrauen unterzogen worden war. Die Beschichtungslösung wurde bei 80°C für 60 Sekunden getrocknet, um eine Substratschicht zu bilden. Mit einem Rakelstab Nr. 12 wurde die lichtempfindliche Beschichtungslösung A auf einem Substrat aufgetragen, auf dem eine Substratschicht ausgebildet war, und dann bei 100°C für 40 Sekunden getrocknet, um die Offsetdruckplattenvorläufer aus den Beispielen 6 und 7 zu erhalten. Die Auftragsmenge betrug 1,8 g/m2.
Mit einem Rakelstab Nr. 12 wurde die lichtempfindliche Beschich tungslösung A direkt auf jeweils dem silicatbehandelten Aluminiumsubstrat und dem anodisierten Aluminiumsubstrat aufgetragen und dann bei 100°C für 40 Sekunden getrocknet, um die Offsetdruckplattenvorläufer (Vergleichsbeispiele 6 und 7) zu erhalten. Die Auftragsmenge der lichtempfindlichen Schicht in den Vergleichsbeispielen 6 und 7 betrug 1,8 g/m².
Die resultierenden Offsetdruckplattenvorläufer der Beispiele 6, 7 und der Vergleichsbeispiele 6, 7 wurden durch einen Ugura-Standardfilm mit 20 Zählungen mit einem Gelichter des Typs HIIQ-MARK II (hergestellt von Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.) belichtet und dann in einer durch Verdünnen eines PD1-Entwicklers (hergestellt von Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated) in einem Verhältnis von 1:8 hergestellten Lösung bei einer Temperatur von 30°C bei veränderlicher Entwicklungszeit entwickelt, um Druckplatten anzufertigen. Die Druckplatte wurde folgender Beurteilung unterzogen. Mit Blick auf den Bildbereich wurde eine Beurteilung auf der Grundlage eines 2%-Punktbereichs als Standard durchgeführt. Hinsichtlich des nicht bildtragenden Bereichs wurde die Beurteilung durch Messen der optischen Dichte durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 aufgeführt. Tabelle 8 Tabelle 8: Substratschichteffekt in der mit lichtempfindlicher Beschichtungslösung A beschichteten Druckplatte
Hinweise:
Das Symbol
stellt den Belichtungsspielraum dar.
Beurteilung des Bildbereichs/Beurteilung des nicht bildtragenden Bereichs

Mit Bezug auf den Bildbereich: G = gut; P (schlecht) = Wegfall von 2%-Punkten
Mit Bezug auf den nicht bildtragenden Bereich: G = optische Dichte von 0,7 oder weniger; P = optische Dichte von 0,7 oder mehr

Die Offsetdruckplattenvorläufer mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht aus den Beispielen 6 und 7 können Druckplatten erzeugen, die einen breiten Entwicklungsspielraum und einen klareren, nicht bildtragenden Bereich aufweisen. In den Offsetdruckplattenvorläufern ohne Substratschicht aus den Vergleichsbeispielen 6 und 7 hatten die resultierenden Druckplatten keinen Entwicklungsspielraum, und der nicht bildtragende Bereich wies eine hohe optische Dichte auf, weshalb während des Druckvorgangs möglicherweise Flecken auf dem Druckmaterial erzeugt werden.
Beispiele 8, 9 und Vergleichsbeispiele 8, 9
Mit einem Rakelstab Nr. 12 wurde die lichtempfindliche Beschichtungslösung E auf den Aluminiumsubstraten mit einer darauf in Beispielen 6, 7 ausgebildeten Substratschicht aufgebracht, und dann bei 80°C für 60 Sekunden getrocknet, um die Offsetdruckplattenvorläufer aus den Beispielen 8 und 9 zu erhalten. Die Auftragsmenge betrug 2,0 g/m². In ähnlicher Weise wurde mit einem Rakelstab Nr. 12 die lichtempfindliche Beschichtungslösung E direkt auf den Aluminiumsubstraten ohne eine darauf in Beispielen 6, 7 ausgebildete Substratschicht aufgebracht und dann bei 80°C für 60 Sekunden getrocknet, um die Offsetdruckplattenvorläufer aus den Beispielen 8 und 9 zu erhalten. Die Auftragsmenge betrug 2,0 g/m². Die resultierenden Offsetdruckplattenvorläufer wurden mit einem Gelichter des Typs Trendsetter 3244 (hergestellt von CREO Corp.) belichtet und dann mit einer Lösung, die durch Verdünnen eines Entwicklers des Typs TCD-500 (hergestellt von KPG Co.) in einem Verhältnis von 1:1 hergestellt wurde, bei einer Temperatur von 27°C und wechselnder Entwicklungszeit entwickelt, um Druckplatten zu erhalten. Die Druckplatte wurde folgender Beurteilung unterzogen. Mit Blick auf den Bildbereich wurde eine Beurteilung auf der Grundlage eines 1%-Punktbereichs als Standard durchgeführt. Mit Blick auf den nicht bildtragenden Bereich wurde eine Beurteilung einer optischen Dichte von 0,7 als Standard durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 4 aufgeführt. Tabelle 9 Tabelle 9: Substratschichteffekt in der mit lichtempfindlicher Beschichtungslösung E beschichteten Druckplatte
Hinweise:
Das Symbol
stellt den Belichtungsspielraum dar.
Beurteilung des Bildbereichs/Beurteilung des nicht bildtragenden Bereichs

Bei Beispiel 8 und Vergleichsbeispiel 8, wo ein silicatbehandeltes Aluminiumsubstrat verwendet wurde, betrug der Belichtungsspielraum 5 Sekunden, und die optische Dichte des nicht bildtragenden Bereichs war während der Entwicklung äquivalent. Beim Vergleich zwischen dem Offsetdruckplattenvorläufer mit einer Substratschicht und dem Offsetdruckplattenvorläufer ohne eine Substratschicht war die optimale Entwicklungszeit unterschiedlich, aber die Bewertungsergebnisse gleich.
Der Vergleich zwischen Beispiel 9 und Vergleichsbeispiel 9, bei denen ein anodisiertes Aluminiumsubstrat verwendet wurde, wie die Druckplatte mit einer Substratschicht (Beispiel 9) einen klaren nicht bildtragenden Bereich und einen Entwicklungsspielraum auf, und schnitt insgesamt im Vergleich zu der Druckplatte ohne Substratschicht (Vergleichsbeispiel 9) sehr gut ab.
Im Allgemeinen wies der Offsetdruckplattenvorläufer mit einer Substratschicht einen sehr guten Entwicklungsspielraum und einen klaren, nicht bildtragenden Bereich auf.
Beispiele 10–12, Vergleichsbeispiel 10
Der Effekt der Substratschicht des Maleinsäure-Copolymers, in dem ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe ersetzt ist, wie in den Synthesebeispielen 17, 18 und 19 erzeugt, wurde untersucht.
Eine wässrige Lösung mit 0,1 Gew.-% jedes Copolymers wurde hergestellt, auf ein nach elektrochemischer Aufrauung anodisiertes Aluminiumsubstrat mit einem Rakelstab Nr. 12 aufgetragen und dann bei 80°C für 60 Sekunden getrocknet, um eine Substratschicht zu erzeugen. Mit einem Rakelstab Nr. 12 wurde eine wärmeempfindliche Schicht für eine wärmdfreie CTP-Druckplatte auf einem Substrat mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht aufgetragen und dann bei 80°C für 60 Sekunden getrocknet, um die Offsetdruckplattenvorläufer aus den Beispielen 10 bis 12 zu erhalten. Die Auftragsmenge betrug 2,0 g/m².
In dem Vergleichsbeispiel 10 wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 10 ein Offsetdruckplattenvorläufer angefertigt, allerdings ohne Substratschicht.
Die resultierenden Offsetdruckplattenvorläufer aus den Beispielen 10 bis 12 und aus Vergleichsbeispiel 10 wurden mit einem Gelichter des Typs Trendsetter 3244 (hergestellt von CREO Corp.) belichtet und dann mit einer Lösung, die durch Verdünnen eines Entwicklers des Typs TCD-500 (hergestellt von KPG Co.) in einem Verhältnis von 1:1 hergestellt wurde, bei einer Temperatur von 27°C und wechselnder Entwicklungszeit entwickelt, um Druckplatten zu erhalten. Die Druckplatte wurde folgender Beurteilung unterzogen. Mit Blick auf den Bildbereich wurde eine Beurteilung auf der Grundlage eines 1%-Punktbereichs als Standard durchgeführt. Mit Blick auf den nicht bildtragenden Bereich wurde eine Beurteilung einer optischen Dichte von 0,7 als Standard durchgeführt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 aufgeführt. Tabelle 10 Tabelle 10: Effekt der verschiedenen Substratschichten
Hinweise:
Das Symbol
stellt den Belichtungsspielraum dar.
Beurteilung des Bildbereichs/Beurteilung des nicht bildtragenden Bereichs

Es wurde festgestellt, dass alle Offsetdruckplattenvorläufer mit einer darauf ausgebildeten Substratschicht, die durch Verwenden verschiedener Maleinsäure-Copolymere hergestellt werden, in denen ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom mit einer Oniumgruppe substituiert wurde, einen sehr guten Entwicklungsspielraum und eine sehr gute Klarheit des nicht bildtragenden Bereichs im Vergleich mit dem Offsetdruckplattenvorläufer ohne Substratschicht aufweisen.

Claims

Offsetdruckplattenvorläufer mit einem Träger und einer lichtempfindlichen Schicht, wobei der Offsetdruckplattenvorläufer eine Substratschicht zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Träger umfasst, wobei die Substratschicht dadurch gekennzeichnet ist, dass sie ein Maleinsäure-(Co)polymer enthält, in welchem mindestens ein Wasserstoffatom auf einem Stickstoffatom durch eine Oniumgruppe substituiert ist.
Offsetdruckplattenvorläufer nach Anspruch 1, worin die Oniumgruppe ein positives Stickstoff-, Phosphor- oder Schwefelatom umfasst.
Offsetdruckplattenvorläufer nach Anspruch 1 oder 2, worin das Maleinsäure-(Co)polymer eine Carboxylgruppe und eine Carbamoylgruppe umfasst, gebunden an zwei benachbarte Kohlenstoffatome in der Hauptkette.
Offsetdruckplattenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin das Maleinsäure-(Co)polymer eine Grundeinheit der folgenden chemischen Formel 1 umfasst:
worin Y1 für eine Oniumgruppe mit folgender chemischen Formel 2 steht:
worin: R1 und R2 jeweils unabhängig für eine C1-C4 Alkylgruppe stehen; R3 für ein Wasserstoffatom oder eine C1-C4 Alkylgruppe steht; X^– für ein Gegenanion steht; Z für eine zweiwertige organische Gruppe steht, und Y2 für ein Wasserstoffatom oder eine Oniumgruppe steht, wie zuvor definiert.
Offsetdruckplattenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 4, worin das Maleinsäure-(Co)polymer in einem ersten Schritt herstellbar ist, der das Reagieren eines Maleinanhydrid-(Co)polymers mit einem eine N,N-Dialkylamingruppe enthaltenden Amin umfasst, um ein Maleinsäure-(Co)polymer zu erzeugen, und in einem zweiten Schritt, der das Reagieren des resultierenden Maleinsäure-(Co)polymers mit einem Alkylhalogenid, einem Alkylsulfonatester oder einer Säureverbindung umfasst.
Offsetdruckplattenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 5, worin das Maleinsäure-(Co)polymer in der Substratschicht in einer Menge von 50 Massenprozent oder mehr vorhanden ist.
Offsetdruckplattenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 6 mit zudem einem fotothermischen Umwandlungsmaterial.
Offsetdruckplattenvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 6, welcher auf einer Druckmaschine entwickelbar ist.
Verfahren zur Ausbildung eines Bildes mit folgenden Schritten: A) bildweises Belichten des Offsetdruckplattenvorläufers nach einem der Ansprüche 1 bis 8, um ein bildweise belichtetes Element herzustellen, und B) Entwickeln des bildweise belichteten Elements.
Verfahren nach Anspruch 9, worin das Entwickeln mittels Wasser, Feuchtwasser oder einem Entwickler ausführbar ist.