DE4338778C2 - Mehrschicht-Resistverfahren zum Herstellen eines MLR-Musters - Google Patents
Mehrschicht-Resistverfahren zum Herstellen eines MLR-MustersInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Mehrschicht-Resistverfahren zum Herstellen eines
Resistmusters, insbesondere zum Herstellen eines MLR-(Multi-Level-Resist)-
Musters unter Verwendung eines anorganischen Materials.
Die Fig. 3A bis 3D zeigen einen herkömmlichen Prozeß zum Ausbilden eines
MLR-Musters für den Fall, daß keine Stufe vorhanden ist.
Wie in Fig. 3A dargestellt, werden zunächst ein unterer Resistfilm 13, eine Zwi
schenschicht 15 und ein oberer Resistfilm 17 vom Positivtyp in der genannten
Reihenfolge auf ein Halbleitersubstrat 11 aufgetragen. Der untere Resistfilm 13
und der obere Resistfilm 17 sind organische Resistmateria
lien, und die Zwischenschicht 15 ist aus einem aus Glas auf
geschleuderten Film (SOG film = spin on glass film) oder
einem PE-Oxidfilm gebildet, die als Isolierfilm wirken.
Wie in Fig. 3B dargestellt, wird der obere Resistfilm 17 un
ter Verwendung einer Mustermaske 19 durch eine Lichtquelle
21 belichtet. Da der belichtete Bereich des oberen Resist
films 17 vom Positivtyp bei einem Entwicklungsprozeß entfernt
wird, wird ein Muster des oberen Resistfilms 17 vom Positiv
typ ausgebildet. Anschließend werden die Zwischenschicht 15
und der untere Resistfilm 19 so geätzt, daß ein MLR-Muster
23 hergestellt wird, wobei das Muster des oberen Resistfilms
17 als Ätzmaske verwendet wird. Das MLR-Muster 23 wird als
Ätzmaske beim Ätzen eines Polysiliziumfilms, eines Metall
films und eines Oxidfilms verwendet, die untere Schichten
sind.
Gemäß herkömmlichen Verfahren zum Ausbilden eines MLR-
Musters unter Verwendung eines organischen Resistmaterials
wird ein Polymer 25 an den Seitenwänden des MLR-Musters 23
durch Reaktion mit Cl- beim Ätzen des oberen Resistfilms 17
aus organischem Material gebildet. Da das MLR-Muster 23 ab
hängig von der Konzentration und einem dadurch gebildeten
Mikroladungseffekt mit einer unregelmäßigen Linienbreite
versehen wird, besteht der Nachteil, daß es schwierig ist,
kritische Abmessungen einzustellen.
Die Fig. 4A bis 4D zeigen einen herkömmlichen Prozeß zum
Ausbilden eines MLR-Musters unter Verwendung eines organi
schen Resistmaterials für den Fall, daß Stufen vorhanden
sind.
Fig. 4A zeigt ein Halbleiter-Bauelement wie eine dreidimen
sionale Kondensatorzelle mit einer Oberfläche mit ebenen
Bereichen P und vertieften Bereichen R an der Oberfläche.
Wie dargestellt, treten Stufen zwischen den ebenen Bereichen
P und den vertieften Bereichen R an der Oberfläche auf.
Zunächst wird ein MLR-Einebnungsprozeß für die vorste
hend genannten Stufen ausgeführt. D. h., daß ein unterer
Resistfilm 35 aus einem anorganischen Material dick auf die
gesamte Oberfläche des Substrats aufgetragen wird. Ein Iso
lierfilm wie ein SOG-Film oder ein PE-Oxidfilm wird als
Zwischenschicht 37 auf dem unteren Resistfilm 35 ausgebil
det, und dann wird ein oberer Resistfilm 39 aus organischem
Material auf der Zwischenschicht 37 abgeschieden. Dabei ist
der obere Resistfilm 39 vom Positivtyp.
Obwohl der MLR-Einebnungsprozeß ausgeführt wird, wird wegen
den Stufen an der Oberfläche des Halbleiter-Bauelements die
Oberfläche nicht vollständig eingeebnet.
Gemäß Fig. 4B wird der MLR-Einebnungsprozeß ausgeführt, und
dann wird ein Kontaktloch unter Verwendung einer Mustermaske
41 festgelegt. Beim Ausführen eines Belichtungsschritts un
ter Verwendung einer Lichtquelle 43 zum Festlegen des Kon
taktlochs unterscheidet sich der Oberflächenbereich des
oberen Resistfilms 39, der von der Lichtquelle 43 belichtet
wird, im flachen Bereich P von dem im vertieften Bereich,
die in Zusammenhang mit den Stufen an der Oberfläche vorhan
den sind.
Gemäß Fig. 4C wird ein Prozeß, der derselbe wie der MLR-
Musterungsprozeß von Fig. 3 ist, ausgeführt, um ein MLR-
Muster 45 auszubilden. Wenn Stufen vorhanden sind, ist es
jedoch schwierig, genau ein MLR-Muster mit gewünschter
Breite zu erhalten, da sich die Oberfläche des oberen Re
sistfilms 39, die im ebenen Bereich P belichtet wird, von
derjenigen im vertieften Bereich R unterscheidet, wie dies
in Fig. 4D dargestellt ist. Wie durch Fig. 4E veranschau
licht, ist es daher unmöglich, ein Kontaktloch 47 mit ge
wünschter Größe zu erhalten, das dadurch hergestellt wird,
daß das Halbleiter-Bauelement, das die Schicht unter dem
MLR-Muster 45 ist, unter Verwendung dieses Musters geätzt
wird. Fig. 4D zeigt die Draufsicht auf das Kontaktloch 47,
aus welcher erkennbar ist, daß die Größe des Kon
taktlochs im vertieften Bereich R sich von der im ebenen
Bereich P unterscheidet.
Beim herkömmlichen Verfahren zum Ausbilden eines MLR-Musters
unter Verwendung eines organischen Resistmaterials besteht
daher der Nachteil, daß die Oberfläche selbst nach dem Vor
nehmen eines Einebnungsprozesses nicht ganz eingeebnet ist,
wenn die Stufen in einem Halbleiter-Bauelement stärker als
ungefähr 1,5 µm sind.
Wie in Fig. 4B dargestellt, ist es unmöglich, ein gewünsch
tes Muster genau auszubilden, da sich Stufen im Halbleiter
bauelement, das die unterste Schicht darstellt, bis zur
obersten Schicht erhalten bleiben. Da der organische Resist
film selbst dann, wenn Stufen vorhanden sind, unverändert
verwendet wird, wird das Polymer an den Seitenebenen des
MLR-Musters ausgebildet, wie in Fig. 3 gezeigt, was dazu
führt, daß das Kontaktloch verformt ist.
Zur Herstellung einer Ätzmaske ist aus der EP 0 350 873 A2 ein Dreischicht-
Resistverfahren bekannt, bei dem ein dicker Harzfilm zunächst auf einen Halb
leitersubstrat aufgebracht und dann mit einer SOG-Zwischenschicht beschichtet
wird. Auf diese wird dann eine obere Resistschicht aufgetragen, die entspechend
einem gewünschten Muster belichtet und entwickelt wird, um ein Resistmuster
zu erhalten, das als Maske beim Ätzen der SOG-Zwischenschicht dient. Das da
bei erhaltene SOG-Muster dient wiederum als Maske bei einem reaktiven Ionen-
Ätzen der unteren Harzschicht. Nach dem Entfernen des SOG-Musters bildet
dann das verbleibende Harzmuster die Ätzmaske für das darunter befindliche
Halbleitersubstrat.
Dieses bekannte Verfahren entspricht im wesentlichen dem anhand der Fig. 3A
bis 4E erläuterten Verfahren.
Bei einem bekannten Zweischicht-Resistverfahren (Microlithograhpy, D. J. El
liott, McGraw-Hill, New York, 1986, S. 229-258) zur Herstellung einer Ätz
maske wird zunächst eine Resistschicht aus organischem Material zum Einebnen
der Halbleiteroberfläche mit relativ großer Dicke aufgebracht. Anschließend
wird eine Schicht aus einem anorganischen Resist aufgedampft oder aufgesput
tert. Die die obere Resistsschicht wird dann belichtet und entwicklet. Zur Aus
bildung der Ätzmaske für das Halbleitersubstrat wird danach die untere organi
schen Schicht geätzt, wobei die gemusterte obere Resistschicht als Maske dient.
Davon ausgehend liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein weiteres Mehr
schicht-Resistverfahren zur Herstellung eines Resistmusters bereitzustellen, mit
dem sich insbesondere ein Resistmuster mit hoher Genauigkeit ausbilden läßt.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren nach Anspruch 1 gelöst.
Erfindungsgemäß wird auf der Zwischenschicht ein erster und ein zweiter obe
rer Resistfilm gebildet, die aus unterschiedlichen anorganischen Materialien be
stehen.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von durch Figuren
veranschaulichten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Fig. 1A bis 1F sind Querschnitte, die ein erfindungsgemäßes
Verfahren zum Herstellen eines MLR-Musters unter Verwendung
eines anorganischen Resistmaterials veranschaulichen.
Fig. 1G und 1H sind Querschnitte, die einen Prozeß zum Aus
bilden eines Kontaktlochs unter Verwendung des MLR-Musters
von Fig. 1F veranschaulichen.
Fig. 2A und 2B sind Diagramme zum Erläutern des Belichtungs
prinzips beim Ausbilden des MLR-Musters von Fig. 1.
Fig. 3A bis 3D sind Querschnitte zum Veranschaulichen eines
herkömmlichen Prozesses zum Ausbilden eines MLR-Musters un
ter Verwendung eines organischen Resistmaterials für den
Fall, daß keine Stufen vorhanden sind.
Fig. 4A bis 4C sind Querschnitte zum Veranschaulichen eines
herkömmlichen Verfahrens zum Herstellen eines MLR-Musters
unter Verwendung eines organischen Resistmaterials für den
Fall, daß Stufen vorhanden sind.
Fig. 4D und 4E sind Querschnitte zum Veranschaulichen eines
herkömmlichen Verfahrens zum Ausbilden eines Kontaktlochs
unter Verwendung des MLR-Musters von Fig. 4C.
Unter Bezugnahme auf Fig. 1 wird nun ein Verfahren zum Aus
bilden eines MLR-Musters unter Verwendung eines anorgani
schen Resistmaterials gemäß einem Ausführungsbeispiel der
Erfindung beschrieben.
Wie in Fig. 1A dargestellt, wird zunächst ein Halbleiter-
Bauelement 63 auf einem Halbleitersubstrat 61 ausgebildet.
Dabei ist angenommen, daß das Halbleitersubstrat 61 Stufen
aufweist, wie sie bei einer dreidimensionalen Kondensator
zelle auftreten. Die Oberfläche des Halbleiter-Bauelements
verfügt über vertiefte Bereiche R und ebene Bereiche P.
Wie in Fig. 1B dargestellt, wird ein unterer Resistfilm 65
auf dem Halbleitersubstrat 61, auf dem das Halbleiter-Bau
element 63 ausgebildet ist, mit einer Dicke ausgebildet, die
mehr als 30% höher als die Höhe der Stufen des Halbleiter-
Bauelements 63 ist, um zunächst die Oberfläche einzuebnen.
Ein anorganischer Resistfilm wie ein solcher aus GexSe1-x
oder ein organischer Resistfilm können als Material für den
unteren Resistfilm 65 verwendet werden. Ein isolierender
Film wie ein PE-Oxidfilm oder ein SOG-Film wird als Zwi
schenschicht 67 auf dem unteren Resistfilm 65 ausgebildet.
Dann wird ein oberer Resistfilm 69 vom Positivtyp herge
stellt, um die Oberfläche nochmals einzuebnen. Daher ist die
Oberfläche völlig eingeebnet.
Der obere Resistfilm 69 weist eine zweistufige Struktur auf
und besteht aus einem ersten oberen Resistfilm 70 aus einem
anorganischen Material wie GexSe1-x und einem zweiten oberen
Resistfilm 71 aus einem anorganischen Material wie Ag2S/
Ag2S3 oder Ag2Se3, Ag2Te/As-Te usw. neben anorganischen
Resistfilmen wie Ag2Se/GexSe1-x.
Der erste obere Resistfilm 70 aus einem anorganischen Mate
rial wird mit einer Dicke von 200-300 nm durch ein Hoch
frequenz-Sputterverfahren hergestellt, und der zweite obere
Resistfilm 71 aus einem anorganischen Material wird mit
einer Dicke unter 50 nm abgeschieden.
Wie in Fig. 1C dargestellt, tritt dann, wenn ein Belich
tungsprozeß mit einer Lichtquelle 75 unter Verwendung einer
Mustermaske vorgenommen wird, nachdem die vorstehend genann
ten Einebnungsprozesse ausgeführt wurden, ein Photodotie
rungsphänomen in demjenigen Bereich des oberen Resistfilms
69 auf, der von der Lichtquelle 75 belichtet wird. Danach
wird der belichtete Bereich 76 des zweiten oberen Resist
films 71 aus anorganischem Material durch eine alkalische
Lösung geätzt, wie durch Fig. 1D veranschaulicht, und, der
belichtete Bereich des ersten oberen Resistfilms 70 aus an
organischem Material wird unter Verwendung des unbelichtet
gebliebenen Bereichs des zweiten oberen Resistfilms aus an
oranischem Material als Ätzmaske geätzt, was es ermöglicht,
daß ein Muster des oberen Resistfilms 69 erhalten wird, wie
es in Fig. 1E dargestellt ist.
In Fig. 1C bezeichnet eine Bezugsziffer 76 den belichteten
Bereich 76 des oberen Resistfilms 69 in Draufsicht. Da die
Oberfläche des oberen Resistfilms 69 vollständig eingeebnet
wurde, weist der belichtete Bereich, 76 dieselbe Abmessung
wie die Mustermaske 73 auf, wenn der obere Resistfilm 69
durch die Lichtquelle 75 belichtet wird.
Wie in Fig. 1F dargestellt, werden die Zwischenschicht 67
und der untere Resistfilm 65 unter Verwendung des Musters
des oberen Resistfilms 69 als Ätzmaske geätzt, um ein MLR-
Muster 77 zu erhalten. Anschließend werden alle unbelichte
ten Bereich des oberen Resistfilms 69 entfernt. Vom
oberen Resistfilm 69 wird der unbelichtete Bereich des zwei
ten oberen Resistfilms 71 aus anorganischem Material durch
eine Gemischlösung von HNO3-HCl-H2O beseitigt, und der unbe
lichtete Bereich des ersten oberen Resistfilms 70 aus anor
ganischem Material wird durch ein Gas wie CF4, CHF3 und SF6
oder eine alkalische Lösung entfernt.
Wenn ein MLR-Muster unter Verwendung eines oberen Resist
films vom Negativtyp hergestellt wird, wird andererseits der
unbelichtete Bereich des zweiten oberen Resistfilms 71 aus
anorganischem Material durch eine Gemischlösung aus
HNO3-HCl-H2O entfernt, und der unbelichtete Bereich des er
sten oberen Resistfilms 70 aus anorganischem Material wird
unter Verwendung des unbelichteten Bereichs des zweiten obe
ren Resistfilms 71 aus dem zweiten anorganischen Material
als Ätzmaske geätzt, was bewirkt, daß ein Muster des oberen
Resistfilms 69 ausgebildet wird.
Die Zwischenschicht 67 und der untere Resistfilm 65 werden
unter Verwendung des Musters des oberen Resistfilms 69 als
Ätzmaske geätzt, um ein MLR-Muster 77 auszubilden.
Derjenige Bereich des oberen Resistfilms 69, der nach Aus
bildung des MLR-Musters 77 verbleibt, d. h. der belichtete
Bereich 76 des zweiten oberen Resistfilms 71 aus anorgani
schem Material wird unter Verwendung einer alkalischen Lö
sung oder eines Gases wie CF4, CHF3 und SF6 entfernt.
Fig. 1H ist ein Querschnitt, der ein Verfahren zum Ausbilden
eines Kontaktlochs 79 unter Verwendung der MLR-Maske 77 ver
anschaulicht, die durch den obigen Prozeß erhalten wurde.
D. h., daß das als untere Schicht wirkende Halbleiter-Bau
element 63 unter Verwendung der MLR-Maske 77 geätzt wird, um
ein Kontaktloch 69 auszubilden. Fig. 1G zeigt das Kontakt
loch in Draufsicht.
Aus Fig. 1G ist erkennbar, daß Kontaktlöcher 79 erhalten
werden, die in den vertieften Bereichen R und in den ebenen
Bereichen P des Halbleiter-Bauelements 63 alle die erforder
liche Größe aufweisen.
Fig. 2 ist eine Zeichnung zum Erläutern des Photodotierungs
phänomens, wie es im oberen Resistfilm 69 beim Ausführen des
Belichtungsprozesses auftritt.
Wie in Fig. 2A dargestellt, tritt dann, wenn der obere Re
sistfilm 69 unter Verwendung der Mustermaske 73 als Belich
tungsmaske durch eine Lichtquelle 75 belichtet wird, ein
Photodotierungsphänomen in dem durch die Lichtquelle 75 be
lichteten Bereich 76 des oberen Resistfilms 69 auf. Dabei
wandert Ag innerhalb des oberen Resistfilms 69 vom zweiten
oberen Resistfilm 71 aus anorganischem Material (z. B.
Ag2Se) in den ersten oberen Resistfilm 70 aus anorganischem
Material (z. B. GexSe1-x), was bewirkt, daß Ag+-Ionen Elek
tronen des GexSe1-x einfangen. D. h., daß die folgenden
Reaktionen im oberen Resistfilm 69 auftreten, der Licht von
der Lichtquelle 75 empfängt:
hν → e- + h+
2h+ + Ag2Se → 2Ag+ + Se (1)
Mit der Erfindung können die folgenden Wirkungen erzielt
werden. Da das herkömmliche Verfahren unter Verwendung eines
organischen Resistfilms die Oberfläche nicht vollständig
einebnen kann, wenn Stufen über 1,5 µm vorhanden sind, ist
es unmöglich, ein MLR-Muster genau zu erhalten. Dagegen kann
mit der Erfindung die Oberfläche unter Verwendung eines an
organischen Resistfilms vollständig eingeebnet werden, so
daß ein genaues MLR-Muster erhalten werden kann. Daher ist
es möglich, ein Kontaktloch mit gewünschter Größe selbst
dann zu erhalten, wenn das Kontaktloch unter Verwendung
eines MLR-Musters hergestellt wird. Da es auch möglich ist,
die Schwierigkeit zu überwinden, die dadurch entsteht, daß
sich ein Polymer beim Ätzen eines MLR-Musters aus einem or
ganischen Material bildet, wird die Vorspannung in der
Grenzflächenebene stabilisiert, und der Mikroaufladeeffekt
verringert sich, was ein weiteres Verbessern der Auflösung
ermöglicht.
Claims (16)
1. Mehrschicht-Resistverfahren zum Herstellen eines MLR-Musters
mit den folgenden Schritten:
- - Ausbilden eines unteren Resistfilms (65), einer Zwischenschicht (67) und eines oberen Resistfilms (69) in dieser Reihenfolge auf einem Halblei tersubstrat (61), in dem ein Halbleiter-Bauelement (63) mit Stufen ausge bildet ist,
- - wobei der obere Resistfilm (69) auf der Zwischenschicht (67) aus ei nem ersten oberen Resistfilm (70) aus einem anorganischen Material und einem darauf ausgebildeten zweiten oberen Resistfilm (71) aus einem an deren anorganischen Material besteht,
- - Belichten des zweiten oberen Resistfilms (71) unter Verwendung ei ner Mustermaske;
- - Ätzen des zweiten oberen Resistfilms (71) zur Ausbildung einer Ätz maske;
- - Ätzen des ersten oberen Resistfilms (70) unter Verwendung der ver bliebenen Bereiche des zweiten oberen Resistfilms (71) als Ätzmaske, um ein Muster des oberen Resistfilms (69) auszubilden;
- - Ätzen der Zwischenschicht (67) und des unteren Resistfilms (65) in dieser Reihenfolge unter Verwendung des Musters des oberen Resistfilms (69) als Ätzmaske, um ein MLR-Muster auszubilden; und
- - Entfernen der verbliebenen Teile des oberen Resistfilms (69).
2. Mehrschicht-Resistverfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß der untere Resistfilm (65) mit einer Dicke ausgebildet wird,
die mehr als 30% höher als die Höhe der Stufen des Halbleiter-Bauele
ments (63) ist.
3. Mehrschicht-Resistverfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß der erste obere Resistfilm (70) eine zum weiteren Ein
ebnen der Oberfläche geeignete Dicke aufweist, während die Dicke des
zweiten oberen Resistfilms (71) weniger als etwa 1/4 bis 1/6 der Dicke des
ersten oberen Resistfilms (70) beträgt.
4. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der erste obere Resistfilm (70) mit ei
ner Dicke von 200 nm-300 nm durch ein HF-Sputterverfahren hergestellt
wird.
5. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der zweite obere Resistfilm (71) mit ei
ner Dicke unter 50 nm durch ein HF-Sputterverfahren hergestellt wird.
6. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der untere Resistfilm (65) aus einem
organischen Resistmaterial hergestellt wird.
7. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, da
durch gekennzeichnet, daß der untere Resistfilm (65) aus einem anorga
nischen Resistmaterial hergestellt wird.
8. Mehrschicht-Resistverfahren nach Anspruch 7, dadurch gekenn
zeichnet, daß der untere Resistfilm (65) aus GexSe1-x hergestellt wird.
9. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der erste obere Resistfilm (70) aus
GexSe1-x hergestellt wird.
10. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, da
durch gekennzeichnet, daß der zweite obere Resistfilm (72) aus Ag2Se,
Ag2S/As2S3 oder As2Se3 Ag2Te/As-Te hergestellt wird.
11. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der obere Resistfilm (69) vom Positiv
typ ist.
12. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß der obere Resistfilm (69) vom Negativtyp
ist.
13. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der belichtete Bereich des zweiten
oberen Resistfilms (71) durch eine alkalische Lösung geätzt wird.
14. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der unbelichtete Bereich des zweiten
oberen Resistfilms (71) durch eine Gemischlösung aus HNO3/HCl/H2O
geätzt wird.
15. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der vorstehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß der erste obere Resistfilm (70) des
Musters des oberen Resistfilms (69) durch eine alkalische Lösung entfernt
wird.
16. Mehrschicht-Resistverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß der erste obere Resistfilm (70) des Musters
des oberen Resistfilms (69) unter Verwendung von Gasen wie CF4, CHF3
und SF6 entfernt wird.
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0350873A2 (de) * | 1988-07-11 | 1990-01-17 | Hitachi, Ltd. | Verfahren zum Ausbilden eines Musters und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
US-Buch: Microlithography, D.J. Elliott, Mc-Graw-Hill, New York, 1986, S. 229-258 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4338778A1 (de) | 1994-05-26 |
US5376227A (en) | 1994-12-27 |
JPH0774087A (ja) | 1995-03-17 |
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