DE4115128C2 - Halbleiter-Leistungs-Anordnung für Hochfrequenz-Anwendungen und Verfahren zu Bildung einer solchen - Google Patents
Halbleiter-Leistungs-Anordnung für Hochfrequenz-Anwendungen und Verfahren zu Bildung einer solchenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleiter-
Leistungs-Anordnung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Eine solche, aus der GB 2 151 845 A bekannte Halbleiter-
Leistungs-Anordnung, umfaßt einen metallischen Leiterrahmen zur
Aufnahme eines Halbleiter-Bauelementes, um einen
Leistungstransistor zu bilden. Das Halbleiter-Bauelement sowie
Teile des Leiterrahmens sind in einer Harzgußmasse eingebettet.
Der Leiterrahmen weist einen dicken Bereich zur Aufnahme des
Halbleiter-Bauelementes und einen dünnen Bereich, der als
externe Verbindung dient, auf. Eine obere Fläche des dünnen
Bereichs verläuft koplanar zur oberen Fläche des dicken
Bereichs.
Aus der US 4 750 030 ist eine Halbleiteranordnung mit einem
Leiterrahmen bekannt, wobei ein dicker und ein dünner Bereich
des Leiterrahmens monolithisch ausgebildet ist. Teile des
Leiterrahmens sind in einer Harzmasse eingebettet, wobei eine
untere Fläche des dicken Bereichs an einer unteren Fläche der
Einkapselung freiliegt.
Aus den englischsprachigen Abstracts der JP 2-60155 A und der JP 1-86545 A
ist es bekannt, zwischen
Anschlußteilen eines Leiterrahmens geerdete Leiter anzu
ordnen, um eine Abschirmung zu gewährleisten.
Es besteht ein wachsendes Interesse an elektronischen Vor
richtungen, die für die Oberflächenmontage geeignet sind
(SMD-Technik), wobei es sich hier um Anordnungen handelt,
deren Leiter koplanar sind (in derselben Ebene liegen) und
dazu ausgelegt sind, um sie an der Oberfläche von planaren
metallenen Anschlüssen einer Leiterplatte oder ähnlichem zu
verlöten, im Gegensatz zu der Verlötung in Leiterplatten im
Bereich von Löchern. Eine Anzahl von SMD-Bauelementen
(surface mount device) sind bereits weit verbreitet, wie zum
Beispiel die Typen SOT-23, SOT-143 und SO-8. Chip-Träger aus
Kunststoff, sogenannte PLCC's (Plastic Leaded Chip
Carriers), sind eine andere Art der bekannten SMD-Technik.
Die elektrischen Leiter dieser verschiedenen SMD-Bauteile
sind im allgemeinen die sogenannten "gull-wing" (Möwen-Flü
gel) oder "J-form" (J-Formen). Diese Leiter-Konfigurationen
sind nach dem Stand der Technik allgemein bekannt.
Die meisten der SMD-Bauelemente, die bisher eingesetzt wur
den, waren für den Niederfrequenz-Analog-Betrieb für kom
plexe digitale ICs mit einer großen Anzahl von Anschlüssen
bestimmt. Obwohl diese Bauelemente brauchbar sind, sind sie
nicht sehr gut in Verbindung mit Hochfrequenz-Anordnungen
oder ICs geeignet, das sind Anordnungen, die im Bereich
oberhalb von 25 Megahertz, insbesondere oberhalb von
100 Megahertz und speziell oberhalb von 200-500 Megahertz
arbeiten. Es ist nicht ungewöhnlich, daß solche Hochfre
quenz-Bauteile bei Frequenzen höher als 25 Gigahertz arbei
ten. Unter den aufzuzählenden Problemen, die im Rahmen der
Verwendung von Vorrichtungen oder Package-Anordnungen nach
dem Stand der Technik auftreten, sind übermäßig lange Lei
ter, deutliche parasitäre Induktivität und Kapazität und
übermäßiger thermischer Widerstand zu nennen. Diese Probleme
werden umso größer mit dem Ansteigen der erforderlichen Be
triebsfrequenz.
Zum Beispiel erfordert der Betrieb einer Halbleiter-Anord
nung bei solchen hohen Frequenzen sehr hohe Stromdichten.
Als Folge hiervon ist die interne Verlustleistung der An
ordnung ebenfalls sehr hoch, beispielsweise in dem Bereich
von einem bis drei Watt oder mehr. Ohne eine große Sorgfalt,
um eine Package-Anordnung mit einer niedrigen thermischen
Impedanz zu erstellen, wird die Aufbring- oder Anlöt-Tempe
ratur hoch und die Lebensdauer unter Betrieb herabgesetzt.
Zusätzlich muß die Länge der Leiter und die Impedanz mini
miert werden, besonders bei den herkömmlichen (elektrischen
Referenz-) Anschlüssen, da sich die parasitäre Impedanz in
solchen Anschlüssen verschlechtert. Aus diesen und weiteren
Gründen, wie sie aus dem Stand der Technik bekannt sind, muß
der Aufbau von Anordnungen und/oder Package-Anordnungen für
den Betrieb bei hohen Frequenzen anders sein als die her
kömmlichen Anordnungen in Verbindung mit niedrigen Frequen
zen und/oder niederfrequenten IC's.
Die Package-Anordnungen, die im allgemeinen für einen
solchen hohen Frequenzbereich verwendet werden, werden oft
mals unter Verwendung von kostspieligen Materialien, wie
beispielsweise Keramik, Glas und/oder Metall hergestellt,
und besitzen eine Vielzahl vom Metallschichten oder inneren
(metallischen) Teilstücken oder auch beides. Aus diesen und
weiteren Gründen, wie sie aus dem Stand der Technik bekannt
sind, sind Packages für den Einsatz in hohen Frequenzenbe
reichen teuer. Es besteht ein fortwährendes Bedürfnis für
verbesserte Anordnungen und Verfahren im Hinblick auf hoch
frequente Package-Anordnungen und Vorrichtungen, insbeson
dere für Packages und Anordnungen, die kostengünstiges Ma
terial und kostengünstige Verfahren einsetzen, die geringe
thermische und parasitäre Impedanz aufweisen, die für die
sogenannte Oberflächenbefestigung geeignet sind und die im
wesentlichen Leistungen im Bereich von beispielsweise
< 1 Watt, insbesondere ≧ 3 Watt umsetzen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine einfach und
preiswert herzustellende Halbleiter-Leistungs-Anordnung für
Hochfrequenz-Anwendungen zu schaffen, die eine geringe
thermische und parasitäre Impedanz aufweist, sowie ein
Verfahren zur Herstellung derselben anzugeben.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der Patentansprüche 1 und
2 gelöst.
Erfindungsgemäß ist der Leiterrahmen monolithisch ausgebildet
und hat eine H-Form, wobei der Querbalken des "H" den dicken
Bereich enthält und wobei die Arme des "H" von dem dünnen
Bereich gebildet werden und einen elektrischen
Verbindungsanschluß bilden. Da eine untere Fläche des dicken
Bereichs an einer unteren Fläche der Einkapselung freiliegt,
ist eine gute Wärmeableitung gewährleistet, so daß nur niedrige
thermische Impedanzen entstehen. Zwischen den Armen des "H" ist
mindestens ein Anschlußteil, das ebenfalls Teil des dünnen
Bereichs ist, angeordnet, das mit dem Halbleiter-Bauelement zur
Bildung von I/O-Anschlüssen verbunden ist, so daß die Arme die
Anschlußteile abschirmen, wodurch parasitäre Kopplungen auf ein
Minimum reduziert werden. Die Arme und die Anschlußteile sind
solcherart nach unten gebogen, daß die unteren Flächen von
deren Anschlußenden sich koplanar zur unteren Fläche des dicken
Bereichs erstrecken. Dadurch ist eine einfache Montage, z. B.
mit einer Leiterplatte, möglich. Da der Leiterrahmen
monolithisch ausgebildet ist, ist eine preiswerte Herstellung
desselben möglich.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Die Erfindung wird anhand der Zeichnungen näher erläutert.
Darin zeigen:
Fig. 1 eine Draufsicht in vereinfachter Form auf eine eine
Vielzahl von Einheiten aufweisende Leiterrahmen-An
ordnung gemäß der vorliegenden Erfindung,
Fig. 2 eine Draufsicht in vereinfachter Form auf das Ende
des Leiterrahmens nach Fig. 1,
Fig. 3 eine Draufsicht auf eine einzelne Einheit des Lei
terrahmens nach Fig. 1, wobei weitere Details ge
zeigt sind,
Fig. 4 und Fig. 5 in vereinfachten Form Seiten- und Vorder
ansicht des Leiterrahmen-Bereiches nach Fig. 3,
Fig. 6 eine Draufsicht in vereinfachter Form auf eine ein
gekapselte Anordnung gemäß einer ersten Ausführungs
form der vorliegenden Erfindung,
Fig. 7 einen Teilabschnitt des Endes und eine aufgebrochene
Ansicht der Anordnung nach Fig. 6 entsprechend der
Schnittlinie in Fig. 6,
Fig. 8 eine Draufsicht in vereinfachter Form auf eine ein
gekapselte Anordnung gemäß einer weiteren Ausführ
ungsform der vorliegenden Erfindung,
Fig. 9 in vereinfachter Form eine Vorderansicht der Anord
nung nach Fig. 8,
Fig. 10 eine Vorderansicht eines zum Durchlauf vorbereiteten
Metall-Bandes, das für die Herstellung eines Leiter
rahmens, wie er in Fig. 1 gezeigt ist, gemäß dem
Verfahren nach der vorliegenden Erfindung geeignet
ist,
Fig. 11 eine Seitenansicht desselben Bandes wie in Fig. 10
in einem Verfahrensabschnitt, in dem abgeschliffen
wird, um Bereiche des einlaufenden Metall-Bandes zu
entfernen, um so ein dünneres Netz mit einem zentra
len Kamm derselben Dicke wie das einlaufende Ma
terial zu bilden,
Fig. 12 eine Seitenansicht des einlaufenden Metallbandes,
das zur Herstellung eines Leiterrahmens, wie er in
Fig. 1 gezeigt ist, geeignet ist, und zwar gemäß
einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Er
findung, wobei ein dickerer zentraler Kamm auf ein
dünneres einlaufendes Metall-Band aufgebracht wird,
Fig. 13 ein Metall-Band, das für die Herstellung des Leiter
rahmens, wie er in Fig. 1 gezeigt ist, geeignet ist,
und zwar nach den Verfahrensstufen, wie sie in den
Fig. 11 oder 12 gezeigt sind, allerdings bevor die
Öffnungen, die in dem Leiterrahmen nach Fig. 1 ge
zeigt sind, gebildet wurden, und
Fig. 14 eine Ansicht auf das Ende des Metallstreifens nach
Fig. 13.
Fig. 1 ist eine vereinfachte Draufsicht auf eine eine Viel
zahl von Einheiten aufweisende Anordnung aus Leiterrahmen 10
und die Fig. 2 zeigt eine entsprechende seitliche Ansicht
dazu. Die Anordnung der Vielzahl von Einheiten der Leiter
rahmen 10 besitzt sich wiederholende einzelne Leiterrahmen-
Einheiten 12, wie sie durch den Kreis 3, der in Fig. 1 ge
zeigt ist, umgeben sind. Verschiedene Öffnungen 14 sind in
dem Leiterrahmen 10 beispielsweise durch Stanzen oder Ätzen
gebildet, um zu definieren, wo der spätere Verbindungsbe
reich 16 des Bauelementes und die Anschlüsse 18, 20 (siehe
Fig. 3 bis 5) anzuordnen sind.
Der in Fig. 1 durch den Kreis 3 eingeschlossene Bereich 3
wird in den Fig. 3 bis 5 in einer vergrößerten Darstellung
detailliert gezeigt. Der Leiterrahmen 10 ist ein mono
lithisches Metallband, das aus einer Anzahl von einzelnen
Leiterrahmen-Einheiten 12 besteht, die zeitweilig (während
des Herstellungsverfahrens) durch die seitlichen Führungs
ränder 22 zusammengehalten sind, und das einen zentralen
Kamm 24 der Dicke 26 und der Breite 27 besitzt, der sich
entlang der Achse des Leiterrahmens 10 mit dünneren Berei
chen 28, 30 entlang jeder Seite des dickeren zentralen Kam
mes 24 erstreckt. Es ist erwünscht, daß die obere Fläche 36
der dünneren Bereiche 28, 30 und der zentrale Bereich 16
oberhalb des Kammes 24 im wesentlichen koplanar sind (in
einer Ebene liegen), während die unteren Flächen 38, 40
und 54 dies nicht sind. Seiten 42 des zentralen Kammes 24
sind durch die unterbrochenen Linien in den Fig. 1, 3 und 6
angedeutet. Der Leiterrahmen 10 besitzt eine Gesamtdicke 44.
In den Fig. 3 bis 5 ist eine einzelne Einheit 12 des Leiter
rahmens 10 in einer etwas vergrößerten Darstellung gezeigt.
Der zentrale Bereich 16 der oberen Fläche 36 oberhalb des
Kammes 24 trägt ein elektronisches Element 46, z. B. ein
Halbleiter-Bauelement wie ein Transistor, eine Diode oder
einen integrierten Schaltkreis (IC) oder andere funktionelle
Bauteile. Das elektronische Element 46 ist über Bonddrähte
oder andere Verbindungs-Teile 48 mit dem zentralen Be
reich 16 der oberen Fläche 36 jeder einzelnen Leiterrahmen-
Einheit 12 und durch Bonddrähte oder andere Verbindungstei
le 50 mit den Anschluß-Bereichen 18 der oberen Fläche 36 je
der einzelnen Leiterrahmen-Einheit 12 verbunden. Einrich
tungen oder Verfahren, um solche Bonddrähte oder andere Ver
bindungs-Teile anzubringen, sind nach dem Stand der Technik
bekannt.
Das elektronische Bauelement 46 und die Bonddrähte 48, 50
sind durch eine Einkapselung 52, beispielsweise aus einem
Kunstharz, eingehüllt. Andere Materialien für die Einkapse
lung können auch verwendet werden, allerdings ist Kunstharz
als das bevorzugtes Material anzusehen. Die untere Fläche 54
des zentralen Kammes 24 ist an einer unteren Fläche 56 der
Einkapselung 52 frei liegend abgeordnet. Es ist erforder
lich, einen Bauelementen-Überzug (nicht dargestellt) über
die obere Fläche des Elementes 46 aufzubringen, bevor die
Einkapselung 52 vorgenommen wird.
Die Einkapselung 52 wird in
herkömmlicher Weise durch Spritzpressen oder Spritzgießen
hergestellt, es sind jedoch auch andere Verfahren nach dem
Stand der Technik anwendbar. Bevorzugt wir das Spritzpressen
angewendet.
Fig. 6 zeigt eine Draufsicht auf eine Anordnung 60, die
durch die einzelnen Einheiten 12 des Leiterrahmens 10 nach
der Einkapselung und dem Entfernen der seitlichen Führungs
ränder 22 (siehe Fig. 1) gebildet sind, und Fig. 7 zeigt
eine teilweise geschnittene Darstellung auf das Ende der An
ordnung nach Fig. 6. Die Fig. 7 zeigt die Befestigung an ei
ner Leiterplatte (PC) oder ähnlichem. Das Element 46 ist an
einem zentralen Bereich 16 der oberen Fläche 36 des Berei
ches 12 des Leiterrahmens oberhalb des longitudinalen Kam
mes 24 angeordnet. Nachdem die seitlichen Führungsränder 22
abgetrennt wurden, liegen die einzelnen Einheiten 12 der
Leiterrahmen in der Form eines "H" vor.
Die untere Fläche des Elementes 46 ist auf den zentralen Be
reich 16 oberhalb des longitudinalen Kammes 24 unter Verwen
dung von Maßnahmen, wie sie nach dem Stand der Technik be
kannt sind, angebondet. Löten wird bevorzugt. Bonddrähte 48
verbinden Kontaktstellen an der oberen Fläche des Elemen
tes 46 mit dem zentralen Bereich 16, der den Bereich des
Querbalkens des "H", der sich von einer Seite des "H" zu der
anderen Seite erstreckt, bildet. Äußere Anschlußdrähte 20
bilden die nach unten und nach oben sich erstreckenden Arme
des "H" und sind üblicherweise als ein Teil der dünneren Be
reiche 28, 30 des Bereiches 12 des Leiterrahmens gebildet.
Die äußeren Verbindungsarme 20 des "H" verbinden den zentra
len Bereich 16 und stellen üblicherweise Kontakte mit einer
niedrigen Impedanz im Hinblick auf die Referenzverbindung
des elektronischen Elementes dar.
Zwischen den Anschlußteilen 20 sind einer oder mehrere An
schluß-Bereiche 18 vorhanden, die durch Bonddrähte 50 mit
den anderen Kontaktfeldern (Pads) auf dem Bauelement 46 ver
bunden sind. Hierdurch werden in herkömmlicher Weise die
Eingangs-Ausgangs- (I/O-) Anschlüsse der Anordnung gebildet,
sie können allerdings auch für andere elektrische Anwen
dungen verwendet werden. Durch die Verwendung von gemeinsa
men Anschlußteilen 20, die sich entlang einer Seite der
I/O-Anschlußdrähte 18 erstrecken, wird die parasitäre Kopp
lung (Streueinkopplung) mit anderen Anordnungen und Drähten,
die sich auf derselben Leiterplatte wie die Anordnung 60 be
finden, verringert. Die Anschlußteile 18, 20 sind in her
kömmlicher Weise nach unten gebogen, wie dies in Fig. 7 ge
zeigt ist, so daß die unteren Flächen 62 der Anschlußen
den 64 der Anschlußteile 18, 20 im wesentlichen koplanar (in
einer Ebene liegend) mit der frei liegenden Fläche 54 des
zentralen Kammes 24 verlaufen. Hierdurch wird ermöglicht,
daß die Anordnung 60 durch die Oberflächenbefestigung mit
den Kontaktfeldern 66, 68, beispielsweise einer PC-Leiter
platte 70, in der Oberflächentechnik verbunden werden
können. Die Anschlußenden 64 und die Bodenfläche 54 (untere
Fläche 54) des zentralen Kammes 24 werden an den planaren
Kontaktfeldern 66, 68 angelötet, obwohl andere Verbindungs
maßnahmen entsprechend dem Stand der Technik verwendet wer
den können.
Die Fig. 3 bis 5 und 6 bis 7 veranschaulichen, daß die
elektronischen Bauelemente oder Halbleiter-Bauelemente 46
mit verschiedenen Abmessungen in Verbindung mit der Leiter
rahmen-Einheit 12, mit den Bonddrähten 48, 50 und der Ein
kapselung 52 verwendet werden können. Dem Fachmann wird auf
grund der Ausführungen ersichtlich, in welcher Art und Weise
er die Abmessungen des zentralen Bereiches 16 der Fläche 36
des Bereiches 12 des Leiterrahmens vornehmen kann, um die
Bauelemente der verschiedenen Größen anzupassen.
Die Fig. 8 und 9 zeigen eine Draufsicht bzw. eine Vorderan
sicht einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung. Die Anordnung 72 ist in ihrem Aufbau der Anordnung 60
ähnlich, mit der Ausnahme, daß sich der zentrale Kamm 24'
der Fig. 8 bis 9 über die Enden der Einkapselung 52 hinaus
erstreckt und Befestigungsöffnungen 76 oder andere Öffnungen
aufweist, um die Befestigung der Anordnung 72 auf einer
PC-Leiterplatte oder einem anderen Träger zu erleichtern.
Hierbei werden diesselben Bezugszeichen in den Fig. 8 bis 9
entsprechend der Fig. 6 bis 7 verwendet. Anschlußdrähte 18,
20 sind nach unter gebogen, so daß die unteren Flächen 62
der Enden 64 der Anschlußdrähte im wesentlichen koplanar mit
der unteren Fläche 54' des zentralen Kammes 24', die zwi
schen der unteren Fläche 56 der Einkapselung 52 frei liegend
angeordnet ist, verlaufen.
Wie die Fig. 3, 4, 6, 7 und 8 zeigen, liegen die Seiten 42
des dickeren zentralen Kammes 24, 24' innerhalb von gegen
überliegenden Rändern 74 des zentralen Bereiches 16; dies
ist deutlich in Fig. 7 zu sehen, die eine teilweise ge
schnittene Darstellung und eine Ansicht auf das Ende entlang
der zentralen Achse des Leiterrahmens 10, z. B. parallel zu
den zentralen Kämmen 24, 24', darstellt. Es ist angestrebt,
daß die dickeren zentralen Kämme 24, 24' eine Breite 27 ha
ben, die geringer ist als die Breite 75 zwischen den Ecken
oder Kanten 74 des zentralen Bereiches 16, so daß die Kan
ten 74 des zentralen Bereiches 76 über die Seiten 42 (siehe
Fig. 7) des zentralen Kammes 24 um den Betrag 78 überstehen.
Es ist günstig, daß der überstehende Abschnitt 78 annähernd
gleich groß entlang der beiden Kanten des zentralen Berei
ches 16 verläuft. Der überstehende Bereich 78 erleichtert
die Bildung und Handhabung des Leiterrahmens 10 und stellt eine
besondere Ausführungsform dar. Weiterhin
wird eine günstige "Verriegelung" für die Befestigung der
Einkapselung 52 um das Element 46, die zentralen Käm
me 24, 24' und die inneren Enden der Anschlußdrähte 18, 20
angegeben.
Es ist wichtig, daß der Leiterrahmen 10 in sich homogen ist,
d. h. er ist aus dem gleichen Material anstatt aus verschie
denen Materialien oder verschiedenen unterschiedlichen Tei
len aus demselben Material, die nur an kleinen Punkten oder
ähnlichem miteinander verbunden sind, gebildet. Dadurch wird
das Problem der verschiedenen thermischen Ausdehnungen und
der Verbindung oder Zwischenverbindung verringert, wodurch
ungünstige elektrische oder thermische Impedanzen entstehen
könnten.
Die Art und Weise, in der dies ausgeführt wird, wird anhand
der Fig. 10 bis 14 erläutert.
Fig. 10 zeigt eine Ansicht auf die Kante eines einlaufenden
Metallbandes 80, das gegenüberliegende Flächen 82, 84 auf
weist und eine Dicke 32 oder 44 (siehe Fig. 1) besitzt, und
aus dem ein Leiterrahmen ähnlich dem Leiterrahmen 10 nach
der Fig. 1 hergestellt werden soll. OFHC-Kupfer ist das be
vorzugte Grundmaterial, es können allerdings andere für Lei
terrahmen geeignete Materialien, die nach dem Stand der
Technik bekannt sind, verwendet werden. In einer bevorzugten
Ausführungsform weist das Metallband 80 eine Dicke 44 auf
und es wird, wie in Fig. 11 gezeigt, abgeschliffen oder abgetra
gen, um die Dicke des in den Bereichen 28, 30 verbleibenden
Metalles (siehe Fig. 1 und 2) zu verringern, während die Be
reiche, die den zentralen Kamm 24 bilden, unverändert ver
bleiben. Die sich hieraus ergebende Anordnung ist in den
Fig. 13 und 14 gezeigt. Abtragen ist das gleichmäßige Ab
schaben oder Abspanen eines Metallbandes, um dessen Dicke zu
verringern.
Wie die Fig. 11 zeigt, wird das Metallband 80, das eine
Dicke 44, beispielsweise entsprechend einer erforderlichen
Dicke 44 des Leiterrahmens 10 besitzt, mittels Walzen in
Richtung 88 gegen das Abschabmesser 92, das eine keilförmige
Messer-Kante 94 aufweist, gedrückt oder gezogen. Das Ab
schabmesser 92 ist im Querschnitt in Fig. 11 gezeigt und be
sitzt zwei voneinander beabstandete Bereich 92, 92', die mit
unterbrochenen Linien in Fig. 13 dargestellt sind, mit einem
Zwischenraum oder Spalt in einem gleichen Abstand zu der er
forderlich Breite 27 (siehe Fig. 4, 13) des zentralen Kam
mes 24. Der zentrale Kamm 24 nach den Fig. 10 und 11, 13
und 14 ist dem zentralen Kamm 24 nach den Fig. 1 und 2 zuge
ordnet. Die Fläche 82 nach den Fig. 10 und 11, 13 und 14 ist
der Fläche 54 und der Fläche 84 entsprechend der Fläche 36
der Fig. 1 und 2 zugeordnet. Das Abschaben (skiving) hat den
Vorteil, daß ein Leiterrahmen, der verschiedene Bereiche von
genau gesteuerter Dicke und Breite aufweist, in einem ein
zigen kostengünstigen Arbeitsgang gebildet werden kann. Ein
Abschaben ist nach der vorliegenden Ausführungsform
möglich, da ein dickerer Bereich 96, 94, 24 in Form
eines Kammes, der longitudinal entlang der Länge des Metall
bandes 80 verläuft, vorliegt. Wenn einmal begonnen wurde,
das Metallband 80 abzuschaben, um die selektiven verdünnten
Metallstreifen 80', wie sie in den Fig. 13 bis 14 gezeigt
sind, zu bilden, werden Löcher 14 (siehe Fig. 1) in das
Band 80' gestanzt oder geätzt, um einen Leiterrahmen 10 oder
ähnliches zu erhalten. Während es als bevorzugt anzusehen
ist, den Kamm 24 zuerst auszuschaben und dann als zweiten
Schritt die Öffnungen 14 zu stanzen oder zu ätzen, können
die Verfahrensschritte auch umgekehrt werden, wobei dieses
allerdings als weniger zweckmäßig anzusehen ist.
Wie die Fig. 12 zeigt, besitzt das Metallband zu Beginn eine
Dicke 32, die der Dicke 32 der dünneren Bereiche 28, 30 des
Leiterrahmens 10 in Fig. 1 entspricht, wobei das Metallband
in Richtung 102 durch die Walzen 104 gedrückt und gezogen
wird, wo dann ein schmaler Streifen 106 einer Breite 27 und
einer Dicke 26 und möglichst aus dem gleichen Metall des
einlaufenden Metallbandes 80 unter Druck angedrückt und auf
das Band 80 durch die Walzen 104 unter Wärme aufgescheißt
wird. Das sich hieraus ergebende Metallband 108 ist im
wesentlichen homogen, da die zwei Bereiche ohne ein Lötmit
tel oder ein fremdes Zusatzmaterial miteinander verbunden
werden. Das Band 108 mit dem angeschweißten zentralen
Kamm 106, entsprechend dem Kamm 24, hat das Aussehen, wie es
in den Fig. 13 bis 14 dargestellt ist, und ist für die Her
stellung von Leiterrahmen 10 in der gleichen Art und Weise
wie für das Band 80' geeignet. Während es als bevorzugt an
zusehen ist, das Band 108 zuerst zu befestigen und dann als
zweiten Schritt die Öffnungen 14 zu stanzen oder zu ätzen,
können die Schritte auch umgekehrt werden, obwohl dies als
weniger bevorzugt anzusehen ist.
Wenn der Kamm 24 gebildet worden ist und das Metall
band 80', 108 gelocht oder geätzt wurde, um die Öffnungen 14
oder ähnliches darin (siehe Fig. 1) zu erhalten, wird das
Bauelement 46 an dem zentralen Bereich 16 befestigt, Bond
drähte und andere Verbindungs-Teile 48, 50 angebracht und
der Leiterrahmen in eine Beschichtungspresse zur Herstellung
der Einkapselung 52, die den Chip 46 und die Drähte 48, 50
umgibt, allerdings den Bodenbereich 50, 54' des zentralen
Kammes 24, 24' unbedeckt frei läßt, zu bilden.
Seitliche Führungsränder 22 werden abgeschnitten, so daß die
Anschlußdrähte 18, 20 davon und gegeneinander abgetrennt
werden. In dem gleichen oder in einem nachfolgenden Arbeits
schritt werden die Anschlußdrähte 18, 20 in der gewünschten
Form nach unten gebogen, um eine Anordnung zu erhalten, die
für die Oberflächenbefestigung, wie sie in den Fig. 6 bis 9
gezeigt ist, vorzubereiten.
In einer typischen Anordnung mit acht Anschlußdrähten mit
einer "H"-förmigen Anordnung, wie sie in den Fig. 1 bis 9
gezeigt ist, liegt die Dicke der Bereiche 28, 30 des Leiter
rahmens, z. B. die Dimension 32 in Fig. 2, üblicherweise im
Bereich von 0,1 bis 0,3 mm, bevorzugt bei 0,15 bis 0,25 mm
und besonders bevorzugt bei etwa 0,2 mm. Der zentrale
Kamm 24 hat eine Dicke 26 in dem Bereich von etwa 0,5
bis 2,5 mm, bevorzugt etwa 1 bis 2 mm und insbesondere
etwa 1,5 mm, der zentrale Kamm 24 hat eine Breite 27 im Be
reich von etwa 0,5 bis 2,5 mm, bevorzugt 1 bis 2 mm und ins
besondere etwa 1,3 mm, wobei diese Werte als typisch anzu
sehen sind. Die Breite 74 des Befestigungsbereiches 16
(siehe Fig. 7) des Elementes beträgt etwa 0,1 bis 0,3 mm
mehr als der zentrale Kamm 24, mit typischerweise 0,25 mm.
Demzufolge betragen die überstehenden Abschnitte 78 zwischen
den Seiten 42 des Kammes 24 und der Ränder 74 des Verbin
dungsbereiches 16 des Elementes etwa die Hälfte, beispiels
weise etwa 0,13 mm. Die Anschlußdrähte 18, 20 sind üblicher
weise in der gleichen Dicke wie die Dicke 32 (siehe Fig. 2)
des dünneren Bereiches des Leiterrahmens 10 dimensioniert.
Die Anschlußdrähte 18 sind üblicherweise etwa 0,25
bis 0,51 mm breit, typischerweise etwa 0,41 mm, und die An
schlußdrähte 20 sind üblicherweise etwa zweimal so breit.
Der Zwischenraum zwischen den Anschlußdrähten ist üblicher
weise etwa 0,25 bis 0,76 mm, bevorzugt etwa 0,51 mm. Die
Länge der Anschlußdrähte, beispielsweise die Längs über die
sie von den Seiten der Einkapselung (des Körpers) 52 ab
stehen, wird durch die Anordnung vorgegeben, in der sie ein
gesetzt werden sollen.
Dort, wo die Anschlußdrähte nach unten entweder in der Form
einen Möwen-Schwinge (gull-wing) oder in J-Form verlaufen
sind sie typischerweise etwas länger für die Mehrfachbiegung
ausgebildet, wie sie für den zusätzlichen Abstand von der
Ebene des Bond-Bereiches 16 zu der Ebene der freien unteren
Fläche 54 des Kammes 24 erforderlich ist. Fig. 7 zeigt eine
sogenannte Möwen-Schwingen-Anordnung. Dennoch können die An
schlußdrähte 18, 20 ebenso in der ähnlichen "J"-Anordnung
gebogen werden, wobei das untere Ende jedes Anschlußdrahtes
zurück in Richtung oder in eine schmale Ausnehmung in der
unteren Fläche der Einkapselung 52 gebogen ist. In jedem
Fall (z. B. der "Möwen-Schwingen"-Anordnung oder der "J"-Form)
ist es erforderlich, daß die Enden 64 der Anschluß
drähte, die die Befestigungs-Kontaktfelder 66 der PC-Leiter
platte verbinden sollen, eine untere Fläche aufweisen, die
im wesentlichen koplanar mit der unteren Fläche 54 des Kam
mes 24 ist.
Aufgrund der vorstehenden Ausführungen ist ersichtlich, daß
die Anordnung und das Verfahren gemäß der vorliegenden Ausführungs
formen eine verbesserte Leistungs-Anordnung und/oder ein
Package für den Hochfrequenz-Bereich angibt, insbesondere
eine Anordnung und/oder ein Package, das billige Materialien
und Verfahren verwendet und das eine niedrige thermische und
parasitäre Impedanz aufweist. Weiterhin ermöglichen diese
Ausführungen und Verfahren in Verbindung mit Anordnungen
und/oder Packages geeignete Vorraussetzungen für die Ober
flächenbefestigung.
Die Ausführung führt zu sehr kurzen Anschlußdrähten zwischen
dem Bauelement innerhalb des Package und der äußeren PC-Lei
terplatte, mit der die Anordnung letztlich verbunden wird.
Dieser geringe Abstand reduziert die parasitäre Induktivi
tät, Kapazität und Rückkopplung. Dies führt zu einer verbes
serten Tauglichkeit im Hochfrequenzbereich unter den glei
chen Betriebsbedingungen.
Ein anderer Gesichtspunkt besteht darin,
daß das Bauelement 46 an einen Metallbereich 16, 24 homoge
ner Dicke angebondet wird, der seine untere Fläche 54 frei
liegend außerhalb der Einkapselung 52 im Hinblick auf eine
effiziente Ableitung und Abführung der Wärme aufweist. Hier
durch weist das Package und die Anordnung eine im wesent
lichen niedrige thermische Impedanz auf, so daß die maximale
RF-Ausführung (HF-Ausführung) für eine vorgegebene Verlust
leistung realisiert werden kann.
Ein weiterer Aspekt der vorliegenden Ausführungsform ist die Bil
dung von "H"-förmigen gemeinsamen oder elektrischen Re
ferenz-Anschlußdrähten 20, die die aktiven Anschlußdrähte 18
abschirmen, die bevorzugt zwischen den Armen des "H" aus
Gründen der parasitären Rückkopplung und der Einkopplung in
andere Bereiche des Schaltkreises angeordnet sind. Dies ver
bessert weiterhin die elektrischen Eigenschaften.
Ein weiterer Vorteil der vorliegenden Ausführungsform liegt darin,
daß die Anordnung unter der Verwendung einer minimalen An
zahl von Einzelteilen hergestellt ist, beispielsweise aus
dem aktiven Bauelement, ein Bereich eines einteiligen Lei
terrahmens, den Bonddrähten und der Einkapselung. Der ein
teilige Leiterrahmen ist vergleichbar billig. Beispielsweise
sind die Kosten des Abtragens oder Vertiefens des unbear
beiteten Metallbandes, um die Anordnung, wie sie in den Fig.
13 und 14 und 1 bis 2 gezeigt ist herzustellen, bezogen auf
eine Einheit sehr gering, verglichen mit den Kosten der
Herstellung und des Zusammenbaus, die unter Verwendung eines
keramischen Trägers, Dünnfilmträger oder Trägers mit einer
Vielzahl von Leiterrahmen nach dem Stand der Technik
anfallen.
Weiterhin hat der beschriebene Aufbau des Leiterrahmens
eine im wesentlichen planare obere Fläche 36. Dies erleich
tert sehr das Aufbringen oder Anbonden des Bauelementes und
der Anschlußdrähte oder ähnliches. Weiterhin ist der homogen
in einem Stück ausgeschliffene oder kontinuierlich ge
schweißte Leiterrahmen wesentlich einfacher zu handhaben als
ein aus vielen Teilen bestehender Leiterrahmen und/oder Bau
teile, die als Zwischenkomponenten gefertigt sind, und auf
keramischen Platten oder anderen komplexen Substraten befes
tigt werden. Folglich ist die Anordnung und das Verfahren
gemäß der Ausführungsform sehr gut für die automatisierte Ferti
gung geeignet.
Aufgrund der vorstehenden Ausführungen ist ersichtlich, daß
die Anordnung und das Verfahren nach der Ausführungsform eine ver
besserte Anordnung und/oder ein Package für den hochfrequen
ten Leistungsbereich angibt, insbesondere eine Anordnung
und/oder eine Package-Anordnung, mit der sich geringe Ma
terial- und Fertigungskosten verbinden und die eine geringe
thermische und parasitäre Impedanz aufweist. Weiterhin wer
den Ausführungen und Verfahren in Verbindung mit Anordnungen
und/oder Packages angegeben, die für die Oberflächenbefes
tigung geeignet sind.
Obwohl die vorliegende Erfindung anhand von besonderen Aus
führungsformen erläutert wurde, sind die Grundgedanken in
einem großen Bereich variierbar. Z. B. ist der gezeigte
Kamm 24 als Bereich 28, 30, der zentral angeordnet ist, von
etwa dergleichen Breite von näherungsweise der Breite wie
die Anschlußdrähte 18, 20, die die Arme des "H" bilden, und
die etwa die gleiche Länge aufweisen, wobei dies nicht als
wesentlich anzusehen ist, und der sich längs erstreckende
Kamm 24 kann außerhalb des Zentrums in dem Leiterrahmen 10
angeordnet sein, solange noch ein überstehender Abschnitt 78
vorhanden ist. Obwohl es als bevorzugt anzusehen ist, den
zentralen Kamm 24 vor dem Stanzen oder Ätzen der verschie
denen Öffnungen in dem Band 80, 108 auszuführen, um den
Leiterrahmen mit den Vielfach-Achlüssen zu schaffen, ist
dies nicht als zwangsläufige Maßnahme anzusehen. Der zen
trale Kamm 24 kann gebildet werden, nachdem die verschie
denen Öffnungen und Löcher in dem verbleibenden Band gebil
det worden sind. In dem letzteren Fall müssen die Bereiche
des zentralen Kammes 24 nicht Teil der fertiggestellten An
ordnung bleiben und können im gleichen Verfahrensschritt,
wie die Entfernung der Führungsränder, abgetrennt werden.
Claims (4)
1. Halbleiter-Leistungs-Anordnung für Hochfrequenz-Anwendungen,
mit
mindestens einem Halbleiter-Bauelement (46),
einem metallischen Leiterrahmen (12) zur Aufnahme des Halblei ter-Bauelementes (46), und
einer Einkapselung (52) zum Einkapseln des Halbleiter-Bauele mentes (46) und Teile des Leiterrahmens (12), wobei
der Leiterrahmen (12) einen dünnen Bereich (18, 20) zum Bilden externer elektrischer Verbindungen mit der Anordnung (60) und einen dicken Bereich (24) zur Aufnahme des Halbleiter-Bauele mentes (46) aufweist, und wobei eine obere Fläche (36) des dün nen Bereichs (18, 20) koplanar zur oberen Fläche (36) des dicken Bereichs (24) verläuft,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Leiterrahmen monolithisch und H-förmig ausgebildet ist, wobei der Querbalken des "H" den dicken Bereich (24) enthält, der sich quer von der einen Seite des "H" zu der anderen Seite des "H" erstreckt, und wobei die Arme (20) des "H" Teil des dünnen Bereichs (18, 20) sind und gemeinsame externe elektri sche Verbindungen zu der Anordnung (60) bilden,
daß eine untere Fläche (54) des dicken Bereichs (24) an einer unteren Fläche (56) der Einkapselung (52) freiliegt,
daß zwischen den Armen (20) jeweils mindestens ein Anschlußteil (18), das Teil des dünnen Bereichs (18, 20) ist, angeordnet ist, das mit dem Halbleiter-Bauelement (46) zur Bildung von I/O-Anschlüssen verbunden ist, und
daß die Arme (20) und die Anschlußteile (18) sich solcherart nach unten gebogen erstrecken, daß die unteren Flächen (62) von deren Anschlußenden (64) koplanar zur unteren Fläche (54) des dicken Bereichs (24) verlaufen.
mindestens einem Halbleiter-Bauelement (46),
einem metallischen Leiterrahmen (12) zur Aufnahme des Halblei ter-Bauelementes (46), und
einer Einkapselung (52) zum Einkapseln des Halbleiter-Bauele mentes (46) und Teile des Leiterrahmens (12), wobei
der Leiterrahmen (12) einen dünnen Bereich (18, 20) zum Bilden externer elektrischer Verbindungen mit der Anordnung (60) und einen dicken Bereich (24) zur Aufnahme des Halbleiter-Bauele mentes (46) aufweist, und wobei eine obere Fläche (36) des dün nen Bereichs (18, 20) koplanar zur oberen Fläche (36) des dicken Bereichs (24) verläuft,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Leiterrahmen monolithisch und H-förmig ausgebildet ist, wobei der Querbalken des "H" den dicken Bereich (24) enthält, der sich quer von der einen Seite des "H" zu der anderen Seite des "H" erstreckt, und wobei die Arme (20) des "H" Teil des dünnen Bereichs (18, 20) sind und gemeinsame externe elektri sche Verbindungen zu der Anordnung (60) bilden,
daß eine untere Fläche (54) des dicken Bereichs (24) an einer unteren Fläche (56) der Einkapselung (52) freiliegt,
daß zwischen den Armen (20) jeweils mindestens ein Anschlußteil (18), das Teil des dünnen Bereichs (18, 20) ist, angeordnet ist, das mit dem Halbleiter-Bauelement (46) zur Bildung von I/O-Anschlüssen verbunden ist, und
daß die Arme (20) und die Anschlußteile (18) sich solcherart nach unten gebogen erstrecken, daß die unteren Flächen (62) von deren Anschlußenden (64) koplanar zur unteren Fläche (54) des dicken Bereichs (24) verlaufen.
2. Verfahren zur Bildung einer Halbleiter-Leistungs-Anordnung
für Hochfrequenz-Anwendungen, mit den Stufen:
Herstellung eines monolithischen, metallischen Leiterrahmens (12), der eine im wesentlichen ebene obere Fläche (36) und einen ersten Bereich (18, 20) zur Herstellung von externen elektrischen Verbindungen zu der Anordnung (60) und einen zen tral gelegenen zweiten Bereich (24) zur Aufnahme eines Halbleiter-Bau elementes (46) und Verbindungen damit aufweist, wobei der erste Bereich (18, 20) dünner ausgeführt ist als der zentral gelegene zweite Bereich (24) und wobei der Leiterrahmen (12) H-förmig mit einem Bereich in Form eines Querbalkens (16) des "H" gebil det ist, der den dicken Bereich umfaßt und der sich quer von einer Seite des "H" zu dessen anderer Seite erstreckt, wobei Arme (20) des "H" Teile des dünnen Bereichs (18, 20) sind und gemeinsame äußere elektrische Verbindungen zu der Vorrichtung (60) bilden und wobei zwischen den Armen (20) jeweils minde stens ein Anschlußteil (18), das Teil des dünnen Bereichs (18, 20) ist, angeordnet ist;
Aufbonden eines Halbleiter-Bauelementes (46) auf die obere Fläche (36, 16) des zweiten Bereichs (24);
Herstellung der Verbindungen zwischen dem Halbleiter-Bauelement (46) und dem zweiten Bereich (24) und den Anschlußteilen (18) zur Bildung von I/O-Anschlüssen; und
Einkapselung des Halbleiter-Bauelements (46) und des Leitrrah mens (12) derart, daß der externe elektrische Verbindungsbe reich des ersten Bereichs (18, 20) sich von den Seiten der Ein kapselung (52) heraus erstreckt und eine gegenüber der oberen Fläche (36) liegende untere Fläche (54) des zweiten Bereichs (24) an einer unteren Fläche (56) der Einkapselung (52) frei liegend angeord net ist, und daß die Arme (20) und die Anschlußteile (18) sich solcherart nach unten gebogen erstrecken, daß die unteren Flä chen (62) von deren Anschlußenden (64) koplanar zur unteren Fläche (54) des dicken Bereichs (24) verlaufen.
Herstellung eines monolithischen, metallischen Leiterrahmens (12), der eine im wesentlichen ebene obere Fläche (36) und einen ersten Bereich (18, 20) zur Herstellung von externen elektrischen Verbindungen zu der Anordnung (60) und einen zen tral gelegenen zweiten Bereich (24) zur Aufnahme eines Halbleiter-Bau elementes (46) und Verbindungen damit aufweist, wobei der erste Bereich (18, 20) dünner ausgeführt ist als der zentral gelegene zweite Bereich (24) und wobei der Leiterrahmen (12) H-förmig mit einem Bereich in Form eines Querbalkens (16) des "H" gebil det ist, der den dicken Bereich umfaßt und der sich quer von einer Seite des "H" zu dessen anderer Seite erstreckt, wobei Arme (20) des "H" Teile des dünnen Bereichs (18, 20) sind und gemeinsame äußere elektrische Verbindungen zu der Vorrichtung (60) bilden und wobei zwischen den Armen (20) jeweils minde stens ein Anschlußteil (18), das Teil des dünnen Bereichs (18, 20) ist, angeordnet ist;
Aufbonden eines Halbleiter-Bauelementes (46) auf die obere Fläche (36, 16) des zweiten Bereichs (24);
Herstellung der Verbindungen zwischen dem Halbleiter-Bauelement (46) und dem zweiten Bereich (24) und den Anschlußteilen (18) zur Bildung von I/O-Anschlüssen; und
Einkapselung des Halbleiter-Bauelements (46) und des Leitrrah mens (12) derart, daß der externe elektrische Verbindungsbe reich des ersten Bereichs (18, 20) sich von den Seiten der Ein kapselung (52) heraus erstreckt und eine gegenüber der oberen Fläche (36) liegende untere Fläche (54) des zweiten Bereichs (24) an einer unteren Fläche (56) der Einkapselung (52) frei liegend angeord net ist, und daß die Arme (20) und die Anschlußteile (18) sich solcherart nach unten gebogen erstrecken, daß die unteren Flä chen (62) von deren Anschlußenden (64) koplanar zur unteren Fläche (54) des dicken Bereichs (24) verlaufen.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Mehrzahl von einzelnen monolithischen Leiterrahmen (12) in Form
eines Bandes (80) miteinander verbunden sind, wobei die einzel
nen Leiterrahmen (12) durch längsverlaufende seitliche Füh
rungsränder (22) gestützt oder gehalten werden, und Bildung des
dickeren und dünneren Bereichs durch Druckschweißen eines
dickeren zentralen Kammes (106) entlang einer Längsachse des
Bandes (80) entweder vor oder nach dem Stanzen oder Ätzen des
streifenförmigen Bandes (80), um die einzelnen monolithischen
Leiterrahmen (12) herzustellen.
4. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Mehrzahl von einzelnen monolithischen Leiterrahmen (12) in Form
eines Bandes (80) miteinander verbunden sind, wobei die einzel
nen Leiterrahmen (12) durch längsverlaufende seitliche Füh
rungsränder (22) gestützt oder gehalten werden, und Bildung des
dickeren und dünneren Bereiches durch Abtragen von Metall von
diesen Bereichen des Bandes (80), um die dünneren Bereiche (18,
20) zu bilden, entweder vor oder nach dem Stanzen oder Ätzen
des streifenförmigen Bandes (80), um die einzelnen monolithi
schen Leiterrahmen (12) herzustellen, wobei ein dickerer zentra
ler Kamm (24) entlang einer Längsachse des Bandes (80) ver
bleibt, um die dickeren Bereiche (24) zu bilden.
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Legal Events
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
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