DE4034365A1 - Verfahren zur herstellung freitragender mikrostrukturen - Google Patents
Verfahren zur herstellung freitragender mikrostrukturenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung freitra
gender Mikrostrukturen nach dem Oberbegriff des Pa
tentanspruchs 1.
Aus der EP 01 04 685 ist ein Verfahren zur Herstellung einer
Maske für die Mustererzeugung in der Röntgenstrahllithographie
bekannt. Dabei wird die Maske (= Mikrostruktur) auf drei
Trägerschichten aufgebaut. Das Ergebnis des Verfahrens ist
dann die Mikrostruktur auf einer Trägerschicht.
Nachteilig bei diesem Verfahren ist, daß die Mikrostruktur mit
der Folie verbunden bleibt, die bei der Verwendung der
Mikrostruktur stören kann. So werden z. B. für die Herstellung
von Filtern Mikrostrukturen benötigt, die nicht mit einer Fo
lie verschlossen sind.
In den Kleinneubacher Berichten Nr. 29 (1986) auf den Seiten
501 bis 505, herausgegeben vom Fernmeldetechnischen Zentralamt,
Postfach 5000, 6100 Darmstadt, wird von H.-P. Gemünd ein Ver
fahren beschrieben, mit dessen Hilfe Mikrostrukturen auf einer
Galvanikstartschicht hergestellt werden, die mit einer Glas
platte verbunden ist. Die Mikrostrukturen werden dann mecha
nisch von der Glasplatte getrennt.
Nachteilig bei diesem Verfahren ist, daß die vorgesehene Form
empfindlicher Mikrostrukturen bei der mechanischen Trennung
von der Glasplatte leicht in ungewünschter Art und Weise ver
ändert werden kann.
Die Erfindung hat die Aufgabe, ein Verfahren der gattungsge
mäßen Art so zu modifizieren, daß Mikrostrukturen innerhalb
weniger Minuten von dem Substrat getrennt werden können, auf
dem sie hergestellt worden sind, ohne daß es zu Beeinträchti
gungen der Strukturen kommt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch den kennzeichnenden
Teil des Patentanspruchs 1 gelöst. Die Unteransprüche geben
vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung wieder.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Fig. 1 bis 7 und
dreier Ausführungsbeispiele näher erläutert.
Dabei zeigen die Fig. 1 bis 7 die einzelnen Verfahrens
schritte.
Auf einer ca. 0,5 mm dicken Siliziumscheibe als Substrat 1 mit
einem Durchmesser von ca. 100 mm wurde eine Trennschicht 2 aus
Kohlenstoff 20 nm dick aufgedampft. Bei dieser Kohlenstoffbe
schichtung wurde der Rand der Siliziumscheibe 1 frei belassen
(Fig. 1). Trennschicht 2 und Rand der Siliziumscheibe wurden
durch Magnetronsputtern mit einer 3 µm dicken Opferschicht 3
aus Titan beschichtet.
Die Dicke der Trennschicht 2 sollte vorteilhafterweise zwi
schen 10 und 30 nm liegen. Es ist auch möglich, Kohlenstoff
mehr als ca. 50 nm bis 150 nm dick durch Magnetronsputtern
aufzustäuben statt ihn aufzudampfen. Die Dicke der Titan
schicht 3 liegt vorteilhafterweise zwischen 2 und 10 µm.
Auf dieser Opferschicht 3 wurden mit den bekannten Methoden
des LIGA-Verfahrens (E. W. Becker et al, Microcircuit
Engineering 4 (1986) Seiten 35 bis 56) durch Röntgentiefen
lithographie und galvanische Abscheidung von Kupfer aus einem
Fluoroborat-Elektrolyten Mikrostrukturen 4 mit 40 µm Dicke
hergestellt, die so mit Schlitzaperturen perforiert sind, daß
sich später ein Infrarotfilter ergab (Fig. 2). Die Dicke der
Strukturen 4 kann in einem Bereich von ca. 1 bis 400 µm lie
gen.
Diese Strukturen 4 wurden mit einem Saphir gefüllten 2-Kom
ponenten-Kleber mit festen, ca. 2,5 mm dicken, ringförmigen
Rahmen als Haltestruktur 5 aus Elektrolytkupfer mit einem In
nendurchmesser von 15 mm und einem Außendurchmesser von 20 mm
verbunden (Fig. 3).
Der mit Saphir gefüllte Klebstoff eignet sich auch noch für
Anwendungen, bei denen die Verbindung von Mikrostruktur 4 und
Rahmen 5 kryogenen Temperaturen bis 3 K standhalten muß. Bei
Anwendungen, bei denen nicht so extreme Temperaturen auf die
Klebeverbindung wirken, sind Kleber auf Epoxidbasis ebenfalls
geeignet.
Die Verwendung eines Klebers für die Verbindung von
Mikrostruktur 4 und Haltestruktur 5 hat den Vorteil, daß die
Mikrostruktur 4 nicht so hohen Temperaturen ausgesetzt werden
muß wie bei anderen Verbindungsverfahren wie z. B. Diffu
sionslöten oder -schweißen oder anodisches Bonden. Bei der
Verbindung von einer Mikrostruktur 4 mit einer Haltestruktur
5, die aus einem anderen Material besteht als die Mikrostruk
tur 4, kann durch die Verwendung eines Klebers die Ausbildung
thermischer Spannungen zwischen Mikrostruktur 4 und Hal
testruktur 5 weitgehend vermieden werden.
Um den Rahmen 5 herum wurde auf die Opferschicht 3 ein Klebe
band aufgeklebt. Beim anschließenden Entfernen des Klebebandes
blieb die Opferschicht 3 an ihm hängen und wurde so von der
Siliziumscheibe entfernt (Fig. 4). Die Mikrostruktur 4 mit
Rahmen 5 wurde dann zusammen mit der Opferschicht 3 von der
Siliziumscheibe gelöst, indem der Rahmen von ihr abgehoben
wurde (Fig. 5).
Der Kohlenstoff der Trennschicht 2 verblieb größtenteils auf
der Opferschicht und wurde in einem Sauerstoffplasma verbrannt
(Fig. 6). Die Mikrostruktur 4 wurde mit dem Rahmen 5 in eine
flußsäurehaltige Lösung getaucht, in der sich die Opferschicht
3 innerhalb weniger Sekunden auflöste (Fig. 7).
Dieses Verfahren hat den Vorteil, daß freitragende Mikrostruk
turen hergestellt werden können und daß diese Mikrostrukturen
bei der Ablösung vom Substrat durch die Opferschicht und den
festen Rahmen stabilisiert werden, so daß sich ungewünschte,
durch die Ablösung vom Substrat bedingte Veränderungen der
Form der Mikrostrukturen vermeiden lassen. Das mechanische Ab
lösen von Mikrostrukturen und Opferschicht vom Substrat wird
dadurch erleichtert, daß an der relativ dicken Haltestruktur
Werkzeuge angesetzt werden können. Durch das Herstellungsver
fahren bedingte, in der Mikrostruktur etwa vorhandene Zugspan
nungen werden nach der Ablösung vom Substrat und Entfernung
der Opferschicht vom festen Rahmen aufgenommen, so daß sich
hieraus keine Formveränderungen der Mikrostruktur ergeben. Die
nach der Ablösung vom Substrat zugängliche große Oberfläche
der Opferschicht und ihre geringe Dicke ermöglichen die
schnelle Entfernung der Opferschicht innerhalb weniger Sekun
den.
In einem weiteren Anwendungsbeispiel wird die Herstellung ei
nes mechanischen Partikelfilters für Flüssigkeiten beschrie
ben: Auf eine Glasscheibe 1 wurde eine ca. 0,5 µm dicke
Kupferschicht 3 durch Magnetronsputtern aufgestäubt. Auf die
ser Kupferschicht wurde mit den bekannten Methoden des LIGA-
Verfahrens eine ca. 200 µm hohe wabenförmige Netzstruktur 4
mit ca. 100 µm großen Öffnungen und 7 µm breiten Stegen aus
Nickel hergestellt.
Auf diese Netzstruktur 4 wurde mit einem Epoxydkleber eine 1
mm dicke gitterförmige Haltestruktur 5 aus Edelstahl geklebt,
die mit einem geschlossenen ca. 20 · 60 mm großen Rahmen umge
ben war und deren Stegabstand ca. 15 mm bei einer Stegbreite
von 2 mm betrug. Mit der Haltestruktur 5 wurden die
Mikrostruktur 4 und die Kupferschicht 3 von der Glasplatte 1
abgehoben und die Kupferschicht 3 in einer Ätzlösung aus
Kupfer(II)-chlorid und Ammoniak bei Raumtemperatur selektiv
gegen die Mikrostruktur aus Nickel aufgelöst.
Dieses Herstellungsverfahren weist neben den beim ersten An
wendungsbeispiel genannten Vorteilen den Vorteil auf, daß
keine Trennschicht benötigt wird, da sich die Kupferschicht
auch ohne Trennschicht von der Glasplatte löst. Durch die Ver
wendung einer gitterförmigen Haltestruktur wird eine sehr
stabile freitragende Mikrostruktur hergestellt, die bei ihrem
Einsatz als Partikelfilter einem größeren Strömungsdruck
standhalten kann. Auf den Rahmen um die Gitterstruktur herum
kann unter Umständen auch verzichtet werden. Allerdings wird
die Ablösung von der Glasplatte dann erschwert und es besteht
die Möglichkeit, daß die Mikrostruktur bei der Ablösung be
schädigt wird.
Im dritten Anwendungsbeispiel wird die Herstellung eines Hoch
paßfilters im fernen Infrarotbereich beschrieben: auf einer
0,5 mm dicken Siliziumscheibe 1 mit einem Durchmesser von 100
mm wurde eine 2 µm dicke Titanschicht 2 durch Magnetronsput
tern aufgestäubt. Auf dieser Titanschicht 2 wurde eine 2 µm
dicke Nickelschicht 3 aufgalvanisiert. Die aufgalvanisierte
Nickelschicht 3 haftet nur bedingt auf der Titanschicht, so
daß die Titanschicht 2 in diesem Fall als Trennschicht wirkt.
Mit den bekannten Methoden des LIGA-Verfahrens wurde eine ca.
120 µm dicke zusammenhängende Mikrostruktur 4 aus Gold herge
stellt, die mit kreisrunden Löchern in einem hexagonalen Git
ter dichtmöglichst perforiert war. Der Durchmesser der Löcher
betrug dabei 50 µm. Der geringste Abstand der Ränder von je
weils zwei Löchern betrug ca. 5 µm.
Auf diese Goldstruktur wurde ein 2,5 mm dicker Titanrahmen 5
mit einem Innendurchmesser von ca. 15 mm und einem
Außendurchmesser von ca. 20 mm mit einem Saphir gefüllten 2-
Komponenten-Kleber geklebt. Mit dem Rahmen 5 wurden die
Mikrostruktur und die Nickelschicht von der Titantrennschicht
abgehoben. In einer 30%igen Salpetersäurelösung wurde die
Nickelschicht 3 aufgelöst, so daß ein freitragendes Hochpaß
filter für den fernen Infrarotbereich entstand.
Dieses Herstellungsverfahren hat neben den beim ersten Ausfüh
rungsbeispiel genannten Vorteilen den Vorteil, daß die Trenn
schicht vollständig auf der Siliziumscheibe verbleibt und vor
der Auflösung der Nickelschicht nicht von dieser entfernt wer
den muß.
Bezugszeichenliste
1 Substrat
2 Trennschicht
3 Opferschicht
4 Mikrostruktur
5 Haltestruktur
2 Trennschicht
3 Opferschicht
4 Mikrostruktur
5 Haltestruktur
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung freitragender Mikrostrukturen,
bei dem auf ein Substrat mindestens eine Schicht aufge
bracht wird, auf welche dann die Mikrostruktur aufgebaut
wird, dadurch gekennzeichnet, daß
- a) direkt auf der Mikrostruktur (4) eine Haltestruktur (5) aufgebracht wird, dann
- b) die Schicht (Opferschicht (3)) mit der Mikrostruktur (4) und der Haltestruktur (5) vom Substrat (1) abgehoben wird, worauf
- c) die Opferschicht (3) von der mit der Haltestruktur (5) verbundenen Mikrostruktur (4) entfernt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zwi
schen Substrat (1) und Opferschicht (3) eine weitere
Schicht als Trennschicht (2) liegt, welche Schritt b) von
Anspruch 1 erleichtert und welche bei Schritt c) von An
spruch 1 ebenfalls entfernt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Opferschicht (3) aus Titan besteht.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch
gekennzeichnet, daß die Trennschicht (2) aus Kohlenstoff
besteht.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch
gekennzeichnet, daß die Haltestruktur (5) auf die
Mikrostruktur (4) geklebt wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch
gekennzeichnet, daß das Substrat (1) aus Silizium besteht.
7. Verfahren nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch
gekennzeichnet, daß die Mikrostruktur (4) aus einem galva
nisch abscheidbaren Metall besteht.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4034365A DE4034365A1 (de) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | Verfahren zur herstellung freitragender mikrostrukturen |
DE59103890T DE59103890D1 (de) | 1990-10-29 | 1991-10-24 | Verfahren zur Herstellung freitragender Mikrostrukturen. |
EP91118109A EP0483662B1 (de) | 1990-10-29 | 1991-10-24 | Verfahren zur Herstellung freitragender Mikrostrukturen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4034365A DE4034365A1 (de) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | Verfahren zur herstellung freitragender mikrostrukturen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4034365A1 true DE4034365A1 (de) | 1992-04-30 |
DE4034365C2 DE4034365C2 (de) | 1993-03-18 |
Family
ID=6417255
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4034365A Granted DE4034365A1 (de) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | Verfahren zur herstellung freitragender mikrostrukturen |
DE59103890T Expired - Fee Related DE59103890D1 (de) | 1990-10-29 | 1991-10-24 | Verfahren zur Herstellung freitragender Mikrostrukturen. |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE59103890T Expired - Fee Related DE59103890D1 (de) | 1990-10-29 | 1991-10-24 | Verfahren zur Herstellung freitragender Mikrostrukturen. |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0483662B1 (de) |
DE (2) | DE4034365A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10239551A1 (de) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | Daimlerchrysler Ag | Filterkörper für Rußfilter |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4406600C1 (de) * | 1994-03-01 | 1995-04-27 | Kernforschungsz Karlsruhe | Verfahren zur Herstellung eines Filters für elektromagnetische Strahlung |
EP1181239A1 (de) * | 1999-03-31 | 2002-02-27 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung von freitragenden mikrostrukturen, von dünnen flachteilen oder von membranen und verwendung nach diesem verfahren hergestellter mikrostrukturen als widerstandsgitter in einer einrichtung zur messung schwacher gasströmungen |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2832408A1 (de) * | 1978-07-24 | 1980-02-14 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung von praezisionsflachteilen, insbesondere mit mikrooeffnungen |
EP0104685A2 (de) * | 1982-09-01 | 1984-04-04 | Philips Patentverwaltung GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Maske für die Musterzeugung in Lackschichten mittels Röntgenstrahllithographie |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1160258B (de) * | 1961-06-13 | 1963-12-27 | Richard Steding | Verfahren zur Herstellung von Metallfolien auf galvanoplastischem Wege |
DE1303000B (de) * | 1966-07-06 | 1971-01-28 | ||
DE2512086C3 (de) * | 1975-03-19 | 1978-11-30 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Verfahren zur Herstellung freitragender, dünner Metallstrukturen |
-
1990
- 1990-10-29 DE DE4034365A patent/DE4034365A1/de active Granted
-
1991
- 1991-10-24 DE DE59103890T patent/DE59103890D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-10-24 EP EP91118109A patent/EP0483662B1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2832408A1 (de) * | 1978-07-24 | 1980-02-14 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung von praezisionsflachteilen, insbesondere mit mikrooeffnungen |
EP0104685A2 (de) * | 1982-09-01 | 1984-04-04 | Philips Patentverwaltung GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Maske für die Musterzeugung in Lackschichten mittels Röntgenstrahllithographie |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
DE-Z: Kleinnenbacher Berichte Nr. 29(1986), S. 501-505, Hrsg.: Fernmeldetechn. Zentralamt, Postfach 5000, 6100 Darmstadt * |
Z: Microelectronic Engineering 4,(1986) S. 35-56, E.W. Becker, et.al. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10239551A1 (de) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | Daimlerchrysler Ag | Filterkörper für Rußfilter |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4034365C2 (de) | 1993-03-18 |
EP0483662A2 (de) | 1992-05-06 |
EP0483662A3 (en) | 1993-03-03 |
EP0483662B1 (de) | 1994-12-14 |
DE59103890D1 (de) | 1995-01-26 |
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