DE4029258C2 - Optische Abtasteinrichtung zur Erzeugung eines Musters auf einer Abtastfläche - Google Patents
Optische Abtasteinrichtung zur Erzeugung eines Musters auf einer AbtastflächeInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine optische Abtasteinrichtung
gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Eine solche Abtasteinrichtung, wie sie beispielsweise
aus der US-A-4 756 583 bekannt ist, dient zur Erzeugung
eines Musters auf einer Abtastfläche. Um ein Muster mit
hoher Genauigkeit und Auflösung zeichnen zu können, wie
dies beispielsweise für sogenannte Laser-Make-Up-Einrichtungen
(Platinenherstellvorrichtungen) gefordert
wird, muß der Laserstrahl auf einen Punkt fokussiert
werden, der so klein wie möglich ist. Um den Punkt klein
machen zu können, muß die F-Zahl des optischen Systems
klein sein. Infolgedessen wird die Schärfentiefe klein.
Daher muß die Krümmung des Feldes reduziert werden, so
daß der vorgegebene Punktdurchmesser in jedem Punkt der
Abtastfläche eingehalten werden kann.
Da jedoch im Falle eines allgemeinen optischen Abtastsystems
wie beispielsweise eines Laserstrahldruckers der
Laserstrahl auf den polygonalen Spiegel aus einer Richtung
einfällt, die von der optischen Achse des Abtastobjektivs
verschieden ist, verändert sich der Ablenkpunkt
auf der reflektierenden Fläche des polygonalen Spiegels
asymmetrisch um die optische Achse. Daher tritt das Problem
auf, daß die Krümmung des Feldes asymmetrisch auf
der Abtastoberfläche wird und daß eine Korrektur mit einem
bezüglich der optischen Achse symmetrischen Objektiv
nicht durchgeführt werden kann.
Um die Krümmung des Feldes zu reduzieren, kann man die
Änderung des Ablenkpunktes bezüglich der optischen Achse
symmetrisch machen. Die US-A-4 756 585 zeigt eine Abtasteinrichtung
der eingangs genannten Art, bei welcher
der auf die Ablenkeinrichtung einfallende Lichtstrahl in
einer zur Hauptabtastebene senkrechten und die optische
Achse des Abtastobjektivs enthaltenden Ebene liegt, jedoch
unter einem Winkel zur Hauptabtastebene auf die Ablenkeinrichtung
einfällt.
Um das vorstehend beschriebene Problem zu lösen, kann
man eine Konstruktion wählen, bei welcher der Laser
strahl längs der optischen Achse des fR-Objektivs a auf
den polygonalen Spiegel fällt. Da bei diesem Aufbau die
Krümmung des Feldes symmetrisch ist, kann eine Korrektur
bei Verwendung eines bezüglich der optischen Achse symmetrischen
Objektivs durchgeführt werden, wobei der Wert
auch sehr klein wird.
Um jedoch eine solche Konstruktion anwenden zu können,
muß ein statischer Deflektor zur Abtrennung eines auf
den polygonalen Spiegel zu richtenden Strahles von dem
auf ein fR-Objektiv einfallenden Strahl in dem optischen
Weg angeordnet sein.
Die japanische Offenlegungsschrift SHO 60-23616 zeigt
ebenso wie die US-A-4 256 364 eine Konstruktion, bei der
ein Lichtstrahl von einer Lichtquelle auf einen polygonalen
Spiegel durch die optische Achse des Abtastobjektivs
einfällt unter Verwendung eines Polarisationsstrahlteilers
und einer λ/4-Platte.
Es ist zu bemerken, daß bei der Konstruktion gemäß der
Japanischen Offenlegungsschrift SHO 60-233616 ein La
serstrahl zeitweilig auf eine Reflexionsfläche des po
lygonalen Spiegels in einer Hilfsabtastebene abgebildet
wird, um den nachteiligen Effekt zu korrigieren, der
durch einen Neigungsfehler der Reflexionsfläche des po
lygonalen Spiegels bezüglich der Drehachse desselben
hervorgerufen wird.
Da jedoch bei der Ausführungsform der oben genannten
Druckschrift der Einfallswinkel des Lichtstrahles auf
den Polarisationsstrahlteiler entsprechend der Drehung
des polygonalen Spiegels sich ändert, wird auch die
Durchlässigkeit des Polarisationsstrahlteilers graduell
geändert, wenn der Strahl von dem Mittelabschnitt zum
Randabschnitt wandert. Infolgedessen tritt eine Unre
gelmäßigkeit der Lichtmenge auf der Abtastfläche auf.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine optische
Abtasteinrichtung der eingangs genannten Art anzugeben,
bei der unter Vermeidung der vorstehend beschriebenen
Nachteile die asymmetrische Krümmung des Feldes einer
Abtastfläche mit einer relativ einfachen Konstruktion
vermieden und dank einer größeren Regelmäßigkeit der
Lichtmenge auf der Abtastfläche eine Aufzeichnung hoher
Genauigkeit erreicht werden kann.
Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 angegebenen
Merkmale gelöst. Vorteilhafte Ausführungen der Erfin
dung sind in den Unteransprüchen angegeben.
Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben
sich aus der folgenden Beschreibung, welche in Verbin
dung mit den beigefügten Zeichnungen anhand eines Aus
führungsbeispieles erläutert werden. Es zeigen
Fig. 1 eine Draufsicht auf eine optische Ab
tasteinrichtung zur Erläuterung einer
Ausführungsform der vorliegenden Er
findung,
Fig. 2 eine Seitenansicht der Lichtquelle
aus der Richtung der Linie II-II in
Fig. 1,
Fig. 3 eine Seitenansicht der in Fig. 1
dargestellten Einrichtung entlang der
Linie III-III in Fig. 1 und
Fig. 4 eine perspektivische Ansicht zur Er
läuterung der Anordnung der optischen
Elemente der in Fig. 1 dargestellten
Einrichtung.
Zunächst soll die Anordnung der optischen Elemente der
Vorrichtung anhand der Fig. 4 beschrieben werden.
Das dargestellte optische System umfaßt eine Laserdiode
10 als Lichtquelle, eine Kollimatorlinse zur Umwandlung
des von der Laserdiode 10 ausgesandten divergenten
Lichtes in einen parallelen Strahl, einen Spiegel 12
zur Reflexion eines kollimierten Strahles, eine Zylin
derlinse 13 als Abbildungslinse zur Formung eines li
nienförmigen Strahlbildes, einen Prismenblock 20 mit
einem Schlitzspiegel 21 als statischer Deflektor, der
so angeordnet ist, daß er mit der Linienbildposition
des Strahles zusammenfällt, einen polygonalen Spiegel
30 als Abtastdeflektor zum Ablenken eines von dem
Schlitzspiegel 21 reflektierten Strahles, und ein fR-
Objektiv 40 als Abtastobjektiv zum Konvergieren
(Fokussieren) des von dem polygonalen Spiegel 30
reflektierten Strahles und zur Bildung eines Punktes
auf der Abtastoberfläche.
Eine Fläche, in der der Strahl mit Hilfe des polygonalen
Spiegels 30 bewegt wird, wird im folgenden als Hauptab
tastebene bezeichnet. Eine zur Hauptabtastebene verti
kale Fläche, welche die optische Achse des fR-Objektivs
40 enthält, wird im folgenden als Hilfsabtastebene be
zeichnet.
Der Prismenblock 20 hat die Form eines rechteckigen
Parallelepipeds und besteht aus einem dreieckigen Pris
ma 22 und einem trapezförmigen Prisma 23, die miteinan
der verkittet sind. Die Kittfläche trägt den Schlitz
spiegel 21 als totalreflektierenden Spiegel. Dieser ist
in Vakuumaufdampftechnik hergestellt. Der Winkel des
Schlitzspiegels 21 relativ zur Hauptabtastebene beträgt
ca. 45°.
Der von der Laserdiode 10 ausgesandte divergierende
Lichtstrahl wird von der Kollimatorlinse 11 gesammelt.
Der kollimierte Laserstrahl wird auf den Schlitzspiegel
21 durch die Zylinderlinse 13 gebündelt und anschlie
ßend total von dem Schlitzspiegel 21 in Richtung auf
den polygonalen Spiegel 30 reflektiert, wobei er durch
die optische Achse des fR-Objektivs 40 verläuft.
Der von dem polygonalen Spiegel 30 reflektierte und ab
gelenkte Strahl erreicht den Prismenblock 20 mit einer
vorgegebenen Spreizung. Der größte Teil des Strahles
wird durch den den Schlitz 21 umgebenden Bereich hin
durchgelassen und fällt auf das fR-Objektiv 40. Wie in
Fig. 3 dargestellt ist, wird der aus dem fR-Objektiv
40 austretende Strahl unter eine Basis 90 mittels eines
links von der Basis 90 angeordneten Spiegels 51 abge
lenkt und fällt anschließend auf den Spiegel 52, 53, um
einen Punkt zu bilden, der mit einer vorgegebenen Ge
schwindigkeit eine als Abtastfläche dienende Tafel 61
abtastet, die mit Hilfe von Transportrollen 60 zuge
führt wird.
Da sich das Durchlaßvermögen des Schlitzspiegels 21
nicht in Abhängigkeit des Drehwinkels des polygonalen
Spiegels 30 verändert, ergibt sich auch keine Änderung
der Lichtmenge auf der Abtastflä
che mit der Bildhöhe. Wenn anstelle des Prismenblockes 20 ein Polarisa
tionsstrahlteiler verwendet wird, verändert sich die
Lichtmenge auf der Abtastfläche mit der Bildhöhe. Dabei
bezeichnet der Ausdruck "Bildhöhe" im vorliegenden Fall
den Abstand des Strahles von der optischen Achse.
Um eine Lichtmenge auf der Abtastoberfläche zu erhal
ten, ist es vorteilhaft, wenn die Abschwächung oder Ab
dunklung des von dem polygonalen Spiegel zum Abtast
objektiv verlaufenden Strahles vermindert wird. Für
diesen Zweck ist es vorteilhaft, wenn die Schlitzfläche
des Schlitzspiegels so schmal wie möglich gemacht wird.
Im folgenden wird eine tatsächliche Ausführungsform der
entsprechenden optischen Elemente anhand der Fig. 1
bis 3 beschrieben. Gleichzeitig wird die Justierrich
tung jedes optischen Elementes anhand der Fig. 4 er
läutert.
Die in der Fig. 4 angegebenen Koordinaten sind bezüg
lich der Ausbreitungsrichtung des Strahles angegeben,
wobei die Austrittsrichtung des Strahles von der Laser
diode 10 und die Richtung der optischen Achse des fR-
Objektivs 40 als X-Achse definiert sind. Die Richtung
der Drehachse 31 des polygonalen Spiegels 30 bezeichnet
die Z-Achse und die zur X- und Z-Achse senkrechte
Achse ist als Y-Achse definiert.
Die verschiedenen optischen Elemente sind in einigen
Einheiten zusammengefaßt. Jede dieser Einheiten ist auf
der Basisplatte 90 (Fig. 2) befestigt. Eine Spiegeleinheit
100 mit dem Polygonspiegel 30 und einem Motor
zum Antrieb desselben ist unbeweglich fest auf der Ba
sisplatte 90 befestigt.
Eine Lichtquelleneinheit 200 mit der Laserdiode 10, der
Kollimatorlinse 11, dem Spiegel 12, der Zylinderlinse
13 und dem Prismenblock 20 umfaßt eine untere Platte
201, die in Richtung der X-Achse relativ zur Basisplat
te 90 verschiebbar ist, und eine obere Platte 202, die
mittels einer Schwenkbewegung um die X- und die Y-
Achse relativ zur unteren Platte 201 einstellbar ist.
Die untere Platte 201 ist entsprechend der Darstellung
in Fig. 2 in Richtung der Y-Achse durch zwei Anschlag
stifte 203 auf der Basis 90 festgelegt. Sie ist an der
Basis mittels vier Bolzen 204 an ihren vier Ecken befe
stigt. Die vier Bolzen 204 greifen mit einem Gewinde
durch die untere Platte 201 hindurch in die Basisplatte
90 ein. Da die Durchtrittslöcher für die Bolzen 204 in
der unteren Platte 201 größer sind als die Bolzendurch
messer, kann die untere Platte 201 nach dem Lockern der
Bolzen 204 in Richtung der X-Achse entlang den An
schlagzapfen 203 verschoben werden.
Die Einstellung der Lichtquelleneinheit 200 durch Ver
schieben in der X-Richtung dient dazu, den Laserstrahl
auf die Abtastfläche in der Hilfsabtastrichtung zu fo
kussieren wenn der Fokus des Laserstrahls infolge von
Fehlern in der Linsenkrümmung, dem Abstand zwischen
Linsenflächen und dergleichen nicht auf der Abtastflä
che liegt.
Die obere Platte 202 wird in Richtung der X-Achse und
der Y-Achse durch Anschlagzapfen 205 positioniert, die
an drei Stellen der unteren Platte 201 befestigt sind.
Ferner ist die obere Platte 202 an der unteren Platte
201 mit Hilfe von an vier Ecken der oberen Platte 202
angeordneten Befestigungsbolzen 207 befestigt. Die
Spitzen von Einstellbolzen 206, die nahe den Befesti
gungsbolzen 207 angeordnet sind, liegen auf der unteren
Platte 201 auf, wie dies Fig. 1 zeigt. Infolgedessen
kann nach dem Lösen der Befestigungsbolzen 207 durch
Betätigung der Einstellbolzen 206 die obere Platte 207
bezüglich der X- und Y-Achsen relativ zur unteren Plat
te 201 verschwenkt werden.
Die Justierung der Lichtquelleneinheit 200 einschließ
lich des Prismenblockes um die X-Achse wird zur Korrek
tur einer Deformation der Punktform auf der Abtastflä
che und zur Korrektur einer Verschlechterung der Bild
qualität durchgeführt. Sie dient dazu, den Wirkungsgrad
des gesamten Systems zu verbessern, nachdem der Pris
menblock 20 in der X- und der Y-Richtung eingestellt
wurde.
Der Prismenblock 20, der in der Mitte der oberen Platte
befestigt ist, kann in Y-Richtung relativ zur oberen
Platte 202 verschoben werden. Wenn eine Schwächung oder
Verdunklung des Strahles durch den Prismenblock 20 be
rücksichtigt wird, ist es wünschenswert, wenn die Ab
messungen des Schlitzspiegels 21 so klein wie möglich
sind. Die Justierung des Prismenblockes 20 durch Ver
schiebung in der Y-Richtung ist notwendig, um den
Schlitzspiegel 21 mit dem linienförmigen Strahlbild,
das von der Zylinderlinse 13 gebildet wird, zur Deckung
zu bringen. Dies ist insbesondere erforderlich, wenn
die Größe des Schlitzspiegels etwa genau so groß ist
wie die des Linienbildes.
Beiderseits des Prismenblockes 20 sind zwei Beine 210
mit der oberen Platte 202 verschraubt, wobei die Befe
stigung mit Hilfe von Befestigungsschrauben 210a in der
in der Fig. 1 dargestellten Weise erfolgt. Eine hori
zontale Platte 211 überbrückt den Abstand zwischen den
oberen Enden der Beine 210. Unter der horizontalen
Platte 211 sind die beiden Beine 210 durch eine verti
kale Platte 212 miteinander verbunden.
Auf der horizontalen Platte 211 sind ein zylindrischer
Linsentubus 220, in den die Laserdiode 10 und die aus
vier Linsen 11a bis 11d bestehende Kollimatorlinse 11
eingebaut sind, und ein Spiegelträgerabschnitt 230 zur
Halterung des Spiegels 12 befestigt.
Da die genaue Lichtaussendeposition der Laserdiode 10
von Produkt zu Produkt verschieden sein kann, ist die
Anordnung so getroffen, daß die Laserdiode 10 in Y- und
Z-Richtung verstellbar ist, um den Strahl auf die ge
wünschte optische Achse ausrichten zu können.
Die Kollimatorlinse 11 kann in Y-Richtung verschoben
werden, um eine Justierung bezüglich der Laserdiode 10
vornehmen zu können. Die Einstellung erfolgt durch Fo
kussierung des Laserstrahls auf der Abtastfläche in der
Haupttastrichtung, wenn der Fokus des Laserstrahls auf
grund von Fehlern in der Krümmung des Linsensystems, in
den Abständen zwischen den Linsenflächen und derglei
chen nicht auf der Abtastfläche liegt.
Der Spiegel 12 kann um die X-Achse und die Y-Achse ver
stellt werden.
Die vertikale Platte 212 trägt eine Zylinderlinse 13,
die aus der Kombination einer positiven Linse 13a und
einer negativen Linse 13b besteht, die mittels eines
Halters 240 an der vertikalen Platte 212 befestigt
sind.
Da die Eigenschaften der Zylinderlinse 13 von Produkt
zu Produkt aufgrund von Fertigungsfehlern variieren
können, ist eine Vorkehrung getroffen, daß die Linsen
anordnung durch eine Verschiebung in Richtung der opti
schen Achse (X-Achse) und durch eine Drehung um die op
tische Achse eingestellt werden kann. Die erstere Ein
stellung wird durchgeführt, um durch eine Bewegung des
Linienbildes entlang der optischen Achse eine geeignete
Fokussierung auf den Schlitzspiegel zu erreichen. Die
letztere Einstellung wird durchgeführt, um die Richtung
des Linienbildes mit der Richtung des Schlitzspiegels
21 in Übereinstimmung zu bringen.
Die Teile von der Laserdiode bis zum Prismenblock 20
sind in einer Einheit zusammengefaßt, die von den übri
gen Teilen unabhängig ist. Durch diese Anordnung kann
die Genauigkeit des Gerätes verbessert und eine Ver
schiebung zwischen den das Linienbild des Strahles bil
denden Teilen und dem Schlitzspiegel 21 verhindert wer
den.
Die Linseneinheit 300 umfaßt ein fR-Objektiv 40 be
stehend aus drei anamorphotischen Linsen 41, 42 und 43
und einem Linsenträger 301, auf dem diese Linsen befe
stigt sind. Der Linsenträger 301 liegt an Anschlagzap
fen 302 an, die an zwei Stellen der Basisplatte 90 be
festigt sind. Dadurch ist der Linsenträger 301 in X-
Richtung positioniert. Ferner ist er an der Basisplatte
90 mit Hilfe von Bolzen 303 an seinen vier Ecken befe
stigt.
Infolgedessen kann durch Lockern der Befestigungsbolzen
303 der Linsenträger 301 in der Y-Achse unter Verwen
dung eines Anschlagzapfens 302 als Führung verschoben
werden.
Die drei anamorphotischen Linsen 41, 42 und 43 sind in
Z-Richtung relativ zum Linsenträger 301 durch Andrücken
einer Federplatte 311 festgelegt, die wiederum durch
eine Druckplatte 310 angedrückt wird, welche die mitt
lere Linse 42 überdeckt. Die mittlere Linse ist dabei
durch Verschwenken um die X- und Y-Achse einstellbar
gelagert.
Eine Einstellung des fR-Objektivs 40 erfolgt, um eine
Kippung eines Bildes infolge von Verschiebungsfehlern
und eine Verschlechterung der Bildqualität zu korrigie
ren.
An dem Linsenträger 301 sind an den Stellen, welche den
vier Ecken der Druckplatte 310 entsprechen, mit Hilfe
von Schrauben Trägerstifte 312 befestigt, welche ge
ringfügig länger als die Höhe des Objektivs sind, wie
man in Fig. 3 erkennen kann. Die Druckplatte 310 ist
an den Trägerstiften 312 mit Hilfe von Befestigungsbol
zen 313 befestigt.
Die einzelnen Linsen sind durch Positionierungszapfen
320, 320 und L-förmige Fixierungsplatten 321, 321 posi
tioniert, die an dem Linsenträger 301 jeweils durch
zwei Bolzen befestigt sind. Infolgedessen sind die Lin
sen in der X- und der Y-Richtung relativ zum Linsenträ
ger 301 festgelegt.
Eine Position für den Anschlag- oder Positionierungs
zapfen 203 zur Positionierung der Lichtquelleneinheit
200 und eine Position für den Anschlagzapfen 302 zur Po
sitionierung der Linseneinheit 300 werden bezüglich der
Drehachse des polygonalen Spiegels 30 festgelegt.
Ein Monitorsystem zur Erfassung der Drehstellung des
polygonalen Spiegels 30 ist auf der Basis 90 angeord
net, wie dies Fig. 2 zeigt. Das Monitorsystem besteht
aus einer Monitorlichtquelleneinheit 400 zur Aussendung
eines Monitorstrahles, und einer Monitorstrahl-Empfangs
einheit 500 zum Empfang eines Monitorstrahles, der von
dem polygonalen Spiegel 30 reflektiert wird. Das Moni
torsystem verwendet eine andere Reflexionsfläche des
polygonalen Spiegels 30 als für die Reflexion des von
der Laserdiode 10 ausgesandten Laserlichtes verwendet
wird.
Die Monitorlichtquelle sendet einen Laserstrahl in
Richtung auf die Drehachse des polygonalen Spiegels 30
aus. Das von dem polygonalen Spiegel reflektierte Licht
läuft über eine nicht dargestellte lichtdurchlässige
Skala der Empfangseinheit 500. Die Empfangseinheit 500
hat einen Lichtsammelabschnitt zur Sammlung des die
Skala durchsetzenden Lichtes und ein Lichtempfangsele
ment zum Empfang des gesammelten Lichtes und zur Aus
sendung eines die Drehung des polygonalen Spiegels an
zeigenden Signales.
Claims (7)
1. Optische Abtasteinrichtung umfassend eine Laser
strahlquelle (10) zur Aussendung eines Laserstrahls,
eine die Abtastbewegung erzeugende Ablenkeinrichtung
(30) zum Ablenken des Laserstrahls in einer Hauptabtastebene,
ein Abtastobjektiv (40) zum Abbilden des
abgelenkten Laserstrahls in Form eines Punktes auf
einer Abtastfläche (61) und eine Zylinderlinse (13),
die den von der Laserstrahlquelle (10) ausgesandten
Laserstrahl vor dem Einfallen desselben auf die Ablenkeinrichtung
(30) zu einem linienförmigen Strahlbild
formt, das sich in der Hauptabtastebene erstreckt, gekennzeichnet
durch einen statischen Deflektor in
Form eines streifenförmigen Spiegels (21), der auf
einer transparenten Trägerfläche am Ort des sich parallel
zur Ablenkrichtung des Laserstrahles auf der Abtastfläche erstreckenden Linienbildes
so angeordnet und ausgebildet ist, daß er den
von der Lichtquelle (10) kommenden Strahl entlang
der optischen Achse des Abtastobjektivs (40) zur Ablenkeinrichtung
(30) leitet, wobei der von der
Ablenkeinrichtung (30) abgelenkte Strahl durch die
Trägerfläche hindurchtritt, eine
Halterungseinrichtung (201, 202), die mindestens die
Laserstrahlquelle (10), die Zylinderlinse (13) und
den statischen Deflektor (21) zu einer von den
anderen optischen Elementen der optischen
Abtasteinrichtung getrennten Einheit miteinander
verbindet, und Mittel (203, 204, 205, 206, 207) zum
Justieren der Halterungseinrichtung (201, 202)
gegenüber den anderen Elementen der optischen
Abtasteinrichtung.
2. Abtasteinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Justiermittel einen Verschiebemechanismus
(203, 204) zum Verschieben der Halterungseinrichtung
(201, 202) in Richtung der optischen
Achse des Abtastobjektivs (40) umfassen.
3. Abtasteinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Justiermittel einen Verschiebemechanismus
zum Verschieben der Halterungseinrichtung
in einer Richtung im wesentlichen senkrecht
zur optischen Achse des Abtastobjektivs (40)
umfassen.
4. Abtasteinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Justiermittel einen
Schwenkmechanismus (206, 207) zum Verschwenken der
Halterungseinrichtung (202) um eine Schwenkachse (X)
umfassen, die parallel zur optischen Achse des Abtastobjektivs
(40) gerichtet ist.
5. Abtasteinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Justiermittel einen
Schwenkmechanismus (206, 207) zum Verschwenken der
Halterungseinrichtung (202) um eine Schwenkachse (Y)
umfassen, die im wesentlichen senkrecht zur optischen
Achse des Abtastobjektivs (40) in der Hauptabtastebene
liegt.
6. Abtasteinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die Justiermittel einen
Schwenkmechanismus zum Verschwenken der Halterungseinrichtung
(201, 202) um eine Schwenkachse umfassen,
die im wesentlichen senkrecht zur optischen
Achse des Abtastobjektivs (40) in der Hilfsabtastebene
liegt.
7. Abtasteinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerfläche eine
unter 45° gegenüber der Hauptabtastebene geneigte
Grenzfläche zwischen zwei transparenten Prismen (22,
23) ist, die zusammen einen quaderförmigen
Prismenblock (20) mit senkrecht zur optischen Achse
des Abtastobjektivs (40) gerichteten Endflächen
bilden.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23915089A JP2772556B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 走査式光学装置 |
JP23914989A JP2772555B2 (ja) | 1989-09-14 | 1989-09-14 | 走査式光学装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4029258A1 DE4029258A1 (de) | 1991-03-28 |
DE4029258C2 true DE4029258C2 (de) | 1994-01-13 |
Family
ID=26534104
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4029258A Expired - Fee Related DE4029258C2 (de) | 1989-09-14 | 1990-09-14 | Optische Abtasteinrichtung zur Erzeugung eines Musters auf einer Abtastfläche |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5218461A (de) |
DE (1) | DE4029258C2 (de) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2790206B2 (ja) * | 1990-09-14 | 1998-08-27 | 富士写真フイルム株式会社 | フイルム画像入力装置 |
GB2253714B (en) * | 1991-01-16 | 1994-05-11 | Asahi Optical Co Ltd | Preventing ghosting in scanning optical system |
JP3052686B2 (ja) * | 1993-09-02 | 2000-06-19 | 日産自動車株式会社 | レーザ距離測定装置 |
US5459325A (en) * | 1994-07-19 | 1995-10-17 | Molecular Dynamics, Inc. | High-speed fluorescence scanner |
JP3335259B2 (ja) * | 1994-10-27 | 2002-10-15 | 旭光学工業株式会社 | 反射型走査光学装置 |
JP3288873B2 (ja) * | 1994-10-27 | 2002-06-04 | 旭光学工業株式会社 | 走査光学装置のミラー固定構造 |
JP3335258B2 (ja) * | 1994-10-27 | 2002-10-15 | 旭光学工業株式会社 | 反射型走査光学装置 |
US5763870A (en) * | 1996-12-13 | 1998-06-09 | Hewlett-Packard Company | Method and system for operating a laser device employing an integral power-regulation sensor |
DE19735943A1 (de) * | 1997-08-19 | 1999-03-11 | Gottlieb Nestle Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zur Verschwenkung eines Gegenstandes oder Werkstückes |
WO2000033057A1 (en) | 1998-11-25 | 2000-06-08 | Phormax Corporation | Dual-head phosphor screen scanner |
TWI238389B (en) * | 2001-11-21 | 2005-08-21 | Ind Tech Res Inst | High density micro-optical pickup head |
US20050012057A1 (en) * | 2003-05-08 | 2005-01-20 | Alara, Inc. | Method and apparatus for radiation image erasure |
US7075100B2 (en) * | 2003-09-22 | 2006-07-11 | Honeywell International Inc. | Confocal scanner system and method |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54111362A (en) * | 1978-02-20 | 1979-08-31 | Canon Inc | Two-dimensional scanning optical system |
JPH0672981B2 (ja) * | 1985-07-31 | 1994-09-14 | 株式会社リコー | 光ビ−ム走査光学系 |
JPH0627904B2 (ja) * | 1986-02-06 | 1994-04-13 | 旭光学工業株式会社 | レーザービームの走査光学系 |
JPS6467073A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Picture signal correcting method |
US4961079A (en) * | 1989-01-03 | 1990-10-02 | Eastman Kodak Company | Laser printer having athermalized optical heads |
-
1990
- 1990-09-14 DE DE4029258A patent/DE4029258C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-14 US US07/582,155 patent/US5218461A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5218461A (en) | 1993-06-08 |
DE4029258A1 (de) | 1991-03-28 |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: SCHAUMBURG, K., DIPL.-ING. THOENES, D., DIPL.-PHYS |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: PENTAX CORP., TOKIO/TOKYO, JP |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |