DE3940405A1 - Objekttraegervorrichtung und damit ausgestattetes roentgenstrahlenbelichtungsgeraet - Google Patents
Objekttraegervorrichtung und damit ausgestattetes roentgenstrahlenbelichtungsgeraetInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Objektträgervorrichtung
für den Einsatz auf dem Gebiet der Herstellung von Halblei
ter-Mikroschaltungsvorrichtungen sowie auf ein Röntgenstrah
lenbelichtungsgerät, in dem eine solche Objektträgervorrich
tung verwendet wird. Im einzelnen betrifft die Erfindung ein
Röntgenstrahlenbelichtungsgerät für das Belichten eines
Halbleiterplättchens mit in Synchrotronstrahlung enthaltenen
Röntgenstrahlen durch eine Maske hindurch.
Synchrotronstrahlungen enthalten Röntgenstrahlen. Auf dem
Gebiet der Synchrotronstrahlungs-Lithografie, bei der ein
Halbleiterplättchen über eine Maske mit den in der Synchro
tronstrahlung enthaltenen Röntgenstrahlen belichtet wird,
ist eine Objektträgervorrichtung für die Lageeinstellung des
Plättchens mit einer Staudruck-Lagervorrichtung ausgestat
tet, in der als Arbeitsströmungsmittel Luft verwendet wird.
Ferner ist das Belichtungsgerät (Ausrichtgerät) als ganzes
einschließlich dieser Plättcheneinstellungs-Objektträgervor
richtung von einer gewünschten Gasatmosphäre umgeben, wie
beispielsweise von Unterdruck-Heliumgas. Eine solche Luftla
gervorrichtung wird verwendet, um den Erfordernissen hin
sichtlich höherer Genauigkeit, höherer Haltbarkeit und
verringerter Möglichkeit zur Staubentwicklung zu genügen.
Die umgebende Gasatmosphäre wie das Unterdruck-Heliumgas
dient dazu, die Abschwächung der Synchrotronstrahlung zu
verringern.
Wenn in einem Röntgenstrahlenbelichtungsgerät eine Stau
druck-Lagervorrichtung, bei der Luft als Arbeitsströmungs
mittel benutzt wird, in einer Umgebung aus Unterdruck-
Heliumgas angeordnet ist, besteht die Möglichkeit, daß die
der Lagervorrichtung zugeführte Luft in die umgebende Unter
druck-Heliumatmosphäre austritt, wodurch die Reinheit des
Heliumgases verringert wird. In diesem Fall ist es daher
erforderlich, zum Aufrechterhalten eines im wesentlichen
konstanten Drucks und einer im wesentlichen konstanten
Reinheit des Heliumgases in einer Kammer, in der das Rönt
genstrahlenbelichtungsgerät untergebracht ist, eine Vorrich
tung zu verwenden, mittels der fortlaufend eine große Menge
an Heliumgas in die Kammer geleitet und andererseits fort
laufend das Heliumgas aus der Kammer ausgelassen werden
kann.
Um jedoch mit einer solchen Vorrichtung die Reinheit des
Heliumgases in der Kammer auf nicht weniger als 99% zu
halten, ist es erforderlich, das Heliumgas in die Kammer in
einer Menge einzuleiten, die 100mal größer ist als die
Menge der der Staudruck-Lagervorrichtung zugeführten Luft.
Dies ergibt der Verbrauch einer großen Menge an teuerem
Heliumgas und führt zu erhöhten Betriebskosten. Ferner ist
für das Auslassen einer großen Gasmenge aus der Kammer eine
Gasauslaßvorrichtung mit hoher Aufnahmefähigkeit erforder
lich. Infolgedessen muß die Vorrichtung als ganze sperrig
sein. Außerdem ist sehr schwierig sicherzustellen, daß
Vibrationen einer solchen Gasauslaßvorrichtung hoher Aufnah
mefähigkeit keine Einwirkung auf die Einstellgenauigkeit der
Objektträgervorrichtung haben. Darüber hinaus entstehen dann,
wenn sich in der Kammer irgendwelche aus der Lagervorrich
tung austretende Luft mit dem Heliumgas mischt, hinsichtlich
der Reinheit des Heliumgases in der Kammer örtliche Un
gleichförmigkeiten, die eine ungleichförmige Belichtung zur
Folge haben.
Der Erfindung liegt infolgedessen die Aufgabe zugrunde, eine
Objektträgervorrichtung und ein damit ausgestattetes Rönt
genstrahlenbelichtungsgerät zu schaffen, bei denen eine
hochgenaue Belichtung mit Synchrotronstrahlung gewährleitet
ist.
Ferner sollen mit der Erfindung eine Objektträgervorrichtung
und ein damit ausgestattetes Röntgenstrahlenbelichtungsgerät
geschaffen werden, bei denen die Menge an zum Aufrechterhal
ten einer erwünschten Heliumatmosphäre abgelassenem Helium
gas beträchtlich verringert werden kann.
Zur Lösung der Aufgabe wird erfindungsgemäß als Arbeitsströ
mungsmittel einer Staudruck-Lagervorrichtung das gleiche Gas
wie das für das Bilden einer gewünschten Atmosphäre in einer
Kammer benutzte verwendet. Ferner wird erfindungsgemäß das
aus der Kammer ausgelassene Gas gereinigt und dann wieder zu
der Staudruck-Lagervorrichtung zurückgeführt.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbei
spielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert,
die eine schematische Blockdarstellung eines Röntgenstrah
lenbelichtungsgeräts gemäß einem Ausführungsbeispiel ist.
Gemäß der Figur wird eine Maske 1 von einer Maskeneinspann
vorrichtung 30 gehalten. Mit 2 ist ein Halbleiter-Plättchen
bezeichnet, auf das für die Herstellung von Halbleiter-
Mikroschaltungsvorrichtungen ein Bildmuster der Maske 1 zu
übertragen ist. Mit 3 ist ein X-Tisch bezeichnet, der in
bezug auf einen Sockel 7 in X-Richtung gemäß der Darstellung
bewegbar ist, während mit 4 ein Y-Tisch bezeichnet ist, der
in bezug auf den X-Tisch 3 gemäß der Darstellung in Y-
Richtung bewegbar ist. Das Plättchen 2 ist an den Y-Tisch 4
angezogen und wird von diesem gehalten. Die Lage des Plätt
chens 2 wird durch Versetzen des X-Tisches 3 und/oder des
Y-Tisches 4 eingestellt. Der X-Tisch 3 und der Y-Tisch 4
sind jeweils mit einer Vielzahl von Statikdruck- bzw. Stau
druck-Lagerkissen für deren Lagerung versehen. Diese Lager
kissen lassen ein gasförmiges Strömungsmittel, nämlich bei
diesem Ausführungsbeispiel Heliumgas ausströmen, wodurch der
X-Tisch 3 statisch an dem Sockel 7 abgestützt wird, während
der Y-Tisch 4 statisch an dem X-Tisch 3 gelagert ist.
An dem Sockel 7 ist eine X-Tisch-Führung 6 angebracht; ein
Linearmotor 8 dient zum Antrieb des X-Tisches 3; an dem X-
Tisch 3 ist eine Y-Tisch-Führung 31 angebracht. Die X-
Tisch-Führung 6 ist den Lagerkissen bzw. Gaskissen 5 des X-
Tisches 3 gegenübergesetzt, während die Y-Tisch-Führung 31
den Gaskissen 5 des Y-Tisches 4 gegenübergesetzt ist. Aus
jedem Gaskissen 5 wird Heliumgas zu der gegenüberliegenden
Fläche hin ausgestoßen. Der Y-Tisch 4 ist mit einem dem
Linearmotor 8 gleichartigen Antriebsmechanismus ausgestat
tet. Dieser Antriebsmechanismus kann durch eine andersartige
Antriebsquelle ersetzt sein, wie z. B. durch einen elektrisch
verstellbaren Zylinderkolben.
Mit 9 ist ein Strahlenleiter für das Einleiten der von einer
Strahlungsquelle 25 erzeugten Synchrotronstrahlung bezeich
net, dessen Inneres auf Hochvakuum gehalten ist, während mit
10 ein Beryllium-Fenster zum Isolieren des Vakuums in dem
Strahlenleiter von der Atmosphäre am Gerät bezeichnet
ist. Die gemäß der vorstehenden Beschreibung gestaltete
Haupteinheit des Ausricht- bzw. Belichtungsgeräts ist durch
eine Kammer 11 in einer Unterdruck-Heliumatmosphäre gehal
ten. Mit 12, 13 und 14 sind Drucksensoren für das Erfassen
von Druck an den jeweiligen Stellen bezeichnet. Mit 15, 16,
17 und 18 sind Servoventile für die Drucksteuerung bezeich
net. Eine Steuereinrichtung 19 nimmt Meßsignale aus den
Drucksensoren auf und gibt Befehle zum Steuern der Servoven
tile ab. Eine Saugpumpe 20 dient zum Absaugen des Heliumga
ses aus der Kammer 11 über das Servoventil 17. Ein Kompres
sor 21 dient zur Druckbeaufschlagung des Heliumgases aus der
Saugpumpe 20. Eine Reinigungsvorrichtung 22 dient zum
Aufrechterhalten einer konstanten Reinheit des aus dem
Kompressor 21 zugeführten Heliumgases. Mit 23 ist ein Spei
cherbehälter für die Aufnahme des mittels der Reinigungsvor
richtung 22 gereinigten Heliumgases bezeichnet. Mit 24 ist
eine Helium-Druckgasflasche bezeichnet.
Im Betrieb treten die in der von der Strahlungsquelle 25
erzeugten Synchrotronstrahlung enthaltenen Röntgenstrahlen
durch das Beryllium-Fenster 10 und die Maske 1 hindurch und
treffen auf das Plättchen 2. Dadurch wird das Muster der
Maske 1 auf das Plättchen 2 übertragen. Zum Verhindern einer
Abschwächung der Synchrotronstrahlung und zum Verbessern des
Durchsatzes bei der Musterübertragung wäre es das beste, die
Maske 1 und das Plättchen 2 im Vakuum zu halten. In diesem
Fall entsteht jedoch um die Maske 1 und das Plättchen 2
herum keine Konvektionsströmung zur Wärmeabfuhr, so daß
daher dann, wenn infolge der Energie der Synchrotronstrah
lung an der Maske 1 und dem Plättchen 2 Wärme entsteht,
diese Wärme in der Maske 1 und dem Plättchen aufgespeichert
wird. Infolgedessen werden die Maske 1 und das Plättchen 2
thermisch verformt, so daß eine Musterübertragung mit hoher
Genauigkeit schwierig zu erreichen ist. In Anbetracht dessen
wird bei diesem Ausführungsbeispiel die Ausrichtgerät-Haupt
einheit in einer Unterdruck-Heliumatmosphäre untergebracht,
in der die Synchrotronstrahlung weniger stark abgeschwächt
wird. Eine thermische Verformung der Maske 1 und des Plätt
chens 2 ist vermieden, wenn die Heliumatmosphäre in der
Kammer 11 einen Druck von nicht weniger als einige kPa
(einige zehn Torr) hat. Falls jedoch der Druck zu hoch ist,
ist es erforderlich, die Dicke des Beryllium-Fensters 10 für
das Trennen des Heliumgases von dem Vakuum zu erhöhen, was
zu einer Abschwächung der Synchrotronstrahlung führt. Daher
ist ein Druck von ungefähr 20 kPa (150 Torr) zweckmäßig.
Andererseits sollen die Lager für den X-Tisch 3 und den Y-
Tisch 4 zum hochgenauen Einstellen eines jeweiligen Aufnah
mebereichs des Plättchens 2 geringe Reibung, hohe Festig
keit, geringe Staubentwicklung und hohe Haltbarkeit haben.
In Anbetracht dessen wird gemäß der Beschreibung eine Stau
druck-Lagervorrichtung verwendet, die eine berührungsfreie
Führungsvorrichtung darstellt. Gewöhnlich wird als Arbeits
strömungsmittel für eine solche Lagervorrichtung Luft ver
wendet. Der Durchlaßfaktor der Luft für die Synchrotron
strahlung ist jedoch ungefähr 1/15 desjenigen des Heliumga
ses (1 Atom und 1 cm Länge); da bei dem Ausführungsbeispiel
zum Verbessern des Durchsatzes die Kammer 11 mit Unterdruck-
Heliumgas gefüllt wird, wird daher bei dem Ausführungsbei
spiel gemäß der vorangehenden Beschreibung als Arbeitsströ
mungsmittel das Heliumgas benutzt.
Als nächstes wird die Umwälzung des Heliumgases erläutert.
Vor Beginn der Umwälzung werden die Kammer 1 und der Spei
cherbehälter 23 evakuiert. Zuerst wird Heliumgas aus der
Druckgasfläche 24 mit einem Druck von ungefähr 8 kg/cm2
zugeführt. Das zugeführte Heliumgas strömt durch das ent
sprechend einem Befehlssignal aus der Steuereinrichtung 19
geöffnete Servoventil 15, wonach der Druck des Gases für das
Zuführen zu den Gaskissen 5 mittels des Servoventils 16 auf
5 kg/cm2 verringert wird, wobei das Öffnen und Schließen des
Servoventils 16 durch die Steuereinrichtung 19 entsprechend
dem von dem Drucksensor 12 erfaßten Wert gesteuert wird. Das
dem jeweiligen Gaskissen 5 zugeführte Heliumgas bildet in
dem Zwischenraum von 5 µm zwischen dem Gaskissen 5 und der
Führung 6 oder 31 einen "Schmierfilm", wodurch der X-Tisch 3
und der Y-Tisch 4 schwebend von der Führung 6 bzw. 31 abhe
ben, während zugleich die Bewegung des jeweiligen Tisches in
irgendeiner anderen Richtung als in seiner Stellrichtung
beschränkt ist. Zum Erhöhen der Festigkeit und zum Verrin
gern der Strömungsrate besteht die Lagervorrichtung aus einem
porösen Material. Das Lagerkissen bzw. Gaskissen 5 hat eine
Fläche von 50 × 70 mm2 und eine Festigkeit von ungefähr 6
kg/cm. Wenn insgesamt 24 Lagerkissen bzw. Gaskissen für den
X-Tisch 3 und den Y-Tisch 4 benutzt werden, beträgt der
Strömungsdurchsatz an Heliumgas einige zehn l/min. Durch das
aus dem Gaskissen 5 ausgestoßene Heliumgas steigt der Druck
in der Kammer 11 an. Der Druck in der Kammer 11 wird mittels
des Drucksensors 13 erfaßt. Wenn der erfaßte Wert gleich 20
kPa (150 Torr) wird, setzt die Steuereinrichtung 19 die
Saugpumpe 20 in Betrieb, um das Auslassen des Heliumgases
aus der Kammer 11 zu beginnen. Die Steuereinrichtung 19
steuert, jedoch auch das Öffnen und Schließen des Servoven
tils 17, um damit die Strömungsrate des abgelassenen Gases
derart zu steuern, daß der Druck in der Kammer 11 ständig
konstant gehalten wird. Dies erfolgt deshalb, weil irgendei
ne Änderung des Heliumgas-Drucks in der Kamera 11 eine
ungleichmäßige Belichtung hervorrufen würde. Das aus der
Saugpumpe 20 ausgestoßene Heliumgas wird mit Druck durch den
Kompressor 21 beaufschlagt, der zur gleichen Zeit von der
Steuereinrichtung 19 in Betrieb gesetzt wird. Darauffolgend
wird das Heliumgas einer bekannten Reinigungsvorrichtung 22
für das Einhalten einer konstanten Reinheit des Heliumgases
zugeführt. Während die Reinheit des Heliumgases in der
Druckgasflasche 24 99,9999% beträgt, wird von der Reini
gungsvorrichtung 22 auf eine Reinheit von nicht weniger als
99,99% gereinigt. Nach der Reinigung wird das Heliumgas in
dem Speicherbehälter 23 aufgenommen, der ein Aufnahmevermö
gen von 40 bis 50 Liter hat. Über den Drucksensor 14 wird
von der Steuereinrichtung 19 der Druckanstieg in dem Spei
cherbehälter 23 erfaßt, wonach die Steuereinrichtung dann,
wenn der Druck gleich 8 kg/cm2 wird, das Servoventil 15
schließt und das Servoventil 18 öffnet. Bei diesem Zustand
ist das Zuführen des Heliumgases aus der Druckgasflasche 24
gesperrt und es beginnt die Umwälzung des Heliumgases über
den vorstehend beschriebenen Weg. Falls der Druck in dem
Speicherbehälter 23 beispielsweise infolge eines Austretens
des Heliumgases aus der Kammer 11 abfällt, wird zum Zuführen
von Heliumgas das Servoventil 15 geöffnet, bis der von dem
Drucksensor 14 erfaßte Wert gleich dem vorgeschriebenen Wert
wird. Bei diesem Zustand wird das Bildmuster der Maske 1 auf
das Plättchen 2 übertragen.
Bei diesem Ausführungsbeispiel wird die Masken/Plättchen-
Belichtung in Unterdruck-Heliumgas vorgenommen, in welchem
die Synchrotronstrahlung weniger stark gedämpft bzw. abge
schwächt ist. Es wird auch eine berührungsfreie, staubfreie,
sehr dauerhafte und sehr genaue Ausrichtung erzielt. Ferner
wird verglichen mit dem Fall, daß das Heliumgas aus der
Kammer einfach abgelassen wird, durch die Umwälzung des
Heliumgases an Verbrauch von teuerem Heliumgas gespart, so
daß daher die Betriebskosten herabgesetzt sind.
Es werden eine Objektträgervorrichtung sowie ein damit
ausgestattetes Röntgenstrahlenbelichtungsgerät angegeben.
Die Objektträgervorrichtung hat einen bewegbaren Objektträ
ger, eine Staudruck-Lagervorrichtung zum Führen der Bewegung
des Objektträgers, eine den Objektträger und die Staudruck-
Lagervorrichtung umschließende Kammer, die das Austreten von
aus der Staudruck-Lagervorrichtung ausströmendem Gas in die
Luft verhindert, eine Auslaßvorrichtung für das Auslassen
des Gases aus der Kammer, eine Druckbeaufschlagevorrichtung
zum Unterdrucksetzen des Gases aus der Auslaßvorrichtung,
eine Reinigungsvorrichtung zum Reinigen des Gases aus der
Druckbeaufschlagevorrichtung auf eine konstante Reinheit,
eine Zuführ- und Umwälzvorrichtung zum Zuführen des Gases
aus der Reinigungsvorrichtung zu der Staudruck-Lagervorrich
tung und zum Umwälzen des Gases und eine Steuereinrichtung
zum Steuern der Zuführ- und Umwälzvorrichtung.
Claims (5)
1. Objektträgervorrichtung, gekennzeichnet durch
einen bewegbaren Objektträger (3, 4),
eine Staudruck-Lagervorrichtung (5) zum Führen der Bewegung des Objektträgers,
eine den Objektträger und die Staudruck-Lagervorrichtung umschließende Kammer (11), die das Austreten von aus der Staudruck-Lagervorrichtung ausströmendem Gas in die Luft verhindert,
eine Auslaßvorrichtung (20) für das Auslassen des Gases aus der Kammer,
eine Druckbeaufschlagevorrichtung (21) zum Unterdrucksetzen des Gases aus der Auslaßvorrichtung,
eine Reinigungsvorrichtung (22) zum Reinigen des Gases aus der Druckbeaufschlagevorrichtung auf eine konstante Rein heit,
eine Zuführ- und Umwälzvorrichtung (12 bis 18, 23) zum Zuführen des Gases aus der Reinigungsvorrichtung zu der Staudruck-Lagervorrichtung und zum Umwälzen des Gases und eine Steuereinrichtung (19) zum Steuern der Zuführ- und Umwälzvorrichtung.
einen bewegbaren Objektträger (3, 4),
eine Staudruck-Lagervorrichtung (5) zum Führen der Bewegung des Objektträgers,
eine den Objektträger und die Staudruck-Lagervorrichtung umschließende Kammer (11), die das Austreten von aus der Staudruck-Lagervorrichtung ausströmendem Gas in die Luft verhindert,
eine Auslaßvorrichtung (20) für das Auslassen des Gases aus der Kammer,
eine Druckbeaufschlagevorrichtung (21) zum Unterdrucksetzen des Gases aus der Auslaßvorrichtung,
eine Reinigungsvorrichtung (22) zum Reinigen des Gases aus der Druckbeaufschlagevorrichtung auf eine konstante Rein heit,
eine Zuführ- und Umwälzvorrichtung (12 bis 18, 23) zum Zuführen des Gases aus der Reinigungsvorrichtung zu der Staudruck-Lagervorrichtung und zum Umwälzen des Gases und eine Steuereinrichtung (19) zum Steuern der Zuführ- und Umwälzvorrichtung.
2. Objektträgervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
net, daß die Zuführ- und Umwälzvorrichtung (12 bis 18,
23) einen Speicherbehälter (23) zur Aufnahme des Gases aus
der Reinigungsvorrichtung (22) und einen Drucksensor (14)
zum Erfassen des Drucks in dem Speicherbehälter aufweist und
daß die Steuereinrichtung (19) das Zuführen des Gases aus
dem Speicherbehälter zu der Staudruck-Lagervorrichtung (5)
einleitet, wenn das Ausgangssignal des Drucksensors gleich
einem vorbestimmten Signal wird.
3. Objektträgervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zuführ- und Umwälzvorrichtung (12
bis 18, 23) ein zwischen der Kammer (11) und der Auslaßvor
richtung (20) angebrachtes Ventil (17) und einen Drucksensor
(13) zum Erfassen des Drucks in der Kammer aufweist und daß
die Steuereinrichtung (19) das Öffnen und Schließen des
Ventils (17) derart steuert, daß das Ausgangssignal des
Drucksensors (13) gleich einem vorbestimmten Signal wird.
4. Röntgenstrahlen-Belichtungsgerät zum Belichten eines
Plättchens mit in einer Synchrotronstrahlung enthaltenen
Röntgenstrahlen durch eine Maske hindurch für das Übertragen
eines Musters der Maske auf das Plättchen, gekennzeichnet
durch
einen bewegbaren Objektträger (3, 4) zum Halten des Plätt chens (2),
eine Staudruck-Lagervorrichtung (5) zum Führen der Bewegung des Objektträgers,
eine den Objektträger und die Staudruck-Lagervorrichtung umschließende Kammer (11), die das Austreten von aus der Staudruck-Lagervorrichtung ausströmendem Gas in die Umge bungsluft verhindert, wobei das Gas im wesentlichen Helium ist und das Innere der Kammer mit Helium gefüllt ist,
eine Auslaßvorrichtung (20) zum Auslassen des Gases aus der Kammer,
eine Druckbeaufschlagevorrichtung (21) zum Unterdrucksetzen des Gases aus der Auslaßvorrichtung
eine Reinigungsvorrichtung (22) zum Reinigen des Gases aus der Druckbeaufschlagevorrichtung auf eine konstante Reinheit und
eine Zuführ- und Umwälzvorrichtung (12 bis 18, 23) zum Zuführen des Gases aus der Reinigungsvorrichtung zu der Staudruck-Lagervorrichtung (5) und zum Umwälzen des Gases.
einen bewegbaren Objektträger (3, 4) zum Halten des Plätt chens (2),
eine Staudruck-Lagervorrichtung (5) zum Führen der Bewegung des Objektträgers,
eine den Objektträger und die Staudruck-Lagervorrichtung umschließende Kammer (11), die das Austreten von aus der Staudruck-Lagervorrichtung ausströmendem Gas in die Umge bungsluft verhindert, wobei das Gas im wesentlichen Helium ist und das Innere der Kammer mit Helium gefüllt ist,
eine Auslaßvorrichtung (20) zum Auslassen des Gases aus der Kammer,
eine Druckbeaufschlagevorrichtung (21) zum Unterdrucksetzen des Gases aus der Auslaßvorrichtung
eine Reinigungsvorrichtung (22) zum Reinigen des Gases aus der Druckbeaufschlagevorrichtung auf eine konstante Reinheit und
eine Zuführ- und Umwälzvorrichtung (12 bis 18, 23) zum Zuführen des Gases aus der Reinigungsvorrichtung zu der Staudruck-Lagervorrichtung (5) und zum Umwälzen des Gases.
5. Röntgenstrahlenbelichtungsgerät nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß das Innere der Kammer (11) mit einer
Unterdruck-Heliumgasatmosphäre gefüllt ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63311459A JPH02156625A (ja) | 1988-12-09 | 1988-12-09 | 直動案内装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3940405A1 true DE3940405A1 (de) | 1990-06-13 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19893940405 Ceased DE3940405A1 (de) | 1988-12-09 | 1989-12-06 | Objekttraegervorrichtung und damit ausgestattetes roentgenstrahlenbelichtungsgeraet |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02156625A (de) |
DE (1) | DE3940405A1 (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0676672A2 (de) * | 1994-04-08 | 1995-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Verarbeitungssystem |
US5516626A (en) * | 1990-04-23 | 1996-05-14 | Tadahiro Ohmi | Resist processing method |
WO1999022272A1 (en) * | 1997-10-23 | 1999-05-06 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Lithographic pneumatic support device with controlled gas supply |
US6616898B2 (en) * | 1998-02-25 | 2003-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing apparatus with pressure control and gas recirculation system |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000349004A (ja) | 1999-06-03 | 2000-12-15 | Canon Inc | 位置決め装置、雰囲気置換方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
CN108872278B (zh) * | 2018-07-11 | 2021-09-21 | 安徽建筑大学 | 一种原位研究水中重金属动态吸附反应的测试装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0178660A2 (de) * | 1984-10-19 | 1986-04-23 | Hitachi, Ltd. | Röntgenstrahlbelichtungsgerät |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP63311459A patent/JPH02156625A/ja active Pending
-
1989
- 1989-12-06 DE DE19893940405 patent/DE3940405A1/de not_active Ceased
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0178660A2 (de) * | 1984-10-19 | 1986-04-23 | Hitachi, Ltd. | Röntgenstrahlbelichtungsgerät |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
US-Z.: J. Vac. Sci. Technol. B3(1) Jan, Feb. 1985, S. 241-244 * |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5516626A (en) * | 1990-04-23 | 1996-05-14 | Tadahiro Ohmi | Resist processing method |
EP0676672A2 (de) * | 1994-04-08 | 1995-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Verarbeitungssystem |
EP0676672A3 (de) * | 1994-04-08 | 1996-07-10 | Canon Kk | Verarbeitungssystem. |
US5871587A (en) * | 1994-04-08 | 1999-02-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing system for semiconductor device manufacture of otherwise |
EP1026549A2 (de) * | 1994-04-08 | 2000-08-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Verarbeitungssystem |
EP1026549A3 (de) * | 1994-04-08 | 2000-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Verarbeitungssystem |
WO1999022272A1 (en) * | 1997-10-23 | 1999-05-06 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Lithographic pneumatic support device with controlled gas supply |
US6616898B2 (en) * | 1998-02-25 | 2003-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing apparatus with pressure control and gas recirculation system |
US6984362B2 (en) | 1998-02-25 | 2006-01-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Processing apparatus, measuring apparatus, and device manufacturing method |
US7566422B2 (en) | 1998-02-25 | 2009-07-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus with tanks storing helium gas and method of manufacturing device using exposure apparatus |
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