DE3816585A1 - Vorrichtung zum plasmaspritzen - Google Patents
Vorrichtung zum plasmaspritzenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Durchführung des
Plasmaspritzverfahrens unter erschwerten Bedingungen.
Beim atmosphärischen Plasmaspritzen wird ein gasförmiger Schutz
mantel aufgebaut, der aus einer ringförmigen Düse vor der Front
seite der Plasmapistole austritt und auf das zu bearbeitende
Werkstück gerichtet ist. Der Nachteil besteht jedoch darin, daß
das austretende Gas für den Schutzmantel mit der umgebenden Atmo
sphäre verwirbelt, wodurch es zu Reaktionen mit den schmelz
flüssigen Pulverpartikeln im Plasmastrahl kommt. Dies ist ins
besondere bei sauerstoffempfindlichen Materialien der Fall. Die
Grenze der zu verwendenden Beschichtungswerkstoffe für das Gas
mantelspritzverfahren ist durch die Reaktionszeit der Elemente der
umgebenden Atmosphäre mit dem schmelzflüssigen Werkstoff gegeben,
das heißt durch einen metallographischen Schliff und dessen Unter
suchung hat das konventionelle atmosphärische Plasmaspritzen
insbesondere in bezug auf die Arbeitsplatz- und Umweltverträglich
keit erhebliche Nachteile. Die hohen Temperaturen bis ca. 20 000°C
bewirken eine starke Strahlung, so daß nur mit entsprechendem
Körperschutz gearbeitet werden darf. Der Lärmpegel liegt aufgrund
der hohen Plasmageschwindigkeit bei ca. 120 dBa, das heißt es
muß in einer Schallkabine gearbeitet werden und das Personal
steht außerhalb der Kabine oder das Personal muß Ohrenschützer
tragen. Darüber hinaus entstehen verfahresnbedingt Spritzpulver
verluste, die durch eine aufwendige Absaugung nach den Richt
linien der TA-Luft entsorgt werden müssen.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde,
eine Vorrichtung zur Durchführung des Plasmaspritzverfahrens unter
erschwerten Bedingungen zu schaffen, insbesondere die Verarbeitung
von Werkstoffen zu ermöglichen, die bisher nur im Versuch ver
arbeitet werden konnten.
Die Lösung der Aufgabe besteht darin, daß bei der erfindungs
gemäßen Vorrichtung um die Austrittsöffnung der Anode, aus der
der Plasmastrahl austritt, eine Ringdüse mit definiertem Ring
spalt angeordnet ist, durch die Wasser mit mindestens 6 bar ge
drückt wird und der Durchmesser der Ringdüse mindestens das
fünffache des Plasmastrahldurchmessers beträgt.
Vorteilhaft beträgt die Temperatur des aus der Ringdüse austreten
den Wassers, das zweckmäßig einen pH von 7 und eine Gesamthärte
von 3° Deutsche Gesamthärte besitzt, etwa 32°C.
Der Vorteil der erfindungsgemäßen Vorrichtung besteht darin, daß
durch den absolut dichten Wassermantel auch bei sehr hohen Pulver
geschwindigkeiten im Plasmastrahl und unter Verwendung sehr reiner
Gase ähnliche Verhältnisse wie in einer Vakuumkammer zum Flamm
spritzen geschaffen werden können. Durch den dichten Abschluß
des Wassermantels entsteht quasi eine Kaverne und die hohen Ge
schwindigkeiten der Gase führen zu einem Einschnüren des Wasser
mantels auf der Wasseroberfläche, so daß auch sauerstoffaffine
Werkstoffe verarbeitet werden können.
Das Wasser bindet darüber hinaus die Spritzpulverluste und es
läßt keine schädliche Strahlung für das Bedienungspersonal
nach außen treten und die Schallquelle ist durch den dichten
Wassermantel abgedeckt.
In der Zeichnung ist eine beispielsweise Ausführungsform der
erfindungsgemäßen Plasmaspritzpistole 11 mit teilweisen Schnitten
dargestellt, wobei die Plasmaspritzpistole 11 an der Vorderseite
eine Anode 12 trägt, aus deren Austrittsöffnung 13 der Plasma
strahl 14 austritt und auf das Werkstück 15 auftrifft. Um die
Anode 12 ist eine Ringdüse 16 mit einem definierten Ringspalt
17 angeordnet. Die Größe des Ringspalts 17 ist nicht kritisch,
sondern muß nur so eingestellt sein, daß aus dem vorderen Ende
18 der Ringdüse 16 ein zusammenhängender Wasserstrahl oder
Wassermantel 19 austritt. Zur Erleichterung der Bildung des
Wassermantels 19 ist die äußere vom Plasmastrahl abgewandte
Seite 20 der Ringdüse 16 länger als die innere Düsenwand 21.
Das vordere Ende 18 der Ringdüse 16, welche den Ringdüsenaus
tritt darstellt, ist zwischen 50 und 100 mm vom Plasmastrahl
austritt 13 aus der Anode 12 entfernt.
Um einen möglichst gleichmäßigen Wassermantel 19 zu erhalten,
ist der Ringspalt 17 am pistolenseitigen Ende der Ringdüse 16
mit vier gleichmäßig über den Umfang der Ringdüse 16 verteilten
Einlaßöffnungen 22 verbunden. Es ist jedoch auch möglich mehr
oder weniger Einlaßöffnungen 22 vorzusehen, was teilweise
auch von dem zur Verfügung stehenden Wasserdruck abhängt.
Die besten Ergebnisse werden erhalten, wenn der Durchmesser
des Ringdüsenaustritts 18 mindestens das fünffache des Durch
messers des Plasmastrahls 14 beträgt und das Wasser eine Tem
peratur von 32°C sowie eine pH von 7 und 3° Deutsche Gesamthärte
besitzt. Diese Werte können aber auch dem Material des Spritz
pulvers entsprechend verändert werden.
Der Wassermantel unterstützt die optimale Temperatureinstellung
der zu beschichtenden Werkstückoberfläche 15, um die spezifischen
Bindemechanismen beim Plasmaspritzen weitgehend zu nutzen.
Durch den auf das Werkstück 15 auftreffenden Wassermantel wird
eine gleichmäßige Wärmeabfuhr rund um den Auftreffpunkt der
schmelzflüssigen Pulverpartikel gewährleistet und eine Oxydation
der Oberfläche des Werkstücks 15 durch die hohe Temperaturbe
lastung des Plasmastrahls wird weitgehend vermieden.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung erlaubt auch ohne weiteres
eine hohe Werkstücktemperatur bei besonderen Werkstoffen, ohne
daß eine Oxydation der Oberfläche eintritt. Die Verhältnisse
sind somit dem dem Vakuum-Plasmaspritzen vergleichbar, denn das
auf die heiße Werkstückoberfläche auftreffende Wasser verdampft
sofort und hat keinen Einfluß auf die aufzubringende Schutz
schicht. Die hohe Geschwindigkeit des Plasmastrahls und der damit
verbundene Einschnüreffekt des Wassermantels an der Auftreff
stelle der aufgeschmolzenen Pulverpartikel sorgen für einen
gleichmäßigen, dichten Schichtauftrag.
Claims (5)
1. Vorrichtung zur Durchführung des Plasmaspritzverfahrens unter
erschwerten Bedingungen, bei dem um die Austrittsöffnung (13)
der Anode (12), aus der der Plasmastrahl (14) austritt, eine
Ringdüse (16) mit definiertem Ringspalt (17) angeordnet ist,
durch die Wasser mit mindestens 6 bar gedrückt wird und der
Durchmesser des Ringdüsenaustritts (18) mindestens das fünffache
des Plasmastrahldurchmessers beträgt, wodurch um den Plasmastrahl
(14) ein Wassermantel (19) entsteht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Temperatur des Wassermantels (19) etwa 32°C beträgt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
das Wasser des Wassermantels (19) einen pH von 7 und mindestens
3° Deutsche Gesamthärte besitzt.
4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß die äußere vom Plasmastrahl (14) abgewandte
Seite (20) des Ringdüsenaustritts (18) länger ist als die innere
Ringdüsenwand (21).
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Ringdüsenaustritt (18) zwischen 50 und 100 mm
vom Plasmastrahlaustritt (13) aus der Anode (12) entfernt ist.
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