DE3644380A1 - Lichtemittierende einrichtung - Google Patents
Lichtemittierende einrichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine lichtemittierende Einrichtung
und betrifft insbesondere eine lichtemittierende Halbleiter
einrichtung, wie eine lichtemittierende Diode oder einen
Halbleiterlaser, um Licht in einer Richtung zu emittieren,
die senkrecht zu einer Hauptfläche eines Substrats verläuft.
Darüber hinaus betrifft die Erfindung einen Halbleiterlaser,
welcher einen Laserstrahl in einer bezüglich einer Haupt
fläche eines Substrats senkrechten Richtung emittieren kann.
Eine lichtemittierende Halbleitereinrichtung, wie eine licht
emittierende Diode oder ein Halbleiterlaser, ist allgemein
bekannt, und weist im allgemeinen ein Halbleitersubstrat
auf, auf welchem eine oder mehrere PN-Übergänge vorgesehen
sind, um einen Aktivierungsbereich zum Emittieren von Licht
festzulegen. Eine lichtemittierende Halbleitereinrichtung,
welche Licht in einer bezüglich einer Hauptfläche eines Sub
strats vertikalen Richtung emittieren kann, ist ebenfalls
bekannt, und diese Art lichtemittierende Halbleiterdiode
wird bevorzugt, da sie ohne weiteres an ein lichtübertragen
des Element, wie beispielsweise eine optische Faser, ange
koppelt werden kann, und hat verschiedene mögliche Anwen
dungsarten, wie beispielsweise eine Anzeigeeinrichtung oder
ein Display.
Fig. 1 und 2 zeigen übliche, herkömmliche lichtemittierende
Halbleitereinrichtungen, welche Licht in vertikaler Richtung
emittieren können. Eine in Fig. 1 dargestellte lichtemittie
rende Einrichtung weist ein Halbleitersubstrat 2 mit einer
an dessen Unterseite angebrachten Elektrode 1 auf. Das Sub
strat 2 weist von unten nach oben eine p-AlGaAs-Schicht 21,
eine p-AlGaAs-Schicht-Aktivierungsschicht 3 und eine
n-AlGaAs-Schicht 22 auf, und eine weitere kreisförmige
Elektrode 5 ist auf der Schicht 22 vorgesehen. Fig. 2 zeigt
eine herkömmliche lichtemittierende Einrichtung, welche ein
Halbleitersubstrat 2 mit einer auf dessen Unterseite ange
brachten Elektrode aufweist. Das Substrat 2 weist von unten
nach oben in der angegebenen Reihenfolge eine n-GaAs-Schicht
24, eine n-GaAsP-Schicht 25 und eine n-GaAsP-Schicht 26 auf;
eine kreisförmige obere Elektrode mit einer lichtemittieren
den Öffnung 51 ist auf der Schicht 26 vorgesehen. Eine Akti
vierungsschicht 3 ist im Inneren der n-GaAsP-Schicht 26 an
einer Stelle unmittelbar unter der lichtemittierenden Öff
nung 51 ausgebildet.
Wie aus Fig. 1 und 2 zu ersehen, weist, selbst wenn es sich
um eine vertikale lichtemittierende Ausführung handelt,
jede herkömmliche lichtemittierende Halbleitereinrichtung
ein oder mehrere PN-Übergänge auf, welche in einem Substrat
festgelegt sind, um eine Aktivierungszone festzulegen, in
welcher die Lichtemission stattfindet und welche sich parallel
zu deren Hauptfläche erstreckt, welche eine Oberfläche mit
einem größeren Bereich ist. Die Aktivierungszone hat übli
cherweise eine Dicke in der Größenordnung von 2 bis 3 Mi
kron. Um folglich eine ausreichend große Ausbeute in der
Intensität von Licht zu erhalten, das in einer zu der Haupt
fläche des Substrats vertikalen Richtung abgegeben wird, ist
eine sehr große Injektionsstromdichte erforderlich. Da die
Aktivierungsschicht 3 sich seitlich oder parallel zu der
Hauptfläche erstreckt und die Lichtemission quer über die
ganze Aktivierungsfläche 3 stattfindet, ist das Licht, das
in der zu der Hauptfläche des Substrats senkrechten Richtung
emittiert wird, geringer, und in der Lichtintensität be
grenzt.
Durch die Erfindung sollen die vorstehend beschriebenen
Nachteile beseitigt werden und eine lichtemittierende Ein
richtung, vorzugsweise eine lichtemittierende Halbleiter
einrichtung, wie eine lichtemittierende Diode oder ein
Halbleiterlaser geschaffen werden, welche Licht in einer
vertikalen Richtung abgibt. Ferner soll eine lichtemittie
rende Halbleitereinrichtung geschaffen werden, welche ohne
weiteres an ein lichtübertragendes Element, wie eine opti
sche Faser, angekoppelt werden kann. Darüber hinaus soll
eine lichtemittierende Halbleitereinrichtung geschaffen
werden, die als Anzeigeeinheit verwendbar ist und welche
Licht mit einer hohen Ausgangsleistung in einer vertikalen
Richtung abgeben kann, im Aufbau einfach ist und folglich
leicht herzustellen ist. Gemäß der Erfindung ist dies bei
einer lichtemittierenden Einrichtung, vorzugsweise einer
lichtemittierenden Halbleitereinrichtung durch die Merkmale
im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 erreicht. Vorteil
hafte Weiterbildungen sind Gegenstand der übrigen Ansprüche.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist
eine lichtemittierende Halbleitereinrichtung geschaffen,
welche ein Halbleitersubstrat mit einer Hauptfläche und
eine Aktivierungszone aufweist, welche in dem Halbleiter
ausgebildet ist und sich in einer zu der Hauptfläche des
Substrats genau senkrechten Richtung erstreckt. Auf diese
Weise verläuft die Aktivierungszone, welche durch eine
oder mehrere in dem Substrat ausgebildete PN-Übergänge
festgelegt ist, mit ihrer Längsrichtung im wesentlichen
senkrecht zu der Hauptfläche des Substrats, so daß ohne
weiteres eine erhöhte Lichtintensität in dem Licht erhal
ten werden kann, das in der Richtung emittiert wird, die
genau senkrecht zu der Hauptfläche des Substrats verläuft.
In der bevorzugten Ausführungsform ist zumindest eine Öff
nung in Form einer Bohrung in dem Substrat ausgebildet, wo
bei deren offenes Ende in der Hauptfläche festgelegt ist.
Die Offnung ist in dem Substrat so ausgebildet, daß ihre
Mittellinie in einer Richtung verläuft, welche genau senk
recht zu der Hauptfläche des Substrats ist. Die aktive Zone
ist dadurch festgelegt, daß Störstellen in das Substrat durch
die Hauptfläche und die Fläche der Öffnung eingebracht wer
den, so daß der aktive Bereich, der senkrecht oder im wesent
lichen senkrecht zu der Hauptfläche des Substrats verläuft,
ausgebildet wird. Die Verstärkung bzw. Ausbeute des emittier
ten Lichts in vertikaler Richtung kann ohne weiteres durch
die Tiefe der Öffnung bzw. des Loches gesteuert werden.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand von bevorzugten Aus
führungsformen unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnun
gen im einzelnen erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 und 2 schematische Schnittansichten von zwei her
kömmlichen lichtemittierenden Halbleiterein
richtungen, welche Licht in vertikaler Rich
tung abgeben können;
Fig. 3 bis 5 schematische Schnittansichten von mehreren
lichtemittierenden Halbleitereinrichtungen
gemäß der Erfindung;
Fig. 6 eine schematische perspektivische Darstellung
einer Anordnung aus lichtemittierenden Halb
leitereinrichtungen gemäß einer weiteren Aus
führungsform der Erfindung;
Fig. 7 eine schematische Schnittansicht einer licht
emittierenden Halbleitereinrichtung gemäß einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung, wobei
ein Ende einer optischen Faser in eine in
einer Oberfläche eines Substrats ausgebildete
Aufnahmeöffnung eingebracht ist;
Fig. 8 eine schematische perspektivische Ansicht
einer Anordnung aus lichtemittierenden Halb
leitereinrichtungen gemäß noch einer weiteren
Ausführungsform der Erfindung, wobei der in
Fig. 7 dargestellte Aufbau verwendet ist;
Fig. 9 eine schematische Schnittansicht noch einer
weiteren herkömmlichen, lichtemittierenden
Halbleitereinrichtung, welche Licht in einer
vertikalen Richtung emittieren kann;
Fig. 10 eine schematische perspektivische Ansicht ei
ner lichtemittierenden Halbleitereinrichtung
zum Emittieren von Licht in einer vertikalen
Richtung gemäß noch einer weiteren Ausführungs
form der Erfindung;
Fig. 11 eine schematische Schnittansicht der in Fig.
10 dargestellten Einrichtung;
Fig. 12a bis 12c schematische Schnittansichten von Stufen
eines Verfahrens zum Herstellen der in Fig.
10 und 11 dargestellten Einrichtung;
Fig. 13 bis 16 schematische Schnittansichten von mehreren
modifizierten Ausführungen;
Fig. 17 eine schematische Schnittansicht eines Halb
leiterlasers zum Emittieren von Licht in ei
ner senkrechten Richtung gemäß einer Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 18 vergrößert einen Teil einer Schnittansicht des
Teils der in Fig. 17 dargestellten Ausführung,
welche mit einem Kreis A gekennzeichnet ist;
Fig. 19 eine schematische Schnittansicht eines Halb
leiterlasers zum Emittieren von Licht in
einer vertikalen Richtung gemäß noch einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 20 vergrößert einen Teil einer Schnittansicht des
Teils der in Fig. 19 wiedergegebenen Ausfüh
rung, welche durch einen Kreis B gekennzeich
net ist, und
Fig. 21 eine schematische Schnittansicht einer Anord
nung von lichtemittierenden Halbleitereinrich
tungen gemäß noch einer weiteren Ausführungs
form der Erfindung.
In Fig. 3 ist schematisch eine lichtemittierende Halbleiter
einrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung dar
gestellt. Die erfindungsgemäße Einrichtung weist ein Halb
leitersubstrat 2 auf, welches in dem dargestellten Beispiel
im allgemeinen eine rechteckige oder kreisförmige Form hat
und welches eine obere und eine untere Hauptfläche aufweist,
welche verhältnismäßig großflächig sind. Das Substrat 2 ist
mit einer durchgehenden Bohrung 4 versehen, welche sich in
einer zu den beiden Hauptflächen des Substrats 2 senkrech
ten Richtung erstreckt. Eine aktive Zone 3 ist in dem Sub
strat entlang einer Seitenwandung 41 der Bohrung 4 festge
legt und die aktive Zone 3 wird üblicherweise dadurch fest
gelegt, daß Störstellenmaterial, wie Zn in das Substrat 2
durch die Seitenwandung 41 hindurch in einer vorherbestimm
ten Tiefe eingebracht wird. Wenn das Störstellenmaterial in
das Substrat 2 durch die Seitenwandung 41 eingebracht wird,
wird es auch in das Substrat 2 über die untere Hauptfläche
eingebracht, so daß die aktive Zone 3 der dargestellten Aus
führungsform nicht nur eine vertikale aktive Zone 31, son
dern auch eine horizontale aktive Zone 32 aufweist. Die hori
zontale aktive Zone 32 ist vom Standpunkt der Erfindung aus
nicht immer notwendig; folglich kann die erfindungsgemäße
lichtemittierende Einrichtung erforderlichenfalls auch ohne
die horizontale aktive Zone 32 ausgeführt werden. Die aktive
Zone ist eine Zone, in welcher eine Rekombination zwischen
Löchern und Elektronen stattfindet, wodurch Licht emittiert
wird.
Eine untere Elektrode 1 ist auf der unteren Hauptfläche des
Substrats 2 und auch in der Seitenwandung 41 fortlaufend aus
gebildet. Eine obere Elektrode 5 in Form eines Ringes oder
mit einer kreisförmigen Öffnung 51, welche im Durchmesser
größer als der Außendurchmesser der vertikalen aktiven Zone
31 ist, ist in der oberen Hauptfläche des Substrats 2 aus
gebildet. Die Öffnung 51 in der oberen Elektrode 5 legt eine
lichtemittierende Öffnung fest, durch welche das von der
vertikalen aktiven Zone 31 emittierte Licht nach außen ge
leitet wird. Das Substrat 2 kann aus einem Material herge
stellt werden, welches aus der Gruppe ausgewählt ist, wel
che im wesentlichen GaAs, AlGaAs, InAsP und InAsSb aufwei
sen, welches zusammengesetzte Halbleitermaterialien der
Gruppe III bis V sind, welches ferner aus einer Gruppe, wel
che im wesentlichen ZnSe, ZnS, ZnO, CdSe und SdTe aufweist,
welches zusammengesetzte Halbleitermaterialien der Gruppe II
bis VI sind, und aus einer Gruppe ausgewählt werden, welche
im wesentlichen PdTe, PdSnTe und PdSnSe aufweist, welche zu
sammengesetzte Halbleitermaterialien der Gruppe IV bis VI
sind.
Obwohl der Begriff "vertikal" verwendet ist, um die aktive
Zone zu bezeichnen, welche angrenzend an die Seitenwandung
41 der durchgehenden Öffnung 4 festgelegt ist, sollte die
aktive Zone 31 nicht nur auf den Fall beschränkt werden,
bei welchem die aktive Zone unter rechtem Winkel bezüglich
der oberen Hauptfläche verläuft. Die vertikale aktive Zone
31 kann auch bezüglich der oberen Hauptfläche, welche die
Fläche ist, durch welche emittiertes Licht zu der Außenseite
des Substrats 2 geleitet wird, nach innen oder außen schräg
verlaufen. In Fig. 4 ist eine abgewandelte Ausführung dar
gestellt, in welcher die durchgehende, in dem Substrat 2
festgelegte Bohrung 4 kegelstumpfförmig ausgebildet ist, so
daß die Seitenwandung 41 der Bohrung 4 und folglich die
vertikale aktive Zone 31, welche entlang der Seitenwandung
41 ausgebildet ist, bezüglich der Mittellinie der durchge
henden Bohrung 4 schräg verläuft. Abgesehen von der Tatsache,
daß die durchgehende Bohrung 4 kegelstumpfförmig ausgebildet
ist, und somit die aktive Zone 31 bezüglich der oberen Haupt
fläche des Substrats 2 geneigt ist, bleibt der übliche Auf
bau derselbe, wie derjenige in Fig. 3. Bei diesem Aufbau
wird das emittierte Licht in der Bewegungs- bzw. Ausbreitungs
richtung konvergent.
In Fig. 5 ist eine lichtemittierende Halbleitereinrichtung
gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung darge
stellt. Ähnlich wie bei dem in Fig. 3 dargestellten Aufbau
weist die erfindungsgemäße Einrichtung ein Halbleitersub
strat 2 auf, welches ebenfalls eine obere und untere Haupt
fläche und eine durchgehende Bohrung 4 hat, welche sich ver
tikal oder im wesentlichen vertikal bezüglich der oberen
Hauptfläche erstreckt. Das Substrat 2 ist mit einer verti
kalen aktiven Zone 31 versehen, welche entlang der Seiten
wandung 41 der durchgehenden Bohrung 4 ausgebildet ist; in
dem Substrat 2 ist bei dieser Ausführungsform keine hori
zontale aktive Zone vorgesehen. Statt dessen ist eine elek
trisch isolierende Schicht 21 auf der unteren Hauptfläche
des Substrats 2, beispielsweise aus SiO2 oder SiN4 ausge
bildet. Beim Vorsehen dieser Isolierschicht 21 dient, wenn
ausgewähltes Störstellenmaterial durch die Seitenwandung
41 in das Substrat 2 diffundiert wird, um die seitliche
aktive Zone 21 auszubilden, die Isolierschicht 21 als eine
Maske, durch welche verhindert wird, daß das Störstellen
material in das Substrat 2 durch dessen untere Hauptfläche
diffundiert wird. Folglich wird bei dieser Ausführungsform
keine seitliche oder horizontale aktive Zone in dem Sub
strat 2 ausgebildet. Außerdem ist eine Unterelektrode 1
ausgebildet, welche auf der Isolierschicht 21 verläuft und
die durchgehende Bohrung 4 ausfüllt. Eine obere Elektrode
5 mit einer kreisförmigen Öffnung 41 ist auf der oberen
Hauptfläche des Substrats 2 ausgebildet. Somit legt die
Öffnung 51 eine lichtemittierende Öffnung fest, durch wel
che das von der vertikalen aktiven Zone 31 emittierte Licht
nach außen geleitet wird. Der säulenförmige Abschnitt der
unteren Elektrode 1, welcher die durchgehende Bohrung 4
ausfüllt, dient auch als Wärmesenke, durch welche von der
aktiven Zone 31 erzeugte Wärme verteilt wird, wodurch die
aktive Zone 31 auf einer verhältnismäßig konstanten Tempe
ratur gehalten wird.
Hierbei gilt, je länger die Längsausdehnung der vertikalen
aktiven Zone 31 ist, um so größer ist die Verstärkung bzw.
Ausbeute an abgegebenem Licht in der vertikalen Richtung,
d.h. einer zu der oberen Hauptfläche des Substrats 2 senk
rechten Richtung, in welcher die lichtemittierende Öffnung
51 vorgesehen ist. Um folglich eine lichtemittierende Ein
richtung hoher Leistung zu schaffen, wird vorzugsweise ein
Substrat 2 verwendet, dessen Dicke so groß wie möglich ist.
Beispielsweise ist die Dicke des Substrats 2 auf mindestens
10 Mikron, oder vorzugsweise auf mindestens 20 Mikron und
noch besser auf mindestens 100 Mikron eingestellt.
In Fig. 6 ist eine Anordnung aus lichtemittierenden Halblei
tereinrichtungen mit einem der in Fig. 3 und 4 dargestell
ten Zusammensetzungen dargestellt. Diese Ausführungsform
kann dadurch hergestellt werden, daß eine Vielzahl durchge
hender Bohrungen 4 in einem einzigen Substrat 2 in Form ei
ner zweidimensionalen Anordnung geschaffen wird, indem bei
spielsweise geätzt wird, ausgewähltes Störstellenmaterial
in das Substrat 2 mindestens durch die Seitenwandung jeder
der Anzahl durchgehender Bohrungen 4 eingebracht wird und
dann obere und untere Elektroden 5 und 1 auf den oberen
und unteren Hauptflächen des Substrats 4 ausgebildet werden.
Als eine Modifikation kann die obere Elektrode 5 so unter
teilt werden, daß jeder unterteilte Abschnitt zu der ent
sprechenden durchgehenden Bohrung 4 gehört, so daß dann in
diesem Fall die Anzahl vertikaler aktiver Zonen 41 einzeln
aktiviert werden kann, so daß eine solche modifizierte Aus
führung als eine Anzeigeeinheit oder ein Display verwendet
werden kann. Außerdem kann die in Fig. 5 dargestellte Aus
führung ebenfalls angewendet werden, um eine Anordnung zu
schaffen, wie sie in Fig. 6 dargestellt ist.
Wie oben beschrieben, erfordert der Grundaufbau gemäß der
Erfindung die Ausbildung einer durchgehenden Bohrung, wel
che vertikal oder schräg bezüglich zumindest einer Haupt
fläche des Substrats verläuft. Eine derartige durchgehende
Bohrung kann mit hoher Genauigkeit mittels verschiedener
dem Fachmann geläufiger Methoden, beispielsweise durch ein
reaktives Ionenätzverfahren, ausgebildet werden. Außerdem
kann die vertikale aktive Zone auch ohne weiteres beispiels
weise durch Diffusion eines ausgewählten Störstellenma
terials wie Zn, ausgebildet werden, folglich kann der Aufbau
gemäß der Erfindung mit den herkömmlichen Halbleiterferti
gungsmethoden hergestellt werden, so daß die erfindungsge
mäße Einrichtung mit niedrigen Kosten hergestellt werden
kann, da kein Kapitalaufwand oder Vorrichtungskosten anfal
len bzw. erforderlich sind.
Das charakteristische Merkmal zwischen der emittierten Licht
intensität und der Länge einer aktiven Zone ist für eine
lichtemittierende Diode linear, bei welcher die Länge der
aktiven Zone in der Größenordnung von einigen Mikron liegt.
Wenn jedoch die aktive Zone verhältnismäßig lang bzw. groß
ist, führt das durch induzierte Emission erzeugte Licht zu
einer spontanen Emission, welche sich entlang der aktiven
Zone ausbreitet, wodurch eine verstärkte spontane Licht
emission geschaffen wird. Wie oben beschrieben, kann gemäß
dem Grundprinzip der Erfindung, da eine verhältnismäßig
lange vertikale, aktive Zone beispielsweise von 10 Mikron
oder mehr in einfacher Weise dadurch geschaffen werden kann,
daß ein Substrat 2 mit einer gewünschten Dicke verwendet
wird, verhältnismäßig leicht eine hohe Lichtausbeute in der
vertikalen Richtung erhalten werden.
In Fig. 7 ist schematisch im Schnitt eine lichtemittierende
Halbleitereinrichtung gemäß einer weiteren Ausführungsform
der Erfindung dargestellt. Die erfindungsgemäße Einrichtung
weist ein plattenförmiges Substrat 2 auf, welches zwei ein
ander gegenüberliegende obere und untere Hauptflächen hat
und mit einer sich durch das Substrat 2 erstreckenden, durch
gehenden Bohrung 4 versehen ist. Eine kreisförmige Ausneh
mung 6 ist in der oberen Hauptfläche des Substrats 2 in
einer vorherbestimmten Tiefe ausgebildet, wobei der Durch
messer der kreisförmigen Ausnehmung 6 in seiner Größe ent
sprechend bemessen ist, um ein Ende einer optischen Faser
7 darin aufzunehmen. In der dargestellten Ausführungsform
hat die Ausnehmung 6 eine ebene Oberfläche, welche parallel
zu der oberen Hauptfläche des Substrats 2 verläuft. Die
durchgehende Bohrung 4 erstreckt sich von der tieferliegen
den Fläche der Ausnehmung 6 bis zu der unteren Fläche des
Substrats 2 und ist durch eine Seitenwandung 41 festgelegt.
Eine aktive Zone 31 wird in dem Substrat entlang der Sei
tenwandung 41 dadurch ausgebildet, daß ausgewähltes Stör
stellenmaterial, wie Zn, durch die Seitenwandung 41 in das
Substrat 2 diffundiert wird. Folglich wird Licht in der
aktiven Zone 31 emittiert und breitet sich entlang der
Längsrichtung der durchgehenden Bohrung 4 aus, um in die
optische Faser 7 geleitet zu werden.
Eine untere Elektrode 5 mit einer kreisförmigen Öffnung ist
in der unteren Fläche des Substrats 2 ausgebildet, während
eine weitere Elektrode 1 an der Seitenwandung 41 der durch
gehenden Bohrung 4 und an der unteren Fläche des Substrats 2
entlang des Umfangs am unteren Ende der durchgehenden Boh
rung 4 ausgebildet ist. Das untere Ende der optischen Faser
7 ist vorzugsweise in die Ausnehmung 6 geklebt. Folglich
legt das obere Ende der aktiven Zone 31 eine lichtemittie
rende Öffnung fest, über welche emittiertes Licht in die
optische Faser 7 eingeleitet wird. Durch eine entsprechen
de Bemessung des Durchmessers der Aufnahmeausnehmung 6 kann
das untere Ende der optischen Faser 7 in einfacher Weise
mit Preßsitz in der Ausnehmung 6 sitzen, wodurch das untere
Ende der optischen Faser 7 erforderlichenfalls fest in der
lichtemittierenden Öffnung 51 gehalten ist. In der darge
stellten Ausführungsform verläuft die aktive Zone 31 senk
recht oder im wesentlichen senkrecht zu der tieferliegenden
Fläche der Ausnehmung 6; jedoch kann die aktive Zone 31 auch
so ausgebildet sein, daß sie gewünschtenfalls nach oben oder
unten konisch verläuft. In diesem Fall verläuft die aktive
Zone 31 bezüglich der tieferliegenden Fläche der Ausnehmung
6 schräg. Die Tiefe der Ausnehmung 6 wird vorzugsweise in
einem Bereich zwischen annähernd 500 Mikron und annähernd
2 mm eingestellt.
In Fig. 8 ist eine perspektivische Darstellung einer Anord
nung von lichtemittierenden Einrichtungen gemäß noch einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung dargestellt, wobei
der in Fig. 7 dargestellte Aufbau als Einheit verwendet ist.
Das heißt, wie in Fig. 8 dargestellt, ist das in Fig. 7
dargestellte, lichtemittierende Element in dem Substrat 2
in Form einer zweidimensionalen Anordnung festgelegt. In
dieser Ausführungsform hat jedes lichtemittierende Element
eine eigene Elektrode 1, da sie hauptsächlich an der Sei
tenwandung 41 jeder durchgehenden Bohrung 4 ausgebildet
ist. Wenn die untere Elektrode 5 als eine gemeinsame Elek
trode benutzt wird, kann die Anzahl lichtemittierender Ele
mente, welche in demselben Substrat 2 festgelegt ist, wäh
rend des Betriebs einzeln gesteuert werden. Ein derartiger
Aufbau ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn die Erfin
dung bei einem Display angewendet wird.
Nunmehr wird noch ein weiterer Gesichtspunkt der Erfindung
beschrieben. Zuerst wird anhand von Fig. 9 ein anderer
herkömmlicher Halbleiterlaser beschrieben, welcher einen
Laserstrahl in vertikaler Richtung abgibt, der in Fig. 9
dargestellte Laser weist eine erste Halbleiterschicht 101
eines ersten Leitfähigkeitstyps, eine zweite Halbleiter
schicht 102, welche eine schmalere verbotene Bandlücke als
diejenige der ersten Schicht 101 hat und welche als eine
aktive Schicht dient, und eine dritte Halbleiterschicht
103 auf, welche auf der zweiten Halbleiterschicht 102 aus
gebildet ist und einen zweiten Leitfähigkeitstyp hat, wel
cher hinsichtlich der Polarität entgegengesetzt zu dem er
sten Leitfähigkeitstyp ist und eine breitere verbotene Band
lücke hat als die zweite Schicht 102. Außerdem sind auf der
dritten Halbleiterschicht 103 vierte und fünfte Halbleiter
schichten 104 und 105 in der angegebenen Reihenfolge über
einander ausgebildet. In einem ausgewählten Teil einer unte
ren Fläche der ersten Halbleiterschicht 101 ist als Elektro
de eine Halbleiterschicht 106 des ersten Leitfähigkeitstyps
ausgebildet, und eine Silizium-Dioxid-Schicht 107 auf der
restlichen unteren Fläche der ersten Halbleiterschicht 101
ausgebildet. Ferner ist eine Metallelektrodenschicht 108
auf den Schichten 106 und 107 ausgebildet; diese Metall
schicht 108 dient auch als ein reflektierender Spiegel.
Wie dargestellt, ist eine Ausnehmung ausgebildet, welche
sich durch die vierte und fünfte Halbleiterschicht 104 und
105 erstreckt; der Boden dieser Ausnehmung liegt in der
selben Ebene wie die Grenzfläche zwischen den Schichten
103 und 104. An der oberen Fläche der fünften Halbleiter
schicht 105 ist eine Metallelektrodenschicht 109 des zwei
ten Leitfähigkeitstyps ausgebildet, und eine reflektieren
de Elektrodenschicht 110 ist auf dieser Metallelektroden
schicht 109 und auch an den Seiten- und Bodenwandungen der
Ausnehmung ausgebildet.
Wenn bei dem vorstehend beschriebenen Aufbau Strom angelegt
wird, damit er zwischen den oberen und unteren Elektroden
108 und 109 fließt, fließt der Strom in der durch Pfeile
131 angezeigten Richtung, so daß der Strom 131 hauptsächlich
durch einen aktiven Bereich oder einen lichtemittierenden
Teil 102a der zweiten Halbleiterschicht 102 fließt; hier
durch wird dann Licht emittiert, wobei das auf diese Weise
emittierte Licht zwischen den Metallelektrodenschichten
108 und 109 begrenzt ist, welche auch als reflektierende
Spiegel dienen, so daß eine Laseroszillation stattfindet
und folglich ein Laserstrahl 130 nach außen in einer verti
kalen Richtung abgegeben wird, welche senkrecht zu der Ebene
oder Hauptfläche der Einrichtung ist.
Da in einem solchen herkömmlichen, vertikal emittierenden
Halbleiterlaser Träger auf die aktive Zone beschränkt sind,
muß die Dicke der Halbleiterschicht 102, welche die aktive
Zone festlegt, gleich oder kleiner als die Diffusionslänge
von Trägern eingestellt werden, welche bei annähernd zwei
bis drei Mikron liegt. Folglich gibt es einen Grenzwert in
der Verstärkung eines Laserstrahls, welcher in der verti
kalen Richtung emittiert wird, da die Dicke der aktiven
Zone nicht größer gemacht werden kann. Jedoch kann die La
serausgangsleistung durch Erhöhen des Stroms erhöht wer
den; dies wiederum ist jedoch nachteilig, da sich hier
durch andere Schwierigkeiten erheben. Außerdem ist bei
dem in Fig. 9 dargestellten Aufbau die obere Elektrode
109 an der Strahlabgabeseite ringförmig, so daß der inji
zierte Strom dazu neigt, seitwärts abzufließen, wie durch
die Pfeile 131 angedeutet ist. Folglich ist es bei dieser
Ausführung schwierig, eine Stromkonzentration zu erzeugen.
Da außerdem der lichtemittierende Teil 102 in seitlicher
Richtung verläuft, wird der Strominjektionswirkungsgrad in
die aktive Zone 102a reduziert. Aus diesen Gründen ist es,
wenn eine solche herkömmliche Einrichtung als Laser be
trieben wird, äußerst schwierig, den Schwellenwertstrom
zu senken und gleichzeitig auch noch dessen Ausgangsleistung
zu erhöhen.
Gemäß der Erfindung ist daher eine lichtemittierende Halb
leitereinrichtung geschaffen, welche ein Substrat mit einer
Oberfläche aufweist, auf welcher eine Halbleiterschicht
ausgebildet ist; hierbei ist die Halbleiterschicht mit ei
ner Ausnehmung versehen, welche von einer äußeren Fläche
der Halbleiterschicht in Richtung des Substrats verläuft
und es ist ein großer PN-Übergang in der Halbleiterschicht
ausgebildet, welcher entlang der Seitenwandung der Ausneh
mung verläuft. Mit dieser Ausführung ist erreicht, daß der
Strom quer zu dem PN-Übergang fließt, wodurch eine Rekombi
nation von Elektronen und Löchern in der Nähe des PN-Über
gangs bewirkt wird, so daß Licht in einer Richtung emittiert
wird, welche zu der Oberfläche des Substrats oder derEin
richtung senkrecht oder im wesentlichen senkrecht verläuft.
Wie bezüglich der vorherigen Ausführungsformen beschrieben,
wird ein solcher PN-Übergang vorzugsweise dadurch festge
legt, daß ausgewähltes Störstellenmaterial von der außen
liegenden Fläche her thermisch in die Halbleiterschicht
diffundiert wird.
In Fig. 10 ist perspektivisch eine lichtemittierende Halb
leitereinrichtung gemäß einer Ausführungsform der Erfindung
dargestellt. In Fig. 11 ist eine Schnittansicht der in
Fig. 10 dargestellten Einrichtung wiedergegeben. Die Ein
richtung weist ein n-GlAs-Substrat 111, eine n-AlGaAs-Schicht
112, eine n-GaAs-Schicht 113, eine P-AlGaAs-Schicht 114 und
eine n-GaAs-Schicht 115, die in der erwähnten Reihenfolge
übereinander liegen, auf. Der Aufbau, welcher alle diese
Schichten 111 bis 115 aufweist, wird auch als ein Substrat
bezeichnet. Wichtig hierbei ist, daß eine in der darge
stellten Ausführungsform kreisförmige Ausnehmung 120 vorge
sehen ist, die sich in vertikaler Richtung durch die Schich
ten 113 bis 115 erstreckt. Folglich verläuft die Ausnehmung
120 im allgemeinen vertikal bezüglich der oberen Fläche des
Substrats 111, und die tieferliegende Fläche der Ausnehmung
120 liegt in der gleichen Ebene wie die Grenzfläche zwi
schen den Schichten 112 und 113. In der dargestellten Aus
führungsform ist die Ausnehmung 120 zylinderförmig; jedoch
kann sie auch irgendeine andere Form, beispielsweise eine
konische Form haben; ebenso kann die Ausnehmung 120 statt
einer Kreisform, wie dargestellt, auch irgendeine andere
Querschnittsform haben.
Ausgewähltes Störstellenmaterial, vorzugsweise Zn, wird in
den erfindungsgemäßen Aufbau durch die Seiten- und Boden
wandungen der Ausnehmungen 120 und die obere Fläche der
Schicht 115 diffundiert, so daß eine p-Diffusionszone 116
und eine p⁺-Diffusionszone 117 festgelegt sind. Eine Elek
trodenschicht 118 des p-Leitfähigkeitstyps wird auf der
n-GaAs-Schicht 115 ausgebildet, während eine Elektroden
schicht 119 des n-Leitfähigkeitstyps auf der unteren Fläche
des Substrats 111 ausgebildet wird, welche mit einer Aus
nehmung 111a versehen ist, welche der Ausnehmung 120 gegen
überliegt und bezüglich dieser ausgerichtet ist und welche
die Grenzfläche zwischen der n-AlGaAs-Halbleiterschicht 112
und dem Substrat 111 erreicht. Wie später noch im einzelnen
beschrieben wird, wird in dieser Ausführungsform emittiertes
Licht in der durch einen Pfeil 121 angezeigten Richtung ab
gegeben.
Die PN-Übergänge, welche in der n-GaAs-Schicht 115 ausgebil
det sind und sich parallel zu der oberen Fläche des Sub
strats 111 erstrecken, sind von der p-AlGaAs-Schicht 114 ge
trennt. Folglich ist ein pnpn-Aufbau durch die p-Diffusions
zone 116, die n-GaAs-Schicht 115, die p-AlGaAs-Schicht 114
und die n-GaAs-Schicht 113 festgelegt. Aus diesem Grunde
dient diese pnpn-Struktur als eine Stromfluß-Blockierung
für den Strom, welcher zwischen den oberen und unteren Elek
trodenschichten 118 und 119 fließt. Folglich wird der zwi
schen den oberen und unteren Elektrodenschichten 118 und
119 fließende Strom gezwungen, vorzugsweise entlang der
Seitenwandung der Ausnehmung 120 und folglich entlang des
pnp-Übergangs zu fließen, welcher senkrecht zu der oberen
Fläche des Substrats 111 verläuft. Folglich findet an und
in der Nähe des pnp-Übergangs, der vertikal entlang der Sei
tenwandung der Ausnehmung 112 verläuft, eine Rekombination
von Elektronen und Löchern statt, wodurch Licht abgegeben
wird, welches über die untere Ausnehmung 11 a, welche als
ein Lichtauslaß festgelegt ist, hauptsächlich nach außen
geleitet wird. Daher legt der vertikale pn-Übergang, der
sich entlang der Seitenwandung der Ausnehmung 120 erstreckt,
im wesentlichen eine aktive Zone zum Emittieren von Licht
fest.
Da, wie vorstehend beschrieben gemäß der Erfindung die pnpn-
Struktur als eine Stromblockierung bzw. -Sperrung dient,
durchfließt der Strom, welcher zwischen den oberen und unte
ren Elektroden fließt, hauptsächlich den pn-Übergang, der
parallel mit der Seitenwandung der Ausnehmung 120 verläuft;
der Strominjektions-Wirkungsgrad wird dadurch beträchtlich
erhöht. Ferner kann bei diesem Aufbau eine (nicht darge
stellte) Wärmesenke d.h. ein Kühlkörper an der oberen Elek
trodenschicht 118 angebracht werden, so daß die Wärmesenke
nahe bei der aktiven Zone angeordnet werden kann, wodurch
die wärmeausbreitende Wirkung erhöht und eine hohe Licht
ausgangsleistung erhalten werden kann. Außerdem kann gemäß
der Erfindung der pn-Übergang, welcher die aktive Zone fest
legt solange wie möglich in der Lichtemissionsrichtung fest
gesetzt werden, wodurch dann die Bündelung erhöht wird, in
dem der Divergenzwinkel von emittiertem Licht schmaler wird.
Darüber hinaus kann, wie später noch im einzelnen beschrie
ben wird, durch Vorsehen von zwei reflektierenden Spiegel
elementen, zwischen welchen die aktive Zone angeordnet ist,
ohne weiteres ein vertikales Licht emittierender Lasertyp
mit einer höherenVerstärkung festgelegt werden. Bei dem in
Fig. 11 dargestellten Aufbau hat die Ausnehmung 120 eine Bo
denwandung, welche durch die Oberfläche der Schicht 112
festgelegt ist; bei einer anderen Ausführungsform kann je
doch die Bodenwandung der Ausnehmung 120 gewünschtenfalls
auch in der Schicht 113 festgelegt werden.
Anhand von Fig. 12a bis 12c wird nunmehr ein Verfahren zum
Herstellen einer lichtemittierenden Halbleitereinrichtung
beschrieben, welche den in Fig. 10 und 11 dargestellten
Aufbau hat. Wie in Fig. 12a dargestellt werden auf einem
n-GaAs-Substrat oder einer Basisschicht 111 eine
n-AlxGal-xAs-Schicht 112 (wobei x ein Molenbruch von Al ist
und in einem Bereich zwischen 0,2 und 0,45 liegt) in einer
Dicke zwischen 2 und 100 Mikron, eine n-GaAs-Schicht 113
in einer Dicke zwischen 2 und 100 Mikron, eine p-AlxGalxAs-
Schicht 114 (wobei x im Bereich zwischen 0 und 0,4 liegt)
in einer Dicke zwischen 0,5 und 3 Mikron und eine n-GaAs
Schicht 115 in einer Dicke zwischen 3 und 10 Mikron in der
angegebenen Reihenfolge von unten nach oben ausgebildet.
Dann wird, wie in Fig. 12b dargestellt, nachdem eine elek
trisch isolierende Schicht 112 auf der Schicht 115 ausge
bildet ist, mittels Photolithographie eine Öffnung in der
Isolierschicht ausgebildet. Die Isolierschicht 122 besteht
vorzugsweise aus einem Material, wie Siliziumoxid, Silizium
nitrid oder einem Schutzlack. Durch Verwenden dieser Iso
lierschicht 120 mit Loch als Maske wird eine Ausnehmung
120 durch Trockenätzen ausgebildet, bis deren Boden die
n-AlGaAs-Schicht 112 erreicht. Diese Ausnehmung 112 kann
irgendeine gewünschte Querschnittsform, beispielsweise eine
Kreis-Rechteck- oder irgendeine andere polygonale Form,
haben. Als das Trockenätzverfahren wird vorzugsweise ein
reaktives Ionenätzen mit Hilfe eines Gasgemisches angewen
det, das Chlorgas und Ar-Gas enthält.
Dann wird, wie in Fig. 12c dargestellt, nach einem Entfernen
der Maske 122 eine thermische Diffusion durchgeführt, wobei
Zn als ein Störstellen-Dotierungsstoff verwendet wird, um
dadurch eine p-Diffusionszone 116 und eine p⁺-Diffusionszone
117 entlang der Seiten- und Bodenwandungen der Ausnehmungen
120 und der oberen Fläche der n-GaAs-Schicht 115 zu erzeugen.
In diesem Fall wird vorzugsweise ein zweistufiges Diffusions
verfahren angewendet. Ferner sollte dieser Diffusionsschritt
so gesteuert werden, daß die Diffusionsfront, welche durch
die Diffusion des Störstellen-Dotierungsmittels festgelegt
ist, welches über die obere Fläche der n-GaAs-Schicht 115
eingebracht worden ist, nicht die darunterliegende p-AlGaAs-
Schicht 114 erreicht. Danach werden eine obere und eine un
tere Elektrodenschicht auf den oberen und unteren Flächen
ausgebildet; anschließend wird durch Ätzen eine untere Aus
nehmung 111 a in dem Substrat 111 ausgebildet, wodurch dann
der in Fig. 10 und 11 dargestellte Aufbau geschaffen ist.
Das Ätzen zur Ausbildung der unteren Ausnehmung 111 a kann
vorzugsweise durch Naßätzen mit Hilfe einer Ätzflüssigkeit
durchgeführt werden, welche Ammoniak und eine Lösung aus
Wasserstoffperoxid enthält. Eine solche Atzflüssigkeit
greift GaAs, aber nicht AlGaAs an, so daß der Ätzvorgang
automatisch stoppt, sobald die n-AlGaAs-Schicht 112 frei
gelegt ist.
In Fig. 13 ist eine lichtemittierende Halbleitereinrichtung
gemäß noch einer weiteren Ausführungsform der Erfindung dar
gestellt. Da diese Einrichtung grundätzlich denselben Auf
bau wie die vorherige in Fig. 10 und 11 dargestellte Aus
führungsform hat, sind mit den gleichen Bezugszeichen die
gleichen Elemente bezeichnet und die Beschreibung derselben
Elemente nicht mehr wiederholt. In dieser Ausführungsform
ist statt der pnpn-Struktur eine elektrisch isolierende
Schicht 122 auf der n-GaAs-Schicht 113 ausgebildet, und diese
Isolierschicht 122 dient als eine Stromblockierung bzw.
-sperre. Außerdem sind in dieser Ausführungsform die Zn
diffundierten Zonen 116 und 116 nur entlang der Seiten- und
Bodenwandungen der Ausnehmung 120 ausgebildet. Eine p-Me
tallelektrodenschicht 118 ist nicht nur auf der Isolier
schicht 122, sondern auch auf der inneren Seitenwandung der
Ausnehmung 120 ausgebildet. Dieser Teil der p-Metallelektro
denschicht 118, welche in der Ausnehmung 120 festgelegt ist,
ist mit 118 a bezeichnet. Somit wird auch in dieser Aus
führungsform der Strom, welcher zwischen den oberen und un
teren Elektroden 118 und 119 fließt gezwungen, vorzugsweise
quer durch den pn-Übergang zu fließen, welcher sich in
vertikaler Richtung bezüglich der oberen Fläche des Sub
strats 111 erstreckt, so daß der Strominjektionswirkungs
grad in der aktiven Zone beträchtlich erhöht ist.
Bei dieser Ausführungsform wird die Isolierschicht 122, wel
che als eine Ätzmaske verwendet ist, wenn die Ausnehmung 120
durch Trockenätzen hergestellt wird, auch als eine Diffu
sionsmaske verwendet, wenn eine Diffusion von Zn durchge
führt wird; ferner dient die Isolierschicht 122 auch als
eine elektrische Isolierung zwischen der Elektrode 118 und
der n-GaAs-Schicht 130. Somit ist das Herstellungsverfahren
sehr vereinfacht. Ähnlich wie bei der vorher beschriebenen
Ausführungsform kann auch mit dieser Ausführung eine hohe
Lichtabgabeleistung erhalten werden und verhindert werden,
daß der emittierte Lichtstrahl divergent wird.
In Fig. 14 ist noch eine weitere Ausführungsform der Erfin
dung dargestellt, welche eine Modifikation des in Fig. 13
dargestellten Aufbaus ist. Folglich ist diese Ausführungs
form im Aufbau in vieler Hinsicht der in Fig. 13 darge
stellten Ausführung ähnlich; in dieser Ausführungsform sind
jedoch die Diffusionszonen 116 und 118 nicht nur entlang
der Seiten- und Bodenwandungen der Ausnehmung 120, sondern
auch entlang der oberen Fläche der n-GaAs-Schicht 113 aus
gebildet. In dieser Ausführungsform wird die Isolierschicht
122 nicht als Diffusionsmaske verwendet, wenn die Diffusion
von Zn durchgeführt wird; sie wird vielmehr nach dem Zn-
Diffusionsschritt ausgebildet.
In Fig. 15 ist noch eine weitere Ausführungsform der Erfin
dung dargestellt, welche im Aufbau in vieler Hinsicht der
in Fig. 13 dargestellten Ausführungsform ähnlich ist. In
dieser Ausführungsform ist jedoch die Ausnehmung 120 mit
demselben Material gefüllt, aus welchem die Elektroden
schicht 118 gebildet ist, wodurch ein stöpselartiger Teil
118 b festgelegt ist, welcher als Teil einer Wärmesenke dient.
Bei diesem Aufbau kann die Wärmesenke 118 sehr nahe bei
der aktiven Zone angeordnet sein, welche senkrecht oder im
wesentlichen senkrecht zu der Oberfläche des Substrats 111
verläuft, so daß die wärmeverteilende Wirkung erheblich ver
bessert ist. Bei dieser Ausführungsform ist eine dünne Iso
lierschicht 122 a auf der Bodenwandung der Ausnehmung 122
ausgebildet, so daß die Elektrode 118 und 118 b nicht un
mittelbar in elektrischem Kontakt mit der Schicht 112 steht.
In Fig. 16 ist noch eine weitere Ausführungsform der Erfin
dung dargestellt, welche im Aufbau ebenfalls der in Fig. 13
dargestellten Einrichtung ähnlich ist, außer daß die Aus
nehmung 112 mit einem wärmeleitenden Harzmaterial 123 ge
füllt ist, um dadurch eine bessere Wärmeverteilung zu schaf
fen. Das Harz 123 kann gewünschtenfalls auch durch Polysili
kon ersetzt werden.
In Fig. 17 bis 20 sind Ausführungsformen dargestellt, wenn
die Erfindung bei einem Laser angewendet worden ist. Fig. 17
zeigt einen vertikales Licht emittierenden Halbleiterlaser
gemäß einer Ausführungsform der Erfindung, während in Fig. 18
der Aufbau des Teils im einzelnen dargestellt ist, welcher
in Fig. 17 mit einem Kreis A umgeben ist. Bei dieser Ausfüh
rungsform wird auf der n-AlGaAs-Schicht 115 eine Laminat
schicht 124 ausgebildet, welche, wie in Fig. 18 dargestellt
ist, dadurch ausgebildet wird, daß eine n-GaAs-Schicht 126
und eine AlGaAs-Schicht 127 abwechselnd eine vorherbestimmte
Anzahl Mal übereinander angeordnet werden. Die Dicke jeder
der Schichten 126 und 127 ist auf ein Viertel eines Wellen
längenäquivalentswertes in der GaAs- oder AlGaAs-Schicht
126 oder 127 eingestellt, welche von der Wellenlänge des
emittierten Lichts aus umgewandelt worden ist. Folglich ist
eine sogenannte verteilte Rückkopplungs-(Distributed
Feedback)-Struktur (DFB)-Struktur geschaffen. Durch das
Vorsehen einer solchen DFB-Struktur sind optische Resona
toren für das Licht geschaffen, welches sich in der zu der
Oberfläche des Substrats 111 senkrechten Richtung ausbrei
tet. Insbesondere bildet in dieser Ausführungsform eine
p⁺-Diffusionszone 125, welche durch Zn-Diffusionen zusam
men mit einer p-Diffusionszone 125 gebildet ist, eine p⁺-
AlGaAs-Schicht mit einer Zusammensetzung, welche im Durch
schnitt zwischen denjenigen der GaAs- und der AlGaAs-Schicht
126 und 127 liegt. Die verbotene Bandlücke dieser p⁺-
AlGaAs-Schicht ist größer als diejenige der GaAs-Schicht
126; jedoch ist der Brechungsindex dieser p⁺-AlGaAs-Schicht
kleiner als derjenige der GaAs-Schicht 126, so daß eine
Struktur erhalten wird, um Strom und emittiertes Licht in
der aktiven Zone zu begrenzen. Aus diesem Grund kann gemäß
der Erfindung eine hohe Ausgangsleistung erhalten werden,
und der Pegel des Schwellenwertstroms kann niedriger ein
gestellt werden. In Fig. 19 ist ein vertikal emittierender
Halbleiterlaser gemäß einer weiteren Ausführungsform der
Erfindung dargestellt, während Fig. 20 den Teil des in
Fig. 19 dargestellten Aufbaus zeigt, welcher mit einem Kreis
B umgeben ist. In dieser Ausführungsform ist eine reflektie
rende Vielfachschicht 128 auf der oberen Fläche der n-GaAs-
Schicht 113 ausgebildet, und die Diffusionszonen 116 und
117 sind nur entlang der Seiten- und Bodenwandungen der
Ausnehmung 120 vorgesehen. Wie in Fig. 20 dargestellt, ist
die reflektierende Mehrfachschicht 128 dadurch gebildet,
daß eine erste dielektrische Schicht 130 und eine zweite
dielektrische Schicht 131 eine vorherbestimmte Anzahl Mal
abwechselnd übereinander angeordnet sind; die Dicke jeder
der dielektrischen Schichten 130 und 131 ist auf ein
Viertel eines Äquivalenzwerts einer Wellenlänge in den
jeweiligen dielektrischen Schichten eingestellt, welche aus
der Wellenlänge des emittierten Lichts umgewandelt ist. Au
ßerdem ist eine untere Elektrodenschicht 119 auf der unteren
Fläche des Substrats 111 ausgebildet, und eine reflektie
rende Metallschicht 129 ist auf der gesamten unteren Fläche
der Einrichtung einschließlich der gesamten Fläche der
Lichtauslaß-Ausnehmung 111 a ausgebildet. Bei diesem Aufbau
legen die reflektierende Mehrfachschicht 128 und die re
flektierende Metallschicht 129 zwei optische Resonatoren
fest, zwischen welchen der pn-Übergang liegt, welcher
parallel zu der Seitenwandung der Ausnehmung 120 verläuft,
welche eine aktive Zone festlegt und folglich Licht er
zeugt. Auf diese Weise breitet sich das in dieser aktiven
Zone erzeugte Licht in einer Richtung parallel zu der Sei
tenwandung der Ausnehmung 120 aus, und wird zwischen diesen
Reflektoren 128 und 129 hin- und herreflektiert. Außerdem
weist die obere Elektrode 118 einen Teil 118 a auf, welcher
auf der vertikalen Seitenwandung der Ausnehmung 120 ver
läuft, so daß der Strom, welcher zwischen den oberen und
unteren Elektroden 118 und 119 fließt, entsprechend gelei
tet wird, um durch den vertikalen pn-Übergang zu fließen,
welcher sich vorzugsweise entlang der Seitenwandung der
Seitenwandung der Ausnehmung 120 erstreckt. Folglich kann
gemäß dieser Ausführungsform ein Halbleiterlaser mit einer
Lichtemssion in vertikaler Richtung geschaffen werden, wel
cher eine hohe Lichtausgangsleistung und einen reduzierten
Schwellenwert-Strompegel hat. Beispielsweise kann die erste
dielektrische Schicht 130 aus TiO2 und die zweite
dielektrische Schicht 131 aus SiO2 hergestellt sein. Die
reflektierende Metallschicht 129 kann vorzugsweise aus Au
gebildet sein.
In Fig. 21 ist perspektivisch eine zweidimensionale Anord
nung einer lichtemittierenden Einrichtung gemäß einer wei
teren Ausführungsform der Erfindung dargestellt, wobei der
in einer der Fig. 10 bis 20 dargestellten Ausführungs
formen als Ausgangselement verwendet ist.
Als weitere Modifikationen kann die Seitenwandung der Aus
nehmung 120 bezüglich der Fläche des Substrats 111 schräg
angeordnet sein, obwohl sie in den vorstehend beschriebe
nen Ausführungsformen als vertikal verlaufend dargestellt
ist. Beispielsweise kann der Boden der Ausnehmung 120 klei
ner als dessen Öffnung sein; in diesem Fall ist die Seiten
wandung der Ausnehmung 120 bezüglich der Oberfläche des Sub
strats 111 schräg geneigt, und der Divergenzwinkel eines
emittierten Laserstrahls kann kleiner gemacht werden, wodurch
dann die Bündelung eines emittierten Laserstrahls verbessert
ist. Außerdem kann fluoreszierendes Material, wie ein die
Farbe Zyan enthaltendes Harz, auf der Seiten- und/oder Bo
denwandung der Ausnehmung 120 ausgebildet werden, in diesem
Fall trifft das Licht, das von der aktiven Zone erzeugt und
zu den Seiten- und Bodenwandungen der Ausnehmung 120 aus
gerichtet ist, auf das fluoreszierende Material auf, welches
es verteilt, wodurch die Lichtausgangsleistung erhöht wird.
Ferner kann das Substrat 111, wie oben beschrieben, aus ir
gendeinem anderen Material als GaAs hergestellt sein. Als
ein mögliches alternatives Halbleitermaterial kann GaP,
InP u.ä. verwendet werden. Die Materialien AlGaAs und GaAs
können zur Ausbildung von Halbleiterschichten auf dem Sub
strat 111 in den oben beschriebenen Ausführungsformen ver
wendet werden; jedoch können auch solche Materialien wie
FaP, GaN, GaAsP, InGaP, IKnGaAsP, AlGaInP u.ä. verwendet
werden.
Claims (24)
1. Lichtemittierende Einrichtung, gekennzeich
net durch
ein Substrat (2) mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, welche der ersten Oberfläche gegen überliegt, wobei das Substrat (82) mit einer durchgehen den Bohrung (4) versehen ist, welche sich zwischen den beiden Oberflächen erstreckt;
eine aktive Zone (3), welche in dem Substrat (2) festge legt ist und parallel zu einer Seitenwandung (41) der durchgehenden Bohrung (4) verläuft, und welche (3) Licht erzeugt, wenn Strom durch die aktive Zone (83) fließt, und
eine erste und eine zweite Elektrode (1,5), um Strom durch die aktive Zone (31) zu leiten.
ein Substrat (2) mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche, welche der ersten Oberfläche gegen überliegt, wobei das Substrat (82) mit einer durchgehen den Bohrung (4) versehen ist, welche sich zwischen den beiden Oberflächen erstreckt;
eine aktive Zone (3), welche in dem Substrat (2) festge legt ist und parallel zu einer Seitenwandung (41) der durchgehenden Bohrung (4) verläuft, und welche (3) Licht erzeugt, wenn Strom durch die aktive Zone (83) fließt, und
eine erste und eine zweite Elektrode (1,5), um Strom durch die aktive Zone (31) zu leiten.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Seitenwandung (41) im wesent
lichen senkrecht zumindestens zu einer der beiden Flächen
verläuft.
3. Einrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die beiden Flächen parallel zuein
ander sind.
4. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Seitenwandung (41) bezüglich
zumindest einer der beiden Flächen schräg angeordnet
ist.
5. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die erste Elektrode (1) auf der
ersten Fläche und die zweite Elektrode auf der zweiten
Fläche ausgebildet ist.
6. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß zumindest eine der beiden Elektroden
sich zumindest teilweise in die durchgehende Bohrung (4)
auf der Seitenwandung (41) erstreckt.
7. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die aktive Zone (31) dadurch ge
bildet ist, daß ein Störstellen-Dotierungsmittel in das
Substrat (82) diffundiert, und daß die durchgehende Boh
rung (4) durch ein reaktives Ionenätzverfahren gebildet
ist.
8. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die aktive Zone (31) sich zumindest
10 Mikron entlang der Seitenwandung (41) erstreckt.
9. Lichtemittierende Einrichtung, gekennzeich
net durch
ein Substrat (1) mit einer ersten Fläche und einer zweiten Fläche, welche der ersten Fläche gegenüberliegt, wobei das Substrat (2) eine durchgehende Bohrung (4), welche sich zwi schen den beiden Flächen erstreckt, und an einem Ende der durchgehenden Bohrung (4) eine Vertiefung (6) aufweist, welche in ihrer Größe so bemessen ist, daß ein Ende einer optischen Faser (3) in ihr aufgenommen ist;
eine aktive Zone (31), welche in dem Substrat (2) festge legt ist und sich parallel zu einer Seitenwandung (41) der durchgehenden Bohrung (4) erstreckt und welche (31) Licht erzeugt, wenn Strom durch die aktive Zone (31) fließt und eine erste und zweite Elektrode (1, 5), damit Strom durch die aktive Zone (31) fließt.
ein Substrat (1) mit einer ersten Fläche und einer zweiten Fläche, welche der ersten Fläche gegenüberliegt, wobei das Substrat (2) eine durchgehende Bohrung (4), welche sich zwi schen den beiden Flächen erstreckt, und an einem Ende der durchgehenden Bohrung (4) eine Vertiefung (6) aufweist, welche in ihrer Größe so bemessen ist, daß ein Ende einer optischen Faser (3) in ihr aufgenommen ist;
eine aktive Zone (31), welche in dem Substrat (2) festge legt ist und sich parallel zu einer Seitenwandung (41) der durchgehenden Bohrung (4) erstreckt und welche (31) Licht erzeugt, wenn Strom durch die aktive Zone (31) fließt und eine erste und zweite Elektrode (1, 5), damit Strom durch die aktive Zone (31) fließt.
10. Einrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß die erste Elektrode (1) zumindest
auf der Seitenwandung (41) ausgebildet ist und daß die
zweite Elektrode (5) auf einer der beiden Flächen aus
gebildet ist.
11. Lichtemittierende Einrichtung, gekennzeich
net durch
ein Substrat (2) mit einer ersten Fläche und einer zweiten Fläche, welche der ersten Fläche gegenüberliegt, wobei das Substrat (2) mit einer Anzahl durchgehender Bohrungen (4) versehen sind, welche in regelmäßiger Form angeordnet sind und welche sich jeweils zwischen den beiden Flächen er strecken;
eine Anzahl aktiver Zonen (31), welche in dem Substrat (2) ausgebildet sind und jeweils parallel zu einer Seitenwandung (41) einer der Anzahl durchgehender Bohrungen (4) verlaufen, wobei die aktiven Zonen (31) Licht erzeugen, wenn Strom hin durchfließt, und
eine erste und eine zweite Elektrode (1, 5), damit Strom durch die aktiven Zonen (31) fließt.
ein Substrat (2) mit einer ersten Fläche und einer zweiten Fläche, welche der ersten Fläche gegenüberliegt, wobei das Substrat (2) mit einer Anzahl durchgehender Bohrungen (4) versehen sind, welche in regelmäßiger Form angeordnet sind und welche sich jeweils zwischen den beiden Flächen er strecken;
eine Anzahl aktiver Zonen (31), welche in dem Substrat (2) ausgebildet sind und jeweils parallel zu einer Seitenwandung (41) einer der Anzahl durchgehender Bohrungen (4) verlaufen, wobei die aktiven Zonen (31) Licht erzeugen, wenn Strom hin durchfließt, und
eine erste und eine zweite Elektrode (1, 5), damit Strom durch die aktiven Zonen (31) fließt.
12. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß eine der beiden Elektroden in eine
Vielzahl einzelner Elektroden (1) unterteilt ist, die
jeweils einer der Vielzahl durchgehender Bohrungen (4)
entsprechen und zugeordnet sind.
13. Lichtemittierende Halbleitereinrichtung, gekenn
zeichnet durch
ein Substrat (111) mit einer Fläche;
eine Halbleiterschicht (112), welche auf der Fläche des Substrats (111) ausgebildet ist und einen ersten Leitfähig keitstyp hat und in welcher zumindest eine Vertiefung (120) mit einer Seitenwandung und einem pn-Übergang ausgebildet ist, welcher sich zumindest entlang der Seitenwandung der Ausnehmung (120) erstreckt und
eine erste und eine zweite Elektrode (118, 119) zum Leiten von Strom, welcher durch den pn-Übergang fließt.
ein Substrat (111) mit einer Fläche;
eine Halbleiterschicht (112), welche auf der Fläche des Substrats (111) ausgebildet ist und einen ersten Leitfähig keitstyp hat und in welcher zumindest eine Vertiefung (120) mit einer Seitenwandung und einem pn-Übergang ausgebildet ist, welcher sich zumindest entlang der Seitenwandung der Ausnehmung (120) erstreckt und
eine erste und eine zweite Elektrode (118, 119) zum Leiten von Strom, welcher durch den pn-Übergang fließt.
14. Einrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß der pn-Übergang dadurch gebildet
ist, daß ein Störstellenmaterial eines zweiten
Leitfähigkeitstyps, welcher in der Polarität dem ersten
Leitfähigkeitstyp entgegengesetzt ist, durch Diffusion ein
gebracht wird.
15. Einrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Seitenwandung im wesentlichen senk
recht zu der Fläche des Substrats (113) verläuft.
16. Einrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Halbleiterschicht (112) eine An
zahl übereinanderliegend angeordneter Halbleiter-Unter
schichten (114 bis 117) aufweist.
17. Einrichtung nach Anspruch 16, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Halbleiterschicht zumindest eine
erste Schicht (112, 113, 115) des ersten Leitfähigkeitstyps
und zumindestens eine zweite Schicht (114) des zweiten Leit
fähigkeitstyps aufweist, welche in einer vorherbestimmten
Reihenfolge übereinanderliegend angeordnet sind, wodurch an
einer vorherbestimmten Stelle eine Stromsperre festgelegt
ist, so daß der Strom vorzugsweise durch den pn-Übergang
fließt, welcher sich parallel zu der Seitenwandung (120)
erstreckt.
18. Einrichtung nach Anspruch 13, gekennzeich
net durch eine elektrisch isolierende Schicht (120),
welche auf einem ausgewählten Teil der Halbleiterschicht
(113) ausgebildet ist, damit der Strom vorzugsweise durch
den pn-Übergang fließt, welcher parallel zu der Seiten
wandung der Ausnehmung (120) verläuft.
19. Einrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Substrat (111) zumindest mit einer
Auslaßausnehmung (118) versehen ist, welche bezüglich der
in der Halbleiterschicht (113) ausgebildeten Ausnehmung
(120) ausgerichtet ist, wodurch Licht, das in der Nähe
des pn-Übergangs erzeugt worden ist, über die Auslaßaus
nehmung (111 a) nach außen emittiert wird.
20. Einrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Ausnehmung (120) zumindest
teilweise mit einem vorherbestimmten Material (118 b) gefüllt
ist.
21. Einrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekenn
zeichnet, daß das vorherbestimmte Material ein elek
trisch leitendes Material ist.
22. Einrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekenn
zeichnet, daß das vorherbestimmte Material ein elek
trisch isolierendes Material ist.
23. Lichtemittierende Halbleitereinrichtung, gekenn
zeichnet durch
ein Substrat (111) mit einer Oberfläche;
eine Halbleiterschicht (112, 114 bis 117), welche auf der Fläche des Substrats (111) ausgebildet ist und einen ersten Leitfähigkeitstyp hat, wobei die Halbleiterschicht (112, 114 bis 117) mit mindestens einer Ausnehmung (120) versehen ist, welche eine Seitenwandung und einen pn-Übergang hat, welcher sich zumindest entlang der Seitenwandung der Ausnehmung (120) erstreckt;
Resonanzeinrichtungen (126, 127), damit Licht, das bei oder in der Nähe des pn-Übergangs erzeugt worden ist, in Reso nanz gebracht wird, um einen Laserlichtstrahl zu erzeugen und
eine erste und eine zweite Elektrode (118, 119) zum Leiten von Strom, damit dieser durch den pn-Übergang fließt.
ein Substrat (111) mit einer Oberfläche;
eine Halbleiterschicht (112, 114 bis 117), welche auf der Fläche des Substrats (111) ausgebildet ist und einen ersten Leitfähigkeitstyp hat, wobei die Halbleiterschicht (112, 114 bis 117) mit mindestens einer Ausnehmung (120) versehen ist, welche eine Seitenwandung und einen pn-Übergang hat, welcher sich zumindest entlang der Seitenwandung der Ausnehmung (120) erstreckt;
Resonanzeinrichtungen (126, 127), damit Licht, das bei oder in der Nähe des pn-Übergangs erzeugt worden ist, in Reso nanz gebracht wird, um einen Laserlichtstrahl zu erzeugen und
eine erste und eine zweite Elektrode (118, 119) zum Leiten von Strom, damit dieser durch den pn-Übergang fließt.
24. Einrichtung nach Anspruch 20, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Resonanzeinrichtung ein paar optisch
reflektierender Elemente aufweist, welche an beiden Enden
des pn-Übergangs angeordnet sind.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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