DE3519435A1 - Sensor fuer gasanalyse - Google Patents

Sensor fuer gasanalyse

Info

Publication number
DE3519435A1
DE3519435A1 DE19853519435 DE3519435A DE3519435A1 DE 3519435 A1 DE3519435 A1 DE 3519435A1 DE 19853519435 DE19853519435 DE 19853519435 DE 3519435 A DE3519435 A DE 3519435A DE 3519435 A1 DE3519435 A1 DE 3519435A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
gas
detectors
semiconductor
catalytically active
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19853519435
Other languages
English (en)
Inventor
Eckhard Dipl.-Ing. 8191 Gelting Lange
Rudolf Prof. Dr. 8135 Söcking Müller
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19853519435 priority Critical patent/DE3519435A1/de
Publication of DE3519435A1 publication Critical patent/DE3519435A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/0004Gaseous mixtures, e.g. polluted air
    • G01N33/0009General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
    • G01N33/0011Sample conditioning
    • G01N33/0014Sample conditioning by eliminating a gas
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/22Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating capacitance
    • G01N27/227Sensors changing capacitance upon adsorption or absorption of fluid components, e.g. electrolyte-insulator-semiconductor sensors, MOS capacitors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/26Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
    • G01N27/403Cells and electrode assemblies
    • G01N27/414Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS
    • G01N27/4141Ion-sensitive or chemical field-effect transistors, i.e. ISFETS or CHEMFETS specially adapted for gases
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/0004Gaseous mixtures, e.g. polluted air
    • G01N33/0009General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
    • G01N33/0027General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector
    • G01N33/0031General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector comprising two or more sensors, e.g. a sensor array

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Food Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Description

  • Sensor für Gasanalyse
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Sensor nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
  • Aus der DE-OS 24 07 110 ist ein Gassensor mit einem zur Detektion verwendeten Halbleiterelement und mit einer Selektiveinrichtung bekannt. Das Halbleiterelement ist ein Feldeffekttransistor mit Source, Drain und einem zwischen Source und Drain sich erstreckendem, bis an die Oberfläche des Halbleiterkörpers des Elementes reichenden Kanalbereich. Auf der Oberfläche dieses Halbleiterkörpers befindet sich diesen Kanalbereich überdeckend als Selektiveinrichtung eine Schicht aus ß-Carotin. Bekanntermaßen ist dieses Carotin ein für Gase sensitiver Stoff und seine Verwendung führt bei dem Halbleiter-Feldeffekttransistor zu Ladungsinfluenzierung im Kanalbereich, zu unterschiedlichem Leitungsverhalten des Feldeffekttransistors und/oder zu geänderter Schwellenspannung.
  • Zur Detektion von Wasserstoff, der auch in wasserstoffhaltiger Verbindung vorliegen kann, sind in Appl. Phys. Letters, Bd. 26 (1975), S. 55 - 57 Gassensoren beschrieben, die im wesentlichen aus einem MOS-Transistor bestehen, dessen Gate-Elektrode aus Palladium besteht. Palladium ist wie z.B.
  • auch Rhodium ein Metall, das katalytische Wirkung für Wasserstoff hat und atomaren Wasserstoff aus molekularen Wasserstoffverbindungen abzuspalten vermag. Der atomare Wasserstoff diffundiert durch das Palladiummetall der Gate-Elektrode hindurch an die zwischen Elektrode und Halbleiteroberfläche befindliche Oxidschicht des Transistors. Der dort absorbierte Wasserstoff bewirkt das Entstehen einer Dipolschicht, durch deren Vorhandensein sich das Maß der Schwellenspannung des Transistors verändert.
  • Ein wie voranstehend beschriebener Gassensor läßt sich nicht für wasserstofffreie Gase verwenden. Für eine dementsprechende Gasdetektion ist vorzugsweise für CO-Nachweis in "ESSDERC", München, Sept. 1979, in "Int. Vac. Conf.", Cannes, Sept.
  • 1980 und in IEEE Trans. ED 26 (1979), S. 390 - 396, ein MOS-Transistor beschrieben, dessen Gate-Elektrode vorzugsweise wiederum aus Palladium besteht, jedoch diese Palladiumelektrode besitzt eine Vielzahl bis zur Metalloxid-Grenzschicht reichende Löcher.In dem Zusammenhang kommt auch die Verwendung eines NMOS-Transistors in Frage. Solche Transistoren mit perforiertem Palladiumgate haben eine gute Empfindlichkeit für Kohlenmonoxid und stark verminderte "Quer"-Empfindlichkeit gegenüber Wasserstoff. Als Querempfindlichkeit wird hier eine zusätzlich zur eigentlichen gewünschten Empfindlichkeit des Sensors hinzukommende Empfindlichkeit in bezug auf ein anderes Gas bezeichnet. Für bekannte Anordnungeh ist das Maß der Änderung der Schwellenspannung in Abhängigkeit von der Gaskonzentration bekannt, wobei eine weitgehend lineare Abhängigkeit zu beobachten ist. Als nachteilig angesehen wird, daß das Ansprechen eines derartigen Gassensors ein dynamischer Prozeß ist, der mit einer gewissen zeitlichen Verzögerung auf die Einwirkung des betreffenden Gases, z.B. des Kohlenmonoxids, einsetzt.
  • Ergänzend sei erwähnt, daß eine gegebene Querempfindlichkeit eines jeweiligen Sensors durch Zusatzmaßnahmen vermindert werden kann. Zum Beispiel kann bei einem wie zuletzt beschriebenen CO-Sensor die Querempfindlichkeit hinsichtlich Wasserstoffs durch eine aufgebrachte spezielle Schutzschicht um mindestens mehr als eine Größenordnung reduziert werden.
  • Außerdem ist auch zu erwähnen, daß die quantitative Empfindlichkeit und auch die Verzögerungs-Zeitkonstante temperaturabhängig sind.
  • Bei voranstehend beschriebenen Gassensoren wurde Palladium verwendet. Als wasserstoffdurchlässig sind außerdem auch Rhodium, Platin und Nickel bekannt. Silber besitzt eine ausgeprägte selektive Durchlässigkeit für Sauerstoff.
  • Es ist auch ein Gassensor (der Firma Figaro) mit gesintertem Zinndioxid für brennbare und für einige toxische Gase bekannt, der auf der Basis einer Widerstandsänderung des leitend gemachten Zinndioxids beruht.
  • Unter dem Namen "Pellistor" sind Gassensoren bekannt, die nach dem Prinzip der Kalorimetrie arbeiten. Ein Pellistor besteht aus zwei Platinwiderstandsdrähten, auf die je eine poröse Keramikpille aufgesintert ist. Auf eine der beiden Keramikpillen ist ein Katalysator aufgebracht. Bei katalytischer Verbrennung des nachzuweisenden Gases ergibt sich für den PlatSnwiderstandsdraht mit der mit Katalysator beschichteten Keramikpille eine meßbare Widerstandserhöhung, nämlich gegenüber dem zweiten Platinwiderstandsdraht, wobei zur Messung diese beiden Platinwiderstandsdrähte in eine Brückenschaltung eingefügt sind.
  • Kalorimetrische Effekte im Zusammenhang mit Katalysatoren sind aus dem Stand der Technik bekannt. Es sind dies die Verbrennung von Wasserstoff an einem Platinkatalysator, die Erzeugung von NO aus NH3 mit Platin oder Platin-Rhodium als Katalysator bei 200 bis 2500 C und von N02 aus NO mit einem Katalysator aus Al203-SiO2-Gel bei 1000 C, und zwar jeweils unter Zugabe entsprechenden Sauerstoffs. S02 läßt sich mit Sauerstoff zu SO3 oxidieren, und zwar bei erhöhter Temperatur mit Hilfe eines Platin-Katalysators, mit Hilfe eines Katalysators aus Fe203 und mit V205 als Katalysator.
  • CO läßt sich mit Hilfe von Palladium bei Temperaturen um oder höher als 1500 C zu C02 oxidieren. Mittels eines Silber-Katalysators läßt sich bei 200 bis 4000 C Methanol zu HCH0 oxidieren.
  • Weitere katalytische Prozesse sind aus Gmelins Handbuch der organischen Chemie, aus Winnacker-Küchler, "Chemische Technologie", aus Ullmans, "Enzyklopädie der technischen Chemie" und aus Reich, "Thermodynamik", bekannt.
  • Weitere Druckschriften, die Halbleitersensoren betreffen sind: IEEE Trans. on Biomed. Eng., Vol. BME 19, (1972), S. 342-351, IEEE Trans. on Biomed. Eng., Vol. BME 19, (1972), S.70-71, Umschau, (1970), S. 651, Umschau, (1969), S. 348, DE-PS 1 090 002 US-PS 3 865 550.
  • Im Zusammenhang mit selektiver Wirkung für Gase sind Zeolithe bekannt, die auch als Molekularsieb bezeichnet werden. Solche Molekularsiebe haben die Eigenschaft Moleküle bestimmter Größenwerte und kleiner durchzulassen und größere Moleküle am Durchtritt zu hindern. Zahlreiche Beispiele verwendbarer Zeolithe sind bekannt aus: Grubner u.a. "Molekularsiebe" VEB Dt. Verl. d. Wissensch., Berlin (1968).
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, für das Detektieren eines (vorgebbar bestimmten oder auch unbekannten) Gases, das ggf. als Gaskomponente in einem Gasgemisch vorliegt, und insbesondere für simultan selektive Detektion in einem Gasgemisch enthaltener Gaskomponenten (Einzel-)Gasdetektoren anzugeben, die voneinander verschiedenes Ansprechen auf bzw. verschiedene Empfindlichkeit gegenüber einzelnen Gasen bzw. Dämpfen haben.
  • Diese Aufgabe wird mit Detektoren gelöst, die die Merkmale des Patentanspruches 1 haben. Aus den Unteransprüchen gehen weitere Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Erfindung hervor.
  • Die vorliegende Erfindung beruht darauf, daß einerseits Zeolithe als Molekularsiebe mit in weitem Bereich voneinander unterschiedlichem Durchlaßverhalten für Gasmoleküle zur Verfügung stehen und es andererseits nach dem Prinzip einer Kapazitätsdiode, eines Feldeffekt-Transistors und dgl.
  • funktionierende Halbleiterbauelemente gibt, die als gasempfindliche Detektoren ausgestaltet werden können und die darüber hinaus auch in integrierter Technik in auch größerer Anzahl zusammengenommen aufgebaut werden können.
  • Insbesondere sind die Halbleiterbauelemente MOS-Halbleiterelemente mit insbesondere Silizium als Substratmaterial.
  • Insbesondere die Silizium-Technologie ermöglicht es, mit relativ geringem Aufwand und dennoch höchster Präzision integrierte Detektoranordnungen aufzubauen.
  • Eine Weiterbildung der Erfindung besteht darin, eine Vielzahl derartiger Einzeldetektoren mit voneinander verschiedenen Detektionseigenschaften als Array anzuordnen und die Meßergebnisse dieser Einzeldetektoren, mindestens zwei voneinander verschiedene Einzeldetektoren, mit Hilfe einer Mustererkennungs-Matrix logisch auszuwerten. Die oben bereits erwähnten, bisher als störend empfundenen Querempfindlichkeiten eines beliebigen Einzeldetektors werden bei der Erfindung in vorteilhafter Weise bei Auswertung der Ausgangssignale mehrerer voneinander verschiedener Einzeldetektoren mit Vorteil ausgenutzt.
  • Weitere Erläuterungen der Erfindung gehen aus der nachfolgenden Beschreibung zu Ausführungsbeispielen und der Weiterbildung der Erfindung hervor.
  • Die Figuren 1 und 2 zeigen Beispiele eines Dioden- und eines Feldeffekt-Transistor-Einzeldetektors.
  • Figur 3 zeigt eine Schemadarstellung eines integrierten Detektorarrays und Figur 4 zeigt ein Schaubild zur Mustererkennung.
  • Die Kapazitätsdiode 20 der Figur 1 ist auf einem Substratkörper 21 aus insbesondere Silizium aufgebaut. Mit 31 ist eine Gate-Isolatorschicht aus z.B. Siliziumdioxid oder Siliziumnitrid bezeichnet. Diese Schicht 31 kann auch thermisch erzeugtes Oxid oder Nitrid in der Oberfläche des Substratkörpers 21 sein. Die nächstfolgende Schicht 32 ist eine Elektrodenschicht, die hier als katalytisch wirksame Schicht außerdem Bestandteil der Selektiveinrichtung V ist.
  • Weiter gehört zu der Selektiveinrichtung V die mit 33 bezeichnete Schicht aus einem Zeolith. Zum Beispiel ist für Hauptempfindlichkeit gegenüber Wasserstoff und Wasserstoff enthaltenden Verbindungen das Metall der Schicht 32 Platin, Palladium oder ein anderes Metall der Platinreihe, das als Katalytschicht für Wasserstoff zu verwenden ist. Für die Zeolithschicht stehen zahlreiche verschiedene Zeolithe mit voneinander unterschiedlichen Durchlässigkeiten bzw.
  • Porenweiten für Gasmoleküle zur Verfügung. Die Methode des Aufbringens der Zeolithschicht 33 richtet sich nach dem jeweiligen Zeolithen. Für eine Selektiveinrichtung für andere Gase als Wasserstoff, z.B. für Kohlenmonoxid, ist es erforderlich, daß die katalytisch wirkende Schicht 32 Löcher 34 hat, durch die das zu detektierende Gas bis an die Grenzfläche zwischen den Schichten 31 und 32 hindurchdringen kann. Diese Löcher 34 haben Querschnitte, die groß sind im Vergleich zu Zeolithen.
  • Ein integrierter Aufbau derartiger Dioden ist derart, daß mehrere solche in Figur 1 dargestellte Anordnungen nebeneinander auf der Oberfläche eines größeren Substratkörpers 21 angeordnet sind. Die einzelnen Dioden sind die Einzeldetektoren mit einem jeweiligen separaten Anschluß 35 und dem gemeinsamen Substratanschluß 36. Jeder einzelne Einzeldetektor 20 hat seine Zeolithschicht 33 und seine katalytisch wirkende Schicht 32, die für ein Array, insbesondere für die noch zu beschreibende Mustererkennung, Gasdetektor-Eigenschaften hat bzw. ein Ausgangssignal liefert, die bzw.
  • das verschieden ist von wenigstens einer Anzahl der weiteren Einzeldetektoren des Arrays.
  • Figur 2 zeigt einen auf bzw. in einem Substratkörper 21 aufgebauten Feldeffekt-Transistor als Einzeldetektor 30. Mit 41 und 42 sind ein Source- und ein Drain-Gebiet bezeichnet. Die Schicht 31 ist eine Gate-Isolatorschicht, die Schicht 32 die katalytisch wirksame Schicht und die Schicht 33 ist wieder eine Zeolithschicht. Auch hier bilden die Schichten 32 und 33 zusammengenommen die Selektiveinrichtung. Mit 35, 35a und 36 sind wieder die Anschlüsse bezeichnet.
  • Auch für einen Feldeffekt-Transistor-Einzeldetektor gilt das zur Figur 1 beschriebene hinsichtlich einer Integration vieler solcher Detektoren in bzw. auf einem einzigen Substratkörper 21.
  • Mit dem mit G bezeichneten Pfeil ist auf die Gaseinwirkung hingewiesen.
  • Die Empfindlichkeit eines jeweiligen Einzeldetektors auf ein jeweiliges Gas und seine Querempfindlichkeiten gegenüber weiteren Gasen bzw. Gaskomponenten wird vorzugsweise durch Testen und Reihenversuche ermittelt.
  • Für ein Detektorarray können einerseits lediglich Kapazitätsdioden nach Figur 1 und andererseits Feldeffekt-Transistor-Detektoren nach Figur 2 als integriertes Array als Gassensor verwendet werden. Ein Array kann aber auch gemischt Anordnungen nach Figur 1 und nach Figur 2 enthalten.
  • Z.B. kann das Signal- zu Rauschverhältnis bei Kapazitätsdioden und bei Feldeffekt-Transistoren selbst bei gleichem Zeolithen und gleicher katalytischer Schicht Unterschiede voneinander aufweisen.
  • In Figur 3 ist ein Prinzipaufbau eines aus neun Einzeldetektoren D1 bis 9 bestehendem Detektorarrays dargestellt.
  • Diese Detektoren sind in bzw. auf einem Substratkörper 21 in integrierter Bauweise realisiert und zwar vorzugsweise zusammen mit der Auswertung 55.
  • Es kann vorgesehen sein, daß die Detektoren D1 bis D9 einzeln auf voneinander verschiedenen Temperaturen bzw. ein oder mehrere dieser Detektoren auf von den übrigen (bei "Zimmertemperatur" betriebenen) Detektoren abweichender Temperatur gehalten werden. Hierzu dienen die angedeuteten Stromzuführungen H1 bis Hm Der Heizstrom kann auch moduliert sein, was zu entsprechend charakteristischer Empfindlichkeit bzw. Selektivität führt.
  • Die schematische Darstellung der Figur 4 zeigt das Prinzip eines Gassensors mit einem Detektorarray mit den Einzeldetektoren D1, D2 bis Dm. Für die einzelnen Gase bzw. für die Gaskomponenten G1, G2, G3 ... Gi ... Gn eines Gasgemisches haben die Einzeldetektoren D1, D2... die in der Matrix 54 in der jeweiligen zugehörigen Spalte der Matrix 54 angegebenen Empfindlichkeiten. Ein Pulszeichen bedeutet hohe Empfindlichkeit bzw. Hauptempfindlichkeit, ein Andreaskreuz bedeutet dagegen deutlich mindere Empfindlichkeit und ein Minuszeichen steht für Unempfindlichkeit des betreffenden Einzeldetektors gegenüber der betreffenden Gaskomponente G1, G2 .... Die Einzeldetektoren bilden die Zeile 52 und die Gaskomponenten die Spalte 53 zur Matrix 54. Es sei darauf hingewiesen, daß eine solche Matrix z.B. auch lediglich nur zwei Einzeldetektoren D1 und D2 besitzt.
  • Die untere Zeile enthält die einzelnen Signalausgänge der Einzeldetektoren D1, D2 ..., die jeweilige Signale S1, S2 bis Sm liefern. Das Signal S1 z.B. ist ein integrales Signal für die Empfindlichkeiten des Einzeldetektors D1 gegenüber den Gaskomponenten G1, G2 bis Gn. Es enthält auch die Information, daß der Einzeldetektor D1 gegenüber den Gaskomponenten Gi und Gn unempfindlich ist. Sinngemäß entsprechendes sagen die übrigen Signale S2 bis Sm aus.
  • Sofern z.B. die Gaskomponenten G2 und Gn nicht vorhanden sind, unterscheidet sich ein dann zu erhaltendes Signal S'1 vom Signal S1 darin, daß der ansonsten auf der Gaskomponente G2 beruhende Signalanteil, hier sogar eine Hauptempfindlichkeit des Einzeldetektors gegenüber der Gaskomponente G2, im Signal S'1 fehlt. Das Fehlen der Gaskomponente Gn liefert ersichtlich keinen Beitrag zum vorliegenden Unterschied von S'1 gegenüber S1. Das bei z.B. Fehlen der Gaskomponenten G2 und Gn auftretende Signal S'm unterscheidet sich vom Signal Sm darin, daß der Signalanteil der Hauptempfindlichkeit gegenüber der Gaskomponente Gn und die mindere Empfindlichkeit gegenüber der Gaskomponente G2 fehlen.
  • Mit 55 ist eine Mustererkennungs-Matrix bezeichnet, die nach Art einer Logik arbeitet. Dieser Matrix werden wie ersichtlich die Detektorsignale, d.h. im jeweiligen Einzelfall die für eine Gaskomponentenmischung x tatsächlich auftretenden Signale S1 bis Sm zugeführt. Diese Matrix 55 ist in der Lage, aus der Gesamtheit der zugeführten Signale S1 bis Sm, d.h. aus der Anzahl m Signale auf das Vorhandensein bzw.
  • Nichtvorhandensein einzelner Gaskomponenten aus einer in die Mustererkennungsmatrix einprogrammierten Anzahl n Gaskomponenten zu schließen. Dabei kann die Anzahl m sogar (um eine sprechende relative Zahl) kleiner als die Anzahl n sein. Es sei angemerkt, daß auch das Vorhandensein eines nicht-einprogrammierten Gases (aufgrund eines nicht zuzuordnenden Restsignals) wenigstens festzustellen ist.
  • Der Matrix 54 entspricht mathematisch ausgedrückt das Gleichungssystem
    j=n
    Si = Summe
    j=l
    (aij Gj) mit i von 1 bis m für die Signale S1 bis Sm.
  • Die aij mit j verschieden von i sind die oben erwähnten Querempfindlichkeiten.
  • Im Stand der Technik wurde und wird angestrebt, solche Detektoren zu entwickeln, die möglichst kleine Querempfindlichkeiten aufweisen, d.h. bei denen die Matrixelemente aijür i verschieden von j möglichst klein gegenüber den Matrixelementen aij mit i gleich j sind. Dies erfordert für jede Gaskomponente mindest einen eigenen Einzeldetektor, d.h. m muß gleich oder größer als n sein.
  • Bei der Erfindung dagegen werden die Querempfindlichkeiten mit mit i verschieden von j in erfindungswesentlichem Maße genutzt und ausgewertet. Bei der Erfindung sind Querempfindlichkeiten gerade erwünscht, was dem bisherigen Entwicklungsstand sogar entgegengesetzt gerichtet ist. In der Ausnutzung der Querempfindlichkeiten ist begründet, daß bei der Erfindung die Anzahl m der Einzeldetektor ohne weiteres kleiner sein kann als die Anzahl n der zu detektierenden Gaskomponenten.
  • Wenn die aij konstante Werte der jeweiligen Empfindlichkeit des betreffenden Einzeldetektors Si sind, eingeschlossen der Wert Null, ergibt sich ein lineares Gleichungssystem, das mit Hilfe der Mustererkennungsmatrix 55 gelöst wird. Sofern die aij eine Funktion abhängig vom Vorhandensein der über die Gaskomponente Gj hinaus vorhandenen weiteren Gase G...
  • ist, wird mit Hilfe entsprechender Eichung die Mustererkennungsmatrix 55 in die Lage versetzt, auch dieses Gleichungssystem zu lösen.
  • Es sind hierzu die entsprechenden Eichungen des aus den Einzeldetektoren bestehenden Detektorarrays unter Verwendung jeweils bekannter, unterschiedlicher Gasmischungen vorzunehmen. Entsprechendes gilt, wenn die Empfindlichkeiten eine Funktion der vorliegenden Konzentration des jeweiligen Gases Gj für j = i und/oder der weiteren vorhandenen Gase Gj für j £ i ist. Die Mustererkennungsmatrix 55 wird dann derart ausgerüstet, daß sie Iterationen durchzuführen vermag, mit deren Hilfe auch in diesem Falle die eindeutige Zuordnung möglich ist, d.h. die Lösung auf an sich bekanntem mathematischem Wege mit Hilfe der Mustererkennungsmatrix 55 zu erhalten ist.
  • Das Verfahren der Eichung und Mustererkennung kann mathematisch auch als eine Art der Bildung von Korrelationskoeffizienten verstanden werden. Dazu folgendes Beispiel: Für jede zum Zwecke der Eichung vorgegebene Gaskomponente G.
  • * werden in dem Eichverfahren die Signale S . für j von 1 bis * lJ n vermittelt. Diese i . j Werte von S ij werden in einem Speicher der Mustererkennungsmatrix 5 abgespeichert. Bei der Messung des zu bestimmenden Gasgemisches werden die Korrelationskoeffizienten ßj gemäß folgender Vorschrift bestimmt:
    i=m *
    ß. = Summe si s
    i = 1 1 lJ
    Der Korrelationskoeffizient ßj gibt dann den Anteil der zu bestimmenden Gaskomponenten Gj an.
  • Die Mustererkennungs-Matrix 55 hat die in Spalte 57 angegebenen Ausgänge Al bis An für die Anzahl n Gaskomponenten G1 bis Gn. An diesen Ausgängen A lassen sich die Einzelwerte für die betreffenden Gaskomponenten abnehmen.
  • 9 Patentansprüche 4 Figuren - Leerseite -

Claims (9)

  1. Patentansprüche 1. Sensor für Gasanalyse mit einer Zeolithschicht g e k e n n z e i c h n e t dadurch, daß sich die jeweilige Zeolithschicht (33) auf einem nach dem Prinzip einer Kapazitätsdiode (20) bzw. eines Feldeffekttransistors (30) arbeitenden Halbleiterbauelement (Fig. 1, 2) befindet, - wobei sich auf dem Halbleiterkörper (21) des Bauelements eine Schichtfolge aus einer Isolatorschicht (31) und einer katalytisch wirksamen Schicht (32) angeordnet ist und sich die Zeolithschicht (33) auf dieser katalytisch wirksamen Schicht (32) befindet, wobei die Zeolithschicht (33) und die katalytisch wirksame Schicht (32) zusammen eine Selektiveinrichtung (V) bilden.
  2. 2. Sensor nach Anspruch 1, g e k e n n z e i c hn e t dadurch, daß die katalytisch wirksame Schicht (32) durchgehende Löcher (34) aufweist, die groß im Vergleich zu den Poren des Zeolithen sind.
  3. 3. Sensor nach Anspruch 1 oder 2, g e k e n n z e i c hn e t dadurch, daß die katalytisch wirksame Schicht (32) aus Palladium,Platin oder einem Metall der Platinreihe besteht.
  4. 4. Sensor nach Anspruch 1, 2 oder 3, g e k e n nz e i c h n e t dadurch, daß die Isolatorschicht eine Oxid- oder Nitridschicht des Materials des Halbleiterkörpers (21) ist.
  5. 5. Sensor nach einem der Ansprüche 1 bis 4, g e k e n nz e i c h n e t dadurch, daß das Halbleitermaterial Silizium ist.
  6. 6. Sensor, g e k e n n z e i c h n e t dadurch, - daß zur selektiven Detektion wenigstens eines Gases (Gj) einer Anzahl n verschiedener Gase (G1, G2, ...) - eine Anzahl m voneinander verschieden ausgebildeter Einzeldetektoren (Del, D2 ...) in Anordnung eines Arrays (Fig. 3) vorgesehen ist, - daß diese Einzeldetektoren (D1, D2 ...) Halbleiterdiodenanordnungen (Fig. 1, 2) nach einem der Patentansprüche 1 bis 5 sind, - und daß ein jeweiliger Einzeldetektor sich von den übrigen Einzeldetektoren durch seine ihm zugeordnete Selektiveinrichtung (V) unterscheidet, - wobei wenigstens einzelne der Einzeldetektoren (D1, D2 ...) hinsichtlich jeweils mehrererder zu detektierenden Gase (G1, G2 ...) für den jeweiligen Einzeldetektor spezifische Sensitivität haben.
  7. 7. Gassensor nach Anspruch 6, g e k e n n z e i c hn e t dadurch, daß für die Detektion wenigstens eines Gases (Gj), das in einem Gemisch einer Anzahl Gase (G1 G2 ...) enthalten ist, eine Anzahl m = 1, 2, ... Einzeldetektoren (D) vorgesehen sind und mit diesen bis zu n = 1, 2, ... Gase zu detektieren sind mit der Anzahl m kleiner/gleich der Anzahl n.
  8. 8. Gassensor nach Anspruch 6 oder 7, g e k e n n z e i c h n e t dadurch, daß die Gesamtheit der vorgesehenen Detektoren (D1, D2 ... Dm) sich auf einem einzigen Halbleitersubstratkörper (21) befinden (Fig. 4).
  9. 9. Anordnung nach Anspruch 8, g e k e n n z e i c hn e t dadurch, daß sich auf dem Substratkörper (21) zusätzlich die Elektronikschaltungen (55) der Auswertungen befinden.
DE19853519435 1985-05-30 1985-05-30 Sensor fuer gasanalyse Withdrawn DE3519435A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853519435 DE3519435A1 (de) 1985-05-30 1985-05-30 Sensor fuer gasanalyse

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19853519435 DE3519435A1 (de) 1985-05-30 1985-05-30 Sensor fuer gasanalyse

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3519435A1 true DE3519435A1 (de) 1986-12-11

Family

ID=6272035

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19853519435 Withdrawn DE3519435A1 (de) 1985-05-30 1985-05-30 Sensor fuer gasanalyse

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3519435A1 (de)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0237277A2 (de) * 1986-03-12 1987-09-16 THORN EMI plc Gasempfindliche Vorrichtung
DE3736199A1 (de) * 1987-10-26 1989-05-03 Siemens Ag Sensoranordnung zur gasanalyse
DE3739406A1 (de) * 1987-11-20 1989-06-01 Siemens Ag Verfahren zum betrieb einer sensoranordnung zur erkennung von gasen
DE4227727A1 (de) * 1992-08-21 1994-02-24 Buna Ag Verfahren zur Zustandserkennung gasförmiger und flüssiger Medien mittels Multisensorsystemen
FR2695728A1 (fr) * 1992-09-16 1994-03-18 Icare Sa Dispositif à adsorption/désorption pour la protection des détecteurs de gaz contre les gaz pouvant interférer.
US5296196A (en) * 1991-02-04 1994-03-22 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Semiconductor hydrocarbon sensor
EP0603945A1 (de) * 1992-12-23 1994-06-29 ENIRICERCHE S.p.A. Gassensor basierend auf Halbleiteroxiden, zur Bestimmung von gasförmigen Kohlenwasserstoffen
EP0604243A1 (de) * 1992-12-25 1994-06-29 Tokuyama Corporation Festelektrolytische Gassensorvorrichtung
DE4302367A1 (de) * 1993-01-28 1994-08-04 Rwe Energie Ag System zur indirekten Ermittlung kritischer Zustände von zustandsabhängig Gase entwickelnden Stoffen, Anlagenteilen ect.
WO1996004550A1 (de) * 1994-08-02 1996-02-15 Christian Huggenberger Elektrochemischer gassensor mit reduzierter querempfindlichkeit
US5629474A (en) * 1993-03-30 1997-05-13 Keele University Production of a sensor for carbon monoxide or water vapor including a semi conductor metallic oxide, catalyst, and rheological agent
US5685969A (en) * 1993-09-28 1997-11-11 Siemens Aktiengesellschaft Sensor arrangement
WO2000047991A1 (en) * 1999-02-10 2000-08-17 Capteur Sensors And Analysers Limited Gas sensors with high specificity and poison resistance
DE102005008051A1 (de) * 2005-02-22 2006-08-24 Siemens Ag Gassensor und Verfahren zu dessen Betrieb
WO2009027168A1 (de) * 2007-08-29 2009-03-05 Robert Bosch Gmbh Feldeffekttransistor-gassensor mit gehäuse und darin enthaltenem porösen katalytischen material
CN104713930A (zh) * 2015-03-17 2015-06-17 东北师范大学 一种基于场效应气体传感器的鉴定气体种类的方法
WO2016176085A1 (en) * 2015-04-29 2016-11-03 Honeywell International Inc. System for integrating multiple chemical sensor data to detect an unmeasured compound

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2947050A1 (de) * 1979-11-22 1981-05-27 Karoly Dr. 4600 Dortmund Dobos Anordnung zum nachweis von ionen, atomen und molekuelen in gasen oder loesungen

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2947050A1 (de) * 1979-11-22 1981-05-27 Karoly Dr. 4600 Dortmund Dobos Anordnung zum nachweis von ionen, atomen und molekuelen in gasen oder loesungen

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0237277A2 (de) * 1986-03-12 1987-09-16 THORN EMI plc Gasempfindliche Vorrichtung
EP0237277A3 (de) * 1986-03-12 1988-06-01 THORN EMI plc Gasempfindliche Vorrichtung
DE3736199A1 (de) * 1987-10-26 1989-05-03 Siemens Ag Sensoranordnung zur gasanalyse
DE3739406A1 (de) * 1987-11-20 1989-06-01 Siemens Ag Verfahren zum betrieb einer sensoranordnung zur erkennung von gasen
US5296196A (en) * 1991-02-04 1994-03-22 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Semiconductor hydrocarbon sensor
DE4227727A1 (de) * 1992-08-21 1994-02-24 Buna Ag Verfahren zur Zustandserkennung gasförmiger und flüssiger Medien mittels Multisensorsystemen
FR2695728A1 (fr) * 1992-09-16 1994-03-18 Icare Sa Dispositif à adsorption/désorption pour la protection des détecteurs de gaz contre les gaz pouvant interférer.
EP0603945A1 (de) * 1992-12-23 1994-06-29 ENIRICERCHE S.p.A. Gassensor basierend auf Halbleiteroxiden, zur Bestimmung von gasförmigen Kohlenwasserstoffen
US5400643A (en) * 1992-12-23 1995-03-28 Eniricerche S.P.A. Gas sensor based on semiconductor oxide, for gaseous hydrocarbon determination
EP0604243A1 (de) * 1992-12-25 1994-06-29 Tokuyama Corporation Festelektrolytische Gassensorvorrichtung
US5413691A (en) * 1992-12-25 1995-05-09 Tokyuama Corporation Solid electrolyte gas-sensing device
DE4302367A1 (de) * 1993-01-28 1994-08-04 Rwe Energie Ag System zur indirekten Ermittlung kritischer Zustände von zustandsabhängig Gase entwickelnden Stoffen, Anlagenteilen ect.
US5629474A (en) * 1993-03-30 1997-05-13 Keele University Production of a sensor for carbon monoxide or water vapor including a semi conductor metallic oxide, catalyst, and rheological agent
US5685969A (en) * 1993-09-28 1997-11-11 Siemens Aktiengesellschaft Sensor arrangement
WO1996004550A1 (de) * 1994-08-02 1996-02-15 Christian Huggenberger Elektrochemischer gassensor mit reduzierter querempfindlichkeit
WO2000047991A1 (en) * 1999-02-10 2000-08-17 Capteur Sensors And Analysers Limited Gas sensors with high specificity and poison resistance
DE102005008051A1 (de) * 2005-02-22 2006-08-24 Siemens Ag Gassensor und Verfahren zu dessen Betrieb
WO2009027168A1 (de) * 2007-08-29 2009-03-05 Robert Bosch Gmbh Feldeffekttransistor-gassensor mit gehäuse und darin enthaltenem porösen katalytischen material
US8418527B2 (en) 2007-08-29 2013-04-16 Robert Bosch Gmbh Field effect transistor gas sensor having a housing and porous catalytic material contained therein
CN104713930A (zh) * 2015-03-17 2015-06-17 东北师范大学 一种基于场效应气体传感器的鉴定气体种类的方法
CN104713930B (zh) * 2015-03-17 2017-07-21 东北师范大学 一种基于场效应气体传感器的鉴定气体种类的方法
WO2016176085A1 (en) * 2015-04-29 2016-11-03 Honeywell International Inc. System for integrating multiple chemical sensor data to detect an unmeasured compound
CN107533041A (zh) * 2015-04-29 2018-01-02 霍尼韦尔国际公司 用于整合多个化学传感器数据以检测未测化合物的***
EP3722803A1 (de) * 2015-04-29 2020-10-14 Honeywell International Inc. Verfahren und system zur identifizierung einer chemikalie
US11300550B2 (en) 2015-04-29 2022-04-12 Honeywell International Inc. System for integrating multiple chemical sensor data to detect an unmeasured compound
US11946919B2 (en) 2015-04-29 2024-04-02 Honeywell International Inc. System for integrating multiple chemical sensor data to detect an unmeasured compound

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0203561B1 (de) Betriebsverfahren für einen Sensor für Gasanalyse
DE3519435A1 (de) Sensor fuer gasanalyse
DE3519397A1 (de) Sensor fuer gasanalyse bzw. -detektion
DE10106171A1 (de) Gassensor
DE19861198B4 (de) Sensor für die Untersuchung von Abgasen und Untersuchungsverfahren
DE3507386A1 (de) Sensor-anordnung fuer die feststellung von toxischem gas
DE19924906C2 (de) Halbleiter-Gassensor, Gassensorsystem und Verfahren zur Gasanalyse
DE10121771C2 (de) Verfahren zum Betreiben eines Sensorelements
DE102007040726A1 (de) Gassensor
DE4424342C1 (de) Sensorarray
DE102007059652A1 (de) Gassensor mit einer verbesserten Selektivität
EP0904533A1 (de) Sensor zur bestimmung der konzentration oxidierbarer bestandteile in einem gasgemisch
WO1997047963A1 (de) Sensor zur bestimmung der konzentration oxidierbarer bestandteile in einem gasgemisch
DE19549147A1 (de) Gassensor
DE19930636A1 (de) Elektrochemischer Gassensor und Verfahren zur Bestimmung von Gaskomponenten
EP0829718A1 (de) Gasanalysegerät mit einem Halbleiter-Gassensor
DE102009001249A1 (de) Festelektrolytgassensor für die Messung diverser Gasspezies (I)
DE3519436A1 (de) Sensor fuer gasanalyse
DE3743399A1 (de) Sensor zum nachweis von gasen durch exotherme katalytische reaktionen
DE69635160T2 (de) Vorrichtung zur vergrösserung der sensorselektivität
EP1602924B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Detektion von leichtflüchtigen Organischen Verbindungen
DE3213286C2 (de) Gaserfassungsvorrichtung
DE19747510A1 (de) Meßsystem und Verfahren zur Auswertung von Sensorsignalen
DE4210398A1 (de) Anordnung zur Bestimmung eines Gaspartialdruckes in einem Gasgemisch
DE102021212686A1 (de) Verfahren zum Trainieren eines Klassifikationsalgorithmus und zugehöriges Verfahren zur Erkennung einer Anomalie eines Abgas-Sensors basierend auf künstlicher Intelligenz

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: G01N 27/12

8130 Withdrawal