DE3486165T2 - Integrierte optische schaltung. - Google Patents

Integrierte optische schaltung.

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DE3486165T2 DE84902368T DE3486165T DE3486165T2 DE 3486165 T2 DE3486165 T2 DE 3486165T2 DE 84902368 T DE84902368 T DE 84902368T DE 3486165 T DE3486165 T DE 3486165T DE 3486165 T2 DE3486165 T2 DE 3486165T2
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Description

  • Allgemein gesagt, ist eine optische integrierte Schaltung aus einer komplizierten Kombination von Strukturen aufgebaut, wie es in Fig. 1 der beigefügten Zeichnungen dargestellt ist. Genauer gesagt, ist auf einem Substrat (aus z. B. Gadolinium-Gallium-Granat: GGG) 1 eine Optikwellenleiterschicht (aus z. B. Yttrium-Eisen-Granat: YIG) 2 mit höherem Brechungsindex als demjenigen des Substrats 1 ausgebildet, und Optikwellenleiterstreifen ("Rippen" genannt) 3 sind darauf ausgebildet. Licht wird so durch die Rippen übertragen, daß dann, wenn zwei Rippen benachbart zueinander angeordnet sind, wie dies in Fig. 1 dargestellt ist, die gesamte optische Energie des Lichts, das sich durch die Rippe 3-1 fortpflanzt, innerhalb einer Kopplungslänge, die durch die Form, den Brechungsindex usw. der Rippen bestimmt wird, in die Rippe 3-2 übertragen wird. In diesem Fall kann eine Übertragung in die Rippe 3-2 dadurch verhindert werden, daß Magnete 4-1, 4-2 angeordnet werden, die an den Oberseiten der Rippen Magnetfelder auf diese ausüben, wie in Fig. 2(a) der beigefügten Zeichnungen dargestellt, und dadurch, daß die Intensitäten dieser Magnetfelder so gesteuert werden, daß das sich durch die Rippe 3-1 fortpflanzende Licht an einem Ausgangsanschluß für diese Rippe 3-1 austreten kann. Es ist üblich, gewundene Spulen (d. h. gewickelte Spulen) statt der Magnete zum Einstellen der Magnetfelder zu verwenden. In diesem Fall ist es schwierig, die Spulen direkt auf den Rippen auszubilden, und ein ebenes Medium muß auf den Rippen ausgebildet werden, bevor die Spulen auf dem ebenen Medium hergestellt werden können. Andererseits werden dann, wenn das Substrat 1 aus einem elektrooptischen Kristall (z. B. Galliumarsenid, GaAs) und die Optikwellenleiterschicht 2 aus einem elektrooptischen Kristall mit höherem Brechungsindex als demjenigen des ersten Kristalls (z. B. GaAs mit höherem Widerstand) besteht, Elektroden 5-1 und 5-2 an den Oberseiten der Rippen angebracht, wie in Fig. 2(b) der beigefügten Zeichnungen dargestellt, und eine Elektrode 6 ist am Boden des Substrats angebracht, so daß die Übertragung von Licht mittels einer Steuerung der Spannung zwischen den zwei Anschlüssen verhindert werden kann. Dies ist das Prinzip eines optischen Schalters innerhalb einer optischen integrierten Schaltung. Der erstere Schaltertyp verwendet einen magnetooptischen Effekt, wohingegen der letztere einen elektrooptischen Effekt verwendet. Allgemein gesagt, verwendet eine integrierte optische Schaltung einen elektromagnetischen Effekt. Fig. 1 zeigt den einfachsten Fall hierzu, jedoch weist eine integrierte optische Schaltung im allgemeinen eine komplizierte Form auf. Z. B. kann die integrierte optische Schaltung einen Aufbau aufweisen, wie er in Fig. 3 der beigefügten Zeichnungen dargestellt ist.
  • Eine Schwierigkeit bei komplizierten integrierten optischen Schaltungen mit derartigen gekrümmten optischen Wellenleitern liegt darin, wie stark die optischen Übertragungsverluste verringert werden können. Ein spezielles Problem sind Verluste aufgrund optischer Streuung. Diese Streuungsverluste werden teilweise durch Unregelmäßigkeiten aufgrund thermischer Schwankungen in dem die optischen Wellenleiter bildenden Material sowie teilweise durch die Struktur der optischen Wellenleiter selbst hervorgerufen. Der erstere Streuungstyp wird durch das Material bestimmt und führt zu einem Verlust von etwa 0,8 dB/km für eine optische Wellenlänge von 1 um, was zu klein ist, als daß der Wert in einer integrierten optischen Schaltung vernachlässigt werden könnte. Jedoch schwankt beim letzteren Tap die Streuung abhängig vom Verfahren, mit dem optische Wellenleiter hergestellt werden, so stark, daß dies ein sehr ernstes Problem darstellt.
  • Um die Rippen auszubilden, wird im allgemeinen ein Naßätz- oder ein Trockenätzverfahren verwendet. Beim Naßätzverfahren werden die gewünschten Abschnitte des YIG oder dergleichen mit heißer Phosphorsäure geätzt, während beim Trockenätzverfahren die gewünschten Abschnitte des YIG durch auf den YIG treffende Argonionen (Ar&spplus;) mechanisch geätzt werden. Die Seiten der mit diesen Verfahren hergestellten Rippen sind ungleichmäßig, wie dies in Fig. 4 der beigefügten Zeichnungen unter 7 angedeutet ist. Diese Unregelmäßigkeiten 7 werden durch Ungleichmäßigkeit beim Ätzen und beim verwendeten Material hervorgerufen oder durch Unregelmäßigkeiten bei der zum Ausbilden der Rippen verwendeten Photomaske. Das sich durch die Rippen ausbreitende Licht wird optisch durch die Unregelmäßigkeiten an deren Seiten gestreut, so daß ein optischer Übertragungsverlust die Folge ist. Dieser optische Übertragungsverlust α ist mehr oder weniger proportional zu (n&sub1;²-n&sub3;²), wobei n&sub1; der Brechungsindex der Rippen und n&sub3; der Brechungsindex des umgebenden Mediums ist, wobei der Wert stark von der Periode der Unregelmäßigkeiten an den Seiten der Rippen beeinflußt wird. Diese Unregelmäßigkeiten an den Seiten der Rippen betragen gegenwärtig etwa 0,08 um. Der sich ergebende optische Verlust in den-geraden Abschnitten der Rippen entspricht weniger als 1 dB/cm. Der Grund für diesen niedrigen Übertragungsverlust ist der, daß das Durchdringen von optischer Energie (d. h. der elektrischen Feldverteilung E), die sich durch die Rippen zur Außenseite fortpflanzt, in den geraden Abschnitten klein ist, wie dies in Fig. 5 der beigefügten Zeichnungen dargestellt ist, so daß die Unregelmäßigkeiten an den Seiten der Rippen nur eine kleine Auswirkung aufweisen. Wie es in Fig. 5 dargestellt ist, besteht jedoch in gekrümmten Abschnitten eine starke Durchdringung optischer Energie (d. h. der elektrischen Feldverteilung E) nach außen, so daß die Unregelmäßigkeiten in den Seiten der Rippen eine starke Auswirkung haben und die optische Streuung vergrößern.
  • Um den Einfluß der Unregelmäßigkeiten deutlicher zu machen, wurden integrierte optische Schaltungen dadurch hergestellt, daß das Substrat 1 aus Ga0,82Al0,18As und die Optikwellenleiterschicht 2 aus GaAs hergestellt wurden, daß ein gekrümmtes Rippenmuster auf der Optikwellenleiterschicht 2 mit einer Dicke von 0,8 um ausgebildet wurde, und daß die Wellenleiterschicht 2 so geätzt wurde, daß eine Tiefe von 0,5 um und eine Breite von 3 um verblieb, was unter Verwendung einer Ionenbeschußätzanlage erfolgte. Anders gesagt, wurden die Rippen so ausgebildet, daß sie eine Breite von 3 um, eine Höhe von 0,5 um über der Wellenleiterschicht und eine Höhe von 0,8 um über dem Substrat aufweisen. Die Rippen wurden mit einem Krümmungsradius von 0,07 mm bis 0,5 mm gekrümmt. Die Übertragungsverluste in dieser integrierten optischen Schaltung wurden unter Verwendung eines Strahls eines He-Ne-Lasers mit einer optischen Wellenlänge von 1,15 um gemessen. Die Ergebnisse hierzu sind in Fig. 6 der beigefügten Zeichnungen dargestellt, wobei die Verluste die Summen der Krümmungsverluste und der Streuverluste sind. Für kleinere Krümmungsradien überwiegen die Krümmungsverluste die optischen Streuverluste, so daß die Verluste linear ansteigen, wie dies in Fig. 6 durch eine gerade Linie angedeutet ist. Bei einem Krümmungsradius von etwa 0,3 mm weichen die Verluste jedoch von dieser linearen Änderung ab. Diese Diskrepanz wird offenbar durch optische Streuung hervorgerufen. Wie in Fig. 3 dargestellt, sind mehr Abschnitte gekrümmter optischer Wellenleiter vorhanden, wenn das Muster der integrierten optischen Schaltung kompliziert ist. Ein Krümmungsradius von etwa 1 mm ist erforderlich, um ein Muster hoher Dichte zu erstellen, obwohl die Rippen keinen extrem kleinen Krümmungsradius, wie einen solchen von z. B. 0,1 mm aufweisen müssen, wie in Fig. 6 dargestellt. Daher gilt dem Verringern optischer Streuung die Hauptsorge. Um die optische Streuung (aufgrund der Unregelmäßigkeiten) zu verringern, wurden Versuche dahingehend unternommen, daß die Unregelmäßigkeiten der Seiten der Rippen mit einer Substanz beschichtet wurden, wie einer solchen, die zum Umhüllen optischer Fasern dient, um die Auswirkung der Unregelmäßigkeiten zu verringern. Die Auswirkung wird verringert, da der Unterschied zwischen den Quadraten der Brechungsindizes der Rippen und des umgebenden Materials klein wird, wobei die Streuverluste proportional zu diesem Unterschied sind, wie oben angegeben. Ein anderer Grund ist der, daß die Auswirkungen von Staub usw., der von den Seiten aufgefangen wird, beseitigt werden. Da z. B. der Brechungsindex von LiNbO&sub3; etwa 2,2 ist, wird der Übertragungsverlust um etwa 35% verbessert, wenn das umgebende Material SiO&sub2;-Glas statt Luft ist. Diese Wirkung wird in der Praxis verwendet. Die Eigenschaften, die für den Bedeckungsfilm erforderlich sind, sind die folgenden: (1) er deckt die Unregelmäßigkeiten an den Seiten geeignet ab; (2) seine optischen Übertragungsverluste sind klein; (3) er erzeugt keine Spannung in den Rippen; und (4) er weist einen Brechungsindex nahe dem der Rippen auf, z. B. n&sub1; n&sub3;.
  • Gegenwärtig wird die Beschichtung integrierter MOS-Schaltungen durch Sputtern von SiO&sub2; oder dergleichen hergestellt (Rib waveguide switches with MOS electro-optic control for monolithic integrated optics in GaAs-AlxGa1-xxAs, Appl. Opts. 17, Nr. 16, Aug. 1978, Seiten 2548 bis 2555). Dieses Verfahren erfüllt jedoch nicht die Bedingungen (1) und (4), wie sie für integrierte optische Schaltungen erforderlich sind. Für die Bedingung (4) ist dies offensichtlich. Was die Bedingung (1) betrifft, sind Sputtern oder ähnliche Verfahren nicht ausreichend, um die Unregelmäßigkeiten an den Seiten zu glätten. Wenn die Unregelmäßigkeiten an den Seiten der Rippen in Höhenrichtung so stark ausgeprägt sind, daß sie "Hohlräume" bilden, können sie nicht vollständig bedeckt werden, was heißt, daß eine Luftschicht (d. h. eine Schicht mit dem Brechungsindex 1) verbleibt und die optischen Streuverluste erhöht. Einige integrierte optische Schaltungen aus dem Stand der Technik sind in "Directional Coupler Switch in Molecular-beam Epitaxy GaAs", Appl. Phys. Lett. 34 (11), 1, Juni 1979, Seiten 755 bis 757 genannt.
  • Aus JP-A-51-88041 ist es bekannt, eine integrierte optische Schaltung bereitzustellen, bei der ein Optikwellenleiterbereich auf einem Substrat mit höherem Brechungsindex als demjenigen des Substrats (1) und aus elektrooptischem Material hergestellt ist, wobei der Optikwellenleiterbereich mehrere Rippen aufweist, um eingegrenzte Übertragung von Licht durch den Optikwellenleiterbereich zu ermöglichen. Eine Isolierschicht erstreckt sich über den Optikwellenleiterbereich einschließlich der Rippen, welche Isolierschicht ein gehärteter Film eines wärmebeständigen und hochmolekularen Harzes ist. Damit entspricht dieses Dokument dem Oberbegriff von Anspruch 1. Eine im wesentlichen ähnliche Struktur ist auch aus GB-A-2 000 877 bekannt.
  • Die erfindungsgemäße integrierte optische Schaltung ist eine solche, wie sie in Anspruch 1 definiert ist. Demgemäß schlägt die Erfindung vor, daß auf jeder Rippe eine Elektrode vorhanden ist, um den Brechungsindex der Rippe zu verändern, welche Elektroden von der Isolierschicht mit Ausnahme derjenigen Stelle bedeckt werden, an der sie einen zugehörigen Elektrodenstreifen kontaktieren. Ferner sind mehrere Elektrodenstreifen auf der Isolierschicht vorhanden, wobei jeder Streifen in elektrischem Kontakt mit einer zugehörigen Elektrode steht, welche Elektrodenstreifen sich quer zu den Rippen erstrecken. Um jedoch zu gewährleisten, daß der Elektrodenstreifen bei seinem Verlauf über die Rippen nicht bricht, erfordert es die Erfindung ferner, daß die Isolierschicht eine Dicke nicht unter 200 nm aufweist, als Flüssigkeit abgeschieden ist und Wellungen mit einer Steigung aufweist, die ausreichend klein dafür ist, daß die Störungsrate der Elektrodenstreifen verringert wird.
  • Ausführungsformen der Erfindung werden nun im einzelnen beispielhaft unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschrieben, in denen
  • Fig. 1 und 3 perspektivische Ansichten grundsätzlicher Aufbauten integrierter optischer Schaltungen sind; Fig. 2a und 2b Querschnitte hierdurch sind; Fig. 4 und 5 Ansichten von Unregelmäßigkeiten bzw. von der Ausbreitung des elektrischen Feldes in gekrümmten Abschnitten derselben sind;
  • Fig. 6 ein Diagramm des Übertragungsverlustes über dem Krümmungsradius ist;
  • Fig. 7 eine Ansicht eines Ausführungsbeispiels der Erfindung ist;
  • Fig. 8 ein Diagramm des optischen Transmissionsvermögens von PII ist;
  • Fig. 9 ein Schnitt durch eine integrierte optische Schaltung gemäß der Erfindung ist;
  • Fig. 10 eine Gesamtansicht der mit Abhebeelektroden versehenen integrierten optischen Schaltung von Fig. 9 ist; und
  • Fig. 11 und 12 die Dicke und den Neigungswinkel des PII- Films zeigen.
  • Fig. 7 ist eine Darstellung eines Ausführungsbeispiels der Erfindung und zeigt einen Schnitt durch die Struktur eines Teils einer integrierten optischen Schaltung, bei der ein 200 nm dicker, ausgehärteter Film aus Polyimidharz, z. B. Polyimidisoindochinazolindiol (polyimideisoindroquinazolindion) (nachfolgend mit "PII" abgekürzt) als Abdeckschicht 8 über einer Optikwellenleiterschicht 2 mit einem Brechungsindex von 3,4 verwendet wird, die auf einem GaAs-Substrat 1 ausgebildet ist und Rippen 3-1 und 3-2 aus GaAs aufweist. Der PII-Film 8 wird nach dem Ausbilden von Elektroden 5-1 und 5-2 auf den Rippen 3-1 und 3-2 durch Auftragen einer Flüssigkeit mit Hilfe eines Schleuderauftragungsverfahrens aufgebracht, die dadurch hergestellt wurde, daß eine vorgegebene Menge an PII in einem Lösungsmittel (z. B. einer Mischung im Verhältnis 1:1 von N-Methyl-2-Pyrolidon und N, N-Dimethylacetamid) gelöst wurde, gefolgt von einer Wärmebehandlung zum Bewirken eines Aushärtens.
  • Die Dicke des so erhaltenen PII-Films 8 kann durch die Konzentration an PII und die Drehzahl bei der Schleuderauftragung bestimmt werden. Wenn das PII eine Konzentration von 8 Gew.-% aufweist und die Drehzahl 3500 U/min ist, weist der PII-Film nach der Wärmebehandlung eine Dicke von 300 nm auf. Wenn z. B. eine Wärmebehandlung bei 350ºC für eine Stunde nach dem Auftragen des PII-Films vorgenommen wird, härtet dieser aus, um einen Film zu ergeben, der geeignete Eigenschaften für eine Abdeckschicht einer integrierten optischen Schaltung aufweist. Da das PII durch Schleuderauftragung aus einer Lösung aufgebracht wird, deckt es die Unregelmäßigkeiten der Rippen vollständig ab und führt zu sehr wenig Verformung, selbst wenn es ausgehärtet wurde, so daß es die Unregelmäßigkeiten an den Rippen vollständig abdeckt. Wie es in Fig. 8 dargestellt ist, weist PII ein derart ausgezeichnetes optisches Transmissionsvermögen im Wellenlängenbereich oberhalb 0,5 um auf, daß die Übertragungsverluste des Lichts so klein sind, daß sie praktisch vernachlässigt werden können. Ein PII-Film weist die Eigenschaft auf, daß sein Brechungsindex den hohen Wert von etwa 1,72 aufweist, was dicht bei demjenigen von LiNbO&sub3;, GaAs, YIG usw. ist. Anders gesagt, sind die obigen, für den Abdeckfilm vorgegebenen Bedingungen vollständig erfüllt. Die Verwendung dieses PII- Films für gekrümmte Rippen, wie in Fig. 6 dargestellt, hat gezeigt, daß die Übertragungsverluste bei einem Krümmungsradius von 0,5 mm um etwa 86% auf 9 dB/cm verringert werden. Damit weist der PII-Film den Vorteil auf, daß optische Übertragungsverluste stark verringert werden können.
  • Eine detailliertere Untersuchung hat das Folgende ergeben.
  • Über einer integrierten optischen Schaltung müssen Anschlußleitungsmuster ausgebildet werden, damit Optiksteuerströme durch die einzelnen Rippen fließen können. Ein Beispiel einer einfachen Struktur dafür ist in Fig. 9 dargestellt. Wenn die Elektrode der Rippe 3-2 gesteuert wird, müssen Elektrodenstreifen 10 über einer Isolierschicht 9 auf den Elektroden 5-1 und 5-3 angeordnet werden. Dies erfolgt in der Regel durch einen Abhebeprozeß. Bei einer herkömmlichen integrierten optischen Schaltung wird eine Struktur verwendet, bei der die Elektrodenstreifen direkt, nicht über der Isolierschicht 9, wie in Fig. 10 dargestellt, aufgebracht werden, nachdem die Enden der Elektroden 5-1 und 5-3 teilweise entfernt sind; oder es wird eine Struktur verwendet, bei der die Elektrodenstreifen 10 an den Rippen über der Isolierschicht 9 angebracht werden, wie in Fig. 9 dargestellt. Wie in Fig. 9 gezeigt, sind Abschnitte der Rippen jedoch so gebildet, daß sie steile Stufen aufweisen, was ein Herstellen der Elektrodenstreifen 10 durch Abheben sehr schwierig gestaltet. Wenn die Isolierschicht 9 steile Stufen aufweist, wie in Fig. 9 dargestellt, können diese steilen Stufen zu einem Brechen oder Verdünnen der Elektrodenstreifen 10 führen, so daß sie von der in ihnen erzeugten Hitze schmelzen könnten, und unerwünschte Abschnitte können durch den Abhebeprozeß nicht entfernt werden, was die Zuverlässigkeit desselben stark verringert. Da diese Schwierigkeit aufgrund der Stufen noch deutlicher wird, wenn die Integration der integrierten optischen Schaltung zunimmt, ist es absolut notwendig, die hochintegrierte Schaltung so auszugestalten, daß die Isolierschicht 9 eben ist. Vor kurzem wurden Rippenmuster durch Ionenbeschußätzen ausgebildet, wodurch die Muster noch kleiner hergestellt werden können; die Steigung der Rippenseiten beträgt in diesem Fall etwa 800, was nahe beim rechten Winkel liegt. Infolgedessen sind die Stufen noch vergrößert. Wie in Fig. 10 dargestellt, ist daher das Verfahren des direkten Anbringens der Elektrodenstreifen 10 an den Rippen ungeeignet, um eine hochintegrierte Schaltung zu bilden. Dies erfordert es, die Konstruktion von Fig. 9 mit Verwendung der Isolierschicht 9 einzuführen.
  • Der PII-Film ist ausgezeichnet, nicht nur hinsichtlich seiner optischen Eigenschaften, sondern auch hinsichtlich seiner elektrischen Isoliereigenschaften. Die Höhe der Rippen 3-1 und 3-2 liegt zwischen 200 nm und 1500 nm, so daß dann, wenn ein SiO&sub2;-Film derselben Dicke von 200 nm, wie derjenigen des PII-Films, als Isolierschicht verwendet wird, die steilen Stufen von Fig. 9 ausgebildet werden, die die Anschlußfähigkeit der Elektrodenstreifen 10 verschlechtern. Wenn der Isolierfilm aus PII besteht, können jedoch alle Unregelmäßigkeiten an der Oberfläche des PII-Films verringert und eingeebnet werden, da die PII-Lösung eine Flüssigkeit ist. Wenn sich das PII für eine vorbestimmte Zeitspanne nach seinem Auftragen durch Schleuderauftragung oder ein anderes Verfahren absetzen darf, werden demgemäß die Stufen in der Oberfläche des PII-Films 9, wie sie zunächst durch die Stufen 3-1 und 3-2 erzeugt werden, stark verringert und eingeebnet, so daß irgendwelche Stufen in den Elektrodenstreifen 10 viel kleiner sind als im Fall von Fig. 9.
  • Bei der Erfindung spielt auch die Dicke des PII-Films 8 über den Spitzen der Rippen eine wichtige Rolle. Wenn der PII- Film 8 zu dünn ist, ist der Effekt des Verringerns der Stufen unzureichend, was im ungünstigsten Fall die Isolierung zwischen der Elektrode 5-1 und den Elektrodenstreifen 10 verringern kann. Wenn die Rippen z. B. eine Höhe von 350 nm aufweisen und die Neigung der gestuften Abschnitte R ist, wie in Fig. 11 dargestellt, wird die Steigung R kleiner, wenn die Dicke h des PII-Films zunimmt, wie in Fig. 12 dargestellt. Wenn die Steigung kleiner als 30º ist, werden die Elektrodenstreifen nicht zerschnitten. Aus diesem Grund muß die Dicke des PII-Films mindestens 200 nm betragen. Wenn die Dicke h des PII-Films 8 kleiner als 200 nm beträgt, ist darüber hinaus die durch ihn bewirkte Isolierung unzureichend. Daher muß die Dicke h des PII-Films 8 mindestens 200 nm betragen.
  • Um die Magnetfelder innerhalb der integrierten optischen Schaltung zu steuern, ist es andererseits erforderlich, gewundene Spulen auf dem PII-Film zu erzeugen, um Magnetfelder an die Rippen zu legen. Wenn in diesem Fall die Dicke h des PII-Films vergrößert wird, verringert sich die Stärke der dabei angelegten Magnetfelder. Daher beträgt die Filmdicke wünschenswerterweise weniger als 1000 nm.
  • Es ist eine große Anzahl wärmebeständiger, hochmolekularer Harze verfügbar, die bei der Erfindung verwendet werden können, da sie die obigen Bedingungen erfüllen. Zusätzlich zu Polyimiden, wie PII, können z. B. Epoxid-Harze, Phenol-Harze, Polyamidimid-Harze usw. verwendet werden. Zwei oder mehr dieser Harze können kombiniert werden.
  • Die Erfindung ermöglicht es, eine integrierte optische Schaltung mit optischen Wellenleitern mit geringem Verlust zu erstellen. Die Verwendung einer solchen integrierten optischen Schaltung kann den Leistungsgrad von Schaltungen, die verschiedene Signale übertragen, und auch von verschiedenen Vorrichtungen, die mit Übertragungstechniken in Beziehung stehen, verbessern und die Größe und das Gewicht wie auch die Kosten erniedrigen. Es ist daher offensichtlich, daß die erfindungsgemäße optische integrierte Schaltung einen extrem hohen Gebrauchswert hat.

Claims (4)

1. Integrierte optische Schaltung mit einem Substrat (1), einem Optikwellenleiterbereich (2, 3-1; 2, 3-2) auf dem Substrat (1), der höheren Brechungsindex aufweist als das Substrat (1), und einem elektrooptischen Material, wobei der Optikwellenleiterbereich (2, 3-1; 2, 3-2) mehrere Rippen (3-1, 3-2) aufweist, um begrenzte Übertragung von Licht durch ihn zu ermöglichen, und mit einer Isolierschicht (9) über dem Optikwellenleiterbereich (2, 3-1; 2, 3-2) mit den Rippen (3-1, 3-2), welche Isolierschicht ein ausgehärteter Film eines wärmebeständigen und hochmolekularen Harzes ist; dadurch gekennzeichnet, daß:
- auf jeder Rippe (3-1, 3-2) eine Elektrode (5-1, 5-2) vorhanden ist, um den Brechungsindex der Rippe (3-1, 3-2) zu verändern, welche Elektroden (5-1, 5-2) von der Isolierschicht (9) mit Ausnahme derjenigen Stelle bedeckt werden, an der sie von einem zugehörigen Elektrodenstreifen kontaktiert werden sollen;
- mehrere Elektrodenstreifen (10) auf der Isolierschicht (9) vorhanden sind, wobei jeder Streifen in elektrischem Kontakt mit einer zugehörigen Elektrode (5-1, 5-2) steht, welche Elektrodenstreifen sich quer zu den Rippen erstrecken; und
- die ausgehärtete Isolierschicht dadurch erhalten werden kann, daß sie ihn flüssiger Form aufgebracht und anschließend ausgehärtet wird, wobei die ausgehärtete Isolierschicht eine Dicke nicht unter 200 nm sowie Wellungen mit einer Steigung aufweist, die ausreichend klein dafür ist, daß die Störungsrate der Elektrodenstreifen verringert wird.
2. Integrierte optische Schaltung nach Anspruch 1, bei der die Rippen (3-1, 3-2) eine Höhe zwischen 200 nm und 1500 nm aufweisen.
3. Integrierte optische Schaltung nach Anspruch 1 oder Anspruch 2, bei der die Dicke des Harzes nicht über 1000 nm beträgt.
4. Integrierte optische Schaltung nach einem der vorstehenden Ansprüche, bei der das Harz der Isolierschicht mindestens entweder ein Polyimid-Harz, ein Epoxid-Harz, ein Phenol-Harz oder ein Polyamidimid-Harz ist.
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