JPH03110505A - リブ形光導波路およびその製造方法 - Google Patents
リブ形光導波路およびその製造方法Info
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- JPH03110505A JPH03110505A JP24810789A JP24810789A JPH03110505A JP H03110505 A JPH03110505 A JP H03110505A JP 24810789 A JP24810789 A JP 24810789A JP 24810789 A JP24810789 A JP 24810789A JP H03110505 A JPH03110505 A JP H03110505A
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- optical waveguide
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Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
技術分野
この発明はリブ形光導波路およびその製造方法に関する
。
。
従来技術とその問題点
リブ形光導波路は基板上に形成されたコア層に、光の伝
搬方向にそってリブ部がコア層と一体に形成されている
ものである。光の伝搬方向に直交する市内において、伝
搬光は、コア層の厚さ方向では、コア層と空気との屈折
率差およびコア層と基板との屈折率差によって閉じ込め
られ、コア層（リブ部）の幅方向では、リブ部の厚さが
コア層の他の部分よりも厚いことによりリブ部付近の実
効屈折率が高くなるという現象を利用して閉じ込められ
る。
搬方向にそってリブ部がコア層と一体に形成されている
ものである。光の伝搬方向に直交する市内において、伝
搬光は、コア層の厚さ方向では、コア層と空気との屈折
率差およびコア層と基板との屈折率差によって閉じ込め
られ、コア層（リブ部）の幅方向では、リブ部の厚さが
コア層の他の部分よりも厚いことによりリブ部付近の実
効屈折率が高くなるという現象を利用して閉じ込められ
る。
従来のリブ形光導波路にはイオン照射増速エツチング法
により作製されたものがある。しかしながら、この方法
は１作製工程が複雑で量産性と再現性に欠ける１作製に
時間がかかるので高価になる。エツチングを行なうため
に先導波路の面が荒れ１寸法績度が低下するので光の伝
搬損失が大き０、エツチングにより光導波路パターンを
作製するために実現可能な先導波路（リブ部）の形状が
制限されるという問題点がある。
により作製されたものがある。しかしながら、この方法
は１作製工程が複雑で量産性と再現性に欠ける１作製に
時間がかかるので高価になる。エツチングを行なうため
に先導波路の面が荒れ１寸法績度が低下するので光の伝
搬損失が大き０、エツチングにより光導波路パターンを
作製するために実現可能な先導波路（リブ部）の形状が
制限されるという問題点がある。
一方、従来のリブ形光導波路においてはリブ部を含むコ
ア層が露出しているので損傷を受けやすく、取扱いが不
便であるという問題もある。
ア層が露出しているので損傷を受けやすく、取扱いが不
便であるという問題もある。
単一モードのリブ形光導波路を考えた場合に。
コア層とその周囲（空気および基板）との屈折率差が小
さい方が、コア層の厚さ、リブ部の幅を大きくできるの
で作製が容易である。ところが、従来のリブ形光導波路
ではコア層の一部が露出して空気と接触しているので、
コア層を高屈折率材料で作製するとその寸法が小さくな
り９作製が困難である。また、コア層と基板との間の屈
折率差を考慮すると、使用できる基板材料が制限される
という問題がある。
さい方が、コア層の厚さ、リブ部の幅を大きくできるの
で作製が容易である。ところが、従来のリブ形光導波路
ではコア層の一部が露出して空気と接触しているので、
コア層を高屈折率材料で作製するとその寸法が小さくな
り９作製が困難である。また、コア層と基板との間の屈
折率差を考慮すると、使用できる基板材料が制限される
という問題がある。
発明の概要
発明の目的
この発明は、容易に作製できかつ量産に適したリブ形光
導波路およびその製造方法を提供することを目的とする
。
導波路およびその製造方法を提供することを目的とする
。
この発明はまたコア層の保護を図ることを目的とする。
この発明はさらに、単一モード光導波路を考慮した場合
でも、コア層の厚さおよびリブ部の幅を大きくすること
ができ１作製が容易で、しかも任意の基板材料を用いる
ことができるようにすることを目的とする。
でも、コア層の厚さおよびリブ部の幅を大きくすること
ができ１作製が容易で、しかも任意の基板材料を用いる
ことができるようにすることを目的とする。
発明の構成１作用および効果
この発明によるリブ形光導波路は、基板と、上記基板上
に形成されたリブ部をもつコア層とを含み 上記コア層
がエネルギ照射により硬化する液状材料を用いて形成さ
れていることを特徴とする。
に形成されたリブ部をもつコア層とを含み 上記コア層
がエネルギ照射により硬化する液状材料を用いて形成さ
れていることを特徴とする。
この発明によるリブ形光導波路の製造方法は。
リブ部に対応する凹溝をもつスタンバを用意し。
上記スタンバと基板との間にエネルギ照射により硬化す
る液状材料を注入し、エネルギを照射して上記液状材料
を硬化させることによりコア層を形成し、その後、上記
スタンバを除去するものである。
る液状材料を注入し、エネルギを照射して上記液状材料
を硬化させることによりコア層を形成し、その後、上記
スタンバを除去するものである。
エネルギ照射により硬化する液状材料には、光硬化性ま
たは熱硬化性の樹脂、たとえば紫外線（ＵＶ）硬化樹脂
がある。また無機材料としては熱硬化性膜形成用塗布液
を挙げることができる。
たは熱硬化性の樹脂、たとえば紫外線（ＵＶ）硬化樹脂
がある。また無機材料としては熱硬化性膜形成用塗布液
を挙げることができる。
液状とはゲル状も含む。
この発明によると、リブ部をもつコア層がエネルギ照射
により硬化する液状材料を用いて形成されているので、
スタンバを用いて作製することができ、その製造が容易
で、ｆｆｉ産性、再現性に優れたものとなるとともに、
製造時間の短縮を図ることができるので安価に提供でき
るようになる。さらに、スタンバを高精度に作製してお
けば滑らかな光導波路面をもつものを作製でき、光の伝
搬損失を小さくすることが可能である。スタンバはリブ
形光導波路原盤を用いて作製され、この原盤は種々の手
法、たとえば電子ビーム描画法により作製できるから２
種々の形状のリブ構造の先導波路の実現が可能である。
により硬化する液状材料を用いて形成されているので、
スタンバを用いて作製することができ、その製造が容易
で、ｆｆｉ産性、再現性に優れたものとなるとともに、
製造時間の短縮を図ることができるので安価に提供でき
るようになる。さらに、スタンバを高精度に作製してお
けば滑らかな光導波路面をもつものを作製でき、光の伝
搬損失を小さくすることが可能である。スタンバはリブ
形光導波路原盤を用いて作製され、この原盤は種々の手
法、たとえば電子ビーム描画法により作製できるから２
種々の形状のリブ構造の先導波路の実現が可能である。
この発明によるリブ形光導波路は、基板と、上記基板上
に形成されたリブ部をもつコア層と、上記コア層よりも
屈折率が、Ｊ）さい材料を用いて上記コア層上に密着す
るように形成されたクラッド層とを含むことを特徴とす
る。
に形成されたリブ部をもつコア層と、上記コア層よりも
屈折率が、Ｊ）さい材料を用いて上記コア層上に密着す
るように形成されたクラッド層とを含むことを特徴とす
る。
コア層およびクラッド層とも上述のエネルギ照射により
硬化する液状材料を用いて作製すると。
硬化する液状材料を用いて作製すると。
工程の簡略化を図ることができるので好ましいが、コア
層、クラッド層を他の材料で形成してもよい。たとえば
コア層の材料としては非線形光学効果をもつものを使用
してもよい。
層、クラッド層を他の材料で形成してもよい。たとえば
コア層の材料としては非線形光学効果をもつものを使用
してもよい。
この発明によると、コア層がクラッド層によって保護さ
れるので、コア層が損傷を受けることがなく、取扱いが
容易となる。また、コア層の屈折率が大きい場合でも１
クラッド層の屈折率を適当に選ぶことにより、単一モ
ード伝搬を実現する場合にコア層の厚さおよびリブ部の
幅を大きくとることが可能であり１作製が容易となる。
れるので、コア層が損傷を受けることがなく、取扱いが
容易となる。また、コア層の屈折率が大きい場合でも１
クラッド層の屈折率を適当に選ぶことにより、単一モ
ード伝搬を実現する場合にコア層の厚さおよびリブ部の
幅を大きくとることが可能であり１作製が容易となる。
コア層の厚さおよびリブ部の幅を大きくすることができ
ることにより、光ファイバ等との入出力のための光結合
が容易となるという利点もある。
ることにより、光ファイバ等との入出力のための光結合
が容易となるという利点もある。
この発明にょろリブ形光導波路は、基板と、上記基板上
に形成されたリブ部をもつコア層と、上記コア層よりも
屈折率が小さい材料を用いて形成されかつ上記基板とコ
ア層との間に設けられたバッファ層とを含むことを特徴
とする。コア層およびバッファ層の材料としては任意の
ものを採用し得る。
に形成されたリブ部をもつコア層と、上記コア層よりも
屈折率が小さい材料を用いて形成されかつ上記基板とコ
ア層との間に設けられたバッファ層とを含むことを特徴
とする。コア層およびバッファ層の材料としては任意の
ものを採用し得る。
この発明によると、コア層の材料とバ・ソファ層の材料
とを適切な屈折率をもつものとして組合せることにより
、コア層の厚さとリブ部の幅を大きくして光の単一モー
ド伝搬を実現できる上に、基板に任意の材料を用いるこ
とができるようになる。
とを適切な屈折率をもつものとして組合せることにより
、コア層の厚さとリブ部の幅を大きくして光の単一モー
ド伝搬を実現できる上に、基板に任意の材料を用いるこ
とができるようになる。
実施例の説明
第１図はこの発明の第１実施例を示している。
第１図に示すリブ形単一モード光導波路は、基板１とそ
の上に形成されたコア層２とから構成されている。コア
層２はその中央において、上方に突出しかつ一方向にの
びたリブ部２ａを存している。リブ部２ａはコア層２と
一体的に形成される。
の上に形成されたコア層２とから構成されている。コア
層２はその中央において、上方に突出しかつ一方向にの
びたリブ部２ａを存している。リブ部２ａはコア層２と
一体的に形成される。
光ビームＬＢは、鎖線とハツチングで示すように、コア
層２内においてリブ部２ａの真下を伝搬する。光ビーム
ＬＢは、上下方向においてはコア層２と空気との屈折率
差およびコア層２と基板１との屈折率差によってコア層
２内に閉じ込められ、横方向においては、リブ部２ａの
真下部分の実効屈折率がその周囲部分よりも高くな７て
いることに起因してリブ部２ａ真下の位置に閉じ込めら
れる。
層２内においてリブ部２ａの真下を伝搬する。光ビーム
ＬＢは、上下方向においてはコア層２と空気との屈折率
差およびコア層２と基板１との屈折率差によってコア層
２内に閉じ込められ、横方向においては、リブ部２ａの
真下部分の実効屈折率がその周囲部分よりも高くな７て
いることに起因してリブ部２ａ真下の位置に閉じ込めら
れる。
基板１としてはたとえば５ｉｎ２ガラス基板が用いられ
、その屈折率は１，４６である。コア層２は、後に作製
方法を詳述するように、紫外線（ＵＶ）硬化樹脂を用い
て形成することができ。
、その屈折率は１，４６である。コア層２は、後に作製
方法を詳述するように、紫外線（ＵＶ）硬化樹脂を用い
て形成することができ。
そのときのコア層２の屈折率をたとえば１．４７とする
ことができる。このようにして、基板１よりも屈折率が
わずかに大きいコア層２を形成することができるので、
単一モード先導波路でしかもコア層２の厚さ、リブ部２
ａの幅を大きくすることが可能となる。
ことができる。このようにして、基板１よりも屈折率が
わずかに大きいコア層２を形成することができるので、
単一モード先導波路でしかもコア層２の厚さ、リブ部２
ａの幅を大きくすることが可能となる。
コア層２としては他に、たとえば熱硬化性材料を用いる
ことができる。熱硬化性無機材料の例としては、熱硬化
性膜形成用塗布液を挙げることができる。多くの種類の
塗布液があるが、焼成後膜形成物としＺ「０２ 、
ＴｌＯ２、ＡＭ ２０３ 。
ことができる。熱硬化性無機材料の例としては、熱硬化
性膜形成用塗布液を挙げることができる。多くの種類の
塗布液があるが、焼成後膜形成物としＺ「０２ 、
ＴｌＯ２、ＡＭ ２０３ 。
Ｓ ｉｏ ２等を含むものが好適である。
リブ部２ａの断面形状は任意であり、第１図に示す矩形
のもの以外に、第２図に示すように、半円形のもの（第
２図（Ａ） ） 、三角形のもの（同図（Ｂ） ） 、
全体として矩形で角に丸みが付けられたもの（同図（Ｃ
） ） 、全体として矩形で中央に小さな凹溝が形成さ
れたもの（同図（Ｄ） ） 、全体として矩形で中央に
小さな凸条が形成されたもの（同図（Ｅ））を例示する
ことができる。
のもの以外に、第２図に示すように、半円形のもの（第
２図（Ａ） ） 、三角形のもの（同図（Ｂ） ） 、
全体として矩形で角に丸みが付けられたもの（同図（Ｃ
） ） 、全体として矩形で中央に小さな凹溝が形成さ
れたもの（同図（Ｄ） ） 、全体として矩形で中央に
小さな凸条が形成されたもの（同図（Ｅ））を例示する
ことができる。
第３図はこの発明の第２実施例を示している。
第３図に示す単一モードリブ形光導波路では。
コア層２の上に、これに密着するようにクラッド層３が
形成されている。クラッド層３はその屈折率がコア層２
のそれよりもわずかに小さくなるように材料が選定され
る。たとえばコア層２がＵＶ硬化樹脂の場合には、クラ
ッド層３をコア層２よりも屈折率の小さいＵＶ硬化樹脂
で形成することができる。ＵＶ硬化樹脂はフッ素含量を
変えることによりその屈折率を変えることができる。コ
ア層２．クラッド層３をともにＵＶ硬化樹脂で形成する
ようにすると、後に示すように、その製造方法が容易と
なる。基板１はたとえば５ｉｎ２ガラス基板である。
形成されている。クラッド層３はその屈折率がコア層２
のそれよりもわずかに小さくなるように材料が選定され
る。たとえばコア層２がＵＶ硬化樹脂の場合には、クラ
ッド層３をコア層２よりも屈折率の小さいＵＶ硬化樹脂
で形成することができる。ＵＶ硬化樹脂はフッ素含量を
変えることによりその屈折率を変えることができる。コ
ア層２．クラッド層３をともにＵＶ硬化樹脂で形成する
ようにすると、後に示すように、その製造方法が容易と
なる。基板１はたとえば５ｉｎ２ガラス基板である。
クラッド層３の材料としてはＵＶ硬化樹脂等の有機材料
の他に無機材料を用いることができる。
の他に無機材料を用いることができる。
無機材料を用いる場合にはクラッド層３を蒸着法などに
より形成することができよう。
より形成することができよう。
また、コア層２には上述のＵＶ硬化樹脂。
熱硬化性膜形成用塗布液等の他に、ＭＮＡ （屈折率１
．８） ＰＴＳ（ポリジアセチレン、屈折率１．８８
） 、 ＫＤＰ （ＫＨ２ＰＯ４）等の非線形有機、無
機光学材料を用いることができる。
．８） ＰＴＳ（ポリジアセチレン、屈折率１．８８
） 、 ＫＤＰ （ＫＨ２ＰＯ４）等の非線形有機、無
機光学材料を用いることができる。
このようにして、コア層２上にバッファ層３を設けるこ
とによりコア層の保護を達成できる。
とによりコア層の保護を達成できる。
第４図はこの発明の第３の実施例を示している。
第４図に示すリブ形単一モード光導波路においては、基
板１とコア層２との間にバッファ層４が設けられている
。バッファ層４にはコア層２よりも屈折率がわずかに小
さい材料が用いられる。
板１とコア層２との間にバッファ層４が設けられている
。バッファ層４にはコア層２よりも屈折率がわずかに小
さい材料が用いられる。
たとえば基板１として、ＬｉＮｂＯ３、Ｓ ｉ。
ＧａＡｓ基板等が用いられ、その上に５ｉｎ２ガラスを
ＲＦスパッタすることによりバッファ層４が形成される
。コア層２としては上述のＵＶ硬化樹脂、熱硬化性膜形
成用塗布液、非線形有機、無機光学材料等を用いること
が可能である。
ＲＦスパッタすることによりバッファ層４が形成される
。コア層２としては上述のＵＶ硬化樹脂、熱硬化性膜形
成用塗布液、非線形有機、無機光学材料等を用いること
が可能である。
このようにバッファ層を設けることにより、任意の材料
の基板を用いることができるようになる。
の基板を用いることができるようになる。
第５図はこの発明の第４の実施例を示すもので、基板１
上にバッファ層４を介してコア層２か形成され、コア層
２上にさらにクラッド層３が設けられている。
上にバッファ層４を介してコア層２か形成され、コア層
２上にさらにクラッド層３が設けられている。
第２〜第４の実施例においても、コア層２のリブ部２ａ
の形状は任意であるのはいうまでもない。
の形状は任意であるのはいうまでもない。
第６図は第５図に示すリブ形単一モード光導波路の製造
工程の一例を示している。ここではバッファ層として５
ｉｎ２が、コア層およびクラッド層としてＵＶ硬化樹脂
がそれぞれ用いられている。
工程の一例を示している。ここではバッファ層として５
ｉｎ２が、コア層およびクラッド層としてＵＶ硬化樹脂
がそれぞれ用いられている。
単一モード光導波路の原盤を電子ビーム描画法により作
製する。ガラス基板上に電子ビーム・レジストを塗布し
、このレジスト上にリブ部のパターンを電子ビームによ
り描画後、現象することにより、ガラス基板ｌｌ上にリ
ブ部となる残膜レジスト１２をもつ原盤を作製する（第
６図（Ａ））。
製する。ガラス基板上に電子ビーム・レジストを塗布し
、このレジスト上にリブ部のパターンを電子ビームによ
り描画後、現象することにより、ガラス基板ｌｌ上にリ
ブ部となる残膜レジスト１２をもつ原盤を作製する（第
６図（Ａ））。
次にこの原盤上に電鋳法によりニッケル（Ｎｉ）１３Ａ
を堆積させ（第６図（Ｂ） ） 、原盤を離すことによ
りニッケル製スタンバ１３を得る（第６図（Ｃ））。
を堆積させ（第６図（Ｂ） ） 、原盤を離すことによ
りニッケル製スタンバ１３を得る（第６図（Ｃ））。
一方、先導波路基板１上に５ｉｎ２ガラスをＲＦスパッ
タすることによりバッファ層４を形成する（第６図（Ｄ
））。
タすることによりバッファ層４を形成する（第６図（Ｄ
））。
続いて、基板１のバッファ層４上にコア層の材料である
ＵＶ硬化樹脂２Ａを滴下し、その上にニッケル・スタン
バ１３を乗せ、基板１上のバッファ層４とニッケル・ス
タンパ１３との間の間隔が所定値となるように、基板１
とスタンバ１３との間に圧力を加え、また必要ならば振
動を与える（第６図（Ｅ））。
ＵＶ硬化樹脂２Ａを滴下し、その上にニッケル・スタン
バ１３を乗せ、基板１上のバッファ層４とニッケル・ス
タンパ１３との間の間隔が所定値となるように、基板１
とスタンバ１３との間に圧力を加え、また必要ならば振
動を与える（第６図（Ｅ））。
基板１の裏面から紫外線を照射し、ＵＶ硬化樹脂を硬化
させる（第６図（Ｆ））。
させる（第６図（Ｆ））。
ＵＶ硬化樹脂が硬化したのちスタンパ１３を剥離する（
第６図（Ｇ））。これによりバッファ層４上にＵＶ硬化
樹脂によるコア層２が形成される。
第６図（Ｇ））。これによりバッファ層４上にＵＶ硬化
樹脂によるコア層２が形成される。
さらに、紫外線を透過する成形板１４とコア層２との間
に、クラッド層となるＵＶ硬化樹脂３Ａを注入しく第６
図（Ｈ） ） 、成形板１４側から紫外線を照射してＵ
Ｖ硬化樹脂３Ａを硬化させる（第６図（１））。これに
よりバッファ層３が形成される。
に、クラッド層となるＵＶ硬化樹脂３Ａを注入しく第６
図（Ｈ） ） 、成形板１４側から紫外線を照射してＵ
Ｖ硬化樹脂３Ａを硬化させる（第６図（１））。これに
よりバッファ層３が形成される。
最後に成形板１４を剥離しく第６図（Ｊ） ） 、必要
ならば基板１の裏面にへき開用溝を形成し、この溝にそ
ってリブ形光導波路全体をへき関し、先導波路端面を実
現する（第６図（Ｋ））。これによりリブ形光導波路へ
の端面入射が可能となる。
ならば基板１の裏面にへき開用溝を形成し、この溝にそ
ってリブ形光導波路全体をへき関し、先導波路端面を実
現する（第６図（Ｋ））。これによりリブ形光導波路へ
の端面入射が可能となる。
第４図に示すクラッド層の無いリブ形光導波路を作製す
る場合には、第６図（）Ｉ）〜（Ｊ）の工程を省略すれ
ばよい。
る場合には、第６図（）Ｉ）〜（Ｊ）の工程を省略すれ
ばよい。
第３図に示すバッファ層の無いリブ形光導波路を作製す
る場合には第６図（Ｄ）の工程を省略し。
る場合には第６図（Ｄ）の工程を省略し。
第６図（Ｅ）の工程において、基板１とスタンバ１３と
の間にＵＶ硬化樹脂２Ａを注入すればよい。
の間にＵＶ硬化樹脂２Ａを注入すればよい。
第１図に示すクラッド層とバッファ層の無いリブ形光導
波路を作製する場合には、第６図（Ｄ）。
波路を作製する場合には、第６図（Ｄ）。
（１（）〜（Ｊ）の工程を省略すればよい。
第７図は第１図に示すリブ形光導波路を、コア材料とし
て熱硬化性膜形成用塗布液を用いて作製する場合の工程
を示すものである。
て熱硬化性膜形成用塗布液を用いて作製する場合の工程
を示すものである。
上述のようにして作製されたスタンバ１３と基板１との
間に膜形成用塗布液２Ｂを満たし、スタンバ１３と基板
１との間隔が所定値となるように両者間の圧力制御を行
なう（第７図（Ａ））。そして。
間に膜形成用塗布液２Ｂを満たし、スタンバ１３と基板
１との間隔が所定値となるように両者間の圧力制御を行
なう（第７図（Ａ））。そして。
塗布液２Ｂのベイクを行ない、塗布液を硬化させる（第
７図（Ｂ））。これによりコア層２が形成される。最後
にスタンバ１３を剥離する（第７図（Ｃ））。
７図（Ｂ））。これによりコア層２が形成される。最後
にスタンバ１３を剥離する（第７図（Ｃ））。
第１図はこの発明の第１の実施例を示す斜視図、第２図
（Ａ）〜（Ｅ）はリブ部の形状の例を示す断面図、第３
図はこの発明の第２の実施例を、第４図は第３の実施例
を、第５図は第４の実施例をそれぞれ示す斜視図である
。第６図（Ａ）〜（Ｋ）は第５図に示すリブ形光導波路
の製造工程の一例を示すものであり、第７図（Ａ）〜（
Ｃ）は第１図に示すリブ形光導波路の製造工程の一例を
示すものである。 １・・・基板。 ２・・・コア層。 ２ａ・・・リブ部。 ２ ｐ、 、 ３ Ａ 、・Ｕ Ｖ 硬化ｔ６を脂。 ２Ｂ・・・熱硬化性膜形成用塗布液。 ３・・・クラッド層。 ４・・・バッファ層。 １３・・・スタンバ。 以 上 第 図 第２図 （Ａ） （Ｃ） 第 図 １′２Ｉ
（Ａ）〜（Ｅ）はリブ部の形状の例を示す断面図、第３
図はこの発明の第２の実施例を、第４図は第３の実施例
を、第５図は第４の実施例をそれぞれ示す斜視図である
。第６図（Ａ）〜（Ｋ）は第５図に示すリブ形光導波路
の製造工程の一例を示すものであり、第７図（Ａ）〜（
Ｃ）は第１図に示すリブ形光導波路の製造工程の一例を
示すものである。 １・・・基板。 ２・・・コア層。 ２ａ・・・リブ部。 ２ ｐ、 、 ３ Ａ 、・Ｕ Ｖ 硬化ｔ６を脂。 ２Ｂ・・・熱硬化性膜形成用塗布液。 ３・・・クラッド層。 ４・・・バッファ層。 １３・・・スタンバ。 以 上 第 図 第２図 （Ａ） （Ｃ） 第 図 １′２Ｉ
Claims (6)
- （１）基板と、上記基板上に形成されたリブ部をもつコ
ア層とを含み、上記コア層がエネルギ照射により硬化す
る液状材料を用いて形成されているリブ形光導波路。 - （２）基板と、上記基板上に形成されたリブ部をもつコ
ア層と、上記コア層よりも屈折率が小さい材料を用いて
上記コア層上に密着するように形成されたクラッド層と
を含むリブ形光導波路。 - （３）基板と、上記基板上に形成されたリブ部をもつコ
ア層と、上記コア層よりも屈折率が小さい材料を用いて
形成されかつ上記基板とコア層との間に設けられたバッ
ファ層とを含むリブ形光導波路。 - （４）リブ部に対応する凹溝をもつスタンパを用意し、 上記スタンパと基板との間にエネルギ照射により硬化す
る液状材料を注入し、 エネルギを照射して上記液状材料を硬化させることによ
りコア層を形成し、 その後、上記スタンパを除去する、 リブ形光導波路の製造方法。 - （５）上記スタンパを除去したのち、上記コア層よりも
屈折率が小さい材料を用いて上記コア層上にこれに密着
するようにクラッド層を形成する請求項（４）に記載の
リブ形光導波路の製造方法。 - （６）上記基板上に、上記コア層よりも屈折率が小さい
材料を用いてバッファ層を形成し、その後、上記スタン
パと基板上のバッファ層との間にエネルギ照射により硬
化する液状材料の注入工程に移る、請求項（４）または
（５）に記載のリブ形光導波路の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24810789A JPH03110505A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | リブ形光導波路およびその製造方法 |
| US07/588,332 US5138687A (en) | 1989-09-26 | 1990-09-26 | Rib optical waveguide and method of manufacturing the same |
| EP19900118452 EP0420173A3 (en) | 1989-09-26 | 1990-09-26 | Rib optical waveguide and method of manufacturing the same |
| US07/925,613 US5511142A (en) | 1989-09-26 | 1992-08-06 | Rib optical waveguide and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24810789A JPH03110505A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | リブ形光導波路およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03110505A true JPH03110505A (ja) | 1991-05-10 |
Family
ID=17173333
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24810789A Pending JPH03110505A (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | リブ形光導波路およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03110505A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1989
- 1989-09-26 JP JP24810789A patent/JPH03110505A/ja active Pending
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