DE3345176C2 - Festkörper-Bildsensor - Google Patents
Festkörper-BildsensorInfo
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Abstract
Ein Festkörper-Bildaufnahmewandler weist eine Anzahl von SIT-Bildsensoren auf, die in einer Matrixform angeordnet sind und von denen jeder einen Drainbereich in Form eines n+-Substrats (8), welches an Erdpotential liegt, einen Kanalbereich (10) in Form einer epitaxial gewachsenen n--Schicht auf dem Substrat, einen ringförmigen p+-Gatebereich (11) auf der Oberfläche der Epitaxialschicht sowie einen n+-Sourcebereich (13) aufweist, der in einem Teil der Oberfläche der Epitaxialschicht gebildet ist und von dem ringförmigen Gatebereich umgeben ist. Ferner ist in der Oberfläche des Substrats unterhalb des Gatebereichs ein p+-Überlaufdrainbereich (9) ausgebildet. Durch Einstellen der Dauer eines Verschlußsteuersignals, welches mit positiver Spannung an den Überlaufdrainbereich (9) angelegt wird, kann die Zeitspanne, während der Lichtträger, d. h. Elektronen in den Gatebereich (11) fließen und dort gespeichert werden, nach Wunsch gesteuert werden. Auf diese Weise wird eine elektronische Verschlußfunktion erzielt.
Description
Die Erfindung betrifft einen Festkörper-Bildsensor
mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Patentanspruchs 1.
SIT-Bildelemente erfüllen nicht nur Schaltfunktionen und bewirken eine Signalverstärkung, sondern dienen
auch zur lichtelektrischen Umwandlung. Ein solcher SIT-Bildsensor ist im einzelnen z. B. in folgender Veröffentlichung beschrieben: »Static Induction Transistor
Image Sensors«, IEEE Transactions on Electron Devices, Bd. ED-26, Nr. 12, Dezember 1979, S. 1970-1977.
Bei der Aufnahme eines sich schnell bewegenden Objektes muß die Abbildung mit einer der Bewegungsgeschwindigkeit des Objektes entsprechenden, hohen Verschlußgeschwindigekeit gemacht werden. Hierzu sollte
vorzugsweise die Verschlußgeschwindigkeit in einem weiten Bereich von 1/1000 Sekunde bis zu einigen Sekunden verstellbar sein. Bei einer Fernsehkamera mit
üblicher Bildröhre muß zur Ausgabe eines Bildsignals im Zeilensprungabtastverfahren mit einer Bildwechselfrequenz von 60 Hz, d. h. bei 60 Halbbildern pro Sekunde gemäß der NTSC-Norm die Ladegeschwindigkeit für
die lichtelektrische Wandlerfilmschicht de.? Aufnahmeröhre 1/60 Sekunde betragen, so daß die Verschlußgeschwindigkeit nicht unter 1/60 Sekunde verkürzt werden kann. Für eine kürzere Verschlulizeit als 1/60 Sekunde, mußte ein mechanischer Verschluß z. B. mit einer
rotierenden Blende vor der Aufnahmeröhre verwendet werden. Bei einem solchen mechanischen Verschluß ist
die Verschlußzeit durch Ändern der Umdrehungsgeschwindigkeit der rotierenden Blende veränderlich.
Aber es liegt auf der Hand, daß der mechanische Verschluß große Probleme aufwirft, wenn es darum geht,
eine kleine und leichte Bildaufnahmevorrichtung zu schaffen. Ferner ist es mit einem mechanischen Verschluß unmöglich oder mindestens sehr schwierig, die
Verschlußgeschwindigkeit nach Wunsch einzustellen. Die erwähnte Schwierigkeit gilt auch für ei.ie Stehbildkamera, die die genannte Bildröhre aufweist
Als Festkörper-Bildaufnahmewandler ist eine Fernsehkamera entwickelt worden, die ladungsgekoppelte
Vorrichtungen (CCDs) aufweist (JP-OS 44 271/81). Bei dieser Vorrichtung ist eine elektronische Verschlußfunktion dadurch erzielbar, daß die Ladungsträgerspeicherzeit bei der lichtelektrischen Umwandlungsaktion
geändert wird. Damit kann die Verschlußgeschwindigkeit ohne weiteres nach Wunsch eingestellt werden, indem der Vorrichtung von außen ein elektrisches Signal
zugeführt wird. Allerdings kann diese elektronische Verschlußfunktion nicht bei Festkörper-Bildaufnahmewandlern erreicht werden, die die genannten SITs aufweisen.
In den nicht vorveröffentlichten deutschen Offenlegungsschriften 33 29 119 und 33 32 446 sind Festkörper-Bildsensoren mit MOS-FET beschrieben, die keine Signal-Verstärkungsfunktion aufweisen. Auch ist dort die
Zeitspanne, in welcher die im Kanalbereich erzeugten Ladungsträger im Gatebereich gespeichert werden,
nicht dadurch einstellbar, daß das Potential des Überlaufdrainbereichs gesteuert wird. Vielmehr werden in
der DE-OS 33 29 119 zur Steuerung der in der Photodiode 15 gespeicherten Photo-Ladungsträger ein MOS-Schalter33 und die Abtast-Schaltung 26 eingesetzt
In der JP-OS 55 15 229 wird vorgeschlagen, die Photo-Ladungsträger, welche im P+-Gatebereich gespeichert sind, mittels eines bipolaren Transistorschalters zu
entfernen. Darüber hinaus ist dort vorgesehen, daß die Photo-Ladungsträger aus dem Gatebereich direkt entfernt werden, um einen schnellen Betrieb zu ermöglichen. Es ist dort aber nicht erwähnt, daß eine elektronische Verschlußfunktion ermöglicht ist
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Festkörper-Bildsensor gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 derart weiterzubilden, daß die Belichtungszeit (»Verschlußgeschwindigkeit«) wahlweise
elektronisch einstellbar ist, so daß insbesondere Aufnahmen von sich schnell bewegenden Objekten ermöglicht
sind.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im Patentanspruch i gekennzeichnet
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Da bei dem Festkörper-Bildsensor gemäß der Erfindung die elektronische Verschlußfunktion dem SIT zugeordnet werden kann, kann die verstellbare Verschlußzeit sogar kürzer gewählt werden kann als 1/1000 Se
kunde. Da es möglich ist, mit dieser kurzen Verschlußzeit ein mit hoher Geschwindigkeit bewegtes Objekt
aufzunehmen, kann die zeitliche Auflösung erhöht und eine Bildwiedergabe von ausgezeichneter Qualität erzielt werden. Dieser Vorteil zeigt sich beispielsweise bei
der Wiedergabe der Abbildung eines bewegten Objektes im Zeitlupentempo oder als Stehbild mittels eines
Videobandaufzeichnungsgerätes, wobei das Bild mit hoher Bildqualität wiedergegeben werden muß. Im Fall
ίο einer Stehbildkamera kann aufgrund des zerstörungsfreien Auslesens des Videoausgangssignals vom SIT ein
Betrieb ähnlich der üblichen EE-Kamera erreicht werden, indem eine automatische Irissteuerung in Übereinstimmung mit dem Ausgabevideosignalniveau durchge-
führt wird. Da der Bildaufnahmewandler SITs als Festkörper-Bildsensoren aufweist, hat die Vorrichtung ein
hohes Auflösungsvermögen, große Empfindlichkeit und einen großen Dynamikumfang, wie sie für SITs eigentümlich sind.
Es sei noch erwähnt, daß die Leitfähigkeit der einzelnen Bereiche bei entsprechender Zuordnung auch anders gewählt werden kann.
Im folgenden sind Ausführungsbeispiele des Festkörper-Bildsensors näher erläutert In den Zeichnungen
zeigt
F i g. 1 ein Schaltkreisdiagramm eines ersten Ausführungsbeispiels eines Sensors gemäß der Erfindung aus
SIT-Bildelementen,
F i g. 2 ein Schaltkreisdiagramm zur Erläuterung des
F i g. 3 eine Draufsicht zur Erläuterung des Aufbaus eines S IT-Bildsensors, der ohne Leitungen gezeigt ist,
Fi g. 4A und 4B Querschnitte längs Linien A-A'bzw.
ß-fi'inFig.3,
Fig. 5A und 5B Potentialdiagramme zur Erläuterung
der lichtelektrischen Wandlungsfunktion,
F i g. 6A bis 6C Signalwellenformen zur Erläuterung der Signalausgabefunktion,
F i g. 7A bis 7F Signalwellenformen zur Erläuterung
der Schaltfunktion,
F i g. 8A und 8B Potentialdiagramme zur Erläuterung der Ladungsträger-Speicherfunktion,
F i g. 9 eine Draufsicht auf ein zweites Ausführungsbeispiel des Sensors für eine Stehbildkamera,
Fig. 10 einen Querschnitt durch ein drittes Ausführungsbeispiel des Sensors für eine elektronische Stehbildkamera.
Bei dem Festkörper-Bildsensor ist auf einem gemeinsamen Substrat eine Anzahl von Bildelementen 1 in Ma-
trixform vorgesehen, und an jedes Bildelement sind Wahlleitungen 2 und 3 für die Wiedergabe von Bildsignalen sowie Signalleitungen 4 zum Einstellen der Zeit
eines elektronischen Verschlusses angeschlossen, wie noch im einzelnen erläutert wird. Die Wahlleitungen 2
und 3 sind an eine erste Horizontalabtastschaltung 5 bzw. eine Vertikalabtastschaltung 6 angeschlossen,
während die Signalleitungen zum Steuern der Verschlußzeit an eine zweite Horizontalabtastschaltung 7
angeschlossen sind. Durch das Anlegen von Abtastsi
gnalen der Horizontal- und Vertikalabtastschaltungen
5,6 und 7 an die Wahlleitungen 2 und 3 bzw. die Signalieitungen 4 werden die Biideiemente i der Reihe nach
horizontal für entsprechende Zeilen angesteuert, um eine sogenannte Rasterabtastung durchzuführen. Es kann
durcn das Einstellen der Impulsbreite eines von der zweiten Horizontalabtastschaltung 7 gelieferten Abtastimpulses an jedes Bildelement 1 über die Signalleitungen 4 die Ladungsträgerspeicherzeit so gesteuert
werden, daß die Geschwindigkeit des elektronischen Verschlusses nach Wunsch einstellbar ist. Der Festkörper-Bildsensor gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist in
einer Fernsehkamera vorgesehen und weist 400 χ 500 Bildelemente 1 auf, von denen je 400 Bildelemente in
horizontaler Richtung und je 500 Bildelemente in vertikaler Richtung angeordnet sind.
Das Schaltkreisdiagramm gemäß Fig.2 zeigt den
Aufbau eines einzigen Bildelements 1. Wie aus der Zeichnung hervorgeht, weist das Bildelement 1 einen
einzigen SIT IA auf, der die Funktionen der lichtelektrischen Umwandlung, Signalverstärkung sowie Schaltfunktionen erfüllt Der SIT IA hat eine Sourceelektrode
XB, die an die horizontale Wählerleitung 2 angeschlossen ist, sowie eine Gateelektrode IC die an die vertikale
Wahlleitung 3 fiber eine Speicherkapazität XD angeschlossen ist Der SIT liegt mit seinem Drain an Erdpotential. Da die Gateelektroden IC der jeweiligen SITs
über entsprechende Kapazitäten XD mit vertikalen Wählerleitungen 3 verbunden sind, sind die Bildelemente 1 für Gleichstrom gegenüber einander isoliert
In der Draufsicht auf den Festkörper-Bildsensor gemäß F i g. 3 fehlen die verschiedenen Leitungen 2,3 und
4 aus Gründen der Klarheit Fig.4A und 4B zeigen Teile des Wandlers im Schnitt entlang Linien A-A'bzw.
B-B' in Fig.3. In den Fig.3 und 4A, 4B besteht der
Lichtaufnahmebereich aus einem gemeinsamen η+-Halbleitersubstrat (8) und einem n--Siliziumbereich
10 mit geringer Störstellenkonzentrationen, der auf dem Substrat beispielsweise durch ein chemisches Aufdampfverfahren gebildet ist Die n--Aktivschicht kann
eine epitaxiale Schicht sein, die auf der Oberfläche des Substrats gewachsen ist Von der Seite des n--Siliziumbereichs 10 erfolgt der Lichteinfall 17 auf den Wandler.
Im n--Siliziumbereich 10 ist ein Isolierbereich 12 ausgebildet der aus isolierendem Material, beispielsweise
SiO2 besteht und sich von der Oberfläche des n~-Bereichs 10 bis zum Obergang zwischen dem Substrat 8
und dem n~-Bereich 10 erstreckt
Dieser Isolierbereich 12 dient zur gegenseitigen Isolierung der einzelnen Bildelemente 1. In einem vom Isolierbereich 12 umgebenen Teil des n--Siliziumbereichs
10 ist je ein p+-Bereich 11 und ein n+-Bereich 13 durch
Diffusion oder Ionenimplantation geschaffen. Gemäß der Erfindung ist in der Oberfläche des Substrats 8 ein
p+-Bereich 9 versenkt vorgesehen. Der n+-Bereich 13,
das n+-Substrat 8, der p+-Bereich 11 sowie der n--Bereich 10 bilden im SIT Source, Gate bzw. Kanal. Wie aus
der Draufsicht gemäß Fig.3 hervorgeht ist der η+-Sourcebereich 13 von dem ringförmigen p+-Gatebereich 11 umgeben, der bezugspotentia! frei ist Der in
dem n+-Substrat versenkt vorgesehene p+-Bereich 9, der unmittelbar unterhalb des ρ+-Gatebereichs 11 liegt
bfldet einen Oberlaufdrainbereich, welcher die Aufgabe
hat «m n--Kanalbereich 10 induzierte Ladungsträger zu
absorbieren. Der Oberlaufdrainbereich 9 ist durch den Isolierbereich 12 in horizontaler Richtung abgetrennt
erstreckt sich aber durchgehend in vertikaler Richtung und ist mit einem Ende an eine Signalleitung 4 angeschlossen. Der Sourcebereich 13 ist an eine Sourceelektrode 15 angeschlossen, die aus einem Elektrodenmaterial von geringem Widerstandswert besteht beispielsweise Polysilizium, Aluminium, SnO2 oder InSnO. Oberhalb des ρ+-Gatebereichs 11 ist eine transparente Elektrode 14 aus SnO2 oder SnO2-SbO2 mittels eines Isolierfilms 12A vorgesehen, der aus dem gleichen Isoliermaterial besteht wie der Isolierbereich 12. Die Elektrode 14
ist mit der vertikalen Wählerleitung 3 über die Speicherkapazität ID(F i g. 2) verbunden. Die vertikale Wahlleitung 3 ist mit der transparenten Elektrode 14 durch
einen Kontakt 16 verbunden, der aus Polysilizium oder Metall, wie Aluminium besteht. Bei dem in F i g. 3 und
4A, 4B gezeigten Ausführungsbeispiel besteht eine Trennung zwischen dem ρ+-Gatebereich 11 und dem
Sourcebereich 13, die aber auch in gegenseitiger Berührung vorgesehen sein können.
Die drei Funktionen des SIT-Bildsensors sollen nun
der Reihe nach erläutert werden, nämlich (i) die lichtelektrische Umwandlung, (ii) die Signalwiedergabe und
(iii) die Verschlußfunktion, die durch den Überlaufdrainbereich gegeben ist.
(i) Lichtelektrische Umwandlung
Die Störsteücnkcnzentration im Kanalbereich 10
wird mit Nd bezeichnet der Abstand zwischen dem Gatebereich 11 und dem Drainbereich 8 mit Id, der Innen-
durchmesser des den Sourcebereich 13 umgebenden Gatebereichs U mit 2a, und das Diffusionspotential mit
Vb. Der Wandler ist so konstruiert und hergestellt, daß
beim Anlegen einer negativen Spannung Vs an die Sourceelektrode 15 die folgenden Beziehungen erfüllt sind:
Nd ■ q ■ IcP
Vg =
2 -ε
ld
Dann reicht die Verarmungsschicht die sich im Übergang zwischen dem Gatebereich 11 und dem Kanalbereich 10 erstreckt bis in die Nachbarschaft des Drainbereichs 8, selbst wenn die am Gate anliegende Vorspan-
nung den Wert Null hat Ferner sind Teile der Verarmungsschicht die sich seitlich von den gegenüberliegenden Seiten des Gatebereichs 11 erstrecken, miteinander
in Berührung gebracht Dieser Zustand wird als Sperrzustand des Kanals bezeichnet Bei dem Sperrzustand
hat das Potentialverteilungsprofil vom Sourcebereich 13 zum Drainbereich 8 gesehen im Kanalbereich 10 eine
hohe Potentialsperre, wie mit einer durchgezogenen Kurve A in F i g. 5A angedeutet Selbst wenn also zwischen Source und Drain eine Potentialdifferenz V1 be-
steht fließt aufgrund dieser Sperre kein Strom. Wenn bei diesem Sperrzusiand ein Lichteinfall 17 von stärkerer Energie als eine verbotene Bandbreite des Halbleiters (Silizium) auf den Kanalbereich 10 auftrifft werden
in diesem Kanalbereich 10 Elektronen-Loch-Paare in
duziert deren Anzahl zu der Intensität des Lichteinfalls
17 proportional ist Wegen des im Kanalbereich 10 erzeugten elektrischen Feldes fließen die Elektronen in
den Drainbereich 8 mit dem niedrigeren Potential und die Löcher in den Gatebereich 11, wo sie gespeichert
werden. Durch das Speichern der Löcher im Gatebereich Il steigt das Gatepotential entsprechend den gespeicherten Ladungen, und folglich wird die Potentialsperre proportional zum Gatepotential abgesenkt, wie
mit einer gestrichelten Kurve B in Fig.5A gezeigt.
Wenn auf diese Weise die Potentialsperre sinkt beginnen Elektronen vom Sourcebereich 13 zum Drainbereich 8 zu fließen. Das Ausmaß dieses Stroms hängt von
der Größe Δ Vder Abnahme an Potentialträgem ab. und diese Größe AV steht im Verhältnis zur Stärke des
Lichteinfalls 17. Zwischen Source und Drain fließt also ein Strom, dessen Größe zur Intensität des Lichteinfalls
17 proportional ist Auf diese Weise erfolgt die lichtelektrische Umwandlung.
7 8
(ii) Signalwiedergabe kale Zeile die vorstehend beschriebene Operation vorgenommen
wird, wobei eine zeitliche Versetzung um
Jedes einzelne Bildelement führt die lichtelektrische die Zeitspanne Th erfolgt Wie schon erwähnt, entUmwandlung
auf der Basis des vorstehend beschriebe- spricht die Zeitspanne Ta, d. h. die Impulsbreite des Vernen
Vorganges aus. Um ein Bild abzutasten, müssen 5 Schlußsteuersignals, während der Ladungsträger im
Lichtstärkensignale aus den einzelnen Bildelementen Gatebereich 11 gespeichert werden, der Verschlußöffunabhängig
voneinander ausgelesen werden. Hierzu nungszeit. Diese Zeitspanne Ta kann nach Wunsch unmuß
jedes Bildelement eine Schaltfunktion erfüllen kön- abhängig von den Zeitspannen Th und Tv eingestellt
nen. Der im erfindungssgemäßen Wandler benutzte SIT werden. Folglich läßt sich mit dem Festkörper-Bildsenerfüllt
diese Schaltfunktion neben der lichtelektrischen io sor die Verschlußzeit nach Wunsch einstellen. Es liegt
Umwandlungsfunktion. Mit anderen Worten, das Signal auf der Hand, daß die Zeitspanne TA ganz einfach von
kann dadurch ausgegeben werden, daß der Transistor außen nach Wunsch veränderbar ist. Auf diese Weise ist
durch Anlegen einer positiven Ausgabeimpulsspannung die elektronische Verschlußfunktion erzielbar.
Vc über die Speicherkapazität ID an den Gatebereich In den Fi g. 8A und 8B sind Potentialdiagramme für
11 aufgesteuert wird. Wie Fig.5B zeigt, ist die durch 15 den Überlaufdrainbereich 9, den Kanalbereich 10 und
eine durchgezogene Kurve C gezeigte, an den Gatebe- den Gatebereich 11 für den Fall gezeigt, daß die Verreich
11 angelegte Spannung die Summe der Ausga- Schlußsteuersignale gemäß Fig.7E und 7F am Überbeimpulsspannung
VG und der Spannung der Größe Δ V, laufdrainbereich 9 anliegen. F i g. 8A zeigt den Zustand,
die durch die Beleuchtung durch den Lichteinfall 17 her- bei dem die Signale ΦΗ\ und ΦΗ2' ein höheres Potentivorgerufen
wird. 20 al haben, während Fig.8B für den Fall gilt, daß die
Die Signalausgabefunktion soll nun unter Hinweis auf Verschlußsteuersignale ΦΗ\ und ΦΗϊ ein niedriges
die Zeittabellen gemäß F i g. 6A, 6B und 6C näher erläu- Potentialniveau haben. Wenn der Überlaufdrainbereich
tert werden. F i g. 6A zeigt die negative Spannung V& 9 das höhere Potential erhält, steigt das Potential vom
die über die Wählerleitung 2 an den Sourcebereich 13 Überlaufdrainbereich 9 zum Gatebereich 11, so daß Laangelegt
wird. Fig. 6B zeigt die Ausgabeimpulsspan- 25 dungsträger, d. h. Löcher in den Gatebereich 11 fließen
nung Vb, die über die Wählerleitung 3 an den Gatebe- und dort gespeichert werden. Wenn im Gegensatz dazu
reich 11 angelegt wird und F i g. 6C zeigt die Signalaus- das Signalpotential gering ist, nimmt das Potential vom
gangsspannung Voul, die an einem Ladewiderstand auf- Überlaufdrainbereich 9 zum Gatebereich 11 ab, und
grund des zwischen Source und Drain fließenden Si- dann fließen Löcher weg in den Überlaufdrainbereich 9.
gnalstroms abgenommen wird. Aus den Zeittabellen 30 F i g. 9 zeigt ein Ausführungsbeispiel des Festkörpergeht
hervor, daß die Signalausgangsspannung V011, nur Bildsensors für eine elektronische Stehbildkamera. Bei
erscheint wenn sowohl die Sourceimpulsspannung Vs Stehbildern erfolgt die Speicherung der Ladungsträger
als auch die Ausgabeimpulsspannung V0 am SIT anlie- gleichzeitig in allen Bildelementen, und dann werden die
gen. Eine durchgezogen gezeichnete Kurve in Fig.6C in den einzelnen Bildelementen gespeicherten Signale
gibt die Signalausgangsspannung für den Fall wieder, 35 der Reihe nach ausgegeben. Folglich kann das Verdaß
Ladungsträger gespeichert werden, während die Schlußsteuersignal ΦΗ gleichzeitig dem Überlaufdraingestrichelt
gezeichnete Kurve für den Fall gilt daß kein bereich aller Bildelemente zugeführt werden.
Ladungsträger gespeichert wird. Hierzu sind, wie F i g. 9 zeigt die an die Überlaufdrainbereiche
der Bildelemente 1 angeschlossenen Si-
(iii) Verschlußfunktion 40 gnalleitungen 4 zusammengeschlossen und erhalten das
Signal ΦΗ'. Natürlich kann die Speicherzeit, d. h. die
Aus Gründen der Erläuterung wird davon ausgegan- Verschlußzeit durch Steuern der Zeitspanne TA des Vergen,
daß vier Bildelemente in einer Matrixform von Schlußsteuersignals ΦΗ' nach Wunsch eingestellt wer-2x2
angeordnet sind. Wie in F i g. 7A und 7B gezeigt den. Im übrigen entspricht der Aufbau des Bildaufnahliefert
die Horizontalabtastschaltung 5 für die Sourcen 45 mewandlers gemäß F i g. 9 dem in den F i g. 3 und 4A, 4B
der Bildelemente Signale ΦΗ\ und ΦΗ2, die zur Ausga- gezeigten Ausführungsbeispiel,
be des Signals für eine vertikale Zeile um eine Zeitspan- F i g. 10 zeigt in einem Querschnitt ähnlich F i g. 4A
ne TH zueinander versetzt sind. Wie aus F i g. 7C und 7D ein weiteres Ausführungsbeispiel des Festkörper-Bildhervorgeht,
liefert die Vertikalabtastschaltung 6 den sensors für eine elektronische Stehbildkamera. Bei die-Gates
der SITs Ausgabetaktimpulse Φνχ und Φν2, de- 50 serii Ausführungsbeispiel wird der Überlaufdrainberen
Periode der Zeitspanne Th entspricht Diese Taktim- reich von einem p+-Substrat 20 und der Drainbereich
pulse Φ Vi und Φν2 sind für jede horizontale Zeile um von einem versenkten n+-Bereich 21 gebildet, der in der
die Zeitspanne Tv phasenverschoben. Eine Bildperiode Oberfläche des Substrats 20 vorgesehen ist Die Drain-
TF entspricht deshalb 2 χ TH. Die F i g. 7E und 7F zei- bereiche 21 aller Bildelemente liegen gemeinsam an
gen Verschlußsteuersignale ΦΗ\' und ΦΗΐ, die von der 55 ErdpotentiaL Durch Anlegen des Verschlußsteuersizweiten
Horizontalabtastschaltung 7 an die Überlauf- gnals ΦΗ'ζη das p+-Substrat 20 kann die Speicherung
drainbereiche 9 der SITs geliefert werden, um die Spei- von Ladungsträgern gleichzeitig in allen Bildelementen
cherzeit für die Ladungsträger zu steuern. Wenn die gesteuert werden. Im übrigen ist der Aufbau dieses Bild-Signale
ΦΗ\' und ΦΗϊ niedriges Potential haben, wer- aufnahmewandlers so wie anhand von F i g. 3 und 4A, 4B
den im Kanalbereich 10 induzierte Ladungsträger (Lö- 50 beschrieben, und die entsprechenden Teile sind mit den
eher) nicht im Gatebereich 11 gespeichert, sondern flie- gleichen Bezugszeichen versehen.
Ben in den Überlaufdrainbereich 9. Wenn im Gegensatz
dazu die Verschlußsteuersignale ΦΗ\ und ΦΗ2 wäh- Hierzu 6 Blatt Zeichnungen
rend der Zeitspanne Ta ein höheres Potential haben,
fließen die im Kanalbereich 10 entstehenden Löcher es
nicht in den Überlaufdrainbereich 9, sondern werden im
Gatebereich 11 gespeichert Alle Bildelemente können
der Reihe nach abgelesen werden, indem für jede verti-
nicht in den Überlaufdrainbereich 9, sondern werden im
Gatebereich 11 gespeichert Alle Bildelemente können
der Reihe nach abgelesen werden, indem für jede verti-
Claims (13)
1. Festkörper-Bildsensor mit einer Vielzahl von SIT-Bildelementen, die lichtelektrische Umwandlungs-, Signalverstärkungs- und Schaltfunktionen erfüllen und von denen jeder einen Sourcebereich eines Leitfähigkeitstyps, einen Drainbereich desselben
Leitfähigkeitstyps, der von dem Sourcebereich durch einen Kanalbereich desselben Leitfähigkeitstyps getrennt ist, und einen Gatebereich des anderen
Leitfähigkeitstyps aufweist, der mittels des Kanalbereichs vom Sourcebereich und vom Drainbereich
getrennt ist, und mit Abtastschaltungen zum wahlweisen Ansteuern der SIT-Bildelemente zum Ausle-
sen eines Bildsignals, dadurch gekennzeichnet, daß jedes SIT-Bildelement (1) ferner einen
Oberlaufdrainbereich (9,21) des anderen Leitfähigkeitstyps hat, der von dem Gatebereich (11) ebenfalls mittels des Kanalbereichs (10) getrennt ist und
der, solange er sich auf einem geeigneten Potential befindet, die im Kanalbereich (10) durch Lichteinfall
erzeugten Ladungsträger aufnimmt und dadurch deren Speicherung im Gatebereich (11) verhindert, und
daß der Bildsensor ferner eine weitere Abtastschaltung (7) zum Steuern des Potentials des Überlaufdrainbereichs (9,21) von außen aufweist, mittels der
die Zeitspanne, während der im Kanalbereich (10) durch Lichteinfall (17) induzierte Ladungsträger
(Löcher) im Gatebereich (11) gespeichert werden, einstellbar ist
2. Bildsensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Drainbereich von einem Halbleitersubstrat (8,20) gebildet ist, daß die Sourcebereiche (3), die Kanalbereiche (10) und die Gatebereiche
(11) in einer auf ihm vorgesehenen aktiven Schicht ausgebildet sind und daß der Oberlaufdrainbereich
(9,21) von einer in der Oberfläche des Halbleitersubstrats (8,20) versenkten Zone gebildet ist
3. Bildsensor nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Drainbereiche aller SIT-Bildelemente (1) von einem Halbleitersubstrat (8,20) gebildet sind, daß die Sourcebereiche (13), die Gatebereiche (11) und die Kanalbereiche (10) in einer auf der
Oberfläche des Halbleitersubstrats (8) gebildeten aktiven Schicht ausgebildet sind und daß die Überlaufdrainbereiche (9, 21) von den in der Oberfläche
des Halbleitersubstrats (8) versenkten Zonen gebildet sind, so daß das Potential der Überlaufdrainbereiche (9) durch Ändern des an das Halbleitersub-
strat (8) angelegten Potentials gleichzeitig einstellbar ist.
4. Bildsensor nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Drainbereich von einem η+-Substrat (8) gebildet ist, daß die aktive Schicht eine auf
der Oberfläche des η+-Substrats (8) epitaxial gewachsene n--Schicht ist, daß der im Gatebereich
(11) ein ringförmiger, in der Oberfläche der epitaxial gewachsenen n~-Schicht gebildeter p+-Bereich ist,
daß der Sourcebereich (13) ein in einem Teil der epitaxial gewachsenen n--Schicht gebildeter n+-Bereich ist, der von dem ringförmigen Gatebereich (11)
umgeben ist, und daß der Überlaufdrainbereich (9) von einem in der Oberfläche des η+-Substrats (8)
versenkten ρ+-Zone gebildet ist.
5. Bildsensor nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Drainbereich ein p+-Substrat (20)
ist, daß die aktive Schicht von einer epitaxial gewachsenen n--Schicht auf der Oberfläche des
p+-Substrats (20) gebildet ist, daß der Gatebereich
(11) ein ringförmiger, in der Oberfläche der epitaxial gewachsenen n~-Schicht ausgebildeter p+-Bereich
ist, daß der Sourcebereich (13) ein π+-Bereich ist der
in einem Teil der epitaxial gewachsenen n--Schicht ausgebildet ist welcher von dem ringförmigen Gatebereich (11) umgeben ist und daß der Überlaufdrainbereich (21) eine n+-Zone ist welche in der
Oberfläche des p+-Substrats (20) versenkt ist
6. Bildsensor nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß einander benachbarte SIT-Bildelemente (1) durch einen Isolierbereich (12) voneinander getrennt sind, der sich von der Oberfläche
der epitaxial gewachsenen η--Schicht zur Oberfläche des Substrats (8,20) erstreckt
7. Bildsensor nach einem der Ansprüche 2 bis 6. dadurch gekennzeichnet, daß der Sourcebereich (13)
oberhalb des versenkten Überlaufdrainbereichs (9, 21) ausgebildet ist
8. Bildsensor nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet daß der Gatebereich (11)
oberhalb des versenkten Überlaufdrainbereichs (9) ausgebildet ist
9. Biidsensor nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Gatebereich (11) den Sourcebereich (13) vollständig umgibt
10. Biidsensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Gatebereich (11) von dem Sourcebereich (13) getrennt ist
11. Bildsensor, bei dem SIT-Bildelemente gemäß
einem der Ansprüche 1 bis 10 in einer Matrixform angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet daß die
Überlaufdrainbereiche (9,21) der SIT-Bildelemente (1) in vertikaler Richtung ausgerichtet und miteinander verbunden sind.
12. Bildsensor, bei dem SIT-Bildelemente gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 in einer Matrixform
angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Überlaufdrainbereiche (9, 21) der SIT-Bildelemente
(1) in horizontaler Richtung ausgerichtet und miteinander verbunden sind.
13. Bildsensor nach einem der Ansprüche 1 bis 12.
dadurch gekennzeichnet daß die Überlaufdrainbereiche (9, 21) aller SIT-Bildelemente miteinander
verbunden sind und das Potential aller Überlaufdrainbereiche (9,21) gleichzeitig steuerbar ist.
Applications Claiming Priority (1)
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JP57217764A JPS59108468A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 固体撮像装置 |
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Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4866293A (en) * | 1986-12-09 | 1989-09-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoelectric converting apparatus to prevent the outflow of excess carriers |
US5024993A (en) * | 1990-05-02 | 1991-06-18 | Microelectronics & Computer Technology Corporation | Superconducting-semiconducting circuits, devices and systems |
US5262661A (en) * | 1990-06-25 | 1993-11-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solid-state image pickup device, having increased charge storage and improved electronic shutter operation |
US5159409A (en) * | 1990-11-30 | 1992-10-27 | International Business Machines Corporation | Substrate machining verifier |
US5198878A (en) * | 1990-11-30 | 1993-03-30 | International Business Machines Corporation | Substrate machining verifier |
JPH06334920A (ja) * | 1993-03-23 | 1994-12-02 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 固体撮像素子とその駆動方法 |
US5424656A (en) * | 1993-05-07 | 1995-06-13 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Continuous superconductor to semiconductor converter circuit |
US5408122A (en) * | 1993-12-01 | 1995-04-18 | Eastman Kodak Company | Vertical structure to minimize settling times for solid state light detectors |
US5468687A (en) * | 1994-07-27 | 1995-11-21 | International Business Machines Corporation | Method of making TA2 O5 thin film by low temperature ozone plasma annealing (oxidation) |
US5777352A (en) * | 1996-09-19 | 1998-07-07 | Eastman Kodak Company | Photodetector structure |
US5910880A (en) | 1997-08-20 | 1999-06-08 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor circuit components and capacitors |
US6191443B1 (en) | 1998-02-28 | 2001-02-20 | Micron Technology, Inc. | Capacitors, methods of forming capacitors, and DRAM memory cells |
US6162744A (en) * | 1998-02-28 | 2000-12-19 | Micron Technology, Inc. | Method of forming capacitors having high-K oxygen containing capacitor dielectric layers, method of processing high-K oxygen containing dielectric layers, method of forming a DRAM cell having having high-K oxygen containing capacitor dielectric layers |
US6730559B2 (en) * | 1998-04-10 | 2004-05-04 | Micron Technology, Inc. | Capacitors and methods of forming capacitors |
US6156638A (en) * | 1998-04-10 | 2000-12-05 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry and method of restricting diffusion from one material to another |
US6165834A (en) * | 1998-05-07 | 2000-12-26 | Micron Technology, Inc. | Method of forming capacitors, method of processing dielectric layers, method of forming a DRAM cell |
US6255186B1 (en) | 1998-05-21 | 2001-07-03 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming integrated circuitry and capacitors having a capacitor electrode having a base and a pair of walls projecting upwardly therefrom |
US7005695B1 (en) | 2000-02-23 | 2006-02-28 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry including a capacitor with an amorphous and a crystalline high K capacitor dielectric region |
MX2007002133A (es) * | 2004-08-20 | 2007-08-14 | Artto Aurola | Detector de radiacion de semiconductor con una estructura de compuerta interna modificada. |
WO2009097485A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-08-06 | Smith & Nephew, Inc. | System and method for communicating with an implant |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5113602B2 (de) | 1971-08-19 | 1976-05-01 | ||
JPS50115424A (de) | 1974-02-20 | 1975-09-10 | ||
US3931463A (en) * | 1974-07-23 | 1976-01-06 | Rca Corporation | Scene brightness compensation system with charge transfer imager |
JPS6011503B2 (ja) | 1978-05-16 | 1985-03-26 | 富士電機株式会社 | 撮像装置用シヤツタ |
JPS5515229A (en) | 1978-07-18 | 1980-02-02 | Semiconductor Res Found | Semiconductor photograph device |
JPS55124259A (en) * | 1979-03-19 | 1980-09-25 | Semiconductor Res Found | Semiconductor device |
JPS6033349B2 (ja) * | 1979-08-18 | 1985-08-02 | 財団法人半導体研究振興会 | 半導体撮像装置 |
JPS5644271A (en) * | 1979-09-20 | 1981-04-23 | Sony Corp | Ccd image pickup device |
DE3012770A1 (de) * | 1980-04-02 | 1981-10-08 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Biphenylyl-azolylethan-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als arzneimittel |
JPS5714261A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-25 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Charge storage time controller for solidstate image sensor |
GB2083968B (en) * | 1980-09-17 | 1985-09-04 | British Aerospace | Variable sensitivity solid state image sensor |
DE3138240A1 (de) * | 1981-09-25 | 1983-04-07 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Zweidimensionaler halbleiter-bildsensor mit steuerung oder regelung der integrationszeit |
DE3138294A1 (de) * | 1981-09-25 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Zweidimensionaler halbleiter-bildsensor mit steuerung oder regelung der integrationszeit |
JPS58105672A (ja) * | 1981-12-17 | 1983-06-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 半導体撮像装置 |
JPS58138187A (ja) * | 1982-02-12 | 1983-08-16 | Toshiba Corp | 固体イメ−ジセンサ |
JPS5930376A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-17 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
JPS5945779A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-14 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
-
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-
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US4891682A (en) | 1990-01-02 |
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