DE3317292C2 - Verfahren zum Verbessern einer Gammakamera - Google Patents
Verfahren zum Verbessern einer GammakameraInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf
ein Verfahren zum Verbessern einer
Gammakamera
nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Zum Stand der Technik wird zunächst auf die US-PSen 3 011 057
(Druckschrift (1)), 4 060 730 (Druckschrift (2)) und
4 095 108 (Druckschrift (3)) verwiesen. Bekanntlich be
sitzt eine übliche Gammakamera einen Szintillations
kristall, der ansprechend auf Strahlungsreize Lichtblitze
an solchen Stellen des Kristalls erzeugt, an denen die
Reize mit der Gitterstruktur des Kristalls in Wechsel
wirkung treten. Ein dem Kristall zugeordnetes Feld von
Fotoelektronen-Vervielfachern (FEV) spricht auf die
Lichtblitze an und erzeugt individuelle Ausgangssignale,
die durch eine Rechenschaltung verarbeitet werden. Die
Rechenschaltung berechnet die Koordinaten jedes Licht
blitzes.
Bei der Aufbereitung einer Anzeige der Strahlungsintensi
tätsverteilung des auf den Kristall zwecks Erzeugung von
Lichtblitzen abgebildeten Strahlungsfeldes ist es üblich,
eine Darstellung der Dichteverteilung von Lichtblitzen
in dem Kristall zu akkumulieren, indem eine Matrix aus
Speicherregistern verwendet wird, deren Elemente Elemen
tarbereichen (Punkten) des Kristalls in einer Eins-zu-
Eins-Entsprechung zugeordnet sind. Jedesmal, wenn in dem
Kristall ein Lichtblitz auftritt, werden dessen Koordi
naten berechnet, und der Inhalt des diesen Koordinaten
entsprechenden Elements in der Matrix wird erhöht. Somit
erhält man als Inhalt eines gegebenen Matrixelements eine
Zahl, die die Anzahl von Ereignissen darstellt, die in
nerhalb einer gegebenen Zeitspanne in einem der Stelle
des gegebenen Matrixelements entsprechenden Elementarbe
reich des Kristalls auftreten. Diese Zahl ist direkt
proportional der von demjenigen Elementarbereich des
Strahlungsfeldes ausgesandten Strahlungsintensität, der
dem gegebenen Matrixelement zugeordnet ist. Wenn man also
diese Zahl zur Festlegung der Helligkeit der jeweils den
Matrixelementen entsprechenden Bildelemente einer An
zeigevorrichtung heranzieht, läßt sich die Intensitäts
verteilung eines Strahlungsfeldes durch die Helligkeits
verteilung auf der Anzeigevorrichtung darstellen.
In einer herkömmlichen Gammakamera, wie sie z. B. in (1)
beschrieben ist, werden die Koordinaten eines Lichtblit
zes dadurch berechnet, daß die Ausgangssignale der Foto
elektronen-Vervielfacher verarbeitet werden. Insbesondere
wird der sog. "Schwerpunkt" der von den Fotoelektronen-Ver
vielfachern erzeugten Signale berechnet, indem jedem
Fotoelektronen-Vervielfacher nach Maßgabe seiner relati
ven Lage bezüglich einer Koordinatenachse in dem Kristall
ein Gewicht zugewiesen wird, das Gewicht eines Fotoelek
tronen-Vervielfachers mit dessen Ausgangssignal multipli
ziert wird, sämtliche gewichteten Ausgangssignale der
Fotoelektronen-Vervielfacher summiert und die Summe durch
die Anzahl der Fotoelektronen-Vervielfacher dividiert
wird. Aus dem Fachmann bekannten Gründen kann eine be
rechnete Lichtblitzstelle von der tatsächlichen Stelle
des Lichtblitzes in dem Kristall abweichen. Folglich
stellt ein aus einer Matrix mit derart hergeleiteten In
halten erzeugtes Bild nicht immer eine exakte Wiedergabe
des tatsächlichen Strahlungsfeldes dar. Die Genauigkeit
läßt sich verbessern, wenn Nichtlinearitäten des Systems
kompensiert werden.
In (2) ist ein Verfahren beschrieben, bei dem die Be
rechnung durch ein schrittweises Verfahren erfolgt, nach
dem zuerst die ungefähre Stelle eines Lichtblitzes be
stimmt und dann eine bestimmte Funktion der Ausgangssig
nale der in der Nähe der ungefähren Stelle liegenden
Fotoelektronen-Vervielfacher dazu benutzt wird, um die
Koordinaten des Lichtblitzes zu berechnen. Nach einem
anderen Verfahren, das in (3) beschrieben ist, wird für
eine gegebene Gammakamera eine Eichkarte oder Eichmatrix
ermittelt, und die berechneten Koordinaten werden nach
Maßgabe der Eichkarte modifiziert. Diese Behelfslösungen
haben jedoch in keinem Fall in voll zufriedenstellender
Weise eine Korrektur der Gammakameras anhaftenden Proble
me bei der exakten optischen Darstellung eines Bildes
eines Strahlungsfeldes erbringen können.
In Übereinstimmung mit dem Oberbegriff des Anspruchs 1 zeigt die US-PS
4 298 944 ein Verfahren zum Verbessern einer Gammakamera, bei
dem zur Korrektur von Nicht-Linearitäten der Kamera so vorgegangen
wird, daß eine perforierte Platte vor dem Kristall angeordnet wird,
wobei der Kristall über die perforierte Platte einem Flutlichtfeld
ausgesetzt wird. Die exakten Stellen der Löcher in der Platte sind
vorgegeben. Die ermittelten oder gemessenen Stellen der Platte können
dann mit den tatsächlichen Stellen der Platte abgeglichen werden, um
Faktoren für die Korrektur zu erhalten.
Bei einer Aufnahme mit der Gammakamera können dann die Korrektur
werte aus einem Tabellenspeicher abgerufen werden, um die Meßwerte
zu korrigieren. Die Korrektur erfolgt dadurch, daß die Meßwerte der
Koordinaten mit Korrekturfaktoren gewichtet werden. Speziell werden
die Koordinatenwerte selbst geändert, d. h. verschoben, um durch Nicht-Li
nearitäten verursachte Verzerrungen auszugleichen. Bezugnehmend auf
ein früheres Verfahren ist in der genannten US-PS 4 298 944 noch ange
geben (Spalte 1, Zeilen 35 bis 41), daß zur Verzerrungskorrektur die
jeweiligen Gesamtzählwerte oder Ereignisse in einem speziellen Bereich
unter Verwendung der mit Hilfe des Flutlichts erhaltenen Information
erhöht oder vermindert werden.
Aus Proceedings of the IAEA, Medical Radionuclide Imaging, Band I,
IAEA-SM-210/154, 1977, S. 67 bis 84, ist ein Verfahren der eingangs
genannten Art bekannt, welches unter anderem von einer Matrix-Di
vision Gebrauch macht. Hierbei wird ebenfalls von einem Flutlicht-Feld
ausgegangen, dessen Ergebnis einer Matrix-Division unterzogen
wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs
genannten Art zu schaffen, mit dem die Auflösung einer Gammakamera
des obengenannten Typs verbessert wird, indem die gewichteten Inhalte
der Matrix die tatsächliche Verteilung der Lichtblitze besser annähern
als die ungewichteten Matrix-Inhalte.
Die Lösung dieser Aufgabe ist im Anspruch 1 angegeben.
Jedes Element einer die Dichteverteilung von Lichtblitzen
in einem Szintillationskristall einer Gammakamera reprä
sentierenden Matrix wird derart gewichtet, daß die Auf
lösung der Kamera verbessert wird. Das Gewicht eines Ele
ments entspricht der Wahrscheinlichkeit, mit der ein
Lichtblitz, der laut Berechnung in einem dem Element ent
sprechenden Elementarbereich aufgetreten ist, tatsächlich
dort aufgetreten ist.
Eine solche Wahrscheinlichkeit wird mittels einer
Eichprozedur berechnet, bei der ein Gamma-Eichstrahlen
bündel auf bekannte Stellen des Kristalls gelenkt und
unter Verwendung der Gammakamera die Stelle der Licht
blitze berechnet wird. Es wird die mittlere berechnete
Stelle von Lichtblitzen berechnet, die durch Auftreffen
des Eichstrahlenbündels auf einen festen Punkt in dem
Kristall erzeugt werden. Der Abstand zwischen der mittle
ren berechneten Stelle und der bekannten Stelle des Licht
blitzes steht in reziproker Beziehung zu der Wahrschein
lichkeit, daß ein laut Berechnung an einem Eichpunkt auf
getretener Lichtblitz tatsächlich an diesem Eichpunkt
aufgetreten ist. Die Eichprozedur liefert also eine
Konfidenz-Meßgröße oder Vertrauens-Meßgröße, die ein Maß
dafür ist, daß ein laut Berechnung in dem gegebenen Ele
mentarbereich aufgetretener Lichtblitz tatsächlich auch
dort aufgetreten ist.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung
anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines Gammakamera
kopfs mit diesem zugeordneter, schematisch dar
gestellter Rechenschaltung, wobei veranschau
licht ist, in welcher Weise eine Eichprozedur
durchgeführt wird,
Fig. 2 einen Ausschnitt des Szintillationskristalls des
Gammakamerakopfs, wobei drei Elementarbereiche
des Kristalls und die mittlere berechnete Stelle
von tatsächlich in den drei Elementarbereichen
aufgetretenen Lichtblitzen veranschaulicht ist,
Fig. 3 eine graphische Darstellung des funktionellen
Zusammenhangs zwischen dem Korrekturfaktor für
Elementarbereiche des Kristalls und dem Abstand
der mittleren Stelle eines Lichtblitzes von der
tatsächlichen Stelle,
Fig. 4 ein Blockdiagramm einer erfindungsgemäßen Gamma
kamera, und
Fig. 5 und 6 jeweils ein Flußdiagramm zum Veranschauli
chen unterschiedlicher Methoden zum Kalibrieren
der Gammakamera.
Fig. 1 zeigt eine herkömmliche Gammakamera 1, wie sie
z. B. in der Druckschrift (1) beschrieben ist. Die Kamera
1 enthält einen Szintillationskristall 12, der auf von
einem Strahlungsfeld ausgesendete Strahlungsreize oder
Strahlungsanregungen anspricht und in dem Kristall an
solchen Stellen Lichtblitze erzeugt, an denen die Reize
mit der Gitterstruktur des Kristalls in Wechselwirkung
treten. Dem Kristall ist ein Feld von Fotodetektoren,
z. B. Fotoelektronen-Vervielfachern (FEV) 14 zugeordnet,
das auf Lichtblitze anspricht und individuelle Ausgangs
signale erzeugt, die von einer Rechenschaltung 16 verar
beitet werden, um die Koordinaten jedes Lichtblitzes zu
berechnen. Eine punktförmige Gammastrahlenquelle 18 er
zeugt unter Zusammenwirkung mit einem geeigneten (nicht
dargestellten) Kollimator ein Gammastrahlenbündel 20,
so daß das Strahlenbündel an einer Stelle 22 (x1, y1)
auf den Kristall 12 auftrifft und an der bekannten Stelle
Lichtblitze erzeugt. Die Rechenschaltung erzeugt in be
kannter Weise ein Paar von Koordinatensignalen x1′, y1′
welches die Koordinaten des Lichtblitzes an der Stelle
x1, y1 darstellt. Um die Koordinatensignale zu normieren,
werden sie durch die Gesamtenergie eines Lichtblitzes
dividiert, diese Maßnahme ist jedoch in der Blockdia
grammdarstellung fortgelassen, um die Zeichnung nicht zu
überlasten.
Die punktförmige Gammastrahlenquelle wird an einer festen
Stelle bezüglich des Kristalls während einer Zeitspanne
gehalten, die ausreicht, um eine relativ große Zahl von
Lichtblitzen, beispielsweise 1000 Lichtblitzen zu erzeu
gen und die Koordinaten der Lichtblitze zu Vergleichs
zwecken zu berechnen. Diese Situation ist in Fig. 2 ver
anschaulicht. Die tatsächlichen Koordinaten des Licht
blitzes 22 sind mit x1, y1 bezeichnet, während die strich
punktierte Linie 24 die Grenze kennzeichnet, innerhalb
derer all diejenigen Koordinatenpunkte liegen, die von
der Schaltung 16 für tatsächlich bei x1, y1 auftretende
Lichtblitze berechnet werden. Nachdem eine relativ große
Anzahl von Koordinatenpunkten berechnet ist, werden nach
herkömmlichen Methoden die mittleren Koordinaten, genauer
gesagt, die Koordinaten der Schwerpunkte sämtlicher Ko
ordinaten, nämlich x1′, y1′, berechnet. Der Abstand D1
zwischen der bekannten Stelle x1, y1 der Lichtblitze
und der berechneten mittleren Stelle x1′, y1′ der Licht
blitze soll im folgenden als Eichabstand bezeichnet wer
den, der demjenigen Elementarbereich des Kristalls zuge
ordnet wird, der den Koordinatenwerten x1, y1 entspricht.
Unter Verwendung einer Kurve, wie sie in Fig. 3 darge
stellt ist, läßt sich der Eichabstand in einen Konfidenz- oder
Vertrauensfaktor umsetzen, der zu dem Eichabstand
eine reziproke Beziehung aufweist. Ist beispielsweise
der Eichabstand Null, d. h., stimmen die berechneten Ko
ordinatenwerte der Lichtblitze mit den tatsächlichen Ko
ordinatenwerten überein, so beträgt der Konfidenzfaktor
Eins oder 100%. Eine derartige Situation könnte dann vor
liegen, wenn der Lichtblitz in der geometrischen Mitte
eines Fotoelektronen-Vervielfachers erzeugt wird.
Im Gegensatz dazu ist einem relativ großen Eichabstand
ein niedriger Konfidenzfaktor in der Nähe des Wertes Null
zugeordnet. Eine solche Situation könnte vorliegen, wenn
ein Lichtblitz in der Nähe des Umfangs des Kristalls in
einer Zone zwischen verschiedenen Fotoelektronen-Verviel
fachern auftritt. In jedem Fall wird der auf diese Weise
ermittelte Konfidenzfaktor den mittleren Koordinaten x1′,
y1′ zugeordnet und in einer Korrekturmatrix unter einer
Adresse gespeichert, die zu den mittleren Koordinatenwer
ten gehört.
Der beschriebene Vorgang wird dann wiederholt, nachdem
die punktförmige Gammastrahlenquelle soweit versetzt wur
de, daß das Strahlenbündel auf einen Punkt x2, y1 des
Kristalls auftrifft, so daß durch den wiederholten Vor
gang der der Stelle x2′, y1′ zugeordnete Eichabstand
ermittelt wird. Entsprechend der obigen Beschreibung wird
ein weiterer Konfidenzfaktor auf der Grundlage des Eich
abstands D2 berechnet und in einer Korrekturmatrix an
einer solchen Stelle gespeichert, die den Koordinaten x2′, y1′
entspricht. Dieser Vorgang wird so lange wiederholt,
bis die gesamte Fläche des Kristalls 12 abgedeckt ist.
In Fig. 5 ist ein Flußdiagramm dieser Prozedur darge
stellt. Hierbei wird davon ausgegangen, daß 1000 Licht
blitze benötigt werden, um jeweils einen Eichabstand zu
berechnen. Der genannte Wert dient nur als Beispiel, und
es können auch andere Werte gewählt werden.
Fig. 6 veranschaulicht anhand eines Flußdiagramms die
Prozedur zum Berechnen der Konfidenzfaktoren der ver
schiedenen Elemente in der Korrekturmatrix durch Spei
chern der Ausgangssignale der Fotoelektronen-Vervielfa
cher anstatt durch Verwenden der Rechenschaltung, deren
Arbeitsweise in Fig. 5 skizziert ist. Gemäß Fig. 6 würde
die punktförmige Gammastrahlenquelle ein Strahlenbündel
erzeugen, das an einer bekannten Stelle des Kristalls
auftrifft und an jedem der Fotoelektronen-Vervielfacher
des dem Szintillationskristall zugeordneten Feldes ein
Ausgangssignal hervorruft. Dem Kristall können z. B. 19
Fotoelektronen-Vervielfacher zugeordnet sein. Das Aus
gangssignal jedes dieser Fotoelektronen-Vervielfacher
würde bei jedem Auftreten eines Lichtblitzes gespeichert
werden. Dies ist, in Fig. 6 für den Fall dargestellt, daß
die Speicherung so lange stattfindet, bis 1000 Lichtblit
ze aufgetreten sind. Nach dem letzten Lichtblitz einer
Folge wird das durchschnittliche Ausgangssignal jedes
Fotoelektronen-Vervielfachers durch Summieren der Aus
gangssignale jedes Vervielfachers und anschließendes
Dividieren durch die Anzahl der Lichtblitze ermittelt.
Aus dem mittleren Ausgangssignal jedes Vervielfachers
werden die mittleren Koordinatenwerte x′, y′ unter Ver
wendung der Rechenschaltung der Gammakamera errechnet.
Mit dieser Information läßt sich der Eichabstand berech
nen, und aus der Kurve gemäß Fig. 3 kann man den Konfi
denzfaktor bestimmen und in der Korrekturmatrix speichern.
Unabhängig davon, welche Prozedur man zum Ermitteln der
Konfidenzfaktoren wählt, liefert der Abschluß der Eich
prozedur einen Eintrag in jedem der Elemente der in Fig.
4 gezeigten Korrekturmatrix 30. Wie in der Zeichnung an
gedeutet ist, liegt der Inhalt jedes Matrixelements in
der Form C (x,y) vor, was bedeutet, daß der Konfidenzfak
tor an der Stelle x, y in der Matrix C beträgt.
Im Betrieb der Kamera würde der Gammakamerakopf 32 in
herkömmlicher Weise arbeiten und Daten eines Strahlungs
feldes erfassen. Die Rechenschaltung 34 kann so ausgebil
det sein und arbeiten, wie es in (1) oder (2) beschrie
ben ist, um die Koordinatenwerte für jeden Lichtblitz zu
erhalten. Diese Koordinatenwerte werden der Speicherma
trix 36 mit dem Zweck zugeführt, den Inhalt desjenigen
Matrixelements zu erhöhen, das einer berechneten Koordi
nate zugeordnet ist. In der Zeichnung liegt der Inhalt
jedes Matrixelements in der Form N (x,y) vor, was bedeutet,
daß die in der Stelle x, y der Speichermatrix gespeicher
te Anzahl von Lichtblitzen N beträgt. Mit anderen Wor
ten: N repräsentiert die tatsächliche Anzahl von Licht
blitzen, die in dem Kristall an der berechneten Stelle
x, y aufgetreten sind.
In der Anzeigematrix 38 wird die gewichtete Anzahl von
Lichtblitzen gespeichert, die an dieser Stelle aufgetre
ten sind. Ein Element dieser Matrix ist mit N′(x,y)
bezeichnet. Dieses Symbol bedeutet, daß an der Stelle
x, y eine gewichtete Anzahl von N′ Lichtblitzen aufge
treten sind. Die gewichtete Anzahl von Lichtblitzen an
einer gegebenen Stelle erhält man aus der tatsächlichen
Anzahl von Lichtblitzen an dieser Stelle dadurch, daß
die tatsächliche Zahl mit dem Konfidenzfaktor an der
gegebenen Stelle multipliziert wird. Dies ist in der
Zeichnung angedeutet durch die Beziehung N′(x,y) =
[N(x,y)] [C(x,y)].
Verwendet man die Anzeigematrix 38 für Anzeigezwecke an
stelle der Speichermatrix 36, so erkennt man, daß die
Lichtblitze nach Maßgabe der während des Eichvorgangs er
mittelten Konfidenzfaktoren neu verteilt werden. D.h.:
die Anzahl der Lichtblitze, die an solchen Stellen auf
treten, die einen relativ niedrigen Konfidenzfaktor be
sitzen, reduziert sich im Vergleich zu solchen Stellen,
an denen der Konfidenzfaktor größer ist. Auf diese Weise
läßt sich das Auflösungsvermögen der Kamera beträchtlich
verbessern. Außerdem läßt sich eine solche Verbesserung
auch bei herkömmlichen Gammakameratypen erreichen, indem
solche Kameras mit den Korrektur- und Anzeigematrizen
nachgerüstet werden. Es ist lediglich erforderlich, die
oben beschriebene Eichprozedur durchzuführen und die
Korrekturmatrix zu erzeugen, die als Multiplikations
faktor für die früher verwendete Speichermatrix benutzt
wird.
Wie oben bereits erläutert wurde, besteht der Zweck der
Erfindung darin, die Wahrscheinlichkeit zu ermitteln,
mit der die Koordinaten eines Lichtblitzes gemäß Berech
nung durch die Koordinaten-Rechenschaltung einer Gamma
kamera nach Berücksichtigung sämtlicher herkömmlicher
Justiervorgänge für Versetzungen u. dgl. die gleichen
sind wie die tatsächlichen Koordinaten des Lichtblitzes.
Hierzu wird den berechneten Koordinatenwerten eine mitt
lere Verteilung von Ausgangssignalen der Fotodetektoren
der Gammakamera zugeordnet, die repräsentativ ist für die
durch Auftreten einer großen Anzahl von Lichtblitzen bei
solchen Koordinaten verursachte Verteilung. Die Kreuz
korrelation der mittleren Verteilung mit der tatsächli
chen Verteilung (d. h. der Verteilung, bei der die Koor
dinaten berechneten wurden) ist ein Maß für die Wahr
scheinlichkeit, daß der die tatsächliche Verteilung ver
ursachende Lichtblitz bei den berechneten Koordinaten
aufgetreten ist.
Claims (4)
1. Verfahren zum Verbessern einer Gammakamera (1), die auf
weist: einen Szintillationskristall (12), der auf Strahlungsanregungen (20)
anspricht und an denjenigen Stellen (22) Lichtblitze hervorruft, an denen
die Anregungen mit dem Kristall in Wechselwirkung treten, ein Feld
Fotodetektoren (14), die auf einen Lichtblitz ansprechen und individuelle
elektrische Ausgangssignale erzeugen, eine Schaltung (16), die an
sprechend auf die Ausgangssignale denjenigen Elementarbereich des
Kristalls (12) identifiziert, in dem ein Lichtblitz auftritt, eine
Speichermatrix (36), deren Elemente den Elementarbereichen des
Kristalls in einer Eins-zu-Eins-Entsprechung zugeordnet sind, wobei der
Inhalt jedes Matrixelements bei Identifizierung durch die Schaltung
erhöht wird und die Anzahl von Lichtblitzen repräsentiert, die innerhalb
einer gegebenen Zeitspanne in einem der Lage des Matrixelements ent
sprechenden Elementarbereich des Kristalls stattgefunden haben, so daß
die Inhalt der Matrix die Dichteverteilung der Lichtblitze in dem Kristall
widerspiegeln, wobei die Inhalte der Matrixelemente gewichtet werden,
dadurch gekennzeichnet, daß von einer Eichprozedur Gebrauch ge
macht wird, bei der nacheinander ein aus einer Gammastrahlen-Punkt
quelle stammender Eichstrahl auf jeden Elementarbereich des Kristalls
gelenkt wird, für jeden Elementarbereich der Abstand zwischen der
tatsächlichen Stelle eine Lichtblitzes und derjenigen Stelle eines Licht
blitzes berechnet wird, die durch die Schaltung (16) berechnet wurde,
wobei der Abstand ein Maß für die Wahrscheinlichkeit ist, daß ein
Lichtblitz, der als ein in einem dem Element entsprechenden
Elementarbereich stattgefundener Lichtblitz identifiziert wird, tat
sächlich dort stattgefunden hat, und daß die Wichtung der Matrix
elemente mit einem Wichtungsfaktor erfolgt, der eine Funktion des
Abstands für den zugehörigen Elementarbereich ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
zum Wichten der Inhalte der Elemente der Speichermatrix (36) eine
Korrekturmatrix (30) verwendet wird, deren Elemente den Elementen
der Speichermatrix in einer Eins-zu-Eins-Entsprechung zugeordnet sind.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die
Inhalte entsprechender Elemente der Speichermatrix und der Korrektur
matrix multipliziert werden.
4. Gammakamera zum Durchführen des Verfahrens nach
Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine Einrichtung (38, 64)
zum Multiplizieren der Inhalte der Matrixelemente mit dem jeweils
zugehörigen Wichtungsfaktor vorgesehen ist.
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