DE3231831C2 - Verfahren zur galvanoplastischen Herstellung eines Rotationsdrucksiebs - Google Patents

Abstract

Das Rotationsdrucksieb wird dadurch hergestellt, daß ausgewählte Bereiche mit einem durchbrochenen Maschenbereich versehen werden, durch den Druckfarbe hindurchgeführt werden kann. Diese Maschenbereiche sind mit einem Maschenmuster versehen, das als Aussparung von der Außenfläche des Rotationsdrucksiebs zurückspringt, so daß größere Farbabscheidungsstärken möglich sind. Das Sieb wird durch galvanisches Abscheiden gebildet, so daß man einen herkömmlichen Siebgrundaufbau erhält. Dann werden die Maschenbereiche maskiert und eine zusätzliche Abscheidung von Material in den nicht mit Maschen versehenen Bereichen durchgeführt, wodurch diese Bereiche aufgebaut werden und sich demzufolge ein ausgesparter Flächenbereich in dem Bereich des ursprünglich geformten Maschendesigns ergibt.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Rotationsdrucksiebs nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs.

Aus der DE-AS 20 50 285 ist die Herstellung einer Siebdruckschablone aus Metall für Dickfilmschaltungen bekannt Dabei wird auf einer Trägerplatte ein erstes Resistmuster ausgebildet, wofür eine Fotopolymerschicht aufgebracht, mit dem Neg'nv des Druckmusters belichtet und dann gewaschen wird. Die so gebildeten Zwischenräume zwischen dem ersten Resistmuster werden mit galvanisch abgeschiedenem Nickel gefüllt. Anschließend wird auf die Schicht aus Nickel und Resist ein dünner leitender Nickelüberzug aufgebracht, auf dem ein zweites Resistmuster durch Aufbringen einer fotopolymeren Schicht, durch Belichten und Auswaschen der durch Belichten nicht gehärteten Abschnitte aufgebracht wird. Die dadurch gebildeten kleinen Öffnungen werden wiederum mit galvanisch abgeschiedenem Nikkei gefüllt Nach Entfernen des Resistmaterials und des leitenden dünnen Nickelüberzugs zwischen den Öffnungsbereichen der ersten und zweiten Schicht wird die so gebildete Siebdruckschablone von der Trägerplatte, die auch die Form eines Dorns haben kann, abgenommen. Die Siebdruckschablone wird dann auf das zu bedruckende Substrat mit der Seite aufgelegt, auf welcher die größeren öffnungen vorgesehen sind, in die eine Vielzahl der kleineren Öffnungen mündet, die im Bereich des Nickelmaterials der substratseitigen Schicht von dem leitenden dünnen Überzug geschlossen sind. Gegenüber den parabelförmigen Öffnungen, wie sie beim Ätzen erreicht werden, ergeben sich bei dem bekannten Verfahren substratseitige Öffnungen, die scharf komuriert sind.

Dadurch, daß ein zusätzlicher leitender dünner Nikkeiüberzug aufgebracht werden muß, ist die Herstellung der bekannten Siebdruckschablone relativ aufwendig, vor allem weil dieser Nickelüberzug auch im Kontaktbereich mit dem Nickelmaterial der substratseitigen Schicht stehenbleibt, wodurch die darüberliegenden Sieböffnungen zur Farbenabgabeseite hin verschlossen sind, so daß, wenn ein solches Sieb für die Farbbedrukkung verwendet wird, in diesen Bereichen Farbstoffe stehenbleiben.

Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht deshalb darin, das Verfahren der eingangs genannten Art zu vereinfachen und so auszugestalten, daß alle kleinen Sieböffnungen in die zugehörigen großen Musteröffnungsbereiche münden.

Diese Aufgabe wird mit den im Kennzeichen des Patentanspruchs angegebenen Merkmalen gelör*.

ίο Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren läßt sich auf einfache Weise ein Rotationsdrucksieb herstellen, bei welchem die farbaufnahmeseitigen kleinen Sieböffnungen störungsfrei in die farbabgabeseitigen großen Musteröffnungen münden. Die großen Musteröffnungen

>5 werden also mit den Druckfarben durch die kleinen Sieböffnungen gespeist und ermöglichen eine vollständige Farbabgabe an das zu bedruckende Substrat, so daß auch bei relativ dicken Substraten, wie Fußbodenbelägen oder Teppichböden eine vollständige Einfärbung erreicht wird.

Anhand einer Zeichnung wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutert Es zeigt

F i g. 1 perspektivisch eine Teilansicht des Dorns mit dem ersten entwickelten Resistüberzug,

F i g. 2 die Anordnung von F i g. 1 mit der ersten galvanischen Abscheidung,

F i g. 3 einen Schnitt durch die Anordnung von F i g. 2, F i g. 4 die Anordnung von F i g. 3 mit einer zweiten Resistbeschichtung,

F i g. 5 die Anordnung von F i g. 4 nach dem Belichten und Entwickeln der zweiten Resistbeschichtung und

F i g. 6 im Schnitt einen Teil des Rotationsdrucksiebs auf einem zu bedruckenden Substrat
Zur Herstellung des Rotationsdrucksiebs wird auf der Oberfläche 22 eines Dorns 20 ein erstes Resistmaterial mit einer Stärke von etwa 0,025 mm abgeschieden. Auf das erste Resistmaterial wird eine Maske aufgelegt, durch deren Aussparungen hindurch das Resistmaterial mit ultraviolettem Licht belichtet wird. Nach einem Waschvorgang verbleibt das harte Resistmaterial, in F i g. 1 in Form von vier kleinen Säulen 18, die etwa 0,025 mm über die Oberfläche 22 hochstehen und einen Durchmesser von etwa 0,2 mm haben. Dann wird auf der Oberfläche des Dorns 20 galvanisch Nickel mit einer Stärke von 0,075 bis 0,1 mm abgeschieden. Nach dem Entfernen des Resistmaterials in Form der Säulen 18 verbleiben in der auf der Oberfläche 22 des Doms 20 aufgebrachten Nickelschicht 24 kleine Öffnungen IS, wie dies aus den Fi g. 2 und 3 zu ersehen ist Auf die freie

so Oberfläche der Nickelschicht 24 wird dann ein zweites Resistmaterial 26 aufgebracht, das die Löcher 19 wieder füllt und eine Schichtstärke von etwa 0,075 mm hat Auf Jas zweite Resistmaterial 26 wird eine Maske aufgelegt, die so beschaffen ist, daß nach dem Belichten und Auswaschen hartes Resistmaterial in den die kleinen Öffnungen 19 verbindenden Bereichen 28 verbleibt, wie dies in F i g. 5 gezeigt ist. Anschließend wird galvanisch eine weitere Nickelschicht abgeschieden, wobei die Resistbereiche 28 von F i g. 5 frei von Nickel bleiben. Nach dem Entfernen des Resistmaterials unter Abnahme des auf diese Weise gebildeten Rotationsdrucksiebs von dem Dorn 20 stehen die kleinen Öffnungen 19 gemäß F i g. 2 als kleine farbaufnahmeseitigen Sieböffnungen 10,12 von F i g. 6 mit großen, einem Muster zugeordneten, farbabgabeseitigen Öffnungen 16 in direkter Verbindung.

Das in F i g. 6 gezeigte Rotationsdrucksieb 4 wird mit seiner einen Oberfläche 6, auf der sich die großen öff-

nungen 16 befinden, auf ein zu bedruckendes Substrat 2 aufgebracht, während sich die kleinen Öffnungen 10,12 von der anderen Oberfläche 8, von der die Farbaufgabe erfolgt, zu den großen Öffnungen 16 erstrecken. Es sind etwa 40 bis 160 kleine Öffnungen 10 bzw. 12 pro cm² vorgesehen, während die großen Öffnungen 16 dem aufzudruckenden Muster zugeordnet sind.

Wenn Farbe durch die kleinen Sieböffnungen 10 und 12 hindurchgeht, nimmt die darunter befindliche, dem Muster zugeordnete Öffnung 16 überschüssige Farbe auf und ermöglicht es, daß diese Überschußfarbe an der Oberfläche des Substrats 2 haftenbleibt, während in einer durchgehenden kleinen Öffnung 14, die in F i g. 6 gestrichelt eingezeichnet ist, beim Trennen des Substrats 2 vom Rotationsdrucksieb 4 die Farbe in dieser Öffnung hängenbleiben würde. Die Dicke 30 des Rotationsdrucksiebs 4 entspricht der Summe der Dicken der beiden galvanisch abgeschiedenen Nickelschichten.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

25

35

Claims (1)

1. Patentanspruch:

   Verfahren zur Herstellung eines Rotationsdrucksiebs, bei welchem auf einem Dorn ein erstes Resistmuster aufgebracht wird, in den Zwischenräumen dieses ersten Resistmusters galvanisch Metall abgeschieden wird, auf der so gebildeten Oberfläche dann ein zweites, anders konfiguriertes Resistmuster so aufgetragen wird, daß Obergangsbereiche zum ersten Resistmuster ausgebildet werden, in den Zwischenräumen des zweiten Resistmusters wiederum galvanisch Metall abgeschieden wird und nach dem Auswaschen des Resists der Dorn entfernt wird, wobei farbaufnahmeseitig kleine Sieböffnungen und farbabgabeseitig große Öffnungen ausgebildet werden, dadurch gekennzeichnet, daß mit Hilfe des ersten Resistmusters zuerst die kleinen farbaufnahmeseitigen Sieböffnungen und danach mit Hilfe des zweiten Resistmusters die eine Vielzahl der kleine« Sieböffnungen überdeckenden, farbabgabeseitigen großen, einem Muster zugeordneten Offnungen ausgebildet werden.