DE2050285C3 - Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus Metall - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus MetallInfo
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- DE2050285C3 DE2050285C3 DE19702050285 DE2050285A DE2050285C3 DE 2050285 C3 DE2050285 C3 DE 2050285C3 DE 19702050285 DE19702050285 DE 19702050285 DE 2050285 A DE2050285 A DE 2050285A DE 2050285 C3 DE2050285 C3 DE 2050285C3
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablone!! aus Metall mittels Galvanoplastik.
Zur Herstellung von Diekfilmschaltungcn werden konturcnscharfe Siebdruckschablonen benötigt, die
das Drucken feinster Details zulassen. Dabei wird gefordert, daß sich Konfigurationen bis zu 50 um Breite
und weniger einwandfrei drucken lassen. Die bekannten Kunststoffsicbdruckschabloncn besitzen
zwar eine hohe Auflösung, jedoch nur eine geringe Kontiircnschräfc, geringe Standzeit und chemische
Beständigkeit. Zum Drucken chemisch aggressiver Pasten werden daher Siebdruckschablonen aus Metall
verwendet. Die bekannten Metallsiebdruckschablonen werden hergestellt, indem eine dünne Metallfolie
von der einen Seite her das Siebraster, von der anderen Seite die gewünschte Druckkonfiguration geätzt
wird. Ein Nachteil dieser Verfahren besteht darin, daß wegen der sich beim Ätzen des Musters
ergebenden ungleichmäßigen Ätztiefe verschieden tiefe öffnungen des Druckmusters entstehen, wodurch
auch beim Druckvorgang unterschiedlich dicke Schichten entstehen.
Tn einer älteren Patentanmeldung ist ein Verfahren zur Herstellung von metallischen Siebdruckschablonen
vorgeschlagen, bei dem auf eine Seite eines metallischen Trägerblcchs durch galvanische Metallabschcidung
unter Verwendung einer auf photografischem Wege hergestellten Maske des Druckmusleri.
hergestellt wird, während nachfolgend auf der anderen Seite, ebenfalls unter Verwendung einer Photomaske,
ätztcchnisch das Siebmuster hergestellt wird. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein
Verfahren zum Herstellen von Siebdrucksrhablonen
ίο aus Metali mittels Galvanoplastik anzugeben, bei denen
das Öffnungsverhältnis des Siebrasters sehr groß und über die gesamte Höhe konstant ist.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß auf eine glatte, gut gereinigte Trägerplatte eine Fotopolymer-
folie laminiert, mit dem Negativ der Siebdruckkonfiguration belichtet und entwickelt wird, daß dann Metall
auf die freigelegte Oberfläche der Trägerplatte bis zur Höhe der Fotopolymerfolie auff.alvanisiert
wird, daß anschließend eine dünne Metallschicht stromlos auf Metall und Fotopolymerfolic aufgebracht
wird, daß auf diese dünne Metallschicht eine weitere Fotopolymerfolie laminiert, mit dem Negativ
des Siebrasters belichtet und entwickelt wird, daß dann wiederum Metall bis zur Höhe der weiteren Fotopolymerfolic
aufgalvanisiert wird, daß die Siebdruckschablone von der TrägerplaUe abgelöst wird
und daß zum Schluß die Reste der Fotopolymere mit einem geeigneten Lösungsmittel herausgelöst werden,
wobei auch die dünne, stromlos abgeschiedene Metallschicht im Bereich durchgehender Öffnungen mit
herausgespült wird.
Damit ergeben sich die Vorteile, daß die gewünschten Druckkonfigurationen genau eingehalten
werden, daß die danach hergestellte Druckmaske mechanisch
und chemisch beständig ist und daß die Unterseite der Druckmaske, die auf das zu bedruckende
Substrat aufgelegt wird, die Ebenheit der Trägerplatte besitzt und scharfkantig ist, so daß beim
Druckvorgang keine Druckfarbe seitlich hinausgepreßt werden kann, was zu einer Verschlechterung
der Konturenschärfc führen würde.
Vor dem stromlosen Aufbringen der Metallzwischcnschicht wird die Oberfläche der ersten Folopolymeifolic
vorteilhaft aufgerauht, vorzugsweise durch Bürsten. Hierdurch wird die stromlose Metallisierung
wesentlich erleichtert.
Als Trägerplatte wird vorteilhaft eine Edelstahlplatte
verwendet, da die meisten galvanisch abgeschiedenen Metalle während des Herstellungsprozesses
einerseits ausreichend gut am Edelstahl haften, sich aber andererseits nach Fertigstellung der Siebdruckschablone
einfach abheben lassen.
Als galvanisch und stromlos abzuscheidendes Metall eignet sich Nickel, da es leicht abzuscheiden ist
und eine gute mechanische Festigkeit besitzt.
An Hund der Figuren soll die Erfindung näher erläutert werden.
F i g. I zeigt eine Trägerplatte 1 aus Edelstahl, deren
Oberfläche geläppt und gut gereinigt ist. Diese Oberfläche der Edelstahlplatte 1 wird mit einer Fotopolymerfolic
2 auflaminicrt, mit dem Druckstrukturnegaliv belichtet und anschließend entwickelt. Auf
die freigelegten Teile der Trägerplatte 1 wird anschließend eine erste Nickelschicht 3 bis zur Höhe
der Fotopolymerfolie 2 aufgalvanisiert. Für die weitere Platticrung muß über die Fotopolymerfolie 2
eine leitende Schicht 4 vorzugsweise wieder aus Nikkei aufgebracht werden. Hierzu wird die Oberfläche
der Fotopolymerfolie 2 durch Bürsten aufgerauht. Über die stromlos abgeschiedene Schicht 4 wird eine
zweite Fotopolymerfolie S !aminiert, mit dem Lochraster 6 beuchtet und entwickelt. Diesen Zustand
zeigt F i g. 2. Nach einer zweiten Nickelabscheidung7
wird die Metallmaske von der Trägerplatte I mechanisch abgehoben. Die belichteten Fotopolymere
2, S werden mit geeigneten Lösungsmitteln herausgelöst; dabei wird die dünne, stromlos abgeschiedene
Metallschicht 4 im Bereich durchgehender öffnungen mit herausgespült (Fi g 3). Geeen-Die
F i e 4 und 5 endlich zsigen >n einer uegen
üb r teilung ein äu.echnisch i[F i g-4) und em ßal·-
vanopiastisch (Fig. 5) hergeste lter S»bmto ·£
SehnHt. Es ist leicht einzusehen, daß one Siebdruck
maske mit einer großen Konturenscharfe wie m
Fig. 5 gegenüber weniger exakten Masken Vorteile besitzt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus Metall mittels Galvanoplastik,
dadurch gekennzeichnet, daß auf eine glatte, gut gereinigte Trägerplatte eine Fotopolymerfolie
laminiert, mit dem Negativ der Siebdruckkonfiguration
belichtet und entwickelt wird, daß dann Metall auf die freigelegte Oberfläche der Trägerplatte bis zur Höhe der Fotopolymerfolie
aufgalvanisiert wird, daß anschließend eine dünne Metallschicht stromlos auf Metall und Folopolymerfolic
aufgebracht wird, daß auf diese dünne Metallschicht eine weitere Fotopolymerfolie
laminiert, mit dem Negativ des Siebrasters belichtet und entwickelt wird, daß dann wiederum
Metall bis zur Höhe der zweiten Fotopolymerfolie aufgalvanisiert wird, daß die Siebdruckschablone
von der Trägerplatte abgelöst wird und daß zum Schluß die Fotopolymerfolien mit einem geeigneten
Lösungsmittel herausgelöst werden, wohei auch die dünne, stromlos abgeschiedene Metallschicht
im Bereich durchgehender öffnungen mit herausgespült wird.
2. Verfahren nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberfläche der ersten Fotopolymerfolie vor dem stromlosen Metallisieren
aufgerauht wird.
3. Veilahi; η nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberfläche durch Bürsten aufgerauht wird.
4. Verfahren nach Anspriic' I bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Trägerplatte eine Edelstahiplatte
verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch I bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als galvanisch und stromlos
abzuscheidendes Metall Nickel verwendet wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702050285 DE2050285C3 (de) | 1970-10-13 | 1970-10-13 | Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus Metall |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702050285 DE2050285C3 (de) | 1970-10-13 | 1970-10-13 | Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus Metall |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2050285A1 DE2050285A1 (en) | 1972-05-25 |
DE2050285B2 DE2050285B2 (de) | 1973-08-16 |
DE2050285C3 true DE2050285C3 (de) | 1974-03-21 |
Family
ID=5785021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702050285 Expired DE2050285C3 (de) | 1970-10-13 | 1970-10-13 | Verfahren zum Herstellen von Siebdruckschablonen aus Metall |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2050285C3 (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4176602A (en) * | 1975-09-02 | 1979-12-04 | General Dynamics Corporation | Dry film screen stencil and method of making |
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-
1970
- 1970-10-13 DE DE19702050285 patent/DE2050285C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2050285A1 (en) | 1972-05-25 |
DE2050285B2 (de) | 1973-08-16 |
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