DE3217983C2 - Verfahren zum Herstellen einer Abdeckmaske - Google Patents

Verfahren zum Herstellen einer Abdeckmaske

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Description

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Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Abdeckmaske zum Füllen von Löchern in Leiterplatten mit einer Abdeckfarbe. Die Abdeckmaske dient zum Schutz der mit einem Metallbelag versehenen Lochungen in Leiterplatten während des Metallätzvorganges.
Zum Anfertigen solcher Abdeckmasken wurde bereits eine Vielzahl von Verfahren vorgeschlagen. Nach einem dieser Verfahren werden die Leiterzüge einer gedruckten Leiterplatte einschließlich der Lochwandungen mit einem Metallüberzug versehen, der als Abdeckmaske beim nachfolgenden Ätzvorgang dient und anschließend wieder entfernt wird. Es wurde auch bereits vorgeschlagen, die Oberfläche einer Leiterplatte beidseitig mit einer Schicht eines Photoresist-Trockenfilms geeigneter Dicke zu versehen. Nach dem Belichten durch ein Positiv des gewünschten Leiterzugmusters und Entwickeln des Filmes ergibt sich eine Abdeckmaske, die sowohl die den Leiiterzügen der fertigen Leiterplatte entsprechenden Oberflächengebiete der Kupferschichf. als auch die Lochungen bedeckt und so hermetisch abschließt
Es wurde auch bereits vorgeschlagen, anstelle des Auftragens eines Photoresist-Trockenfilms die mit dem Kupferbelag versehenen Lochwandungen mit einer ätzresistemen Farbe als Abdeckmaske, beispielsweise durch Aufrakeln, auszufüllen. Vor oder nach dem Entfernen der Abdeckfarbe von der Plattenoberfläche wird die Füllung der Löcher in einem entsprechenden Trockenvorgang verfestigt Das Entfernen der die Abdeckmaske bildenden, getrockneten und erhärteten Abdeckfarbe von der Piattenoberfläche ist aufwendig und erfordert größte Sorgfalt Weiterhin hat es sich als schwierig und aufwendig erwiesen, alle Reste der Abdeckfarbe nach dem Ätzen aus den Lochungen und von deren Wandungen zu entfernen.
Das Verfahren nach der vorliegenden Erfindung vermeidet die oben beschriebenen Probleme und Nachteile bei der Herstellung einer Abdeckmaske und ist dadurch gekennzeichnet, daß ein als Träger dienendes, in üblicher Weise in einen Druckrahmen gespanntes Siebdrucksieb auf der beim Druckvorgang der Oberfläche der Leiterplatte zugekehrten Seite mit einer abdeckfarben-undurchlässigen Folie versehen wird, daß diese Anordnung an den Stellen gelocht wird, die im Leiterzugmuster den Lochungen mit metallisierten Wandungen entsprechen, und daß dann mit Hilfe eines Rakels die zur Füllung bestimmte Abdeckfarbe in die Lochungen eingebracht wird.
Die Abdeckmaske für die Lochungen wird beispielsweise nach dem Aufbringen einer dem Positiv des gewünschten Leiterzugmusters der Leiterplatte entsprechenden Ätzmaske angebracht
Zum Herstellen der Anordnung aus Siebdrucksieb und Folie eignen sich Folien aus Metall oder Kunststoff, deren Dicke vorzugsweise 0,1 mm oder weniger beträgt Nach einer Ausführungsform der Erfindung wird eine Aluminiumfolie auf das Siebdrucksiebgewebe aufgeklebt
Die Anordnung aus Siebdrucksieb und Folie wird an allen jenen Stellen gelocht, vorzugsweise durchbohrt an denen sich in der fertiggestellten Leiterplatte Lochungen mit metallisierten Wandungen befinden sollen. Vorzugsweise wird der Durchmesser der Lochungen größer gewählt als der Durchmesser der betreffenden Lochung in der Leiterplatte. Die obere Grenze des Lochdurchmessers darf nicht über die Begrenzung der beispielsweise im Siebdruck aufgebrachten Ätzmaske für das Leiterzugmuster hinausgehen. In der Regel wird der Durchmesser der Bohrungen oder Lochungen in der Anordnung nur geringfügig größer gewählt als der Durchmesser der Lochungen in der Leiterplatte.
Für die in die Lochungen eingerakelte Abdeckfarbe wird vorzugsweise eine solche gewählt, die beim Einwirken dqr Trockenluft bzw. des darin enthaltenen Sauerstoffs an der Oberfläche einen so weit gehärteten Film bildet, daß die Lochungen abgedeckt sind, während der Rest der in den Lochungen befindlichen Abdeckfarbe weitgehend oder zur Gänze viskos bleibt. Dadurch wird in einem späteren Arbeitsschritt die restlose Entfernung der Lochfüllungen in einfacher Weise durch Einwirken eines Lösungsmittels bzw. Verdünnungsmittels für die Abdeckfarbe ermöglicht.
Anstelle der wärmehärtbaren Abdeckfarbe kann vorteilhafterweise eine durch UV-Strahlung härtbare Farbe analog benutzt werden.
Im folgenden wird die Erfindung anhand von Figuren näher erläutert.
F i g. IA bis 1F sind eine schematische Darstellung der einzelnen Verfahrensschritte entsprechend der Erfindung. Fig. IA zeigt einen Ausschnitt aus einem beidseitig mit einer Kupferfolie (2) kaschierten Leiterplatten-Basismaterial (1). Die Wandungen der Lochungen (10) ebenso wie die Oberfläche der Kupferfolie (2) sind mit einen, in bekannter Weise abgeschiedenen Kupferbelag (3) versehen.
Fig. IB zeigt den Ausschnitt nach dem Aufbringen einer im Siebdruck hergestellten und die den Leiterzügen entsprechenden Flächen abdeckenden Ätzmaske
F i g. IC stellt in schematischer Weise die Anordnung
(5) und die Lochungen (9) in dieser im Verhältnis zu den
10 Lochungen (10) im Leiterplatten-Basismaterial (1) dar. Die Anordnung (5) weist das als Träger dienende Siebdrucksieb (50) und die auf dessen Unterseite befestigte abdeckfarbenundurchlässige Folie (51) auf. Bohrung (9) in (5) ist bereits mit Hilfe des Rakels (6) mit der Abdeckfarbe (7) gefüllt
Fig. ID zeigt die Platte (1) nach dem Ausfüllen der Lochungen (10) mit der Abdeckfarbe (7).
Fi g. IE stellt die Platte (1) nach dem Trocknen dar mit der in flüssig-viskosen Zustand befindlichen Füllung (7) der Lochungen (10) und dem an deren Oberfläche ausgebildeten ätzresistenten Film (70).
Fig. IF zeigt schließlich die Platte (1) nach dem Ablösen der Ätzmaske (4) (Fig. 1 E) und dem Entfernen der Abdeckmaske (7,70).
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (9)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Herstellen einer Abdeckmaske zum Füilen von Löchern in Leiterplatten mit einer Abdeckfarbe, dadurch gekennzeichnet, daß ein als Träger dienendes, in üblicher Weise in einen Druckrahmen gespanntes Siebdrucksieb auf der beim Druckvorgang der Oberfläche der Leiterplatte zugekehrten Seite mit einer abdeckfarben-undurchlässigen Folie versehen wird, daß diese Anordnung an den Stellen gelocht wird, die im Leiterzugmuster den Lochungen mit metallisierten Wandungen entsprechen, und daß dann mit Hilfe eines Rakels die zur Füllung bestimmte Abdeckfarbe in die Lochungen eingebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Lochungen in der Anordnung aus Siebdrucksieb und Folie einen Durchmesser aufweisen, der größer ist als der Durchmesser der Lochungen im Basismaterial der Leiterplatte.
3. Verfahren nach Ansprach ! und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Lochungen durch Bohren hergestellt werden.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die in die Lochungen eingebrachte Abdeckfarbe einem Härtungsprozeß unterworfen wird, der ausreicht, um einen gegenüber einem Ätzmittel resistenten Film auszubilden, wobei der Rest der in den Lochungen befindlichen Abdeckfarbe im viskosen Zustand verbleibt.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zum Herstellen der Abdeckmaske dienenüe Sieboruckfarbe durch UV-Einwirkung gehärtet wird.
6. Verfahren nach Anspruch ., dadurch gekennzeichnet, daß in der Anordnung die Folie durch Verkleben mit dem Siebdrucksieb verbunden ist
7. Verfahren nach Anspruch 1 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die verwendete Folie eine Dicke von 0,1 mm oder weniger aufweist
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Folie eine Metallfolie, vorzugsweise eine Aluminium-Folie, ist
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1, 6 oder
7, dadurch gekennzeichnet, daß die Folie eine Kunststoffolie ist.
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DE3217983A DE3217983C2 (de) 1982-05-13 1982-05-13 Verfahren zum Herstellen einer Abdeckmaske
GB08312009A GB2120017B (en) 1982-05-13 1983-05-03 Making printed circuit boards having plated through-holes
NL8301586A NL8301586A (nl) 1982-05-13 1983-05-04 Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van geleiderplaten.
SE8302619A SE8302619L (sv) 1982-05-13 1983-05-06 Forfarande och anordning for framstellning av kopplingsplattor
CH2557/83A CH659753A5 (de) 1982-05-13 1983-05-10 Verfahren und vorrichtung zum herstellen von leiterplatten.
JP58083445A JPS58206192A (ja) 1982-05-13 1983-05-10 プリント回路板の製造方法及び装置
DK210983A DK210983A (da) 1982-05-13 1983-05-11 Fremgangsmaade til fremstilling af kredsloebsplader
IT48288/83A IT1197651B (it) 1982-05-13 1983-05-13 Procedimento e dispositivo per la preparazione di piastre di conduttori
CA000428115A CA1196731A (en) 1982-05-13 1983-05-13 Process and device for the manufacture of printed circuit boards

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SE (1) SE8302619L (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3514093A1 (de) * 1985-04-16 1986-10-23 Kaspar 5241 Gebhardshain Eidenberg Verfahren zum verschliessen von in einer leiterplatte vorgesehenen bohrungen

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4884337A (en) * 1986-11-26 1989-12-05 Epicor Technology, Inc. Method for temporarily sealing holes in printed circuit boards utilizing a thermodeformable material
US4748742A (en) * 1986-11-26 1988-06-07 Multitek Corporation Method for temporarily sealing holes in printed circuit boards
US6276055B1 (en) 1998-09-02 2001-08-21 Hadco Santa Clara, Inc. Method and apparatus for forming plugs in vias of a circuit board layer
WO2001093647A2 (en) 2000-05-31 2001-12-06 Honeywell International Inc. Filling method
US6454154B1 (en) 2000-05-31 2002-09-24 Honeywell Advanced Circuits, Inc. Filling device
AU2001264968A1 (en) 2000-05-31 2001-12-11 Honeywell International, Inc. Filling device
US6800232B2 (en) 2000-05-31 2004-10-05 Ttm Advanced Circuits, Inc. PCB support plate method for PCB via fill
US6506332B2 (en) 2000-05-31 2003-01-14 Honeywell International Inc. Filling method
US6855385B2 (en) 2000-05-31 2005-02-15 Ttm Advanced Circuits, Inc. PCB support plate for PCB via fill
CN110557889A (zh) * 2018-05-30 2019-12-10 胜宏科技(惠州)股份有限公司 一种铝片网版塞孔的制作方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1249966B (de) * 1967-09-14 Ruwel-Werke, Spezialfabrik für Hochfrequenzbauteile, Inh. Ing. Fritz Stahl, Geldern (RhId.) Verfahren zum Herstellen von metallisierten Wandungen von Bohrungen in gedruckten Leiterplatten
GB1042234A (en) * 1965-03-05 1966-09-14 Mullard Ltd Multilayer printed circuits
GB1194853A (en) * 1967-02-16 1970-06-17 Btr Industries Ltd A Method of Forming Printed Circuits
JPS52118261A (en) * 1976-03-30 1977-10-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of producing through hole printed circuit board
JPS5658797A (en) * 1979-10-18 1981-05-21 Yashima Denki Kk Ac power control circuit in induction motor
JPS5667985A (en) * 1979-11-08 1981-06-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of printing ink using metal mask

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3514093A1 (de) * 1985-04-16 1986-10-23 Kaspar 5241 Gebhardshain Eidenberg Verfahren zum verschliessen von in einer leiterplatte vorgesehenen bohrungen

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Publication number Publication date
JPS58206192A (ja) 1983-12-01
GB8312009D0 (en) 1983-06-08
DK210983A (da) 1983-11-14
IT1197651B (it) 1988-12-06
SE8302619D0 (sv) 1983-05-06
NL8301586A (nl) 1983-12-01
CA1196731A (en) 1985-11-12
DE3217983A1 (de) 1983-11-17
DK210983D0 (da) 1983-05-11
GB2120017B (en) 1986-02-19
GB2120017A (en) 1983-11-23
IT8348288A0 (it) 1983-05-13
CH659753A5 (de) 1987-02-13
SE8302619L (sv) 1983-11-14

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