DE3108508C2 - Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung - Google Patents
Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-LegierungInfo
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- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 41
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract 3
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract 3
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- -1 nickel amines Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 5
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 abstract description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 abstract description 4
- UXJWUQMJUKSBSL-UHFFFAOYSA-M CCS([O-])(=O)=O.C(C1=CC=CC=C1)[N+]1=CC=CC=C1 Chemical compound CCS([O-])(=O)=O.C(C1=CC=CC=C1)[N+]1=CC=CC=C1 UXJWUQMJUKSBSL-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- SZHIIIPPJJXYRY-UHFFFAOYSA-M sodium;2-methylprop-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(=C)CS([O-])(=O)=O SZHIIIPPJJXYRY-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 7
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- VKFAUCPBMAGVRG-UHFFFAOYSA-N dipivefrin hydrochloride Chemical compound [Cl-].C[NH2+]CC(O)C1=CC=C(OC(=O)C(C)(C)C)C(OC(=O)C(C)(C)C)=C1 VKFAUCPBMAGVRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,6-trisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M sodium;prop-2-ene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)CC=C DIKJULDDNQFCJG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
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- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf ein Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung für dekorative und/oder technische Überzüge. Das Bad besteht grundsätzlich aus einer wäßrigen Lösung von Palladium- und Nickelaminen mit einem Palladiumgehalt im Bereich von 5 bis 30 g/l, einem Nickelgehalt im Bereich von ebenfalls 5 bis 30 g/l und mit einem Zusatz von Sulfonsäuresalzen. Das Palladium/Nickel-Verhältnis ist so eingestellt, daß die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew.% aufweist. Um eine einwandfreie Mischkristallbildung zu erreichen, besteht der erwähnte Zusatz aus einem der Stoffe Natriumvinylsulfonat, Natriumallylsulfonat, Natriumpropinsulfonat, Natriummethallylsulfonat, N-Pyridiniumpropylsulfobetain, N-Pyridiniumethylsulfobetain, N-Benzylpyridinium-2-ethylsulfonsäure, Natrium-Salz bzw. deren Mischung.
Description
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oder mehreren dieser Stoffe besteht.
Die Erfindung bezieht sich gattungsgemäß auf ein Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nik- jo
kel-Legierung für dekorative und/oder technische Oberzüge, - bestehend aus einer wäßrigen Lösung von
Palladium- und Nickelamminen mit einem Palladiumgenait im Bereich von 5 bis 30 g/L einem Nickelgehalt im
Bereich von ebenfalls 5 bis 30 g/l und mit einem Zusatz von Sulfonsäuresalzen und ggf. Leitsalzen — bei
welcher wäßrigen Lösung des Palladium/Nickel-Verhältnis
so eingestellt ist, daß die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90
Gew.-% aufweist Ein mit Hilfe eines solchen Bades hergestellter Oberzug dient als Goldersatz.
Bei den bekannten gattungsgemäßen Bädern (GB-PS Il 43 178) dient der Zusatz an Sulfonsäuren und/oder
deren Salzen der Glanzbildung. Im einzelnen werden genannt Salze der Naphthalin-Sulfon-Säure und aromatische
Sulfonamide, wie das Natrium-Salz der Naphthalin- 1,5-disulfon-Säure, das Natrium-Salz der Naphthalin-1,3,6-trisulfon-Säure
sowie Saccharin (o-Sulfobenzoesäureimid) und p-Toluolsulfonamid. Ferner ist der
Zusatz von Leitsalzen in Form von Ammoniumsalzen so einer organischen oder anorganischen Säure bereits
vorgeschlagen worden. In der Praxis hat sich jedoch gezeigt, daß die mit einem solchen Bad hergestellten
Überzüge in mechanischer Hinsicht den Anforderungen nicht entsprechen - und selbst der Glanz ist für viele
dekorative Zwecke nicht ausreichend.
Diese Mängel beruhen nach Erkenntnissen, die der Erfindung zugrundeliegen, auf mangelhafter Mischkristallbildung.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das gattungsgemäße Bad so einzurichten, daB eine einwandfreie
Mischkristallbildung erfolgt.
Zur Lösung dieser Aufgabe lehrt die Erfindung, daß der Zusatz aus einem der Stoffe
65
oder mehreren dieser Stoffe besteht - Wählt man den Zusatz nach der Lehre der Erfindung, so erhält man aus
dem Bad durch galvanische Abscheidung Palladium/ Nickel-Oberzüge, die sich durch sehr feine und
gleichmäßige Kristallite und einwandfreie Mischkristallbildung auszeichnen. Das erhöht Glanz, Duktilität und
Korrosionsbeständigkeit unter den verschiedensten korrosiven Einflüssen. Darüber hinaus ist die Einebnung
verbessert
Im folgenden werden die Erfindung und die erreichten Effekte anhand von einigen typischen
Ausführungsbeispielen erläutert
(Zusatz eines aliphatischen Suifönsäure-Saizes)
Es wird folgender Elektrolyt hergestellt:
Es wird folgender Elektrolyt hergestellt:
20 g Palladium 3Is(Pd(NHj)4)CI2
10 g Nickel als (Ni(NHj)6)SO4
50 g Leitsalz als (NH-O2SO4 oder NH4Cl zur
2,5 g Natriumallylsulfonat
Badtemperatur bei der galvanischen Abscheidung 300C,
leichte Warenbewegung, kathodische Stromdichte I A/dm2, Expositionszeit 10 min.
Es wurde auf gebürstetem Messingblech eine glänzende Palladium-Nickelschicht ohne merkliche
Einebnung und ohne Inhibitionserscheinungen erhalten.
Zur Überprüfung der Korrosionsbeständigkeit wurde das so erhaltene Testblech bei Raumtemperatur für 60 s
in eine verdünnte Salpetersäure getaucht, die zu gleichen Teilen aus konzentrierter Salpetersäure und
Wasser hergestellt wurde. Es war kein Korrosions-Angriff sichtbar.
Folgt man jedoch der eingangs genannten britischen Patentschrift 11 43 178, und setzt man dem Elektrolyten
anstelle von Natriumallylsulfonat 10 g Natriumnaphthalin-1,3,6-trisulfonat
zu, so erhält man eine Palladium-Nickel-Schicht, die in dem zuvor beschriebenen Salpetersäure Test erheblich korrodiert Die Ursache
liegt in einer mangelhaften Mischkristall-Bildung. Durch Röntgen-Untersuchungen war freies Nickel feststellbar,
was die Ursache der Korrosion darstellt
(Zusatz einer aliphatischen
Sulfonsäure-Salz-Kombination)
Sulfonsäure-Salz-Kombination)
20 g Palladium als (Pd(NH3J4)Cl2
10 g Nickel als (Ni(NH3Je)SO4
50 g Leitsalz als (NH4J2SO4 oder NH4Cl zur
Iß g Natriumallylsulfonat
0,25 g Natrium).-opionsulfonat
0,25 g Natrium).-opionsulfonat
Badtemperatur bei der galvanischen Abscheidung
30eC, leichte Warenbewegung, kathodiscije Stromdichte
1 A/dm2, Expositionszeit 10 min.
Es wurde auf gebürstetem Messingblech eine, verglichen mit Beispiel 1, glänzendere Palladium-Nikkel-Schicht
ohne wesentliche Einebnung und ohne Inhibitionserscheinungen erhalten. Der Salpetersäure-Test
nach Beispiel 1 wurde ebenfalls gut bestanden.
(Zusatz eines aliphatischen
und eines heterocyclischen Sulfonsäure-Salzes
in Kombination)
20 g Palladium els (Pd(NHj)4)SO4
10 g Nickel als (Ni(NHj)6)Cl2
50 g Leitsalz als (NHjJzSO« oder NH4Cl zur
2$ g Natsiumallylsulfonat
0,1 g N-Pyridinhimpropylsulfobetain
Badtemperatur bei der galvanischen Abscheidung 30"C, leichte Warenbewegung, kathodische Stromdichte
1 A/dm2, Expositonszeit 10 min.
Es wurde auf gebürstetem Messingblech eine glänzende Palladium-Nickel-Schicht ohne merkliche
Einebnung und ohne Inhibitionserscheinungen erhalten. Der Salpetersäure-Test wurde gut bestanden.
Claims (1)
- Patentanspruch;Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung für dekorative und/oder technische Oberzöge, — bestehend aus einer wäßrigen Lösung von Palladium- und Nickelamminen mit einem PaJladjumgehslt im Bereich von 5 bis 30 g/I, einem Nickelgehalt im Bereich von ebenfalls 5 bis 30 g/l und mit einem Zusatz von Sulfonsäuresalzen und ggf. Leitsalzen — bei welcher wäßrigen Lösung ι ο das Palladium/Nickel-Verhältnis so eingestellt ist, daß die galvanisch abgeschiedene Legierung einen Palladiumgehalt von 30 bis 90 Gew.-% aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß der Zusatz aus einem der Stoffe
Priority Applications (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3108508A DE3108508C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
GB8204857A GB2094836B (en) | 1981-03-06 | 1982-02-18 | A bath for the electrolytic deposition of a palladium-nickel alloy |
CH1184/82A CH649318A5 (de) | 1981-03-06 | 1982-02-26 | Bad zur galvanischen abscheidung einer palladium/nickel-legierung. |
ZA821367A ZA821367B (en) | 1981-03-06 | 1982-03-02 | A bath for the electrolytic deposition of a palladium-nickel alloy |
AU81049/82A AU535531B2 (en) | 1981-03-06 | 1982-03-02 | Palladium-nickel alloy electrodeposition |
AT0082182A AT377013B (de) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | Verfahren zur galvanischen herstellung einer ueberzugsschicht aus palladium/-nickel-mischkristallen |
BE2/59611A BE892344A (fr) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | Bain de galvanoplastie pour deposer un alliage nickel-palladium, procede d'utilisation de ce bain |
JP57032483A JPS5816089A (ja) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | パラジウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴 |
SE8201299A SE8201299L (sv) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | Bad for galvanisk utfellning av en palladium/nickel-legering |
FR8203613A FR2501243B1 (fr) | 1981-03-06 | 1982-03-04 | Bain de galvanoplastie pour deposer un alliage nickel-palladium, procede d'utilisation de ce bain |
IT19992/82A IT1150627B (it) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Bagno per la deposizione galvanica di una lega palladio/nichel |
BR8201157A BR8201157A (pt) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Banho para a deposicao galvanica de uma liga de paladio/niquel |
CA000397678A CA1176204A (en) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Bath for the electrolytic deposition of a palladium- nickel alloy |
NL8200908A NL8200908A (nl) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium-nikkellegering. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3108508A DE3108508C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3108508A1 DE3108508A1 (de) | 1982-09-16 |
DE3108508C2 true DE3108508C2 (de) | 1983-06-30 |
Family
ID=6126504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3108508A Expired DE3108508C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5816089A (de) |
AT (1) | AT377013B (de) |
AU (1) | AU535531B2 (de) |
BE (1) | BE892344A (de) |
BR (1) | BR8201157A (de) |
CA (1) | CA1176204A (de) |
CH (1) | CH649318A5 (de) |
DE (1) | DE3108508C2 (de) |
FR (1) | FR2501243B1 (de) |
GB (1) | GB2094836B (de) |
IT (1) | IT1150627B (de) |
NL (1) | NL8200908A (de) |
SE (1) | SE8201299L (de) |
ZA (1) | ZA821367B (de) |
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CN113699565B (zh) * | 2021-09-28 | 2023-07-04 | 万明电镀智能科技(东莞)有限公司 | 高耐蚀性钯镍合金镀层及其电镀方法和钯镍镀层电镀液 |
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- 1982-02-18 GB GB8204857A patent/GB2094836B/en not_active Expired
- 1982-02-26 CH CH1184/82A patent/CH649318A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-03-02 ZA ZA821367A patent/ZA821367B/xx unknown
- 1982-03-02 AU AU81049/82A patent/AU535531B2/en not_active Ceased
- 1982-03-03 SE SE8201299A patent/SE8201299L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-03-03 BE BE2/59611A patent/BE892344A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-03-03 JP JP57032483A patent/JPS5816089A/ja active Granted
- 1982-03-03 AT AT0082182A patent/AT377013B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-03-04 FR FR8203613A patent/FR2501243B1/fr not_active Expired
- 1982-03-05 NL NL8200908A patent/NL8200908A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-03-05 CA CA000397678A patent/CA1176204A/en not_active Expired
- 1982-03-05 IT IT19992/82A patent/IT1150627B/it active
- 1982-03-05 BR BR8201157A patent/BR8201157A/pt unknown
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE3809139A1 (de) * | 1988-03-18 | 1989-09-28 | Lpw Chemie Gmbh | Verwendung einer palladium/nickel-legierungsschicht als zwischenschicht zwischen einem nichtkorrosionsbestaendigen oder wenig korrosionsbestaendigen metallischen grundmaterial und einer nach dem pvd-verfahren aufgebrachten beschichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5816089A (ja) | 1983-01-29 |
IT8219992A0 (it) | 1982-03-05 |
BE892344A (fr) | 1982-07-01 |
AU8104982A (en) | 1982-09-09 |
FR2501243A1 (fr) | 1982-09-10 |
GB2094836B (en) | 1984-12-05 |
ZA821367B (en) | 1983-01-26 |
CH649318A5 (de) | 1985-05-15 |
AU535531B2 (en) | 1984-03-29 |
AT377013B (de) | 1985-01-25 |
BR8201157A (pt) | 1982-11-23 |
SE8201299L (sv) | 1982-09-07 |
GB2094836A (en) | 1982-09-22 |
FR2501243B1 (fr) | 1988-05-27 |
NL8200908A (nl) | 1982-10-01 |
IT1150627B (it) | 1986-12-17 |
CA1176204A (en) | 1984-10-16 |
ATA82182A (de) | 1984-06-15 |
JPS6112038B2 (de) | 1986-04-05 |
DE3108508A1 (de) | 1982-09-16 |
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8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
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8381 | Inventor (new situation) |
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|
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