DE2546246C2 - Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls

Info

Publication number
DE2546246C2
DE2546246C2 DE19752546246 DE2546246A DE2546246C2 DE 2546246 C2 DE2546246 C2 DE 2546246C2 DE 19752546246 DE19752546246 DE 19752546246 DE 2546246 A DE2546246 A DE 2546246A DE 2546246 C2 DE2546246 C2 DE 2546246C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
melt
crystal
pulling
opening
diaphragm
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19752546246
Other languages
English (en)
Other versions
DE2546246A1 (de
Inventor
Colin Meldreth Royston Hertfordshire Fisher
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Cambridge Instruments Ltd
Original Assignee
METALS RESEARCH Ltd MELBOURN ROYSTON HERTFORDSHIRE GB
Metals Research Ltd Melbourn Royston Hertfordshire
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by METALS RESEARCH Ltd MELBOURN ROYSTON HERTFORDSHIRE GB, Metals Research Ltd Melbourn Royston Hertfordshire filed Critical METALS RESEARCH Ltd MELBOURN ROYSTON HERTFORDSHIRE GB
Publication of DE2546246A1 publication Critical patent/DE2546246A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2546246C2 publication Critical patent/DE2546246C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/10Crucibles or containers for supporting the melt
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • C30B15/22Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal
    • C30B15/24Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal using mechanical means, e.g. shaping guides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B27/00Single-crystal growth under a protective fluid
    • C30B27/02Single-crystal growth under a protective fluid by pulling from a melt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls mit einem sich drehenden Keimkristall aus einer auf einer Schmelze eingetaucht schwimmenden, von der Schmelze nicht benetzbaren und in bezug auf die Drehachse des Keimkristallhalters zentrierten Blende. Die Erfindung betrifft weiter eine Vorrichtung zum Durchführen dieses Verfahrens mit Tiegel, Heizeinrichtung für den Tiegel, Keimkristallhalterung mit Einrichtungen zum Ziehen und Drehen und einer durch die Schmelze nicht benetzbaren Blende.
Eines der am meisten bekannten Verfahren zum Ziehen von Kristallen ist das nach Czochralski, bei dem eine Schmelze aus einem kristallisierbaren Material in einem Tiegel gebildet, ein Keimkristall in die Schmelze eingetaucht und dann langsam aus der Schmelze angehoben wird. Dabei bildet sich der Kristall am Keimkristall aus. Ein Problem, dem man bei diesem Verfahren begegnet, liegt in dem Steuern des Querschnittes des Kristalls. Beispielsweise ist es praktisch unmöglich, einen wirklich zylindrischen Kristall zu bilden. Wenn auch ein kreisförmiger Qusirschnitt erzeugt werden kann, variiert doch der Durchmesser des Kristalls mit fortschreitendem Wachstum, so daß große Schwankungen in der Oberfläche des Kristalles hervorgerufen werden. Als Beispiel für das Czoehralski-Verfahren sei auf die US-PS 36 47 389 verwiesen.
Zahlreich sind die Versuche, das Problem der Steuerung der Querschnittsfläche des Kristalls zu lösen. In der US-PS 3124 489 wird eine Ziehvorrichtung beschrieben, bei welcher das geschmolzene Material mit einem Kolben durch eine Öffnung in einer Blende hindurch nach oben gedrückt wird. Eine sehr genaue Steuerung des Ortes, an dem die Kristallisation stattfindet, relativ zu der Öffnung ist erforderlich, um einen gleichförmigen Querschnitt des Kristalles zu erzielen. In der Praxis hl eine solche Steuerung fast unmöglich. Gemäß der US-PS 32 65 469 wird die Schmelze in einen Tiegel mit einem Deckel gebracht, von dem ein mittlerer Teil kegelstumpfförmig st, nach abwärts verläuft und eine zentrale Öffnung bildet. Der Spiegel der Schmelze im Tiegel liegt so, daß er mit der Höhenlage der Öffnung im kegelstumpfförmigen Teil des Deckels übereinstimmt. Dieser Spiegel wird durch Hinzufügen von mehr Material zur Schmelze, wenn der wachsende Kristall abgezogen wird, aufrecht erhalten. Dies bringt praktische Nachteile mit sich, da die verwendeten Substanzen oft giftig sind und das Personal daher während des Ziehvorganges nicht in die Nähe der Vorrichtung kommen darf. Bestimmte kristailisierbare Substanzen müssen auch unter Druck gezogen werden. Dann ist es schwierig, bei Fortschreiten des Prozesses der Schmelze neue Substanz zuzugeben. Mit dem Verfahren nach der US-PS 32 65 469 können daher nur extrem kleine Kristalle gezogen werden, da während des Ziehvorganges keine weitere Substanz hinzugefügt werden kann Bei diesem Ziehvorgang ist auch kritisch, daß der Ort, an dem Kristallisation eintritt, während des gesamten Vorganges konstant gehalten werden sollte, wenn ein Kristall gleichförmiger Querschnittsfläche erzielt werden soll. In der Praxis ist eine solche Steuerung schwierig, wenn nicht unmöglich zu erreichen. Weitere Vorschläge bringen die US-PS 32 91 650 und 32 91 574 sowie ein Aufsatz mit dem Titel »Growth of Nondentritic Single-Crystal Ribbons of Germanium« (Wachstum von nichtdendritischen Einkristalibändern aus Germanium) von Don E. Swets, erschienen in Electrochemical Technology, Band 5, Nr. 7—8, Juli—August 1967, Seiten 385 bis 389. Nach diesen Vorschlägen läßt man eine scheibenförmige Blende auf einer Schmelze im Tiegel schwimmen. Die Blende enthält eine zentiale Öffnung, durch weiche das kristallisierbare Material während der Bildung des Kristalls durchtritt. Mit dem Abziehen des gewachsenen Kristalls sinkt die Blende im Tiegel nach unten. Damit wird die Zugabe weiteren kristallisierbaren Materials zur Schmelze überflüssig. Bei diesen Verfahren liegt der Kristallisationspunkt nur wenig oberhalb des oberen Endes der Öffnung Daher muß eine genaue Beziehung zwischen dem Punkt, an" welchem die Kristallisation eintritt, und der Lage der Öffnung während des gesamten Vorganges eingehalten werden, um einen Kristall konstanten Durchmessers zu erzielen. In der Praxis hat sich dies als beinahe unmöglich erwiesen. Das Problem der Steuerung der Querschnittsfläche war daher nicht gelöst. Eine genauere Steuerung der Querschnittsfläche läßt sich jedoch nach den Vorschlägen der US-PS 30 78 151 und nach Tsivinskii und Stepanov in einem Aufsatz mit dem Titel »Die Herstellung von Germanium-Einkristallen vorbestimmter Gestalt«, soviet Physics — Solid State, Band 7, Nr. 1. IuIi 1963, Seiten 148 bis 152, erreichen. Nach diesen Vorschlägen wird e-n napfähnliches Gebilde in einem Tiegel in fester Stellung so angebracht, daß sich die oberen Kanten des Napfes oberhalb der Ebene der Oberfläche der Schmelze befinden, während der Boden des Napfes unterhalb der Oberfläche der Schmelze liegt. Im Boden des Napfes befindet sich eine zentrale Öffnung sehr kleinen Durchmessers, weiche als Kapillare wirkt Das Material des Napfes ist so beschaffen, daß es durch die Schmelze nicht benetzt wird. Bei richtiger Lage des Bodens des Napfes unterhalb der Oberfläche der Schmelze und richtigen Abmessungen der Öffnung kann dann infolge der Kapillarwirkung die Höhenlage der Schmelze innerhalb der öffnung unter deren oberem Ende gehalten werden. Der Kristall ist dann in der Öffnung gewachsen. Seine Querschnittsfläche kann trotz irgendwelcher Änderungen der genauen Lage innerhalb der Öffnung, an der die Kristallisation stattfindet, genau gesteuert werden, vorausgesetzt, daß die Grenzfläche, an der die Kristallisation erfolgt, zu allen Zeiten durch die öffnung erzwungen bleibt In seiner Anwendung ist dieses
Verfahren jedoch eingeschränkt Je größer die Tiefe, bis zu welcher der Napf in die Schmelze getrieben wird, umso kleiner muß die Öffnung sein, um sicherzustellen, daß Oberflächenspannungen angemessen sind, damit sich nicht die Flüssigkeit über den oberen Teil der Öffnung ergießt Daher muß die Querschiiittsfläche der erzeugten Kristalle umso kleiner ^in. Je geringer andererseits die Tiefe ist, bis zu welcher der Napf in die Schmelze gedruckt wird, umso geringer ist das Volumen der Schmelze, welches zur Kristallisation zur Verfügung steht Je geringer die Tiefe ist, bis zu welcher der Napf eingetaucht wird, umso geringer ist daher das Volumen des Kristalles, welches ohne Substanzzusatz erzeugt werden kann. Je größer die Tiefe ist, bis zu welcher der Napf eingetaucht wird, umso geringer ist die Querschnittsfläche des entstehenden Kristalles. infolge dieser Einschränkungen sind die Verfahren industriell nicht verwertbar.
Die Methode von Stepanov wird in einem Aufsatz mit dem Titel »Steuerung des kapillaren Gestaltens von Einkristallen während des Wachstumsprozesses« von Sachkov, Tatarchenko und Levinzon, Ιεν. Akad. Nauk USSR, Ser. Fiz_ Bd. 37, Nr. 11 (1973), Seiten 2289 bis 2291, sowie in dem oben erwähnten Aufsatz von Don E. Swets abgehandelt. Sachkov und Mitarbeiter arbeiten mit Oberdruck, um das flüssige kristallisierbare Materia! über das obere Ende der öffnung hinauszutreiben. Damit soll das Problem beherrscht werden, daß die Querschnittsfläche und Größe des Keimkristalles genau gleich der Querschnittsgestalt und -größe des zu ziehenden Kristalles sein muß. Doch auch hier läßt sich die Querschnittsfläche während des Wachstumsprc.esses kaum steuern, weil der Kristallisationspunkt nunmehr oberhalb der Öffnung liegt. Obgleich Swets die Vorschläge von Tsivinskti und Stepanov kennt, erfordert seine Methode, daß der Kristallisationspunkt während des Wachstumsprozesses festliegt. Dabei liegt er oberhalb des oberen Endes der Öffnung, um eine gleichförmige Querschnittsfläche zu erreichen. Wie erläutert, ist dies mit bestimmten Substanzen, wie Galliumphosphid, praktisch unmöglich.
Bekannt ist auch das Herstellen von bandförmigen, aus Halbleitermaterial bestehenden Einkristallen durch Ziehen aus einer auf der Schmelze schwimmenden, teilweise untergetauchten Blende. Bei Verfahren dieser Art (DE-AS 12 86 510 un,d US-PS 36 50 703) wird ein fester Meniskus ausgebildet.
Bekannt ist weiter ein Verfahren zum Ziehen von stabförmigen Halbleiterkristallen aus einer Schmelze, bei dem der Keimkristall und die auf der Schmelze aufschwimmende Blende um die Ziehachse gedreht werden (DE-OS 20 07 200). Damit wird die Blende zentriert und eine Gleichmäßigkeit des Querschnittes des erzielten Halbleiterstabes angestrebt. Aber auch mit diesem Verfahren läßt sich die Höhenlage der Grenzfläche Kristall/Schmelze innerhalb der Blendenöffnung nicht festlegen. Die Grenzfläche kann sogar oberhalb der Oberkante der Blendenöffnung liegen. Damit ist der Einfluß, den man mit der Blendenöffnung auf die Form des wachsenden Kristalles nehmen kann, äußerst gering und praktisch Null.
Hiervon ausgehend liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, die bekannten Verfahren so weiterzuentwickeln, daß der Querschnitt des gezogenen Kristalles genau definiert ist bzw. sich genau steuern läßt Die Lösung für diese Aufgabe ergibt sich bei einem Verfahren der eingangs genannten Gattung gemäß der Erfindung dadurch, daß durch Steuerung der Hitzezufuhr die Grenzfläche Kristall/Schmelze unterhalb des Niveaus (P,,) der Schmelze gehalten wird. Damit liegt die Grenzfläche immer innerhalb der Blende, und man erhält stabile Wachstumsbedingungen. Mit anderen Worten wird sichergestellt, daß die Grenzfläche immer innerhalb der Blendenöffnung liegt und damit das Wachstum des Kristalls querschnittsmäßig im wesentlichen konstant bleibt. Am wirksamsten wird dies dann erzielt, wenn man dafür sorgt, daß die Grenzfläche ίο Kristall/Schmelze oder genauer der Meniskusfestpunkt etwa auf der Mitte der Höhe der Blendenöffnung liegen. Eine zweckmäßige Ausführungsform zum Durchführen des Verfahrens, bei dem sich insbesondere die Blende einfach zentrieren läßt, zeichnet sich nach der Erfindung dadurch aus, daß die Blende dicht gleitend innerhalb des Tiegels mit kreisförmigem Querschnitt eingesetzt ist.
Am Beispiel der in der Zeichnung gezeigten Ausführungsformen wird die Erfindung nun weiter beschrieben. In der Zeichnung ist
Fig. 1 eine Querschnittsansicht eines Tiegels, dereine Schmelze aus kristallisierbarer Substanz und eine Blende mit einer Öffnung enthält, jedoch ohne Abdeckschicht,
Fig. l(a) und l(b) je eine Ansicht in vergrößertem Maßstab des Kristallwachstums oberhalb und unterhalb des Niveaus (P0),
F i g. 2 ein Quenchnitt durch eine bevorzugte Blendenform.
In F i g. 1 ist ein Teil einer Wachstumskammer 10 dargestellt, innerhalb der der Tiegel 12 angeordnet ist. Dieser enthält eine Schmelze 14 aus kristallisierbarer Substanz, beispielsweise Kupfer. Die Kammer 10 wird durch Hochfrequenz-Induktionsheizung mit einer äußeren Spule, durch direkte Widerstandsheizung oder dergleichen aufgeheizt. Die Schmelze 14 aus kristallisierbarem Material wird auf diese Weise geschmolzen. Eine Blende 16 aus Graphit mit einer zentralen Öffnung 18, welche von oben nach unten abgeschrägt ist, schwimmt auf der Schmelze 14. Ein Keimkristall 20 wird an einem nur teilweise dargestellten Kristallhalter 22 gehallen. In bekannter Weise wird der Keimkristall 20 in die Schmelze 14 eingeführt, und beim Anheben und Drehen wird aus dieser kristallisierbares Material abgezogen. Man sorgt für ein Temperaturgefälle, bei dem die Kristallisationstemperatur des Kupfers bei oder gerade oberhalb der Oberfläche des Kupfers vorliegt, welches mit dem Keimkristall 20 aus der Schmelze 14 gezogen wird.
Dann bildet sich auf diesem ein Kupferkristal!. Bei Drehen und Anheben des Keimkristalles 20 findet fortlaufend eine Kristallisation statt. Durch Einstellen der elektrischen oder einer anderen Leistungszufuhr zur Heizeinrichtung bleibt das gewünschte Temperaturgefälle erhalten.
Ein Kupferring 17 befindet sich in einer ringförmigen Vertiefung der Blende 16 und bewirkt deren richtigen Auftrieb.
In F i g. 1 ist das Niveau P0 gezeigt. Eine Veränderung der Wärmezufuhr zur Kristallisationszone ändert die Höhe der Grenzfläche, und durch geeignetes Einstellen wird erreicht, daß die Grenzfläche oben liegt, um mit dem Niveau P0 übereinzustimmen, oder unterhalb von /Oli-gt.
Wenn die Grenzfläche Kristall/Schmelze über dem Niveau P0 gehalten wird, dann erzeugt eine Änderung der thermischen Bedingungen innerhalb der Kristallisationszone ganz beträchtliche Durchmesserzunahmen
oder -abnahmen des wachsenden Kristalls. Die Grenzfläche 24 ist im vergrößerten Maßslab in den Fig. l(a) und l(b) gezeigt. In Fig. 1(a) liegt die Grenzfläche 24 oberhalb des Niveaus P0. Mehrere in gleichem Abstand voneinander liegende Isothermen sind bei 71, 7} usw. gezeigt. Wenn die Ebene der Grenzfläche Kristall/ Schmelze, welche in Fig. 1 mit der gestrichelten Linie 24 bezeichnet ist, unter dem Niveau F1, gehalten wird, so findet man, daß die Durchmesseränderungen des gewachsenen Kristalls bei thermischen Änderungen in der Kristallisationszone sehr gering sind und der Abschrägung der Öffnung 16 folgen. Dies zeigt sich bei Vergleich der Durchmesseränderung, verursacht durch Temperaturänderung zwischen 71 und 7} in Fig. l(a), wo die Grenzfläche oberhalb Pn liegt, mit der gleichen Temperaturänderung zwischen Ts und 7i in Fig. l(b), wo die Grenzfläche unter Poiiegi.
Durch Bilden des Kristalles an einem Punkt unterhalb von P0 erzielt man daher eine bessere Steuerung des Durchmessers des wachsenden Kristalles.durch direkte Steuerung der Hitzezufuhr als dies bisher möglich gewesen ist.
Der Klarheit wegen ist die Abschrägung der Öffnung 18 in der Zeichnung übertrieben dargestellt. Obgleich eine Abschrägung nicht wesentlich ist, weil viele Substanzen einen von Null abweichenden Kontaktwinkel mit ihrer eigenen flüssigen Phase besitzen, ist eine leichte Abschrägung nützlich, um ein Scheuern und Festklemmen zu verhindern, und weil die Lage der Grenzfläche in der Öffnung dann überwacht werden kann, beispielsweise durch ein System, welches das Krislallgewicht mißt.
Wo das in kristalliner Form abzuziehende Material die Oberfläche der Blende 16 benetzt, kann ein anderes Material für die Blende 16 eingesetzt werden. Hierzu zählt der Fall, daß ein Kern aus Graphit oder anderem Material bis zur erforderlichen Tiefe mit einem nicht benetzbaren Material überzogen ist.
Bei Kreisförmigkeit bestimmt der Durchmesser der Öffnung 18 den mittleren Durchmesser des gezogenen Kristalls, und zur Erzielung unterschiedlicher Kristalldurchmesser sollte man eher mehrere Blenden !6 mit unterschiedlicher Öffnung als eine einzige Blende 16 mit einer abgeschrägten Bohrung verwenden und dann die relative Höhe der Grenzfläche 24 und des Niveaus Pn einstellen.
Indem man die Wandstärke des abwärts gerichteten Rohrabschnittes, der die Öffnung 18' definiert, so dünn wie möglich hält, wie in Fig.2 gezeigt, wird die thermische Steuerung im Kristallmaterial verbessert.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls mit einem sich drehenden Keimkristall aus einer auf einer Schmelze eingetaucht schwimmenden, von der Schmelze nicht benetzbaren und in bezug auf die Drehachse des Keimkristallhalters zentrierten Blende, dadurch gekennzeichnet, daß durch Steuerung der Hitzezufuhr die Grenzfläche Kristall/Schmelze unterhalb des Niveaus (P0) der Schmelze gehalten wird.
2. Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens nach Anspruch 1 mit Tiegel, Heizeinrichtung für den Tiegel, Keimkristallhalterung mit Einrichtungen zum Ziehen und Drehen und einer durch die Schmelze nicht benetzbaren Blende, dadurch gekennzeichnet, daß die Blende (16) dicht gleitend innerhalb des Tiegels (12) mit kreisförmigem Querschnitt eingesetzt ist.
DE19752546246 1974-10-16 1975-10-15 Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls Expired DE2546246C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB4479274A GB1524521A (en) 1974-10-16 1974-10-16 Growing of crystals

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2546246A1 DE2546246A1 (de) 1976-04-29
DE2546246C2 true DE2546246C2 (de) 1982-08-26

Family

ID=10434765

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19752546246 Expired DE2546246C2 (de) 1974-10-16 1975-10-15 Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS5164482A (de)
CH (1) CH613637A5 (de)
DE (1) DE2546246C2 (de)
GB (1) GB1524521A (de)
IT (1) IT1044681B (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1577413A (en) * 1976-03-17 1980-10-22 Metals Research Ltd Growth of crystalline material
DE2830695C3 (de) * 1977-07-14 1982-05-13 Tokyo Shibaura Denki K.K., Kawasaki, Kanagawa Vorrichtung zum Ziehen eines III/V-Verbindungseinkristalls aus einer Schmelze
JPS5418816A (en) * 1977-07-14 1979-02-13 Tokyo Shibaura Electric Co Sintered members having good corrosionn resistance to gallium phosphide and gallium arsenide
FR2509637A1 (fr) * 1981-07-17 1983-01-21 Commissariat Energie Atomique Procede de sustentation, de positionnement et de moulage sans contact de masses liquides permettant la solidification en forme de materiaux et application de ce procede a la mise en forme de materiaux en microgravite
US4539173A (en) * 1983-03-17 1985-09-03 Commissariat A L'energie Atomique Process for preparing plates of a metallic or semimetallic material from a liquid mass
US4605468A (en) * 1984-07-10 1986-08-12 Hughes Aircraft Company Shaped crystal fiber growth method
US5078830A (en) * 1989-04-10 1992-01-07 Mitsubishi Metal Corporation Method for growing single crystal
FR2742366B1 (fr) * 1995-12-19 1998-01-09 Commissariat Energie Atomique Procede et installation de sustentation d'une masse liquide par une couche gazeuse
CN112663140B (zh) * 2020-12-07 2023-01-03 山东大学 一种用于四元卤化物晶体制备的模具装置及制备方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1286510B (de) * 1962-11-23 1969-01-09 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung von bandfoermigen, aus Halbleitermaterial bestehenden Einkristallen durch Ziehen aus einer Schmelze
US3650703A (en) * 1967-09-08 1972-03-21 Tyco Laboratories Inc Method and apparatus for growing inorganic filaments, ribbon from the melt
DE2007200A1 (en) * 1970-02-17 1971-08-26 Siemens Ag Semiconductor rods from melts
JPS5238513B2 (de) * 1973-02-19 1977-09-29

Also Published As

Publication number Publication date
GB1524521A (en) 1978-09-13
JPS5527040B2 (de) 1980-07-17
DE2546246A1 (de) 1976-04-29
CH613637A5 (en) 1979-10-15
JPS5164482A (en) 1976-06-03
IT1044681B (it) 1980-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1769481C3 (de) Verfahren zum Ziehen eines einkristallinen Körpers aus der Schmelze eines kongruent und hochschmelzenden Materials und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.Anm: Tyco Laboratories Inc., Waltham, Mass. (V.StA.)
DE1136670B (de) Tiegel zum Aufziehen von Kristallen aus einer darin befindlichen Schmelze und Verfahren zum Aufziehen von Kristallen aus einer Schmelze unter Anwendung eines solchen Tiegels
DE3228037C2 (de)
DE2611056A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum ziehen von kristallkoerpern aus der schmelze
DE112013006489B4 (de) Einkristallblock, Vorrichtungen und Verfahren zur Herstellung desselben
DE2546246C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines stabförmigen Einkristalls
DE68908435T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Kristallziehen.
DE69619005T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Züchtung eines Einkristalles
DE112009001431B4 (de) Einkristall-Herstellungsvorrichtung und Einkristall-Herstellungsverfahren
DE3325242C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Ziehen eines Verbindungshalbleiter-Einkristalls
DE112008000877B4 (de) Einkristall-Zuchtverfahren und Ziehvorrichtung für Einkristalle
DE2620030A1 (de) Verfahren zum kristallziehen aus der schmelze
DE69009831T2 (de) Verfahren zur Züchtung eines Einkristalls.
DE4030551A1 (de) Verfahren zur herstellung von silicium-einkristallen
DE2508121C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum epitaktischen Abscheiden einer Verbindungshalbleiterschicht aus einer Lösungsschmelze auf einem Halbleiterplättchen
DE3215620C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von einkristallinem Silizium
DE19922736C2 (de) Vorrichtung zum Herstellen eines Einkristalls
DE2254615A1 (de) Erzeugung eutektischer koerper durch einachsig fortschreitende erstarrung
DE3938937A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von siliciumstaeben mit hohem sauerstoffgehalt durch tiegelfreies zonenziehen, dadurch erhaeltliche siliciumstaebe und daraus hergestellte siliciumscheiben
WO1990004054A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur züchtung von kristallen nach der czochralski-methode
DE3321201C2 (de) Tiegel zum Kristallziehen
DE2323211A1 (de) Verfahren zur herstellung einer intermetallischen einkristall-halbleiterverbindung
DE112009004496B4 (de) Verfahren zur Herstellung von Einkristallen
DE2126487C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Aufwachsen kristallinen Materials aus einer Lösung
DE3785638T2 (de) Verfahren zur Züchtung von Kristallen aus Halbleiterverbindungen.

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
OI Miscellaneous see part 1
OI Miscellaneous see part 1
OI Miscellaneous see part 1
OI Miscellaneous see part 1
D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: CAMBRIDGE INSTRUMENTS LTD., CAMBRIDGE, GB

8330 Complete disclaimer