DE2528869C3 - Sinterkörper auf der Basis von Siliziumnitrid und ein Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Sinterkörper auf der Basis von Siliziumnitrid und ein Verfahren zu dessen HerstellungInfo
- Publication number
- DE2528869C3 DE2528869C3 DE2528869A DE2528869A DE2528869C3 DE 2528869 C3 DE2528869 C3 DE 2528869C3 DE 2528869 A DE2528869 A DE 2528869A DE 2528869 A DE2528869 A DE 2528869A DE 2528869 C3 DE2528869 C3 DE 2528869C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- silicon nitride
- sintered material
- temperature
- yttrium
- crystalline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
- C04B35/593—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride obtained by pressure sintering
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01D—NON-POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, e.g. STEAM TURBINES
- F01D25/00—Component parts, details, or accessories, not provided for in, or of interest apart from, other groups
- F01D25/005—Selecting particular materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T50/00—Aeronautics or air transport
- Y02T50/60—Efficient propulsion technologies, e.g. for aircraft
Description
Die Erfindung betrifft einen Sinterkörper auf der Basis von Siliziumnitrid, der eine kr. ,lalline Verbindung, ji
die durch Hitzebehandlung einer aus Siliziumnitrid und Yttriumoxid bestehenden Preßmasse gebildet worden
ist, enthält. Des weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Sinterkörpers,
indem Siliziumnitrid und Yttriumoxid gemischt, die 4n
Mischung zum Körper gepreßt und der Körper gesintert wird.
Mit zunehmender wissenschaftlicher Erkenntnis und zunehmender Erforschung des Hochtemperaturbereichs
beispielsweise bei Düsentriebwerken, Raketen, 4ϊ
auf dem Gebiet der Atomkrafterzeugung und der Magnetohydrodynamik und dergleichen besteht ein
immer größerer Bedarf nach in derartig hohen Temperaturbereichen hochbelastbaren Materialien. Insbesondere
auf dem technischen Gebiet der Düsentrieb- >υ
werke. Raketen und dergleichen wurden dahingehende Versuche mit hochhitzebeständigen Materialien und
Designverbesserungen unternommen, um derartige Düsentriebwerke, Raketen und dergleichen unter weit
höheren Temperaturbedingungen betreiben zu können, r> Aus diesen Gründen wurde in den vergangenen Jahren
Siliziumnitrid als neuem hitzebeständigem Material immer größere Beachtung geschenkt. In zahlreichen
Ländern werden Untersuchungen und Versuche mit Siliziumnitrid angestellt. Es ist bekannt, daß .Siliziumni- μ
trid als Einzeisubstanz selbst bei Einwirkung hoher Temperaturen schlecht sintert, weswegen das erhaltene
Sintermaterial keine ausreichende mechanische Festigkeit aufweist. Es sind nun bereits Versuche bekanntgeworden,
zur Herstellung eines Siliziumnitridsintermaterials hoher mechanischer Festigkeit dem Siliziumnitrid
ein Sinterhilfsmittel zuzusetzen und die erhaltene Masse einer Hitzbehandlung zu unterwerfen. So ist beispielsweise
aus der GB-PS 9 70 639 ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial bekannt, das durch Drucksinterung
von Stliziumnitrid und Magnesiumoxid und
dergleichen hergestellt wird. Aus der GB-PS 10 92 637
ist ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial bekanntgeworden, das durch Drucksintern von oc-Siliziumnitrid
und Magnesiumoxid und dergleichen hergestellt wird. Aus der US-PS 34 09 417 ist ein auf
Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial bekannt, das
durch Sintern von Siliziumnitrid und Magnesiumnitrid und dergleichen hergestellt wird. Diese auf Siliziumnitrid
basierenden Sintermaterialien besitzen jedoch als hitzebständige Materialien noch keine zufriedenstellende
Eigenschaften. Ihr Hauptnachteil ist die Beeinträchtigung ihrer mechanischen Eigenschaften, insbesondere
im Bereich hoher Temperatur. So besitzt beispielsweise ein durch Reaktionssintern erhaltenes auf Siliziumnitrid
basierendes Sintermaterial bei einer Temperatur von 13000C eine Biegefestigkeit von etwa 38 kg/mm2. Ein
bei Zugabe von Magnesiumoxid als Sinterhilfsmittel zu Siliziumnitrid und anschließendes Drucksintern der
erhaltenen Masse hergestelltes auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial besitzt bei einer Temperatur von
1300" C eine Biegefestigkeit von etwa 63 kg/mm-'. Diese Werte sind die höchsten bisher bekannten Werte für
derartige Sintermaterialien.
Aus der GB-PS '3 12 315 ist es bekanntgeworden, daß Oxide seltener Erden geeignete Sinterhilfsmittel für
Siliziumnitrid darstellen. Es wurde gezeigt, daß bei Zugabe dieser Oxide auf Siliziumnitrid basierende
Sintermaterialien erhalten werden können, die im Vergleich zu den bisher bekannten Sintermaterialien
ausgezeichnete mechanische und thermische Eigenschaften aufweisen. Nachteilig an derartigen auf
Siliziumnitrid basierenden Sintermaterialien ist jedoch, daß ihre Biegefestigkeit bei Temperaturen von 10000C
oder mehr rasch abnimmt. Diese auf Siliziumnitrid basierenden Sintermatenalien werden im folgenden an
Hand eines auf Siliziumnitrid basie-enden Sintermaterials, das unter Mitverwendung von Yttriumoxid
hergestellt wurde, näher erläutert.
Dieses auf Siliziumnitrid basierende Sintermaterial wird durch Vermischen einer geeigneten Menge
Yttriumoxidpulver mit Siliziumnitridpulver, Pressen der erhaltenen Masse zu einem Primärpreßling. Überführen
des Primärpreßlings in eine Kohleform und Drucksintern desselben bei einer Temperatur von 1600' bis
1850°C hergestellt. Die Biegefestigkeit eines nach dem bekannten Verfahren hergestellten auf Siliciumnitrid
basierenden Sintermaterials im Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 14000C wird durch Kurve B von
Fig. 1 wiedergegeben. Wie aus F i g. 1 hervorgeht, fällt
die Biegefestigkeit des nach dem bekannten Verfahren hergestellten Sintermaterials bei einer Temperatur von
10001C oder mehr rasch ab Dieses Sintermaterial
besitzt bei einer Temperatur von 1300'C einen
Biegefestigkeitswert, der nur etwa 40% des Biegefestigkeitswerts bei Raumtemperatur beträgt. Obwohl die
Biegefestigkeitskurve des nach dem bekannten Verfah ren hergestellten Sintermaterials je nach der Menge an
zugesetztem Yttriumoxid etwas verschieden sein kann, bleibt jedoch das Kurvenbild als solche« unverändert.
Vermutlich beruht die Tatsache, daß die Biegefestigkeitskurve des auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials
bei einer Temperatur von 10000C oder mehr abfällt, auf der Anwesenheit einer nichtkristallinen
Substanz im Sintermaterial. Die einzelnen Pulverteilchen des als Ausgangsmaterial verwendeten Siliziumni-
ixids sind wahrscheinlich mit einer Oxidschicht oder
Siliziumoxidschicht bedeckt, so daß jeweils Siliziumoxid/Yttriumoxid enthaltende Substanzen, die bei der
Umsetzung des Siliziumoxids mit dem zugesetzten Yttriumoxid erhalten wurden, in dem Sintermaterial 5
vorliegen. Unter diesen Substanzen gibt es eine mit einem Schmelzpunkt nahe 1660° C. Folglich begünstigt
diese Siliziumoxid/Yttriumoxid-Substanz in der Nähe der genannten Temperatur eine Sinterung des Siliziumnitrids
unter Verdichtung des erhaltenen Sintermaterials. Wenn jedoch das erhaltene Sintermaterial durch
Röntgenstrahlenbeugung analysiert wird, läßt sich das Vorhandensein irgendeiner auf Yttriumoxid zurückzuführenden
Phase nicht nachweisen. Dies ist der erste Grund für die genannte Vermutung. Wenn weiterhin die ι ί
Hochtemperaturbruchfläche des betreffenden auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials mit dessen Raumtemperr.turbruchfläche
verglichen wird, zeigt die Hochtemperaturbruchfläche einen intergranulären Bruch, die Raumtemperaturbruchfläche einen transgranulären
Bruch. Dies ist der zweiie Grund für die angegebene Vermutung. Aus beiden Grürden wird
geschlossen, daß die geschilderte Abnahme der Biegefestigkeit bei einer Temperatur von 1000°C oder
mehr auf das Vorliegen einer Korngrenze- nichtkristal- r» liner Substanz, beispielsweise einer Glasphase, zurückzuführen
ist.
Dieselbe Erscheinung wie bei den Siliziumnitrid/Yttriumoxid-Sintermaterialien
zeigen auch Sintermaterialien, die durch Zusatz anderer Oxide seltener Erden zu J»
Siliziumnitrid hergestellt wurden. Es wurde das Vorliegen der nichtkristallinen Substanz lediglich im
Hinblick auf eine Siliziumoxid/Yttriumoxid-Substanz angestellt, vermutlich ist jedoch in dem auf Siliziumnitrid
basierenden Sintermaterial als nichtkristalline η Substanz auch eine durch Ersatz eines Teils des
Siliziumoxids durch Siliziumnitrid erhaltene Oxid/Nitrid-Substanz enthalten. Auch hierfür gelten die
geschilderten Erwägungen.
Wie geschildert, beruht die Abnahme in der
mechanischen Festigkeit des nach dem bekannten Verfahren hergestellten Siliziumnitrid basierenden
Sintermaterials im Bereich hoher Temperatur auf dem Vorhandensein einer nichtkristallinen Substanz als
Korngrenzphase. r.
Um nun einen Abfall der mechanischen Festigkeit im Bereich hoher Temperatur zu vermeiden, ist es
erforderlich, (1) die nichtkristalline Substanz in dem ai'f Siliziumnitrid basierenden Sintermatcrial vollständig in
irgendeine andere Subsiinz zu überführen oder sie zu entfernen. (2) sie aus dem auf Siliziumnitrid basierenden
Sintermatfnal teilweise auszuziehen oder (3) sie
teilweise in irgendeine andere Substanz /u überfünren. In den Fällen (2) und (3) ist ein merklicher Anstieg im
Schmelzpunkt einer derartigen nichtkristallinen Sub- η stan/ /u verzeichnen.
Verfahren zum Kristallisieren einer nichtkristallinen Substanz, d. h. Verfahren zum Entfernen der nichtkristallinen
Substanz, bestehen beispielsweise darin, der nichtkristallinen Substanz, zur Förderung der Kristall- «1
keimbildung fähige Substanzen, wie Edelmetalle, Oxide, Fluoride und dergleichen, zuzusetzen oder — im Falle
einer instabilen nichtkristallinen Substanz — diese zu erhitzen oder abzukühlen und dergleichen. Bei einem
Siliziumnitrid enthaltenden Material bereitet es jedoch Schwierigkeiten, nach den geschilderten Verfahren eine
merkliche Kristallisation der nichtkristallinen Substanz herbeizuführen.
Auch die OE-PS 2 35 193 befaßt sich mit einem Siliziumnitrid enthaltenden Formkörper hoher Dichte,
der jedoch hauptsächlich aus Aluminiumnitrid besttht oder zumindest Aluminiumnitrid enthält und durch
Heißpressen hergestellt wird. Besonders bevorzugt wird ein Gehalt von 50 bis 95 Gew.-% Aluminiumnitrid.
Es hat sich jedoch gezeigt, daß bei Zugabe eines Aluminiumnitridpulvers zu einem Pulvergemisch aus
Siliziumnitrid und Yttriumoxid die Menge des Aluminiumnitris in dem Bereich von 0,1 bis 5 Gew.-°/o liegen
sollte, da bei Zugabe von mehr als 5 Gew.-% Aluminiumnitrid eine Umsetzung zwischen dem Aluminiumnitrid
und dem Siliziumnitrid abläuft, wodurch die Bildung einer Verbindung aus Siliziumnitrid und
Yttriumoxid gehemmt oder verhindert wird, während eine Aluminiumnitridmenge von weniger als 0,1
Gew.-% nicht mehr als Hilfsmittel bei der Bildung der Verbindung aus Siliziumnitrid und Yttriumoxid wirkt In
jedem Fall ist es jedoch bei dem in der OE-PS 2 35 193 beschriebenen Formkörper als nachteilig anzusehen,
daß er Aluminiumnitrid in Form ,.wies Reaktionsproduktes
mit Siliziumnitrid und/oder als eine Verunreinigung im Kristallgitter der kristallinen Verbindung
enthält.
Schließlich ist aus der Literaturstelle »Journal of the American Ceramic Society«. Bd. 56 (1973), Nr. 12 S. 662
ein auf Siliziumnitrid basierendes Material bekannt, das in der Korngrenzenphase Kristalle aus Yttriumsilikaten
enthält. Auch dieses Material ist nicht zufriedenstellend, was möglicherweise auf den zusätzlichen SiOr Bestandteil
zurückgeht Zum anderen vermag diese Literaturstelle auch keinerlei Anregungen zu vermitteln, wie die
vorstehend genannte nichtkristalline Substanz zur Kristallisation gebracht werden kann.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein hervorragend hitzebeständiges, auf Siliziumnitrid basierendes
neues Sintermaterial zu schaffen, wobei dieses
durch Anwendung eines wirksamen Verfahrens zum Kristallisieren einer nichtkristallinen Substanz in dem
auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial hergestellt wi'd.
Die Erfindung löst diese Aufgabe dadurch, daß die kristallinen Verbindungen als Si ,N4 · η Y.Ot. wobei π 1.
2 und/oder 3 bedeutet, definiert sind.
Das erfindungsgemäße Verfahren. b~i dem Sili/iumnitrid
und Yttriumoxid gemischt werden, die Mischung zum Körper gepreßt und der Körper gesinten wird, ist
dadurch gekennzeichnet, daß die Sinterung in Gegen
wart von Aluminiumnitrid vorgenommen w.ird.
Ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermateruil
gemäß der Erfindung eignet sich insbesondere nn
Herstellung von bei hohen Temperaluren arbeitenden
Turbinenteilen.
In, folgenden wird die Erfindung an H a ml litt
Zeichnungen näher erläutert. Im einzelnen zeigt
Fig. 1 ein Kurvendiagramm, aus dem die Beziehung
zwischen den Biegefestigkeitswerten eines
<uif Sili/itimnitrid
basierenden Sintermaterials gemäß der Erfindung und eines nach e-nem bekannten Verfahren heruestell
ten auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials und der TempefätUi1 hervorgeht,
F ig, 2 ein Pulverröntgenstrahlenbrugungsmuster
einer kristallinen Verbindung der Formel S13N4 · Y2O1,
F i g. 3 ein Pulverröntgenstrahlenbeugungsmuster des auf Siliciumnitrid "iasiefenden Sintefmaterials gemäß
der Erfindung mit einer darin enthaltenen kristallinen Verbindung der Formel S13N4 -YjO1,
Fig.4 ein charakteristisches Kurvelldiagramm, aus
dem die thermischen Expansionseigenschaften eines auf
Siliziumnitrid basierenden Sinlermalerials gemäß der Erfindung und des nach dem bekannten Verfahren
hergestellten auf Siliziumnilrid basierenden Sinlermaterials hervorgerufen, wobei die prozentuale Ausdehnung
auf der Ordinate und die Temperatur auf der Abszisse aufgetragen sind,
F i g. 5 ein charakteristisches Kurvendiagramm, aus dem die Wechselbeziehung zwischen drei Faktoren,
Temperatur und die betreffenden Kristallisationsgrade sowie die thermischen Ausdehnungseigenschaften, eines
auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials gemäß der Erfindung und des nach dem bekannten Verfahren
hergestellten auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials hervorgeht,
F i g. 6 ein charaketeristisches Kurvendiagramm, aus dem die Beziehung zwischen der Biegefestigkeit und
dem Verhältnis der »höchsten Röntgenstrahlenbeu-
15
Sintermaterials gemäß der Erfindung hervorgeht,
F i g. 7 ein charakterisilisches Kurvendiagramm, aus dem die Beziehung zwischen den Biegefestigkeitswerten
eines gemäß Beispiel 2 hergestellten Sintermaterials gemäß der Erfindung und eines nach dem bekannten
Verfahren hergestellten Sintermaterials und der Temperatur hervorgeht,
F i g. 8 ein charakteristisches Kurvendiagramm, aus der die jeweilige Oxidationsbeständigkeit des gemäß
Beispiel 2 hergestellten Sintermaterials nach der Erfindung und des nach dem bekannten Verfahren
hergestellten Sintermaterials hervorgeht und
F i g. 9 ein charakteristisches Kurvendiagramm, aus dem die Beziehung zwischen den Biegefestigkeitswerten
eines gemäß Beispiel 5 hergestellten Sintermaterials nach der Erfindung und des nach dem bekannten
Verfahren hergestellten Sintermaterials und der Temperatur hervorgeht.
Wie bereits erwähnt, wird ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial gemäß der Erfindung, das
aus Siliziumnitrid und dem Oxid von Yttrium gebildete kristalline Verbindungen enthält, dadurch hergestellt,
daß man einen Rest aus Siliziumnitrid und dem genannten Oxid in Gegenwart von Aluminiumnitrid
einer Hitzebehandlung unterwirft, wobei der Teil der erhaltenen Masse, der an sich aus einer nichtkristallinen -45
Substanz bestehen würde, zur Kristallisation gebracht wird.
Das als Ausgangsmaterial verwendete Siliziumnitrid kann entweder oc-Siliziumnitrid oder ß-Siliziumnitrid
sein. Es braucht nicht aus hochreinem Siliziumnitrid bestehen, es kann vie'mehr die Reinheit von handelsüblichem
Siliziumnitrid besitzen. Bevorzugt wird ein Siliziumnitridpulver einer Teilchengröße von 5 μ oder
darunter.
Die Reinheit und Teilchengröße eines Yttriumoxidpulvers kann der Reinheit und Teilchengröße des
Siliziumnitridpulvers entsprechen.
Zur Herbeiführung der geschilderten Kristallisation wird eine Preßmasse aus dem Siliziumnitridpulver und
einem Pulver aus Yttriumoxid in Gegenwart von Aluminiumnitrid einer Hitzebehandlung unterworfen.
Die Applikation des Aluminiumnitrids auf die zu sinternde Preßmasse aus dem Siliziumnitridpulver und
dem Oxidpulver kann wie folgt geschehen:
65
(1) Das Aluminiumnitrid wird mit einer durch Primärpressen einer Pulvermischung aus dem Siliziumnitridpulver
und dem Oxidpulver erhaltenen Preßmasse durch Einbetten derselben in ein Aluminiumnitridpulver
oder ein Aluminiumnitrid enthaltendes Pulver iri Berührung gebracht.
(2) Die Applikation kann ferner ohne direkte Berührung zwischen der Preßmasse und dem Aluminiumnitrid
erfolgen, indem die Preßmasse und ein Aluminiumnitridpreßling in einem Ofen im Abstand
voneinander untergebracht werden.
Selbstverständlich kann das Aluminiumnitrid auch noch auf andere Weise auf die Preßmasse appliziert
werden, sofern nur die auf die Verwendung von Aluminiumnitrid zurückzuführende Kristallisation eintritt.
Die Temperatur bei der geschilderten Hitzebehandiung beträgt in der Regel 15000C bis 18500C. Wenn nun
ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial mit Yttriumoxid hergestellt wird, so sollte die Hitzebehandiimg
— Ha riip hpi der Kristallisation entstehende
kristalline Verbindung Si)Nj ■ Y2O) einen Schmelzpunkt
von etwa 185O°C aufweist — vorzugsweise bei einer etwa 50 C bis 2000C unterhalb des Schmelzpunk
tes liegenden Temperatur, nämlich bei einer Temperatur von etwa 1650°Cbis 1800°durchgeführt werden.
Der nichtkristalline Anteil des erfindungsgemäß erhaltenen auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials
ist im Vergleich zum entsprechenden Anteil eines nach einerc" bekannten Verfahren hergestellten auf
Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials stärker erniedrigt oder vollständig entfernt. Somit besitzt ein auf
Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial gemäß der Erfindung ausgezeichnete mechanische und thermische
Eigenschaften unter Bedingungen hoher Temperatur. Durch Analyse des auf Siliziumnitrid basierenden
Sintermaterials gemäß der Erfindung mittels Röntgenstrahlenbeugung wurde bestätigt, daß es eine Menge
kristalliner Verbindungen aus Siliziumnitrid und Yttriumoxid enthält. So enthält ein yttriumoxidhaltiges
auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial eine kristalline Verbindung Si)N4 · Y2OJ, in welcher das
Molverhältnis von Siliziumnitrid zu Yttriumoxid 1 :1 beträgt, eine kristalline Verbindung Si1N4 · 2 Y2O), in
welcher das betreffende Molverhältnis 1 :2 ist, und eine kristalline Verbindung Si)N4 · 3 Y2O3, in welcher das
betreffende Molverhältnis 1 : 3 ist. Weiterhin enthält ein solches Sintermaterial noch die verschiedensten Arien
kristalliner Verbindungen entsprechend den angegebenen kristallinen Verbindungen. Da jedoch andere
kristalline Verbindungen als Si1N4 · Y2Oj relativ instabil
sind, existiert in dem auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial in der Regel die Verbindui^j
Si3N4 · Y2Oj. im vorliegenden Falle wird das auf
Siliziumnitrid und Yttriumoxid baiserende Sintermaterial näher beschrieben.
Die kristalline Verbindung Si3N4 - Y2O3 gehört in das
tetragonale System, dessen Gitterkonstante derart ist.
daß a = 7,603 Ä und c=4,910Ä. dessen Raumgruppe
P42|2 ist und das zwei chemische Äquivalente pro Zelleneinheit aufweist
Das Pulverröntgenstrahlenbeugungsmuster dieser kristallinen Verbindung ist in F i g. 2 dargestellt
Es hat sich gezeigt, daß zwischen den mechanischen Eigenschaften des auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials
im Bereich hoher Temperatur und dem Gehalt des Sintermaterials an den betreffenden kristallinen
Verbindungen eine enge Beziehung besteht.
Zu einer näheren Erläuterung der kristallinen Verbindungen einschließlich derjenigen mit den ver-
schicdcncn Molvcrhiillnissen läßt sich der Anteil an den
kristallinen Verbindungen in dem auf Siliziumnitrid basierenden Sinterinatcrial wie folgt wiedergegeben:
= ^! -100
worin btdeutcnr
C den gewichtsprozehlüaleh Anteil von Yttrium in
den kristallinen Verbindungen, d. h. die kristalline
Phase, bezogen auf die Gesamtmenge Yttrium in dem Sintermaterial (im folgenden als »Kristallisationsgrad«)
bezeichnet.
Yi das Yttriumgewicht in der kristallinen Phase.
Yn das Gesamtgewicht von Yttrium in dem Sintermaterial.
Dei Kiisiuliibaiionsgrad wird gemäß der obigen
Gleichung bestimmt, indem die Gesamtmenge an in dem Sintermaterial enthaltenem Yttrium durch chemische
Analyse ermittelt und die Menge Yttrium in der kristallinen Phase durch Röntgenstrahlenbeugungsöder
Mikrostrukturanalyse ermittelt wird. Auf Siliziumnitrid basierende Sintermaterialien mit einem Kristallisationsgrad
von 50 Gew.-% oder mehr werden wegen ihrer ausgezeichneten Hitzbeständigkeit bevorzugt.
: Die Verbindung der Formel Si]N4 · Y2OJ ist von den verschiedenen genannten kristallinen Verbindungen die ^beständigste und stabilste. Aus diesem Grunde besteht auch zwischen der Menge an in dem auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial als Hauptbestandteil enthaltener Verbindung Si)N4 · Y2O3 und den mechanischen Eigenschaften des auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials in einem Bereich hoher Temperatur eine enge Beziehung. Zum Nachweis der Menge der in dem auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial enthaltenen Verbindung der Formel S13N4 · Y2OJ eignet sich am besten die Pulverröntgenstrahlenbeugung. Selbst wenn sich die Verbindung der Formel S13N4 · Y2O3 nach anderen Methoden nicht nachweisen läßt, hat es sich gezeigt, daß die Verbindung der Formel S13N4 ■ Y2Ch einen höchstwirksamen Beitrag zur Verbesserung der Hochtemperatureigenschaften des auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials leistet, sofern sie lediglich durch Pulverröntgenstrahlenbeugungsanalyse nachweisbar ist. Bei der Röntgenstrahlenbeugungsanalyse des die Verbindung der Formel S13N4 · Y2O3 enthaltenden auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials steht das Verhältnis des Beugungsintensitätswerts der Ebene 121 der Verbindung der Formel S13N4 · Y2O3 mit der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität im Beugungsmuster zum Beugungsintensitätswert entweder der Ebene 101 oder 210 des Siliziumnitrids (/3-S13N4) in dem Sintermaterial, worin der gebeugte Röntgenstrahl die höchste Intensität aufweist, oder zu einem Durchschnittswert der Beugungsintensitätswerte beider 101 und 210 Peaks (dieses Verhältnis wird im folgenden als Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität bezeichnet) in sehr enger Beziehung zu den Hochtemperatureigenschaften des betreffenden Sintermaterials. Dies bedeutet erfindungsgemäß, daß ein Sintermaterial mit einem Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität von 0.02 bis 2,00 ein bevorzugtes Sintermaterial mit einer besonders guten Hitzebeständigkeit dargestellt In F i g. 3 ist ein typisches Pulverröntgenstrahlenbeugungsmuster des auf Siiiziumnilrid basierenden Sinlcrmaterials mit einer darin enthaltenden Verbindung der Formel Si1N4 · Y2O3 dargestellt. In F i g. 3 stellt A den Beugungspeak der Ebene 121 der Verbindung der
: Die Verbindung der Formel Si]N4 · Y2OJ ist von den verschiedenen genannten kristallinen Verbindungen die ^beständigste und stabilste. Aus diesem Grunde besteht auch zwischen der Menge an in dem auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial als Hauptbestandteil enthaltener Verbindung Si)N4 · Y2O3 und den mechanischen Eigenschaften des auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials in einem Bereich hoher Temperatur eine enge Beziehung. Zum Nachweis der Menge der in dem auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial enthaltenen Verbindung der Formel S13N4 · Y2OJ eignet sich am besten die Pulverröntgenstrahlenbeugung. Selbst wenn sich die Verbindung der Formel S13N4 · Y2O3 nach anderen Methoden nicht nachweisen läßt, hat es sich gezeigt, daß die Verbindung der Formel S13N4 ■ Y2Ch einen höchstwirksamen Beitrag zur Verbesserung der Hochtemperatureigenschaften des auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials leistet, sofern sie lediglich durch Pulverröntgenstrahlenbeugungsanalyse nachweisbar ist. Bei der Röntgenstrahlenbeugungsanalyse des die Verbindung der Formel S13N4 · Y2O3 enthaltenden auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials steht das Verhältnis des Beugungsintensitätswerts der Ebene 121 der Verbindung der Formel S13N4 · Y2O3 mit der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität im Beugungsmuster zum Beugungsintensitätswert entweder der Ebene 101 oder 210 des Siliziumnitrids (/3-S13N4) in dem Sintermaterial, worin der gebeugte Röntgenstrahl die höchste Intensität aufweist, oder zu einem Durchschnittswert der Beugungsintensitätswerte beider 101 und 210 Peaks (dieses Verhältnis wird im folgenden als Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität bezeichnet) in sehr enger Beziehung zu den Hochtemperatureigenschaften des betreffenden Sintermaterials. Dies bedeutet erfindungsgemäß, daß ein Sintermaterial mit einem Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität von 0.02 bis 2,00 ein bevorzugtes Sintermaterial mit einer besonders guten Hitzebeständigkeit dargestellt In F i g. 3 ist ein typisches Pulverröntgenstrahlenbeugungsmuster des auf Siiiziumnilrid basierenden Sinlcrmaterials mit einer darin enthaltenden Verbindung der Formel Si1N4 · Y2O3 dargestellt. In F i g. 3 stellt A den Beugungspeak der Ebene 121 der Verbindung der
") Formel S13N4 · Y2O), Öden Beugungspunkt der Ebene
101 der/J-Si^-Verbindung und Cdeh Beugungspeak
der Ebene 210 der /?-SijN4-Verbindung dar. Bei dem
bisher bekannten, auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial erscheint in dessen Pulverröntgenslrahlcnbeugungsmuster
der Peak A nicht. Bei dem Sintermaterial gemäß der Erfindung ist mit sinkender Porosität die
mechanische Festigkeil bei hohen Temperaturen um so größer. Dies entspricht auch dem bekannten Sintermaterial.
Die Beziehung zwischen der Porosität des j Sintermalerials und seiner mechanischen Festigkeil läßt
sich durch folgende bekannte Gleichung wiedergeben:
χ" worin bedeuten:
S die mechanische Festigkeit,
ρ die Porosität,
5b die mechanische Festigkeit im Falle,
daß p=0 und
k eine Konstante.
Wenn man ein verdichtetes auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterials gemäß der Erfindung
Jn besonders niedriger Porosität benötigt, wird vorzugsweise
bei der Hitzebehandlung des Sintermaterials zusätzlich ein Druck ausgeübt, oder es wird das bereits
kristallisierte Sintermaterial in einem Nachbehandlungsschritt einer Heißpressung unterworfen.
Im folgenden werden nun die Hochterhperatureigenschaften
des auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials gemäß der Erfindung näher erläutert. Die
Biegefestigkeit des als Beispiel gewählten, auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials gemäß der Erfindung
ist durch Kurve A in Fig. 1 grafisch dargestellt. Aus einem Vergleich mit dem durch Kurve B in Fig. 1
wiedergegebenen bekannten auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial geht klar und deutlich der
,erfindungsgemäß erzielbare Effekt hervor. Die Messung
Her Biegefestigkeit erfolgt nach der bekannten Dreipunkt-Biegemethode
unter folgenden Bedingungen:
Stützweite: 20 mm
Gleitbackengeschwindigkeit: 0,5 mm/min
so Größe des Prüflings: 3 mm χ 3 mm χ 40 mm
so Größe des Prüflings: 3 mm χ 3 mm χ 40 mm
Als ein Beispiel der Hochtemperatureigenschaften des Sintermaterials ist seine thermische Ausdehnungseigensohaft
in Fig.4 grafisch dargestellt Hierbei ist auf der Ordinate die prozentuale Ausdehnung (prozentuale
Ausdehnung=Δ[/I0 χ 100. worin bedeuten: I0 die Länge
des Prüflings bei Raumtemperatur und Al ein Inkrement
der Ausdehnung der Probe bei bestimmter Temperatur) aufgetragen. In F i g. 4 sind mit A und B die einem auf
Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial gemäß der Erfindung bzw. dem bekannten auf Siliziumnitrid
basierenden Sintermaterial entsprechenden Kurven bezeichnet Die Kurve B zeigt gekrümmte Teile, wie sie
für ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial mit einem Gehalt an einer nichtkristallinen Substanz mit
Yttriumoxid typisch sind. Die Kurve A steht dagegen für ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial gemäß
der Erfindung, zeigt keine derartigen gekrümmten Teile
Und einen kleineren thermischen Ausdehnungskoeffizienten-
Die Beziehung zwischen dem Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlehbeugungsintensitäl und der Hochtemperaturbiegefestigkeit
von auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterialien gemäß der Erfindung geht aus der
folgenden Tabelle I hervor:
Tabelle I | Menge an | Biegefestigkeitswert |
Verhältnis der | zugesetztem | bei einer Tempe |
höchsten Rönlgen- | Y2O3 in Gew.-% | ratur von 1300°C |
slrahlenbeugungs- | in kg/mm2 | |
intensitüt | 1 | 45 |
.0,00 | 3 | 48 |
0,01 | 5 | 75 |
0,02 | 5 | 78 |
0,03 | 2 | 83 |
0,05 | 3 | 80 |
0,11 | 10 | 75 |
0,53 | 25 | 90 |
1,15 | 30 | 93 |
1,63 | 40 | 79 |
2,00 | 45 | 55 |
2,67 | 50 | 48 |
2,82 | 50 | 40 |
3,34 | ||
Die einzelnen auf Siliziumnilrid basierenden Sintermaterialien der Tabelle I wurden dadurch hergestellt,
daß einem als Rohmaterial vewendeten handelsüblichen Siliziumnitrid mit 88% (X-Si3N4 1 bis 50 Gew.-% Y2O3
zugesetzt wurde(n). Dann wurden die mit Y2O3 in den
angegebenen Mengen versetzten, auf Siliziumnitrid basierenden Rohmaterialien unter Mitverwendung von
n-Butanol in einem Topf mittels einer Aluminiumkugel gemahlen und durchgemischt. Hierauf wurde jede
pulverige Masse aus dem Topf entnommen und nach dem Trocknen durch übliche Druckverformung unter
{einem Druck von 500 kg/cm2 zu einer Platte einer Länge
von 50 mm, einer Breite von 50 mm und einer Stärke von 10 mm gepreßt. Jeder plattenförmige Preßling
wurde zur Gewährleistung einer Primärsinterung 0,5 bis 3 h auf eine Temperatur von 17500C erhitzt Während
dieser Zeit war jeder plattenförmige Preßling in Aluminiumnitridpulver eingebettet und befand sich in
einem Kohlegefäß und wurde — in einem Kohlegefäß — unter Stickstoffatmosphäre gehalten. Zur weiteren
Verdichtung des hierbei erhaltenen Sintermaterials wurde es 2 h lang in einer Kohleform und bei einem
Druck von 150 bis 600 kg/cm2 bei einer Temperatur von 1750° C gesintert Das erhaltene Sintermaterial wurde
vermählen und durch Pulverröntgenstrahlenbeugungsanalyse
analysiert Hierbei zeigte es sich, daß eine Si3N4 · Y2O3-Phase und eine /?-Si3N4-Phase nachweisbar
waren. Das geschilderte Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität war je nach der
Menge an zugesetztem Y2O3 und der Dauer der
Primärsinterung sehr verschieden. Die Beziehung zwischen dem Verhältnis der höchsten Röntgenstrahienbeugungsintensität
und der Biegefestigkeit bei einer Temperatur von 1300° C ergibt sich für jeden ίTufting
aus Tabelle I. Wenn das Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität unter 0,02 liegt
zeigt das entsprechende Sintermaterial keine merkliche Hochtemperatur-Biegefesligkeit, und zwar unabhängig
von den eingehaltenen Herstellungsbedingungen als auch von der Menge an zugesetztem Y2O3. Wenn
beispielsweise auf Siliziumnitrid basierende Sintermaterialien, denen jeweils 5 Gew.-% Y2O3 zugesetzt worden
waren, miteinander verglichen werden, zeigt sich im Falle, daß ihre Verhältnisse der höchsten Röritgenstrah-Ienbeugungsintensität
unter 0,02 liegen, keine merkliche
ίο Zunahme der Biegefestigkeit. Im Gegensatz dazu
besitzt ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial, dem 2 Gew.-% Y2Oj zugesetzt worden waren, eine
ausgezeichnete Biegefestigkeit, wenn sein Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität 0,02
oder mehr beträgt. Wenn dagegen ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial, dem 30% Y2Oj zugesetzt
worden waren, mit einem Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität von weniger als
0,02 mit einem entsprechenden Sintermaterial, dessen Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität
0,02 oder mehr beträgt, verglichen wird, zeigt sich im Hinblick auf die Hochtemperaturbiegefestigkeit
ein beträchtlicher Unterschied. Wenn das Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität 2,00 übersteigt,
ist die Menge an Si3N4 -Y2O3 in dem Sintermaterial
so stark erhöht, daß das betreffende Sintermaterial unmöglich noch eine hohe Dichte aufweisen kann. Die
Folge davon ist, daß ein derartiges Sintermaterial nicht mehr als Material hoher Hitzebeständigkeit und
mechanischer Festigkeit verwendbar ist. Wenn die Menge an zugesetztem Y2Oj etwa 30 Gew.-% beträgt
und dieses Y?Oj vollständig als SijN4 · Y2Oj-Verbindung
kristallisiert, erhält man ein Sintermaterial mit einem Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität
von etwa 2,00. Folglich sollte die Menge an zugesetztem Y2Oj zweckmäßigerweise höchstens
etwa 30 Gew.-%, vorzugsweise etwa 5 Gew.-% oder weniger betragen.
Wie bereits erwähnt, kann bei der Herstellung eines auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials gemäß
der Erfindung eine Preßmasse aus dem Siliziumnitridpulver und dem pulverförmigen Oxid von Yttrium in
Gegenwart von Aluminiumnitrid einer Hitzebehandlung unterworfen werden. Selbstverständlich kann die
Herstellung eines Sintermaterials gemäß der Erfindung auch noch nach anderen geeigneten Verfahren erfolgen.
So kann beispielsweise eine Verbindung aus Si3N4 und
Y2Oj bei der Sinterung einem Siliziumnitridpulver
zugesetzt werden. Weiterhin kann eine solche Masse einer Hitzebehandlung unterworfen werden. Schließlich
kann einem Siliziumnitridpulver eine durch Oxidation oder Zersetzung Y2O3 liefernde Yttriumverbindung
einverleibt und die erhaltene Masse einer Hitzebehandlung unterworfen werden. Hierbei werden dann die
beiden genannten Verbindungen unter Bildung einer Si3N4 · Y2O3-Verbindung zur Reaktion gebracht Bei
der Durchführung eines der geschilderten Verfahren ist die Beziehung zwischen dem Verhältnis der höchsten
Röntgenstrahlenbeugungsintensität und der Hitzebeständigkeit
des erhaltenen Sintermaterials dieselbe, wie sie bereits geschildert wurde. Verwendbare Yttriumverbindungen
sind beispielsweise Yttriumformiat Yttriumpropionat Yttriumbutyrat Yttriumpalmiat, Yttriumglycolat,
Yttriumlactat Yttriumoxalat, Yttriumcarbonat, Yttriurrnitrat, Yttriumsulfat und/oder Yttriumchlorid.
Eine Pulvermischung aus Siliziumnitrid und einer Verbindung von Yttrium enthält zahlreiche verschiedene
Verunreinigungen, wie sie beispielsweise durch die
als Ausgangsrnaterialien verwendeten Verbindungen Siliziumnitrid und des Yttriums eingeschleppt oder
Während des Vermischens in die Pulvermischung gelangt sind. Hierbei handelt es sich beispielsweise um
Oxide anderer Verbindungen, z. B. von Eisen, Alumini- r,
um, Calcium und dergleichen. Von diesen Verunreinigungen besitzt das Aluminiumoxid keinen unerwünschten
Einfluß auf den erfindungsgemäß angestrebten Effekt und kann, wenn in geringer Menge, ohne weiteres
in der Pulvermischung enthalten sein oder der Pulvermischung zugesetzt werden. Die Menge an
vorhandenem oder zugesetzten Aluminiumoxid sollte zweckmäßigerweise 5 Gew.-% oder weniger betragen.
Wenn die vorhandene oder zugesetzte Menge an Aluminiumoxid der Menge an Yttriumoxid entspricht
öder geringer ist als diese, beeinträchtigt das Aluminiumoxid
den erfindungsgemäß angestrebten Effekt auch dann nicht, wenn es in einer Menge von 5 Gew.-% oder
mehr vorhander ist oder zugesetzt wird. Folglich kann
als ein auf SFiziumnitrid basierendes Sintermaterial
gemäß der Erfindung eine geringe Menge an Verunreinigungen, wie Eisen, Aluminium oder Calcium enthalten.
Je nach den angewandten Verfahren und den eingehaltenen Bedingungen kann es oftmals vorkommen,
daß ein Teil der dem Siliziumnitrid zugesetzten Yttriumverbindung in dem auf Siliziumnitrid basierenden
Sintermaterial als nichtkristalline Substanz enth?lten ist. In diesem Falle ist es, wie bereits erwähnt, im
Hinblick auf die Hitzebeständigkeit, z. B. die mechanische Festigkeit bei hoher Temperatur, zweckmäßig, jo
mindestens 50 Gew.-%, vorzugsweise 70 Gew.-% der Gesamtmenge an in dem auf Siliziumnitrid basierenden
Sintermaterial enthaltenen Yttrium in eine kristalline Phase zu überführen.
Ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial jj
gemäß der Erfindung besitzt hervorragende Hochtemperatureigenschaften, z. B. eine hohe Oxidationsbeständigkeit,
eine hohe thermische Schockbeständigkeit und eine niedrige thermische Ausdehnung, sowie eine hohe
mechanische Festigkeit bei hoher Temperatur. Im folgenden werden für ein auf Siliziumnitrid basierendes
Sintermaterial gemäß der Erfindung mit einer Verbindung der Formel S13N4 · Y2O3 neben anderen kristallinen
Verbindungen, wie beispielsweise SijN4 · 3 Y2OS
und in einigen Fällen einer gewissen (kleinen) Menge einer nichtkristallinen Substanz die Beziehungen und
Verhältnisse bezüglich der Hochtemperatureigenschaften näher erläutert.
Mit bekannten Sintermaterialien erreicht man keine ausreichend hohe Oxidationsbeständigkeit, wie sie für
unter drastischen Bedingungen, unter denen eine Hochtemperaturoxidation stattfindet, z. B. für in einer
Gasturbinenatmosphäre verwendete Sintermaterialien unabdingbar ist. Ein auf Siliziumnitrid basierendes
Sintermaterial gemäß der Erfindung mit einem Kristallisationsgrad von 50% oder mehr oder vorzugsweise
70% oder mehr gewährleistet eine diesen Anforderungen voll genügend hohe Oxidationsbeständigkeit Bei
einem auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial gemäß der Erfindung, das durch Zusatz von bis zu 5
Gew.-% Yttriumoxid hergestellt worden war, ist die Beziehung zwischen der Änderung in seinem Kristallisationsgrad
und der entsprechenden Änderung in seiner Oxidationsbeständigkeit in der folgenden Tabelle II
dargestellt Die betreffenden Untersuchungen wurden unter 48stündigem Liegenlassen der verschiedenen
Prüflinge in auf eine Temperatur von 12000C erhitzter
atmosphärischer Luft durchgeführt.
Kristallisalionsgrad
Gewichtszunahme
(mg/cm2)
100
90
70
60
50
40
90
70
60
50
40
0,12
0,12
0,18
0,22
0,25
0,32
0,12
0,18
0,22
0,25
0,32
Je stärker die kristalline Phase in dem auf
Siliziumnitrid basierenden Sintermaterial vertreten ist, d. h., je größer der Kristallisationsgrad des betreffenden
Sintermaterials ist. desto Geringer ist seine thermische Ausdehnung. Dieses thermische Ausdehnungsverhalten
steht in linearer Abhängigkeit von der Temperatur. Aus F i g. 5 ergibt sich die Beziehung zwischen dem
Kristallisationsgrad und der thermischen Ausdehnung eines auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials, das
durch Zusatz von 5 Gew.-% Yttriumoxid hergestellt worden war. In Fig.5 sind mit 1, 2, 3, 4 und 5 die
thermischen Ausdehnungskurven von auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterialien mit Kristallisationsgraden
von 0, 50, 70, 90 und 100 Gew.-% bezeichnet. Die Kurve 1 zeigt einen sehr stark gekrümmten Teil.
Hieraus ergibt sich, daß ein Sintermaterial mit einem Kristallisationsgrad von 0 Gew.-%, nämlich ein nach
einem bekannten Verfahren hergestelltes Sintermaterial, nicht in Fällen verwendet werden kann, in denen es
wiederholt unter Bedingungen variierender Temperaturen verwendet werden soll. Die Sintermaterialien
gemäß der Erfindung, mit denen die Kurven 2, 3 und 4 aufgestellt worden sind, sind in dieser Beziehung stark
verbessert und lassen sich unter den angegebenen Bedingungen variierender Temperaturen mit ausreichender
Sicherheit verwenden. Die Kurve 5 weist überhaupt keinen gekrümmten Teil auf; dies steht dafür,
daß ein Sintermaterial gemäß der Erfindung mit <?inem Kristallisationsgrad von 100 Gew.-% als Bauteil jedes
mit hoher Präzision hergestellten komplizierten Mechanismus verwendet werden kann.
Die Beziehung zwischen dem Kristallisationsgrad und der kritischen Temperaturdifferenz des thermischen
Schocks von auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterialien geht aus der folgenden Tabelle III hervor. Der
kritische thermische Schocktest wurde in der Weise durchgeführt, daß ein durch Zusatz von 5 Gew.-%
Yttriumoxid hergestelltes auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial in Wasser eingetaucht wurde.
Tabelle III | Kritische |
Kristalli | Temperaturdifferenz |
sationsgrad | des thermischen |
Schocks (Δ Tc) | |
(C %) | 1050 |
90 | 1000 |
70 | 980 |
50 | 550 |
30 | 450 |
0 | |
Aus Tabelle III geht hervor, daß mit zunehmendem Kristallisationsgrad der Wert für den kritischen
thermischen Schock größer wird.
Die Beziehung zwischen der zugesetzten Menge an Yttriurnoxid und der kritischen Temperaturdifferenz
des thermischen Schocks eines auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterials gemäß der Erfindung mit
einem Kristallisationsgrad von 99 Gew.-°/o geht aus der
folgenden Tabelle IV hervor.
Zugesetzte | Kritische Temperatur- |
Menge an | difTerenz des thermi |
Y3O, | schen Schocks |
in Gew.-% | M 7V) |
0,5 | 900 |
1,0 | 1000 |
2,5 | 1000 |
5,0 | 1050 |
6,0 | !050 |
10,0 | 1000 |
Schließlich ergibt sich aus der folgenden Tabelle V die Beziehung zwischen dem Kristallisationsgrad und der
Hochtemperaturfestigkeit bei einer Temperatur von 13000C eines durch Zusatz von 5 Gew.-% Yttriumoxid
hergestellten, auf Siliziumnitrid basierenden Sintermatei.als.
Kristallisationsgrad
Hochtemperaturfestigkeit
bei einer Temperatur von
1300 C in kg/cm2
bei einer Temperatur von
1300 C in kg/cm2
100
90
70
50
30
0
90
70
50
30
0
98
95
95
92
88
42
95
95
92
88
42
Die Werte der Tabellen IV und V wurden mit konkreten Beispielen von auf Siliziumnitrid basierenden
Sintermaterialien erhalten.
Wie bereits im einzelnen ausgeführt, besitzt ein auf
Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial gemäß der Erfindung mit aus Siliziumnitrid und dem Oxid von
Yttrium gebildeten kristallinen Verbindungen ausgezeichnete Eigenschaften, insbesondere eine hervorragende
mechanische Festigkeit und Oxidationsbeständigkeit bei hoher Temperatur, ein hervorragendes
thermisches Ausdehnungsverhalten und eine ausgezeichnete thermische Schockbeständigkeit. Folglich
eignet sich ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial gemäß der Erfindung insbesondere als Material
für bei hohen Temperaturen arbeitende und mit hoher Geschwindigkeit drehende Maschinen, z. B. Turbinen.
Es ist bekannt, daß für solche mit hoher Geschwindigkeit drehende Maschinen, z, B, Turbinen, eine hohe
Oxidationsbeständigkeit erforderlich ist. Siliziumnitrid als solches besitzt eine höhere Oxidationsbeständigkeit
als Mf'all. weswegen auf derartigen Anwendungsgebieten
bereits mit Siliziumnitrid Untersuchungen angestellt
wurden. Da jedoch die Oberfläche von Turbinenbaulei- !en, ζ. B. Turbinenflügel und dergleichen, Temperaturen
von 1100° bis 12000C erreichen, sollten hierfür Materialien mit noch höherer Oxidationsbeständigkeit
verwendet werden. Die auf Siliziumnitrid basierenden Sintermaterialien gemäß der Erfindung stellen nun
solche Materialien höherer Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen dar und bieten folglich auf dem
genannten Anwendungsgebiet eine Reihe von Vorteilen. Da jedoch die thermische Leitfähigkeit von
Siliziumnitrid im Vergleich zu Metall niciu sehr hoch ist,
ist die Temperaturdifferenz zwischen beispielsweise der einer hohen Temperatur ausgesetzten Turbinenbauteiloberfläche
und einem von der betreffenden Bauteiloberfläche nach innen hin in einer gewissen Entfernung, z. B.
einer Entfernung von einigen hundert Mikron, angeordneten Teil mehrere hundert Grade Celsius. Dies
bedeutet, daß der Temperaturgradient zwischen der Bauteiloberfläche und dem im Inneren befindlichen
Bauteil ziemlich groß sein dürfte, weswegen eine
Μ Zerstörung eines der betreffenden Bauteile infolge
thermischen Schocks selbstverständlich als wahrscheinlich anzusehen ist. Ein nach einem bekannten Verfahren
hergestelltes, auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial mit einem Kristallisationsgrad von 0 besitzt eine
y> thermische Schockbeständigkeit (Δ Tc) von etwa 450°C
und läßt sich folglich unter hohen Temperaturen nicht mit ausreichender Sicherheit zum Einsatz bringen. Im
Gegensatz dazu besitzt ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial gemäß der Erfindung mit aus
in Siliziumnitrid und Yttriumoxid gebildeten kristalline Verbindungen eine thermische Schockimpulsbeständigkeit
von etwa 1000rC und ist folglich bei Gebrauch
unter hohen Temperaturbedingungen ausreichend besxändig. So erfährt beispielsweise ein Kraftfahrzeug-
j-, axialkompressor, insbesondere sein Flügel, beim Starten
und Bremsen einen beträchtlichen thermischen Schock und mechanischen Schlag. Aus diesem Grund werden
hierfür auf Siliziumnitrid basierende Sintermaterialien gemäß der Erfindung mit hoher thermischer Schockbe-
ständigkeit bevorzugt. Weiterhin zeigt die thermische Ausdehnungskjrve eines auf Siliziumnitrid basierenden
Sintermaterials gemäß der Erfindung eine wesentlich geringere Krümmung in einem Temperaturbereich von
8000C bis 9000C als ein bekanntes auf Siliziumnitrid
basierendes Sintermaterial mit einem Kristallisationsgrad von 0. Es gibt sogar auf Siliziumnitrid basierende
Sintermaterialien gemäß der Erfindung, die überhaupt keine Krümmung aufweisen. Da auf Siliziumnitrid
basierende Sintermaterialien gemäß der Erfindung nicht
w nur eine hohe thermische Schockbeständigkeit aufweisen,
sondern auch eine, wenn überhaupt, höchstens geringfügige thermische Verwerfung erfahren, eignen
sie sich besonders gut /um Gebrauch bei hohen Temperaturen.
5i Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher
veranschaulichen.
Fin handelsübliches Sili/iumnitrid-Rohmaterial mit
Mi 80% vSiliziumnitnd wurde zunächst mit 5 Gew.-%
Yttriumoxid und dann mit n-Butanol verset/t. Die
erhaltene Masse wurde in einem Aluminiumoxidtopf und einer Aluminiumoxidkugel 70 h lang gemahlen und
durchgemischt. Hierauf wurde die erhaltene pulvrige
Masse aus dem Topf entnommen und durch Trocknen
von dem n-Butanol befreit. Die erhaltene Masse wurde
nach einem üblichen Preßverfahren unter einem Druck von 500 kg/cm2 zu einer Platte einer Länge von 50 mm,
einer Breite von 50 mm und einer Stärke von IO mm gepreßt. Der erhaltene plauenförmige Preßling wurde
innerhalb eines Kohlegefäßes in ein Aluminiumnitridpulver
eingebettet und dann in einen Heizofen überführt Dort wurde er unter einer Stickstoffgasatmosphäre
0,5 bis 3 h bei einer Temperatur von 17500C einer Primärsinterung unterworfen. Zur weiteren
Verdichtung des erhaltenen Sintermaterials wurde es in einer Kohleform weitere 2 h bei ener Temperatur von
1750°C unter einem Druck von 300 kg/cm2 gesintert. Das letztlich erhaltene Sintermaterial war vollständig
verdichtet und besaß eine Porosität von 0. Das erhaltene
Sintermaterial wurde zermahlen und durch Röntgenstrahlenbeugungsanalyse
analysiert. Hierbei zeigte es sich, daß eine Si3N4 ■ Y2O3-Phase und eine 0-SijN4-Phase
nachweisbar waren. Das bereits erwähnte Verhältnis der höchsten Röntgemstrahlenbeugungsintensität war je
nach der Haltezeit bei der Primärsinterung sehr verschieden. Aus F i g. 6 geht die Beziehung zwischen
dem Verhältnis der höchsten Röntgenstrahlenbeugungsintensität
und der Biegefestigkeit des Sintcrrnatcrials
bei einer Temperatur von 1300° C hervor.
Der Biegefes'.igkeitstest wurde nach der üblichen Dreipunkt-Biegemethode unter folgenden Bedingungen
durchgeführt:
Größe des Prüflings: 3 mm χ 3 mm χ 40 mm
Stützweite: 20 mm
Gleitbackengeschwindigkeit: 0.5m/min
Stützweite: 20 mm
Gleitbackengeschwindigkeit: 0.5m/min
Ein handelsübliches Siliziumnitrid-Rohmaterial mit 88% Λ-Siliziumnitrid wurde zunächst mit 5 Gew. %
Yttriumoxid und dann mit n-Butanol versetzt, worauf das Ganze in einem Aluminiumoxidlopf mittels einer
Aluminiumoxidkugel naßvermahlen und -gemischt wurde. Nach dem Trocknen der gemahlenen bzw.
pulverisierten Masse wurde mittels einer Sub-Sieb-Klassifizierungsvorrichtung
nach Fischer eine Teilchengröße bestimmt. Die Masse besaß eine Teilchengröße von etwa 0.8 μ. Nun wurde die erhaltene
pulverisierte Masse in üblicher bekannter Weise unter einem Druck von 500 kg/cm2 zu einem plattenförmigen
Preßling einer Länge von 50 mm. einer Breite von 50 mm und einer Stärke von 10 mm ausgeformt. Der
erhaltene plattenförmige Preßling wurde innerhalb einer Kohleform mit einer etwa 5 mm starken
Aluminiumnitridpulverschicht bedeckt. Der derart bedeckte plattenförmige Preßling wurde nun in einen
Heizofen überführt und dort 2 h unter einer Stickstoffgasatmosphäre bei einer Temperatur von 1750°C und
einem Druck von 400 kg/cm2 druckgesintert. Das hierbei erhaltene auf Siliziumnitrid basierende Sintermaterial
war vollständig verdichtet und von tiefschwar zer Farbe. Wurde das erhaltene Sintermaterial vermählen
und durch Röntgenstrahlenbeugungsanalyse analysiert, zeigte es sich, daß es eine kristalline Phase der
Verbindung Si)Ni Y;Oi enthielt. Aus dem erhaltenen
Sintermaterial wurde ein Prüfling einer Größe von 3 mm χ 3 mm χ 40 mm hergestellt und, wie in Beispiel
1 beschrieben, auf seine Biegefestigkeit hin untersucht. Die hierbei erhaltenen Ergebnisse werden durch Kurve
A von F i g. 7 wiedergegeben, Zu Vergleichszwecken wurde ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial
ohne kristalline Phase, das durch entsprechende Zugabe von 5 Gew,'°/o Yllriumoxid zu Siliciumnitrid hergestellt
worden war, mitgetestet. Die hierbei erhaltenen Ergebnisse sind durch Ku rve B von Fi g. 7 dargestellt.
Das erfindungsgemäß hergestellte Sintermaterial mit
kristalliner Phase und das bekannte Sintermateria! ohne kristalline Phase wurden schließlich noch Oxidationsbeständigkeitstests
unterworfen. Die hierbei erzielten Ergebnisse sind durch die Kurven A bzw. flvon Fig.8
dargestellt. Aus Fig.8 geht hervor, daß ein auf Siliziumnitrid basierendes Sintermaterial gemäß der
Erfindung mit kristalliner Phase eine bessere Oxidationsbeständigkeit aufweist als das bekannte Sintermaterial
ohne kristalline Phase.
Beispie! 3
Ein entsprechend Beispiel 2 hergestellter Preßling wurde — innerhalb eines Kohlegefäßes — mit
Aluminiumnitridpulver bedeckt, woraul der derart bedeckte Preßling zur Sinterung in einen Heizofen
überführt und dort 2 h lang unter einer Stickstoffgasatmosphäre auf eine Temperatur von 17500C erhitzt
wurde. Da das hierbei erhaltene Sintermaterial noch eine t unzureichende Dichte aufwies, wurde es zur
vollständigen Verdichtung in einer Kohleform noch eine weitere Stunde unier einem Druck von 400 kg/cm2 auf
eine Temperatur von 17500C erhitzt. Nun war das
erhaltene Sintermaterial vollständig verdichtet. Es wurde zermahlen und dann durch Röntgenslrahlenbeugungsanalyse
analysiert. Hierbei zeigte es sich, daß es,
j» ähnlich wie das Sintermaterial von Beispiel 2, eine
kristalline Phase enthielt. Bei einem entsprechend Beispiel 2 durchgeführten Biegefestigkeitstest wurden
entsprechende Ergebnisse wie in Beispiel 2 erhalten.
3> Beispiel 4
Der Sintervorgang wurde ähnlich dem Sintervorgang von Beispiel 3 durchgeführt. Es wurde jedoch ein
Preßling aus einem Siliziumnitridpulver und ein
■w weiterer Preßling aus Aluminiumnitridpulver in einem
Kohlegefäß eines Durchmessers von 100 mm und einer Tiefe von 100 mm so nebeneinander gelegt, daß sie sich
nicht berührten. Die Primärsinterung dauerte 3 h in einem Sinterofen bei einer Temperatur von 17000C
4i unter Stickstoffgasatmosphäre. Anschließend wurde der
auf Siliziumnitrid basierende »vorgesinterte« Preßling in einer Kohleform unter Stickstoffgasatmosphäre
weitere 2 h unter einem Druck von 400 kg/cm2 bei einer Temperatur von 1750°C gesintert. Das erhaltene
vi Sintermatenal war vollständig verdichtet. Es wurde
ähnlich wie das Sintermaterial von Beispiel 2 durch Röntgenstrahlenbeugungsanalyse analysiert und einem
Biege- und Oxidationsbeständigkeitstest unterworfen. Es wurden entsprechende Ergebnisse erhalten wie in
υ Beispiel 2.
Der Sintervorgang wurde entsprechend Beispiel 2 durchgeführt, wobei jedoch als Rohmaterial ein
bo handelsübliches Siliziumnitrid mit 40% a-Siliziumnitrid
verwendet wurde. Die Biegefestigkeit des letztlich erhaltenen Sintermaterials entsprach in etwa der
Biegefestigkeit des Sintermaterials von Beispiel 2 (dargestellt durch Kurve A von Fi g. 9). Zu Vergleichszwecken
wurde die Biegefestigkeit eines Sintermate* rials aus einem entsprechenden Siliziumnitrid*Ausgangsmaterial
ohne kristalline Phase ermittelt (vgl, F i g. 9, Kurve B).
Der Sintervorgang erfolgt in entsprechender Weise wie bei Beispiel 4, wobei jedoch ein handelsübliches
Siliziumnitrid-Rohmaterial mit 40% «-Siliziumnitrid verwendet wurde. Das letztlich erhaltene Sintermaterial
wies eine kristalline Phase auf und besaß dieselbe Biegefestigkeit wie das Sintermaterial von Beispiel 5.
Hierzu 6 Blatt Zeichnungen
Claims (6)
1. Sinterkörper auf der Basis von Siliziumnitrid mit einem Gehalt an Silizium, Sauerstoff und Yttrium
enthaltenden kristallinen Verbindungen, dadurch gekennzeichnet, daß die kristallinen Verbindungen
als Si3Ri ■ η Y2O3, wobei η 1, 2 und/oder 3
bedeutet, definiert sind.
2. Sinterkörper nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der kristallinen Verbindung
50 Gew.-% oder mehr als dem Ausgangsmaterial zugesetzten Yttriums enthalten sind.
3. Verfahren zur Herstellung von Sinterkörpern auf der Basis von Siliziumnitrid nach den Ansprüchen
1 oder 2, indem Siliziumnitrid und Yttriumoxid gemischt, die Mischung zum Körper gepreßt und der
Körper gesintert wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Sinterung in Gegenwart von Aluminiumnitrid
vorgenom.T.-m wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3 dadurch gekennzeichnet,
daß der Körper in eine Aluminiumnitrid-Pulverschüttung eingebettet v/ird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper in eine das Aluminiumnitrid
enthaltende Pulverschüttung eingebettet wird.
6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper ohne Kontakt neben dem
Aluminiumnitrid angeordnet wird.
30
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7328374A JPS56388B2 (de) | 1974-06-28 | 1974-06-28 | |
JP7643074A JPS5628865B2 (de) | 1974-07-05 | 1974-07-05 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2528869A1 DE2528869A1 (de) | 1976-01-08 |
DE2528869B2 DE2528869B2 (de) | 1978-05-18 |
DE2528869C3 true DE2528869C3 (de) | 1979-01-11 |
Family
ID=26414436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2528869A Expired DE2528869C3 (de) | 1974-06-28 | 1975-06-27 | Sinterkörper auf der Basis von Siliziumnitrid und ein Verfahren zu dessen Herstellung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4046580A (de) |
CA (1) | CA1048065A (de) |
DE (1) | DE2528869C3 (de) |
GB (1) | GB1521693A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3525344A1 (de) * | 1984-08-11 | 1986-02-13 | Hutschenreuther Ag, 8672 Selb | Verfahren zur herstellung eines vollkristallinen sinterkoerpers aus siliciumnitrid |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4102698A (en) * | 1976-11-23 | 1978-07-25 | Westinghouse Electric Corp. | Silicon nitride compositions in the Si3 N4 -Y2 O3 -SiO2 system |
SE427650B (sv) * | 1977-01-13 | 1983-04-25 | Tokyo Shibaura Electric Co | Kiselnitridpulvermaterial samt sett att framstella detsamma |
US4341874A (en) * | 1977-01-13 | 1982-07-27 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Si3 N4 Ceramic powder material and method for manufacturing the same |
WO1980000080A1 (en) * | 1978-06-15 | 1980-01-24 | Gte Laboratories Inc | High strength silicon nitride |
US4280850A (en) * | 1978-06-15 | 1981-07-28 | Gte Laboratories, Incorporated | S13N4 Having high temperature strength and method |
US4234343A (en) * | 1979-01-04 | 1980-11-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Structural silicon nitride materials containing rare earth oxides |
JPS5823345B2 (ja) * | 1979-02-22 | 1983-05-14 | 株式会社東芝 | セラミックス焼結体の製造方法 |
US4457958A (en) * | 1980-05-02 | 1984-07-03 | Rockwell International Corporation | Method of strengthening silicon nitride ceramics |
FR2517665B1 (fr) * | 1981-12-08 | 1986-01-31 | Ceraver | Procede de fabrication d'un materiau fritte a base de nitrure de silicium, et materiau obtenu par ce procede |
US4401768A (en) * | 1982-03-15 | 1983-08-30 | Rockwell International Corporation | Si3 N4 Ceramic densified using Sc2 O3 and SiO2 |
EP0107919A1 (de) * | 1982-10-01 | 1984-05-09 | The British Ceramic Research Association Limited | Keramische Siliciumnitridkörper |
BR8307733A (pt) * | 1983-07-19 | 1985-06-04 | Ford Motor Co | Processo para a fabricacao de oxinitretos de itrio silicio |
DE3423573A1 (de) * | 1984-06-27 | 1986-01-09 | Elektroschmelzwerk Kempten GmbH, 8000 München | Polykristalline sinterkoerper auf basis von siliciumnitrid und sinteradditiven |
JPS62207765A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-12 | 日本碍子株式会社 | 窒化珪素焼結体 |
US4883776A (en) * | 1988-01-27 | 1989-11-28 | The Dow Chemical Company | Self-reinforced silicon nitride ceramic of high fracture toughness and a method of preparing the same |
US5160508A (en) * | 1988-01-27 | 1992-11-03 | The Dow Chemical Company | Self-reinforced silicon nitride ceramic of high fracture toughness |
US5118645A (en) * | 1988-01-27 | 1992-06-02 | The Dow Chemical Company | Self-reinforced silicon nitride ceramic of high fracture toughness and a method of preparing the same |
US5120328A (en) * | 1988-01-27 | 1992-06-09 | The Dow Chemical Company | Dense, self-reinforced silicon nitride ceramic prepared by pressureless or low pressure gas sintering |
US5021372A (en) * | 1988-01-27 | 1991-06-04 | The Dow Chemical Company | Method of preparing a self-reinforced silicon nitride ceramic of high fracture toughness |
US4919689A (en) * | 1988-01-27 | 1990-04-24 | The Dow Chemical Company | Self-reinforced silicon nitride ceramic of high fracture toughness |
US5091347A (en) * | 1990-08-15 | 1992-02-25 | The Dow Chemical Company | Self-reinforced silicon nitride ceramic body and a method of preparing the same |
US5312785A (en) * | 1993-05-18 | 1994-05-17 | The Dow Chemical Company | Sintered self-reinforced silicon nitride |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3108887A (en) * | 1959-05-06 | 1963-10-29 | Carborundum Co | Refractory articles and method of making same |
GB1377487A (en) * | 1970-12-23 | 1974-12-18 | Tokyo Shibaura Electric Co | Heat resistant composite materials |
US3830652A (en) * | 1973-06-28 | 1974-08-20 | Us Army | Hot pressed, high strength silicon nitride |
-
1975
- 1975-06-25 US US05/590,073 patent/US4046580A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-06-27 DE DE2528869A patent/DE2528869C3/de not_active Expired
- 1975-06-30 GB GB27451/75A patent/GB1521693A/en not_active Expired
- 1975-06-30 CA CA230,479A patent/CA1048065A/en not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3525344A1 (de) * | 1984-08-11 | 1986-02-13 | Hutschenreuther Ag, 8672 Selb | Verfahren zur herstellung eines vollkristallinen sinterkoerpers aus siliciumnitrid |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4046580A (en) | 1977-09-06 |
CA1048065A (en) | 1979-02-06 |
DE2528869B2 (de) | 1978-05-18 |
DE2528869A1 (de) | 1976-01-08 |
GB1521693A (en) | 1978-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2528869C3 (de) | Sinterkörper auf der Basis von Siliziumnitrid und ein Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE2621523C3 (de) | Verfahren zur Herstellung keramischer Formkörper | |
DE3610041C2 (de) | Keramik auf Zirkoniumdioxidbasis mit Aluminiumoxid, Spinell, Mullit oder Spinell und Mullit und mit verbesserter hydrothermaler und thermischer Stabilität | |
DE2733354C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Keramikprodukts mit mindestens 80 Vol.-% eines einphasigen Siliciumaluminiumoxynitrids | |
EP0004031B1 (de) | Dichte polykristalline Formkörper aus alpha-Siliciumcarbid und Verfahren zu ihrer Herstellung durch drucklose Sinterung | |
DE4331877C2 (de) | Verbundmaterial auf der Basis von Zirconiumdioxid und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE3344263C2 (de) | ||
DE2353093B2 (de) | Verfahren zur herstellung gesinterter formkoerper auf siliziumnitridbasis | |
DE3141590C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von hochdichtem gesintertem Siliziumnitrid | |
EP1999070A1 (de) | Gesinterter werkstoff, sinterfähige pulvermischung, verfahren zur herstellung des werkstoffs und dessen verwendung | |
DE19933194A1 (de) | Flüssigphasengesinterte SiC-Formkörper mit verbesserter Bruchzähigkeit sowie hohem elektrischen Widerstand und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2751998A1 (de) | Verfahren zur herstellung von polykristallinen dichten formkoerpern aus borcarbid durch drucklose sinterung | |
DE3127649A1 (de) | Dichtgesinterter siliciumcarbid-keramikkoerper | |
DE2042379B2 (de) | Verfahren zur herstellung einer lichtdurchlaessigen aluminiumoxid-keramik | |
DE102006013746A1 (de) | Gesinterter verschleißbeständiger Werkstoff, sinterfähige Pulvermischung, Verfahren zur Herstellung des Werkstoffs und dessen Verwendung | |
DE3544636A1 (de) | Keramikkoerper und verfahren zu seiner herstellung | |
DE3800749A1 (de) | Aluminiumnitrid-sinterkoerper hoher waermeleitfaehigkeit und verfahren zu seiner herstellung | |
DE3938879C2 (de) | Sinterkörper auf Siliziumnitridbasis | |
DE3534825C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines gesinterten Keramikkörpers aus polykristallinem Aluminiumnitrid | |
DE3630369C2 (de) | ||
EP0497156B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Werkstoffes auf Siliciumnitrid-Basis. | |
EP1025042A1 (de) | Carbonitrid-pulver, verfahren zu ihrer herstellung sowie deren verwendung | |
DE19519864A1 (de) | Siliciumnitridsinterprodukt und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2927226A1 (de) | Dichte formkoerper aus polykristallinem beta -siliciumcarbid und verfahren zu ihrer herstellung durch heisspressen | |
EP0263272B1 (de) | Sinterformkörper |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: HENKEL, G., DR.PHIL. FEILER, L., DR.RER.NAT. HAENZEL, W., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |
|
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP |