DE2348065C3 - Bipolarer Transistorspeicher mit kapazitiver Speicherung - Google Patents

Bipolarer Transistorspeicher mit kapazitiver Speicherung

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DE2348065C3 DE19732348065 DE2348065A DE2348065C3 DE 2348065 C3 DE2348065 C3 DE 2348065C3 DE 19732348065 DE19732348065 DE 19732348065 DE 2348065 A DE2348065 A DE 2348065A DE 2348065 C3 DE2348065 C3 DE 2348065C3
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Description

Die Erfindung betrifft ganz allgemein Speichcrsyüteme und insbesondere einen bipolaren Transistorspeicher mit kapazitiver Speicherung.
In der deutschen Patentanmeldung P 19 18 667,5 der Anmelderin (Aktenzeichen der Anmelderin: Fl 9fi7 075) ist offenbart, wie aktive Speicherbereiche in einer ι Speicheranordnung unter Verwendung von zwei Dioden je Speicherplatz aufgebaut werden können und wie darin gespeicherte Information mit einem Differentialverstärker abgefühlt werden kann. Die zerstörungsfreie Abfühlung einer solchen Speicheranordnung beruht auf
in der Tatsache, daß die Kapazitäten jeder Diode des Diodenpaars unmittelbar durch diese in den beiden Dioden gespeicherte Ladung geändert wird.
Solche Speicheranordnungen sind in ihrer Anwendung jedoch dadurch grundsätzlich beschränkt, daß es
r> prinzipiell schwierig ist, ständig für jede Diode ganz genau dieselbe Sperrspannungskennlinie zu erzielen. Für kleine Systeme mit einer Speicherkapazität von z. B. 1000 Bits besteht dieser Nachteil nicht, da alle Dioden vorher geprüft und paarweise passend ausgewählt werden können. Wenn jedoch für so eine Speicheranordnung eine Kapazität von einer Million Bit gefordert wird oder wenn der Speicher in monolithischer Schaltungstechnik aufgebaut wird, wird ein solches Prüfen und paarweises Aneinanderanpassen so teuer, daß das dort beschriebene System wirtschaftlich nicht mehr tragbar erscheint Außerdem benutzt die bekannte Anordnung den Durchschlag eines gleichrichtenden Überganges in Sperrichtung und es wurde festgestellt, daß wiederholte Durchschläge in Richtung der Sperr-
jo kennlinien der Dioden zu Langzeitunstabilitäten und zu mangelhafter Zuverlässigkeit führen, wenn man nicht das Verhältnis von Signalspannung zu Steuerspannung so weit herabsetzt, daß es unter dem opitmalen Wert liegt
In der deutschen Patentanmeldung P17 74 482 (Aktenzeichen der Anmelderin: YO 967 056) ist eine Speicheranordnung mit Feldeffekttransistoren beschrieben, bei der die einzelnen Speicherzellen, die der Einspeicherung und Aufzeichnung binärer Information dienen, aus Feldeffekttransistoren und Kondensatoren bestehen. Im wesentlichen wird die binäre Information dadurch eingespeichert, daß auf dem Kondensator eine Ladung gespeichert wird, wobei der Kondensator entweder ein diffundierter Kondensator oder aber die Gate-Elektroden-Substratkapazität des Feldeffekttransistors selbst ist.
Obgleich solche, mit Feldeffekttransistoren ausgerüstete Speicheranordnungen viele Vorteile, wie z. B. hohe Packungsdichte und geringe Kosten aufweisen, so ist
>o ihre Arbeitsgeschwindigkeit doch merklich geringer als die von bipolaren Transistoranordnungen. Bipolare Transistoranordnungen sind nicht nur schneller, sondern es können auch alle der Unterstützung dienenden und peripheren Schaltungen in der schnelleren Bipolartechnik ausgeführt werden. Wenn ein sehr schnelles Speichersystem erforderlich ist, sind also FET-Speicher nicht unbedingt brauchbar.
Weiterhin sei zum Stand der Technik auf die US-Patentschrift 36 14 753 vom 19. Oktober 1971 hingewiesen, in der eine Speicheranordnung für wählweisen Zugriff mit einem Speicherelement je Bit mit bipolaren Transistoren offenbart ist, bei denen in der Basisleitung jedes Transistors ein Widerstand eingeschaltet ist und im Kollektorstromkreis ein Kondensate tor liegt. Die hier verwendeten Transistoren können in beiden Richtungen leiten und die Informationsspeicherung wird dadurch erzielt, daß in dem mit dem Transistor gekoppelten Kondensator eine Ladung
eingespeichert wird
Der im Rasisstromkrejs jedes Transistors liegende Widerstand macht in dieser Speicheranordnung einige der Vorteile, die diese Anordnung über FET-Speicheranordnungen aufweist, zunichte, da dieser Widerstand nicht nur die Arbeitsgeschwindigkeit der Anordnung in den zugehörigen Schaltungen beschränkt, sondern auch die Größe des gesamten Speicherbereiches begrenzt. Die Verwendung eines solchen Basiswiderstandes erfordert auch einen erhöhten Strom, was den Stromverbrauch insgesamt und die Anforderungen an die Kühlung erhöht. Die durch solch einen Widerstand je Speicherzelle sich ergebende Beschränkung in der Größe einer Speicherzelle wird insbesondere dann von Bedeutung sein, wenn man eine solche Anordnung in einen sehr kleinen Halbleiterkörper hineinintegrieren will. Eine solche Integration wird nicht nur benutzt, um die Größe der einzelnen Zelle zu verringern, sondern dient auch der Kostenreduzierung sowie der Verringerung der erforderlichen Spannungen und Ströme. Es ist außerdem wesentlich schwieriger, eine große Anzahl solcher Zeiienwiderstände wiederholbar mit gleichbleibenden Toleranzen herzustellen und die noi rnalerweise bei der Herstellung solcher Widerstände auftretenden Toleranzschwankungen zu akzeptieren. Eine solche Speicherschaltung muß daher normalerweise ein Verhältnis von Signalspannung zu Steuerspannung wählen, das vom optimalen Verhältnis abweicht.
Die Erfindung hat sich nun zur Aufgabe gestellt, eine Speicherschaltung aus bipolaren Transistoren aufzubauen, die diese Nachteile vermeidet. Erfindungsgemäß wird also eine Speicheranordnung mit Speicherzellen geschaffen, deren jede einen bipolaren Transistor enthält, der unmittelbar mit der Wort- und der Bitleitung der Speicheranordnung und mit einem kapazitiven Speicher gekoppelt ist.
Die vorliegende Erfindung befaßt sich insbesondere mit einer dynamischen bipolaren Speicherzelle für wahlfreien Zugriff, die aus einem einzigen bipolaren Transistor besteht, der mit einem einzigen Kondensator verbunden ist, wobei sich diese Zelle auf einem wesentlich kleineren Bereich aufbauen läßt, als dies bisher bekannt war, indem der bisher erforderliche Widerstand weggelassen wird und die Zelle mit Impulsen unterschiedlicher Spannungsamplitude betrieben wird.
Mit der erfindungsgemäß aufgebauten Speicherzelle kann man daher das optimale Verhältnis von Signalspannung zu Steuerspanr.ung ausnutzen. Speicherschaltungen unter Verwendung der neuen Speicherzelle sind damit in der Lage, bei geringeren Spannungen und Strömen zu arbeiten, als dies bisher der Fall war, so daß sich auch eine Langzeitzuverlässigkeit der Speicheranordnungen erzielen läßt. Speicherschaltungen mit der neuen Speicherzelle lassen sich mit großem Vorteil auch als integrierte Halbleiterschaltungen aufbauen, was die gesamte Herstellung gegenüber dem Stand der Technik beträchtlich verbilligt.
Die Erfindung wird nunmehr anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit den Zeichnungen näher beschrieben, Dabei zeigt
Fig. 1 schematisch eine Speicheranordnung gemäß der Erfindung,
Fig. 2 ein Impulsdiagramm zum Lesen. Schreiben und Löschen der Information in den Speicherzellen nach Fig. 1.
F i g. 3 eine weitere Ausfühningsform der Anordnung der Speicherzelle in F i y. 1 und
Fig.4 noch eine andere Ausführungsform der Speicherzelle in F i g. I.
In Fig. 1 ist eine planare Anordnung einer Anzahl von Speicherzellen gezeigt, die gemäß der Erfindung geschaltet sind. Nur für die Zwecke der Erläuterung sei angenommen, daß die Speicheranordnung gemäß Fig. 1 eine aus vier Speicherzellen, 10a,10ö, lOcund iOd bestehende 2x2 Speicheranordnung sein soll, deren jede Zelle nur aus einem bipolaren Transistor 11 und einem Kondensator 12 besteht.
Selbstverständlich sind in Wirklichkeit in ganz wesentlich größeren Speicheranordnungen tausende von Speicherzellen eingesetzt
In der Anordnung werden vertikale Bitleitungen 14.1 und 14.2 benutzt, die mit entsprechenden Bitleitungstreibern und Abfühlverstärkern 15 verbunden sind. Waagrechte Wortleitungen 16.1 und 16.2 sind mit einer Wortleitungstreiberstufe 17 verbunden. Die Wortleitungen 16.1 und 16.2 liegen senkrecht zu den Bitleitungen 14.1 und 14.2 und die Speicherzellen 10a, 106, 10c und iOd verbinden die Wortleitungen '--A den Bitleitungen an den entsprechenden Schnittpunkton.
Die Bitleitungstreiber 15 sind von üblicher Bauart und liefern an die Bitleitungen positive Spannungen mit verschiedenen Amplituden. Die Wortleitungstreiber 17 sind ebenfalls von üblicher Bauart und liefern an die Wortleitungen positive Spannungen mit verschiedenen Amplituden.
Jeder Transistor 11 in jeder Speicherzelle hat eine Basis 18, einen Emitter 19 und einen Kollektor 20. Die Basis 18 jedes Transistors ist mit der zugeordneten Wortleitung verbunden und der Emitter jedes Transistors ist mit der entsprechenden Bitleitung verbunden. Der Kondensator 12 jeder Zelle ist zwischen Kollektor 20 jedes Transistors einer Zelle und Erde, bzw. Masse eingeschaltet.
Die Speicheranordnung in Fig. 1 kann wortorganisiert sein und wird in einem Lese/Schreibzyklus betrieben, wobei die Information durch die Koinzidenz angelegter Signale, die auf der entsprechenden Wortleitung und einer entsprechenden Bitieitung auftreten aus eher bestimmten Zelle ausgespeichert oder in diese eingespeichert wird.
Die Arbeitsweise der in F i g. 1 gezeigten Speicherzelle wird im Zusammenhang mit Fig. 2 beschrieben, in der die Impulse dargestellt sind, die an den Wortleitungen und Bitleitungen zum Einschreiben oder Lesen einer Eins oder einer Null in oder aus einer bestimmten Zelle angegeben sind.
In der Speicherzelle 10a wird die Information, eine binäre Eins oder eine binäre Null, die in der Zelle eingespeichert werden soll, durch die an den Wort- bzw. Bitleitungen anzulegenden Spannungen bestimmt. Zum Einreichern oder Einschreiben einer binären Eins wird beispielsweise die Spannung auf der Wortleitung 16.1 durch den Wo~;treiber auf ein erstes Potential angehoben, so daß die Basis 18, des Transistors 11 der Zelle 10a von 0 Volt auf ungefähr +1 Volt übergeht. Dies ist als Impuls 21 in F i g. 2 gezeigt. Gleichzeitig wird das Potential auf der Bitleitung 14.1 durch den Bitleitungstreiber in der Weise geändert, daß das Potential am Emitter 19 des Transistors 11 der Zelle 10a von der normalen Ruhespannung von + 4 Volt auf etwa + 0,3 Volt abgesenkt wird. Dies ist bei 22 in Fig. 2 gezeigt. Durch diese Spannungen wird der Transistor 11 in Zelle 10a in Durchlaßrichtung vorgespannt. Da der Kollektor 20 des Transistors 11 in Zelle 10a nunmehr positiver als der Emitter 19 ist, wird der mit dem
Kollektor 12 verbundene Kondensator über den Transistor 11 entladen und eine Kins in der Zelle eingespeichert.
Das Auslesen der Zelle nach Einspeichern eines Signals in der Speicherzelle wird in der Weise ausgeführt, daß der Kollektor-Basisübergang des Transistors 11 in Durchlaßrichtung vorgespannt wird so daß der Emitter des auszuspeichernden Transistors positiver ist. als der Kollektor. Dies wird für die gleiche Zelle !Os dadurch erreicht, daß die Bitleitung 14.1 auf ihrer Ruhespannung von +4 Volt gehalten und die Wonleitung 16.1 von 0 Volt auf etwa 3.7 Volt angehoben wird, wie dies beim Impuls 23 in F i g. 2 ge/eigt ist. Diese Spannungskoinzidenz an der Zelle ΙΟλ bewirkt, daß Transistor 11 in der Zelle 10a in der Richtung von seinem Emitter nach seinem Kollektor leitend wird. Da nunmehr der Emitter 19 positiver ist. als der Kollektor 20. fließt der Strom von der Bitleitung 14.1 dnrrh den Transistor und der Kondensator 12 wird aufgeladen. Dieser durch den Transistor fließende Ladestrom tritt als Spannungsabfall 24 auf der Bitleitung 14.1 auf und zeigt damit an, daß zuvor eine Eins in dem Kondensator 12 eingespeichert war. Dieser Spannungsabfall 24 auf der Bitleitung 14.1 tritt in den mit dieser Leitung verbundenen Abfühlverstärker als Signal auf. Vom Abfühlverstärker kann ein solches Signal nach anderen angeschlossenen Schaltungen übertragen werden. Ein solcher Lesevorgang löscht die zuvor in der Zelle eingespeicherte Information einer binären Eins durch Aufladen des Kondensators 12. Wenn also die Zelle ausgespeichert wird, muß sie in ihren vorherigen Zustand zurücküberführt werden, d. h. im gegebenen Fall, wenn die Zelle ihren Speicherzustand 1 beibehalten soil, dann muß anschließend in einem weiteren Zyklus die Eins wieder eingeschrieben werden.
Zum Einspeichern oder Einschreiben einer binären Null wird der Worttreiber für die Wortleitung 16.1 etwa auf 1 Volt gebracht wie dies bei 25 in F i g. 2 gezeigt ist. wahrend der Bitteitungstreiber für die Leitung 14.1 auf seiner normalen Ruhespannung von ->-4 Volt verbleibt. Diese Spannungen sind so gewählt, daß der Emitter 19 positiver als der Kollektor 20 gehalten wird. Da ein Lese-Löschzyklus immer einem Schreibzyklus vorangeht und da außerdem ein solcher Lese-Löschzyklus den Kondensator auflädt, befindet sich der mit dem Kollektor verbundene Kondensator 12 in seinem O-Zustand und bleibt in diesem.
Das Auslesen der Zelle nach Einspeicherang einer Null wird in identischer Weise wie beim Auslesen einer Eins in der Zelle durchgeführt. Das heißt, der Kollektor-Basisübergang des Transistors wird in Durchlaßrichtung dadurch vorgespannt, daß die Bitleitung 14,1 auf ihrer Ruhespannung von +4 Volt verbleibt und die Wortleitung Γβ-I von 0 Volt auf 3.7 Volt angehoben wird, wie dies beim Impuls 26 in F i g. 2 gezeigt ist. Dadurch wird Transistor 11 in der Zelle 10a erneut in Richtung vom Emitter zum Kollektor leitend, weil wiederum der Emitter 19 auf einem höheren positiven Potential liegt als der Kollektor 20. In diesem Fall war jedoch der Kondensator 12 zuvor durch Anlegen eines »Schreiben-0« Impulses aufgeladen, so daß kein Strom durch den Transistor fließt und auf der Bitleitung 14.1 kein Signal auftritt. Weil in diesem Fall auf der Bitleitung kein Spannungsabfall auftritt, wird aus der Biüeitung 14.1 ein Signa! 0 gelesen.
Die Verwendung von verschiedenen Spannungsam-Dlituden beim Lesen und Schreiben der Zelle beseitigt die Notwendigkeit, im Basisstromkreis des Transistors einen Widerstand vorzusehen, so daß die Zelle schneller arbeitet, als die zum Stand der Technik bekannten Zellen. Damit wird aber die Stromverstärkung des ■ Transistors β sowohl in Vorwärts- als in Rückwärtsrichtung weniger kritisch. Derzeit in integrierter Schaltungstechnik hergestellte Transistoren weisen eine Stromverstärkung β in Vorwärtsrichtung zwischen 20 und 100 auf, während die Stromverstärkung β in
in Rückwärtsrichtung zwischen 1 und 2 liegt. Da der Basiswiderstand beseitigt ist. ist es nicht langer notwendig, daß die Stromverstärkung des Transistors in Rückwärtsrichtung bei mehr als 2 gehalten wird, wie dies bisher erforderlich war. Selbstverständlich können
• ■< Transistoren, deren Stromverstärkung in Rückwärts richtung größer als 2 ist, ebenfalls in der hier beschriebenen Speicherzelle benutzt werden.
F i g. 3 zeigt eine weitere Ausführungsform der in F i g. I verwendeten Speicherzelle. In F i g. 3 ist der Ν Transistor 31 so angeschlossen, daß seine Basis 32 mit der Wortleitung 33, sein Kollektor 34 mit der Bit/Abfühlleitung 35 und sein Emitter 36 über einen Kondensator 37 mit Masse oder Erde verbunden ist. Diese Zelle arbeitet genauso, wie die in Fig. I gezeigte
:~< Zelle. Die in F i g. 2 gezeigten Spannungsimpulse können ebenfalls zum Betrieb dieser Zelle wie bei der Zelle in F i g. I benutzt werden. Würde man statt dessen in der Zelle in Fig. 1 oder in der Zelle in Fig. 3 PNP-I ransistoren verwenden, wäre es natürlich not-
)" wendig, die Polaritäten der Potentiale auf den Bitleitungen und den Wortleitungen umzukehren, da PNP-Transistoren umgekehrte Spannungen zum Betriebbenötigen.
Fig. 4 zeigt eine weitere Ausführungsform der Zelle
γ. in Fig. 1. In dieser Ausführungsform ist die Bit/Abfühlleitung in eine gesonderte Bitleitung und eine Abfühlleitung aufgetrennt. Wie aus F i g. 4 zu sehen, besteht die Zelle aus einem Transistor 41, dessen Basis 42 mit der Wortleitung 43. dessen Kollektor 44 mit der
i" Bitleitung 45 und dessen Emitter 46 über einen Kondensator 47 mit einer Abfühlleitung 48 verbunden ist. Die Abfühlleitung 48 ist über eine impedanz 49 mit Masse verbunden und ein Abfühlverstärker 50 ist über dieser Impedanz angeschlossen, so daß die in dem
: Kondensator eingespeicherten Signale während eines Lesevorgangs festgestellt werden können. Die in F i g. 2 gezeigten Spannungsimpulse und Spannungsamplituden können auch in dieser Ausführungsform zum Schreiben, Lesen und Löschen von Null und Eins benutzt werden.
Es ist ebenfalls klar, daß der in Fig.4 gezeigte Transistor in seiner Richtung umgekehrt werden kann, so daß sein Kollektor über den Kondensator mit der Abfühlleitung und sein Emitter mit der Bitleitung gekoppelt ist
"' Jede dieser Ausführungsformen hat ihren eigenen Vorteil im Bezug auf Zellengröße gegenüber Zellengeschwindigkeit insbesondere dann, wenn diese Anordnungen unter Verwendung von integrierter Schaltungstechnik aufgebaut werden. Bei Speicheranordnungen in
""· integrierter Schaltungstechnik muß auch daran gedacht werden, ob man für die Bit- und Wortleitungen die sogenannte Einschichtmetallurgie oder die sogenannte Doppelschichtmetallurgie anwendet. ■
Die Zellenanordnung von F i g. 1 hat den geringsten
'- Flächenbedarf pro Zeile und ist relativ langsam und erfordert die etwas schwieriger herzustellende Doppelschichtmetaliurgie.
Die Zelle gemäß F i g. 3 hat die gleiche Geschwindig-
keil wie /.clic in F i g. I und benötigt keine Doppelschichtmetallurgie, benötigt aber eine etwas größere flache pro Zelle.
Die Zellenar.nrdnung gemäß F i g. 4 hat an sich den größten Flächenbedarf aller hier offenbarten Zellen, ist aber die Schnellste und benötigt nicht die Doppel schichtmetalkirgie.
K einer anderen Anordnung zu der von F i g. 4 (nicht gezeigt) ist der Transistor umgekehrt, so daß der Kondensator zwischen Kollektor und Abfühlleitung eingeschaltet und der Emitter mit der Bitleitung verbunden ist. Diese Anordnung ist genau so schnell, wie die in F'i g. 4 gezeigte Anordnung, hat jedoch einen geringeren Flächenbedarf, da hier Doppelschkhtme tallurgie erforderlich ist.
Im vorangegangenen wurde also eine Speicheran Ordnung mit nur einem bipolaren Transistor und einem einzigen Kondensator für jede Speicherzelle beschrieben, die durch Ansteuerung der Wort- und Bitleitungen mit Spannungsimpulsen verschiedener Amplitude keinen hohen Widerstand mehr in der Basis des Transistors benötigt.
Die beschriebenen Speicherzellen lassen sich leicht herstellen und sind mit dem derzeitigen Herstellungsverfahren in integrierter Halbleitertcchnik vertraglich.
['s muß darauf hingewiesen werden, daß. ohgleich alle hier beschriebenen Ausführungsformen unter Verwendung von NPN-Transistoren dargestellt sind, insgesamt auch PNP-Transistoren verwendet werden können, wobei jedoch die angegebenen Potentiale zum Steuern von PNP-Transistoren in ihrer Polant.it umgekehrt werden müßten.
IIil'ivii I !ihm /vkhnunivn

Claims (11)

Patentansprüche:
1. Bipolarer Transistorspeicher, bestehend aus einer Anzahl von Speicherzellen, die mit einer Anzahl von Wortleitungen und einer Anzahl von Bitleitungen gekoppelt sind, wobei jede Speicherzelle einen bipolaren Transistor und einen Ladungsspeicher enthält und der Emitter-Kollektor-Stromkreis jedes Transistors zwischen Ladungsspeicher und Bitleitung und die Basis jedes Transistors mit der Wortleitung gekoppelt ist, und aus Schaltmitteln zum Einspeichern und Auslesen von Information in ausgewählten Speicherstellen, dadurch gekennzeichnet, daß zum Schreiben, Lesen und Löschen von binärer Information die Wort- und die Bitleitungen (16,14) durch jeweils zwei unterschiedliche Potentiale gleicher Polarität ansteuerbar sind.
2. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Einspeichern einer Eins die Wortleitung (16) auf ihr erstes Potential (21) und gleichzeitig die Bitleitung (14) auf ihr zweites Potential (22) steuerbar ist
3. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Einspeichern einer Null die Wortleitung (16) auf ihr erstes Potential (25) und die Bitleitung (14) auf ihr erstes Potential steuerbar ist
4. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Lesen/Löschen einer Eins die Wortleitung (16) auf ihr zweites Potential (23) und die Bitleitung (14) auf ihr erstes Potential steuerbar ist
5. Speicher nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum Lesen/Loschen einer Null die Wortleitung (16) auf ib- zweites Potential (26) und die Bitleitung (14) auf ihr : rstes Potential, ihr Ruhepotential steuerbar ist
6. Speicher nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß als Ladungsspeicher ein Kondensator (12; 37) dient der zwischen Emitter eines jeden Transistors (11, 31) und Masse eingeschaltet ist.
7. Speicher nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Kondensator als Ladungsspeicher zwischen Kollektor und Masse eingeschaltet ist.
8. Speicher nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß mit dem Kollektor-Emitterstromkreis eines jeden Transistors eine gesonderte Abfühlleitung (48) verbunden ist
9. Speicher nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Kondensator (47) als Ladungsspeicher zwischen Emitter (46) des Transistors (41) und der Abfühlleitung (48) eingeschaltet ist.
10. Speicher nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Kondensator als Ladungsspeicher zwischen dem Kollektor des Transistors und der Abfühlleitung eingeschaltet ist.
11. Speicher nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jede Speicherzelle aus einem Transistor besteht, dessen Basis unmittelbar an der Wortleitung angeschlossen ist und dessen Kollektor-Emitter-Stromkreis zwischen dem Ladungsspeicherkondensator und einer Bitleitung eingeschaltet ist.
DE19732348065 1972-11-01 1973-09-25 Bipolarer Transistorspeicher mit kapazitiver Speicherung Expired DE2348065C3 (de)

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DE2348065B2 DE2348065B2 (de) 1981-07-09
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3979734A (en) * 1975-06-16 1976-09-07 International Business Machines Corporation Multiple element charge storage memory cell
JPH0420374U (de) * 1990-06-13 1992-02-20

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3355720A (en) * 1964-03-05 1967-11-28 Rca Corp Memory using charge storage diodes
US3387286A (en) * 1967-07-14 1968-06-04 Ibm Field-effect transistor memory
US3614753A (en) * 1969-11-10 1971-10-19 Shell Oil Co Single-rail solid-state memory with capacitive storage
US3729719A (en) * 1970-11-27 1973-04-24 Ibm Stored charge storage cell using a non latching scr type device
GB1330155A (en) * 1970-12-17 1973-09-12 Ferranti Ltd Semiconductor information storage devices

Also Published As

Publication number Publication date
GB1379879A (en) 1975-01-08
JPS4979133A (de) 1974-07-31
IT993090B (it) 1975-09-30
CA1101992A (en) 1981-05-26
FR2204849B1 (de) 1976-06-18
DE2348065B2 (de) 1981-07-09
JPS546178B2 (de) 1979-03-26
FR2204849A1 (de) 1974-05-24
DE2348065A1 (de) 1974-05-09

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