DE2302137B2 - Leseschaltung zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen - Google Patents

Leseschaltung zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen

Info

Publication number
DE2302137B2
DE2302137B2 DE2302137A DE2302137A DE2302137B2 DE 2302137 B2 DE2302137 B2 DE 2302137B2 DE 2302137 A DE2302137 A DE 2302137A DE 2302137 A DE2302137 A DE 2302137A DE 2302137 B2 DE2302137 B2 DE 2302137B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
read
transistor
write line
reading
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE2302137A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2302137A1 (de
DE2302137C3 (de
Inventor
Evan Ezra Hopewell Junction Davidson
Ralph David Wappingers Falls Lane
Jerry Poughkeepsie Saia
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of DE2302137A1 publication Critical patent/DE2302137A1/de
Publication of DE2302137B2 publication Critical patent/DE2302137B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2302137C3 publication Critical patent/DE2302137C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/403Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh
    • G11C11/404Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells with charge regeneration common to a multiplicity of memory cells, i.e. external refresh with one charge-transfer gate, e.g. MOS transistor, per cell
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4091Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K5/00Manipulating of pulses not covered by one of the other main groups of this subclass
    • H03K5/01Shaping pulses
    • H03K5/02Shaping pulses by amplifying

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Leseschaltung zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen, die über einen Selektionsschalter an eine Lese/Schreibleitung angeschlossen sind.
Es sind integrierte Halbleiter-Speicheranordnungen hoher Speicherdichte bekannt, bei denen jede Speicherzelle aus einer Kapazität besteht, diese Kapazität wird über einen Feldeffekttransistor auf- und entladen. Eine bestimmte Speicherzelle wird dadurch adressiert, daß an das Gate des Feldeffekttransistors ein Impuls .ingelegt wird, der den Transistor in den leitenden Zustand umschaltet Bei leitendem Feldeffekttranistor ist dann die Speicherzelle mit einer zugeordneten Lese/Schreibleitung verbunden. Die Kapazität wird aufgeladen, was einer binären Eins entspricht, indem das ri Potential auf der Lese/Schreibleitung gleichzeitig mit dem Anlegen des Impulses an das Gate des Feldeffekttransistors auf den erforderlichen Schreibpegel angehoben wird. Die Kapazität wird entladen, was einer binären Null entspricht indem das Potential der
ι υ Lese/Schreibleitung bei leitendem Feldeffekttransistor abgesenkt wird. Es ist festzustellen, daß die geladene Kapazität immer dann entladen wird, wenn die Speicherzelle ausgelesen wird. Es ist also erforderlich, nach Durchführung einer Leseoperation die Ladung zu erneuern, um die ursprünglich gespeicherte Information, nämlich eine binäre Eins, zu erhalten. Zusätzlich ist es notwendig, auch wenn die Speicherzelle nicht ausgelesen wird, die Ladung der Kapazität in bestimmten Zeitabschnitten zu regenerieren, um den durch Leck-
>i> ströme bedingten Ladungsverlust auszugleichen. Die Regeneration dieses Ladungsverlustes wird bei bekannten dynamischen Speicherzellen dadurch bewirkt, daß normale Schreibzyklen durchgeführt werden. Dies geschieht häufig mit Hilfe eines Verriegelungskreises,
r> der bei einer Leseoperation verriegelt und die in der Speicherzelle gespeicherte Information speichert. Dieser Verriegelungskreis liefert dann zu einem späteren Zeitpunkt in einem speziellen, der Regenerierung dienenden Schreibzyklus an seinem Ausgang ein
in entsprechendes Schreibsignal (DE-AS 11 38 097).
Es ist die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe, eine Leseschaltung mit Verriegelungskreis zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen anzugeben, die automalisch im Zuge einer
j. normalen Leseoperation die Nach- bzw. Rückladung der ausgelesenen Speicherzelle bewirkt, ohne daß sie eines höheren Aufwandes bedürfte.
Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß zwischen Speicherzelle und Lese/Schreiblei-
Hi tung ein erstes, in Lesestromrichtung und parallel dazu ein zweites, in Schreib- bzw. Rückladungsstromrichtung leitfähiges Schaltelement angeordnet ist und daß an die Lese/Schreibleitung der Eingang eines rückgekoppelten Verriegelungskreises angeschlossen ist, der während
v> einer Leseoperation bei geladener Speicherzelle infolge des über das erste Schaltelement übertragenen Lesepegels zunächst verriegelt und dann infolge des Rückkopplungseffektes das Potential auf der Lese/Schreibleitung auf den die Rückladung der Speicherzelle über
>;i das zweite Schaltelement bewirkenden Schreibpegel anhebt.
Eine vorteilhafte Schaltung besteht darin, daß die Speicherzelle aus einer Kapazität besteht, die über den Selektionsschalter in Serie zu der Parallelschaltung aus
ν; den beiden richtungsabhängigen Schaltelementen gelegt ist.
Ein vorteilhaftes Ausführungsbeispiel besteht darin, daß die beiden Schaltelemente aus einem ersten und einem zweiten bipolaren Transistor bestehen und daß die Basis des ersten und der Emitter des zweiten Transistors an den Selektionsschalter und der Emitter des ersten und die Basis des zweiten Transistors an die Lese/Schreibleitung geführt sind, während die Kollektoren beider Transistoren an eine Betriebsspannungsquel-
■"· Ie angeschlossen sind. Vorzugsweise besteht der Selektionsschalter aus einem Feldeffekttransistor.
Ein unaufwendiges Ausführungsbeispiel besteht darin, daß der Verriegelungskreis aus einem gesteuerten
Siliziumgleichrichter besteht Ein Ausführungsbeispiel mit höherer Schaltgeschwindigkeit besteht darin, daß der Verriegelungskreis aus einem emittergekoppelten Stromübernahmeschalter besteht, der über eine Emitterfolgerstufe rückgekoppelt ist.
Beim Aufbau von ganzen Speicheranordnungen erweist es sich als vorteilhaft, wenn mehrere Speicherzellen über eine gemeinsame Parallelschaltung zweier richtungsabhängiger Schaltelemente mit einer gemeinsamen Lese/Schreibleitung verbunden sind. ι ο
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert Es zeigt
F i g. 1 ein Schaltbild eines einen gesteuerten Siliziumgleichrichter enthaltenden Ausführungsbeispiels,
F i g. 2 ein Ausführungsbeispiel, bei dem der gesteur- 1 > ter Siliziumgleichrichter durch einen Stromübernahmeschalter ersetzt ist und
Fig.3 eine erfindungsgemäße Weiterbildung des Aubführungsbeispiels gemäß Fig. 1, wobei ein Feldeffekttransistor im Rückkopplungszweig des btromüber- nahmeschalters vorgesehen ist
Zunächst sei auf das Ausfühlungsbeispiel gemäß F i g. 1 Bezug genommen. Die verwendete Speicherzelle 1 besteht in bekannter Weise aus einem Feldeffekttransistor 2 und einer Kapazität 3. Die Kapazität 3 liegt zwischen Masse und Drain des Transistors. Das Gate des Transistors ist mit einer Wortleitung 4 verbunden. Die Source des Transistors ist über ein Paar gegeneinander geschalteter, ernitterfolgerbildeiider Transistoren 6 und 7 mit einer Lese/Schreibleitung 5 so verbunden. Der Transistor 6 bildet einen richtungsabhängigen, verstärkenden Strompfad, über den die Kapazität 3 (bei leitendem Feldeffekttransistor 2) während einer Schreiboperation von der Lese/Schreibleitung 5 aufgeladen wird. Der Transistor 7 bildet einen r, richtungsabhängigen, verstärkenden Strompfad, über den während einer Leseoperation die auf der Kapazität 3 vorhandene (falls vorhanden) Ladung abgefühlt wird. Diese Ladung fließt von der Kapazität 3 (über den leitenden Feldeffekttransistor 2) als Lesestrom in die Basis des Transistors 7. Über den Emitter des Transistors 7 wird die verteilte Kapazität der Lese/ Schreibleitung 5 auf einen Wert, der als Lesepegel bezeichnet sei, aufgeladen, der ausreicht, den aus einem gesteuerten Siliziumgleichrichter 9 bestehenden Verrie- r> gelungskreis einzuschalten. Die Emitterfolger 6 und 7 können dabei, wie durch die zusätzlichen Speicherzellen 10 angedeutet ist, für mehrere Speicherzellen gemeinsam vorgesehen sein.
Eine Leseoperation wird dadurch eingeleitet, daß ein ,11 den zwischen Masse und Lese/Schreibleitung 5 eingeschalteten Transistor 12 in den leitenden Zustand schaltender Impuls auf den Steuereingang 11 gegeben wird. Bei leitendem Transistor 12 ist der steuerbare Gleichrichter 9 automatisch in den gesperrten Zustand v> zurückgeschaltet. Ein Transistor 13 wird durch ein seinem Steuereingang 14 zugeführtes Potential im gesperrten Zustand gehalten. Der Transistor 13 ist zwischen der positiven Betriebsspannung V und der Lese/Schreibleitung 5 eingeschaltet. Sobald der Transi- wi stör 12 bei Beendigung des Impulses an seinem Steuereingang 11 wieder in den gesperrten Zustand zurückgeschaltet wird, wird der Feldeffekttransitor Feldeffekttransistor mit Hilfe eines Impulses auf der Wortleitung 4 in den leitenden Zustand gebracht. t,> Dadurch kann sich die Kapazität 3 über den Basiskreis des Transistors 7 entladen. Der daraus resultierende Basisstroni bringt den Transistor 7 in den leitenden Zustand, so daß die Lese/Schreibleitung 5 aufgeladen wird. Sobald der Schwellwert des gesteuerten Gleichrichters 9 erreicht wird, schaltet dieser schnell in den leitenden Zustand um. Aufgrund der inhärenten positiven Rückkopplung springt die Spannung auf der Lese/Schreibleitung 5 auf einen höheren, dem Schreibpegel entsprechenden Wert Der Transistor 2 wird über die Wortleitung 4 leitend gehalten, so daß nunmehr die Kapazität 3 über den leitenden Emitterfolger 6 wieder aufgeladen wird Es wird also der Ladur.gsverlust der Kapazität 3 im ersten Teil der Leseoperation, in dem die Lese/Schreibleitung 5 aufgeladen und der als Verriegelungskreis verwendete Gleichrichter 9 verriegelt wird, während des abschließenden Teils derselben Leseoperation wieder ausgeglichen. Dies geschieht dadurch, daß bei leitendem Feldeffekttransistor 2 das Potential auf der Lese/Schreibleitung 5 plötzlich erhöht, dadurch der Transistor 7 gesperrt und der Transistor 6 in den leitenden Zustand gebracht wird.
Es ist darauf hinzuweisen, daß zu Beginn einer Leseoperation im Falle einer ungeladenen Kapazität 3. was einer binären Null entspricht weder der Transistor 7 noch der Gleichrichter 9 in den leitenden Zustand gebracht werden. Das hat aber zur Folge, daß auch die Verriegelung und die anschließende Rückkopplung nicht eintritt und das Potential auf der Lese/Schreibleitung 5 nicht erhöht wird. Der Transistor 6 wird also n'cht leitend und die Kapazität 3 bleibt ungeladen.
Um in die Speicherzelle 1 eine binäre Null einzuschreiben, werden der Wortleitung 4 und dem Ai'sciiluß 11 gleichzeitig entgegengesetzt gerichtete Impulse zugeführt. Die Lese/Schreibleitung 5 wird auf einen niedrigen Pegel entladen, so daß der Transistor 7 durch den von der Kapazität 3 gelieferten Entladestrom in den leitenden Zustand gebracht wird (falls die Kapazität 3 nicht schon entladen ist). Beim Einschreiben einer binären Eins wird ein Impuls nicht an Anschluß 11, sondern an Anschluß 14 angelegt. Dadurch wird die Lese/Schreibleitung 5 so aufgeladen, daß der Transistor 6 leitend wird und die Kapazität 3 über den leitenden Feldeffekttransistor 2 auflädt. Der gesteuerte Gleichrichter 9 bleibt gesperrt, wenn eine binäre Null, und wird verriegelt, wenn eine binäre Eins in die Speicherzelle eingeschrieben wird. Eine durch eine Ladung der Kapazität gekennzeichnete Information muß periodisch regeneriert werden, um den durch Leckströme bedingten Ladungsverlust auszugleichen. Diese Regenerierung kann einfach dadurch geschehen, daß eine Leseoperation durchgeführt wird. Das am Ausgang 15 des Verriegelungskreises anstehende Ausgangssignal bleibt unbeachtet, wenn zum Zwecke der Regenerierung eine Leseoperation durchgeführt wird. Bei einer echten Leseoperation liefert dieses Ausgangssignal das Lesesignal.
Der beschriebene Verriegelungsvorgang kann wesentlich verschnellert werden, wenn anstelle des gesteuerten Gleichrichters 9 der Schaltung gemäß Fig. 1 der in Fig. 2 dargestellte, aus einem oipoiaren Stromübernahmeschalter und einem Emitterfolger bestehende Verriegelungskreis verwendet wird. Der prinzipielle Ablauf einer Leseoperation ändert sich bei Verwendung dieses Verriegelungskreises nicht. Auch diese·· Verriegelungskreis hat die Eigenschaft, daß nach der Verriegelung durch die einsetzende Rückkopplung das Potential auf der Lese/Schreibleitung auf den Schreibpegel angehoben wird. Der Stromübernahmeschalter besteht aus zwei Transistoren 16 und 17, deren Emitter verbunden und über eine .Strnmnnpllp tR an
Masse gelegt sind. Der Kollektor des Transistors 16 ist direkt und der Kollektor des Transistors 17 über einen Widerstand 19 mit dem positiven Pol + V der Betriebsspannungsquelle verbunden. Die Basis des verriegelnden Transistors 20 liegt am Kollektor des Transistors 17. Der Kollektor des Transistors 20 ist direkt mit dem positiven Pol der Betriebsspannungsquelle verbunden. Der Emitter des Transistors 20 ist an den Ausgang 22 und zurück auf die Basis des Transistors 16 geführt, der mit der Lese/Schreibleitung 5 verbunden ist. Die Lese/Schreibleitung 5 liegt an einer Vielzahl dynamischer Speicherzellen, was in F i g. 1 durch die Speicherzellen 1 und 10 angedeutet ist. Der die Transistoren 16,17 und 20 aufweisende Verriegelungskreis wird durch ein Signal zurückgestellt, das an den einen Anschluß 23 eines Widerstandes 24 angelegt wird. Der andere Anschluß dieses Widerstandes liegt an der Basis des Transistors 25. Die Dioden 26 und 21 verhindern die Sättigung der zugeordneten Transistoren. Der Emitter des Transistors 25 liegt an Masse, während der Kollektor über einen Widerstand 27 an die Basis des Transistors 20 geführt ist
Der in Fig.2 dargestellte Verriegelungskreis wird wie der in Verbindung mit F i g. 1 beschriebene gesteuerte Gleichrichter 9 verwendet um die Speicherzelle auszulesen und die erforderliche Regenerierung durchzuführen. Ist in der an die Lese/Schreibleitung 5 angeschlossenen, adressierten Speicherzelle (nicht dargestellt) eine binäre Null gespeichert, so liegt die an der Basis des Transistors 16 vorhandene Spannung unter der Bezugsspannung VREF an der Basis des Transistors 17. Das bedeutet, daß der Transistor 16 gesperrt und Transistor 17 leitend ist. Der leitende Transistor 17 bringt das Potential am Knoten Vl auf einen Wert ab, der gleich der Bezugsspannung Vref abzüglich des Spannungsabfalls an der leitenden Diode 21 ist. D. h„ daß Transistor 20 gesperrt wird. Dies ist der rückgestellte, entriegelte Zustand des Verriegelungskreises.
Ist dagegen in der Speicherzelle eine binäre Eins gespeichert so ist das Potential auf der Lese/Schreibleitung 5 höher als die Bezugsspannung VREF. Damit wird Transistor 16 leitend und Transistor 17 gesperrt. In diesem Fall steigt die Spannung am Knoten Vl über den Widerstand 19 exponentiell gegen die positive Betriebsspannung + V an und der den Emitterfolger bildende Transistor 20 wird in den leitenden Zustand gebracht. Bei leitendem Transistor 20 fällt infolge des Basis-Emitter-Spannungsabfalles Vbe die Spannung auf der Lese/Schreibleitung 5 auf einen Wert ab, der unterhalb des Potentials am Knoten Vl liegt Schließlich erreicht die Spannung am Knoten Vl den Wert + V der Betriebsspannung. Das Potential der Lese/Schreibleitung 5 und die Ausgangsspannung VA am Ausgang 22 erreichen den Wert + V — VBE. Der die Verriegelung darstellende leitende Zustand des Transistors 20 kann dadurch beendet werden, daß an Anschluß 23 ein Rückstellimpuls angelegt wird, durch den der Transistor 25 leitend wird. Auf diese Weise wird das Potential an der Basis des Transistors 20 vermindert, so daß der Transistor gesperrt wird.
Der Widerstand 19 ist bei dem niedrigen Betriebsstrom des Transistors 17 relativ groß. Außerdem stellt der Widerstand 19 bei seiner Verwirklichung in integrierter Schaltungstechnik ein gewisses Problem dar, wenn eine hohe Speicherdichte angestrebt wird und der Widerstand in der üblichen Technologie durch einen Diffusionsschritt hergestellt wird. Aus diesem Grunde ist in F i g. 3 ein weiteres Ausführungsbeispiel für einen erfindungsgemäß verwendeten Verriegelungskreis angegeben, der hohe Speicherdichten bei hoher Ausbeute zuläßt. Dabei wird der Widerstand 19 durch eine mit Feldeffekttransistoren aufgebaute Lastschaltung 28 ersetzt. Der Einsatz dieser Lastschaltung anstelle des Widerstandes 19 hat zur Folge, daß die benötigte Halbleiter-Oberfläche um eine Größenordnung reduziert wird. Es ergibt sich folgende Wirkungsweise. Der Transistor 29 bildet am Knoten V2 ein Potential von + V abzüglich der Schwellenspannung des Feldeffekttransistors. Gleichzeitig mit dem Auftreten des Lesesignals auf der Lese/Schreibleitung 5 wird der Knoten V3 auf die Spannung + V hochgepulst. Während der übrigen Zeit, in der sich der Knoten V3 auf Massepotential befindet, wird ein Rückstellweg gebildet, über den der verriegelnde Transistor 30 sperrbar ist, ohne daß ein zusätzlicher Rückstellkreis wie beim Ausführungsbeispiel gemäß F i g. 2 erforderlich wäre. Wird während einer Leseoperation der Knoten V3 auf das Potential + V hochgepulst, wo so erhöht sich über dem leitenden Feldeffekttransistor 31 das Potential im Knoten Vl. Eine Rückkopplungskapazität 32 dient dazu, den im Knoten Vl auftretenden Spannungssprung auf das Gate des Feldeffekttransistors 31 am Knoten V2 zurückzukoppeln. Die Größe der Kapazität ist so gewählt, daß etwa 80% des Spannungssprunges rückgekoppelt werden. Auf diese Weise wird erreicht, daß das Potential im Knoten Vl auf die Drainspannung + V und nicht auf die um den Schwellenwert verminderte Drainspannung angehoben wird, was bei Fehlen der Rückkopplungskapazität der Fall wäre. Bei gleicher Verlustleistung lassen sich durch Einstellung der Leitfähigkeit des Feldeffekttransistors 31 am Knoten Vl schnellere Übergänge erzielen, als dies bei Verwendung lediglich eines Widerstandes (Ausführungsbeispiel gemäß F i g. 2) der Fall ist Die Rückkopplungskapazität 32 kann durch die Gate Kanalkapazität des Feldeffektransistors 31 gebildet werden. Die Transistoren 33 und 34 und die Stromquelle 35 entsprechen in ihrer Funktion den Transistoren 16 und 17 und der Stromquelle 18 beim Ausführungsbeispiel gemäß F i g. 2. Der Ausgang 36 in F i g. 3 entspricht dem Ausgang 22 in F i g. 2.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims (7)

Patentansprüche:
1. Leseschaltung zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen, die Ober einen Selektionsschalter an eine Lese/Schreibleitung angeschlossen sind, dadurch gekennzeichnet,
, daß zwischen Speicherzelle (1) und Lese/Schreibleitung (5) ein erstes, in Lesestromrichtung und parallel dazu ein zweites, in Schreib- bzw. Rückladungsstromrichtung leitfähiges Schaltelement (6, 7) angeordnet ist und daß an die Lese/Schreibleitung der Eingang eines rückgekoppelten Verriegelungskreises angeschlossen ist, der während einer Leseoperation bei geladener Speicherzelle infolge des über das erste Schaltelement übertragenen Lesepegels zunächst verriegelt und dann infolge des Rückkopplungseffektes das Potential auf der Lese/ Schreibleitung auf den die Rückladung der Speicherzelle über das zweite Schaltelement bewirkenden Schreibpegel anhebt
2. Leseschaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Speicherzelle (1) aus einer Kapazität (CS) besteht, die über den Selektionsschalter (Q 1) in Serie zu der Parallelschaltung aus den beiden richtungsabhängigen Schaltelementen (6, 7) gelegt ist.
3. Leseschaltung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Schaltelemente (6, 7) aus einem ersten und einem zweiten bipolaren Transistor bestehen und daß die Basis des ersten und der Emitter des zweiten Transistors an den Selektionsschalter (Q 1) und der Emitter des ersten und die Basis des zweiten Transistors an die Lese/Schreibleitung (5) geführt sind, während die Kollektoren beider Transistoren an eine Betriebsspannungsquelle ( + V^ angeschlossen sind.
4. Leseschaltung nach den Ansprüchen t bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Selektionsschalter (Q 1) aus einem Feldeffekttransistor besteht.
5. Leseschaltung nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Verriegelungskreis aus einem gesteuerten Siliziumgleichrichter (9) besteht.
6. Leseschaltung nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Verriegelungskreis aus einem emittergekoppelten Stromübernahmeschalter (16,17) besteht, der über eine Emitterfolgestufe (20) rückgekoppelt ist.
7. Leseschaltung nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Speicherzellen über eine gemeinsame Parallelschaltung zweier richtungsabhängiger Schaltelemente mit einer gemeinsamen Lese/Schreibleitung verbunden sind.
DE2302137A 1972-03-20 1973-01-17 Leseschaltung zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen Expired DE2302137C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US23589772A 1972-03-20 1972-03-20

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2302137A1 DE2302137A1 (de) 1973-10-04
DE2302137B2 true DE2302137B2 (de) 1979-09-20
DE2302137C3 DE2302137C3 (de) 1980-06-19

Family

ID=22887316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2302137A Expired DE2302137C3 (de) 1972-03-20 1973-01-17 Leseschaltung zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3745539A (de)
JP (1) JPS5345099B2 (de)
CA (1) CA981365A (de)
DE (1) DE2302137C3 (de)
FR (1) FR2176709B1 (de)
GB (1) GB1367058A (de)
IT (1) IT974718B (de)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4057789A (en) * 1974-06-19 1977-11-08 International Business Machines Corporation Reference voltage source for memory cells
US3931617A (en) * 1974-10-07 1976-01-06 Signetics Corporation Collector-up dynamic memory cell
US3983545A (en) * 1975-06-30 1976-09-28 International Business Machines Corporation Random access memory employing single ended sense latch for one device cell
JPS5728873Y2 (de) * 1978-04-06 1982-06-23
US4264832A (en) * 1979-04-12 1981-04-28 Ibm Corporation Feedback amplifier
JPH0750560B2 (ja) * 1981-05-09 1995-05-31 ヤマハ株式会社 ディジタル集積回路装置
JPH0648595B2 (ja) * 1982-08-20 1994-06-22 株式会社東芝 半導体記憶装置のセンスアンプ
DE3380105D1 (en) * 1982-09-29 1989-07-27 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit device
US4651302A (en) * 1984-11-23 1987-03-17 International Business Machines Corporation Read only memory including an isolation network connected between the array of memory cells and the output sense amplifier whereby reading speed is enhanced
JPH0785358B2 (ja) * 1984-12-17 1995-09-13 株式会社日立製作所 半導体記憶装置
JPS6217140A (ja) * 1985-07-15 1987-01-26 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 銅硫化物精鉱からの不純物除去方法
US4677589A (en) * 1985-07-26 1987-06-30 Advanced Micro Devices, Inc. Dynamic random access memory cell having a charge amplifier
JPS6439690A (en) * 1988-06-03 1989-02-09 Nec Corp Semiconductor circuit
USPP13485P2 (en) 1999-06-01 2003-01-21 Florfis Ag Geranium plant named ‘Fisrosimo’
CN102808078B (zh) * 2012-06-18 2013-11-27 首钢总公司 球团焙烧装置

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3514765A (en) * 1969-05-23 1970-05-26 Shell Oil Co Sense amplifier comprising cross coupled mosfet's operating in a race mode for single device per bit mosfet memories
US3644905A (en) * 1969-11-12 1972-02-22 Gen Instrument Corp Single device storage cell for read-write memory utilizing complementary field-effect transistors

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5345099B2 (de) 1978-12-04
FR2176709B1 (de) 1976-05-21
DE2302137A1 (de) 1973-10-04
IT974718B (it) 1974-07-10
CA981365A (en) 1976-01-06
FR2176709A1 (de) 1973-11-02
US3745539A (en) 1973-07-10
DE2302137C3 (de) 1980-06-19
JPS4914053A (de) 1974-02-07
GB1367058A (en) 1974-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2525225A1 (de) Schaltungsanordnung zur anzeige der verschiebung elektrischer ladung
DE1499843A1 (de) Speicherzelle
DE2302137C3 (de) Leseschaltung zum zerstörungsfreien Auslesen dynamischer Ladungs-Speicherzellen
DE1537248C3 (de) Bistabiler Master-Slave-Multivibrator
DE1136371B (de) Elektronische Speicherschaltung
DE2743955A1 (de) Halbleiterspeicher
DE2505186B2 (de)
DE2457921C2 (de) Verfahren und schaltungsanordnung zur erhoehung der schreibgeschwindigkeit in integrierten datenspeichern
DE1959870C3 (de) Kapazitive Speicherschaltung
DE1265784B (de) Flipflopschaltung zur Speicherung von binaeren Datensignalen
EP0078335B1 (de) Verfahren zum Lesen eines Halbleiterspeichers
DE2223734A1 (de) Monolithische Speicherzelle
DE2851518A1 (de) Flipflop-speicherzelle mit verbesserten lese-/schreibeigenschaften
DE2121437A1 (de) Integrierter Schaltkreis mit nur einer Speisespannungsquelle
DE2748571A1 (de) Speichersteuerschaltung
DE3853182T2 (de) Speicherzelle mit gesättigtem schnellem Schreiben.
DE2246756C3 (de) Elektronischer Datenspeicher
DE2704796B2 (de) Dynamische Halbleiter-Speicherzelle
DE1918667A1 (de) Datenspeicher mit Dioden
DE1812542A1 (de) Koppelfeld mit in Reihe geschalteten Matrizen
EP0034712B1 (de) Integrierte digitale Halbleiterschaltung
DE2132560C3 (de)
DE2626928C2 (de) Logisch gesteuerte Verriegelungsschaltung
DE2654460A1 (de) Schaltung zur erhoehung der schreibgeschwindigkeit fuer speicherzellen
DE2111409C3 (de) Dynamisches Schieberegister

Legal Events

Date Code Title Description
OD Request for examination
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee