DE2150718B2 - Verfahren zur Herstellung von Chlormetyl-chlorsilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Chlormetyl-chlorsilanenInfo
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Description
Die Druckverhältnisse sind ebenfalls unkritisch. Es ist lediglich der Einfluß des Druckes inif die Löslichkeit
des Chlors in den verwendeten MethylchJorsilanen
zu beachten. Der Druck in den einzelnen Apparateteilen kann unterschiedlich sein.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird nachstehend
in einer vorteilhaften Ausführungsform näher erläutert. Zum besseren Verständnis des Verfahrensablaufes
dient die Figur. In dieser Figur bedeutet
I, 2, £, 7, 13, 15, 19, 20, 21 Zuleitungen und
Ableitungen, 3 ein Mischgefäß, 4 ein Begasungsventil, 6 ein Überlauf, 9 ein Beruhigungsgefäß, 10 ein
ReaktionsgL.räß, 11 Lampen, 12 ein Entgasungsgefäß
und 14 eine Füllkörperschicht, 16 eine Destillationskolonne, 17 Sumpf der Destillationskolonne, 18 ein
Kühler.
Das zu chlorierende Methylchlorsilan wird bei 2 in den Kreislauf eingespeist. Von der Einspeisungsstelle 2
gelangt es von unten her in das lichtiindurchlässige
Mischgefäß, das während des Betriebes bis zum Überlauf 6 mit dem Methylchlorsilan gefüllt ist. Im unterer.
Teil des Mischgefäßes 3 wird bei 4 das Ciiior in der
gewünschten Menge mittels Ringbrai.:.e oder Begasungs\cntil
in das Methylchlorsilan der oben aufgeführten Formel eingespeist.
Wird weniger Chlor in das Mischgefäß 3 eingespeist,
als in der durchfließenden Methylchlorsilanmenge löslich ist, so lösen sich die bei 4 austretenden
Chlorgasblasen vollständig in der flüssigen Phase auf. Während des weiteren Durchströmens durch das
Mischgcfäß wird die Lösung so gemischt, daß am
Überlauf 6 eine homogene Lösung von Chlor in Methylchlorsilan übergeht, das Mischen kann durch
Rühren, durch eingebaute Stromstörer oder Füllkörper geschehen. Die homogene Lösung gelangt dann über
ein Beruhigungsgefäß 9 in den Reaktor 10.
Wird durch Versagen der Chlordurchflußregelung oder durch Fehlbcdienung bei 4 mehr Chlor eingespeist,
als in der durchfließenden Methylchlorsilanmenge löslich ist (was bei der direkten Einleitung des
Chlors in den Reaktor immer zur Ausbildung einer explosionsfähigen Gasphase und häufig zu Explosionen
oder Verpuffungen führt), so durchbrechen die Chlorgasblasen die Flüssigkeitsoberfläche 8 und können
über die Leitung 7 gefahrlos abgeführt werden. Über das Beruhigungsgefäß 9 gelangt auch in diesem
Fall nur die Lösung von Chlor in Methylchlorsilan in
den Reaktor, die jetzt lediglich etwas mehr Chlor enthalten kann, als der in Bezug auf die Entstehung
höher chlorierter Nebenprodukte optimalen Menge entspricht. Ein Eindringen des gasförmigen Chlors in
den Reaktor und damit die Möglichkeit der Ausbildung einer explosionsfähigen Gasphase ist aber ausgeschlossen.
Die bei der Lösung des Chlors in dem Methylthlorsilan
freiwerdendc Wärme kann durch in das Mischgefäß 3 eingebaute, in der Figur nicht aufgeführten.
Wärmeaustauscher abgeführt werden. Die Temperatur der Lösung im Mischgcfäß 3 kann dadurch
auf einen Wert zwischen dem Schmelzpunkt und dem Siedepunkt des Methylchlorsilans, vorzugsweise zwischen
0 und 50"C, eingestellt werden. Die bei 4 in das Methylchlorsilan eingespeiste Chlormenge ist nach
unten nicht begrenzt, nach oben bei vorgegebenem Druck dutch die Löslichkeit des Chlors in dem zu
chlorierenden Methylchlorsilan bei der in dem Mischgcfäß 3 eingestellten Temperatur. Vorzugsweise beträgt
die bei Normaldruck eingespeiste Menge I bis
IO Molprozent Cl2, bezogen auf die das Mischgefäß 3
durchströmende Methylchlorsilanmenge.
Die völlig blasenfrei in den Reaktor 10 gelangte Lösung wird hier mit sichtbarem Licht oder UV-Licht
bestrahlt. Dies kann bei ganz oder teilweise lichtdurchlässigem Reaktor, wie in der Zeichnung angedeutet,
durch außerhalb des Reaktors befindliche Lampen 11, gegebenenfalls aber auch durch innerhalb des Reaktors
angebrachte Lichtquellen erfolgen. Während des Durchströmens der Lösung durch den Reaktor erfolgt
nun unter der Lichteinwirkung die Umsetzung des gelösten Chlors mit dem Methylchlorsilan, wobei das
entsprechende Chlormethylchlorsilan und Chlorwasserstoff entstehen, wobei, wie oben bereits erwähnt,
d ie A usgasung des Chlorwasserstoffs bei der erfindungsgemäßen
Prozeßführung vorteilhafterweise nicht im Reaktor, sondern erst in dem dem Reaktor nachgeschalteten
Entgasungsgefäß '.2 erfolgt, wo sie durch eingebrachte Füllkörper noch begünstigt werden
kann. Der freiwerdende Chlorwasserstoff wird über die Leitung 13 abgeführt. Da !ie in der Reaktionszor.e
freiwerdende Reaktionswärme ohne Schwierigkeiten durch einen in den Reaktor 10 eingebauten Wärmeaustauscher
abgeführt werden kann (in Jer Zeichnung
wurde dieser der Übersichtlichkeit halber nicht aufgeli:.hrt),
läßt sich im Reaktor eine Temperatur halten, bei der das Auftreten von Gasblasen sicher vermieden
wird.
Die das Entgasungsgefäß 12 verlassende Lösung gelangt über einen Überlauf bei 15 in die Destillationsstufe
16. Hier wird das nicht umgesetzte Methylchlorsilan bei Temperaturen, die oberhalb des Siedepunktes
des nicht chlorierten Produktes und unterhalb des Siedepunktes des monochlorierten Produktes liegen,
verdampft und gelangt nach Kondensation am Kühler 18 über die Leitung 19 wieder in die Chlorierungsanlage.
Restlicher noch in der Destillationsstufe freiwerdender Chlorwasserstoff wird über die Brüdenleitung 21
abgeführt. Das chlorierte Methylchlorsilan sammelt sich im Sumpf 17 der Destillationsstufe und wird über
den Überlauf 20 kontinuierlich abgenommen, während bei 2 im gleichen Maße neues Ausgangsprodukt dem
Kreislauf zugeführt wird.
Die nach dem erfindungsgemi-ßen Verfahren gewonnenen
Chlormethylchlorsilane sind wertvolle Ausgangsprodukte für die Synthese verschiedener organofunktioneller
Silane bzw. Siloxane.
Die Anlage, wie sie in der beiliegenden Figur gezeigt wird, wurde mi! Trimcthylchlorsilan beschickt und
dem durch das Mischgefäß 3 strömenden Trimethylchlorsilan 1.8 Molprozent ChIo, (bezogen auf die
Süanmenge) durch die Ringbrause 4 zudosiert. Die Temperatur im Mischgcfäß 3 betrug dabei vor dem
Wärmeaustauscher 25 C, hinter dem Wärmeaustauscher 18 C. Die homogene Lösung gelangte wie oben
besenrieben im Reaktor zur Umsetzung. Die Temperatur betrug dabei beim Eintritt in den Reaktor 18"C.
beim Austritt aus dem Reaktor 35"C. Das Reaktionsprodukt wurde nach Passieren des Entgasungsgefäßes
12 der Desti'lationsstufc 16 zugeführt. Hier wurde wie
beschrieben di.s nicht umgesetzte Trimethylchlorsilan verdampft und nach Kondensation am Kühler 18
erneut dem Kreislauf zugeführt. Das chlorierte Produkt sammelte sich im Sumpf der Dcstillationsstufe
und wurde bei 20 kontinuierlich entnommen. Die
KopftempcraUir der Dcstillalionsstufc betrug 58 C
was dem Siedepunkt des Trimcthylchlorsilnns entspricht, die Sumpftcmpcratur betrug im stationären
Zustand ΙΠ0 C. Das aus dem Sumpf kontinuierlich
abgenommene Produkt hatte folgende Zusammensetzung:
Produkt Anteil in Gewichtsprozent
(ChL1KSi(I 8.8
CICH2(CHJ2SiCI 87,5
höher siedende Nebenprodukte 3.7
7ÖO0
Die Anlage wurde mit Dimethyldichlorsilan beschickt und dem durch das Mischgefäß 3 strömenden
Dimethyldichlorsilan 5,4 Molprozent Chlor (bezogen auf die Silanmenge) zudosiert. Die Temperatur im
Mischgefäß betrug dabei vor dem Wärmeaustauscher 26C, hinter dem Wärmeaustauscher 16 C. Die homogene
Lösung gelangte im Reaktor zur Umsetzung, wobei die Temperatur beim Eintritt in den Reaktor
16°C und beim Austritt 36 C betrug. Das Reaktionsprodukt wurde, wie in Beispiel I beschrieben, in der
Destillationsstufe aufgetrennt. Die Kopftemperatur betrug 70 C, die Sumpftcmpcratur 105 C. Das aus
dem Sumpf kontinuierlich entnommene chlorierte Produkt hatte folgende Zusammensetzung:
Produkt Anteil in Gewichtsprozent
(CIy2SiCI2 12.4
CICH2CH3SiCI2 84.0
höher siedende Nebenprodukte 3.6
Ίοο.ο
Hei spieI 3
Die Anlage wurde mit Melhyltrichlorsilan beschickt und dem durch das Mischgefäß strömenden Metliylclilorsilan
5.3 Molprozent Chlor (bezogen auf die Silanmenge) zudosiert. Die Temperatur irn Mischgefäß
betrug dabei vor dem Wärmeaustauscher 26 C, hinter dem Wärmeaustauscher 18 C. Die homogene
Lösung gelangle im Reaktor zur Umsetzung, wobei die Temperatur beim Hintritt in den Reaktor 18 C
und beim Austritt 36 C betrug. Das Reaktionsprodukt
wurde, wie in Beispiel I beschrieben, in der Dcstillationsstufe aufgetrennt. Die Kopftemperalur betrug
66' C, dieSumpflcmperatur IOOr C. Das aus dem Sumpf
kontinuierlich entnommene Produkt hatte die folgende
Zusammensetzung:
Produkt Anteil in Gewichtsprozent
CH3SiCL1 19.9
CICH2SiCI.., 64.8
höher siedende Nebenprodukte 15,3
100.0
Vergleichsversuch
In einer Anlage, die nach dem bekannten, in der Literatur beschriebenen Verfahren arbeilet, sollte
Trimethylchlorsilan chloriert werden, indem gasförmiges Chler in den von außen mit UV-Licht bestrahlten,
vom flüssigen Ausgangsprodukt durchströmten Reaktor eingeleitet wurde. Die Temperaturen im Reaktor
betrugen am Eingang 26' C, am Ausgang 28" C. Bereits im Anfahrstadium, als crsi. etwa 0,5 Molprozent
Chlor (bezogen auf die den Reaktor durchströmende Trimethylchlorsilanmengc) eingeleitet wurden, kam es
nach 5 Minuten zu einer Verpuffung im Reaktor, die soweit erkennbar, in der Nähe der Einleitstelle des
Chlors in den Reaktor ausgelöst wurde. Der Versuch wurde daraufhin nicht weiter fortgesetzt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von Chlormethylchlorsilanen der Formel„_„wobei a I, 2 oder 3 und b 0, I oder 2 bedeutet, die Summe von a und b 3 jedoch nicht übersteigt, durch Umsetzung von Methylchlorsilanen der Formelmit Chlor in flüssiger Phase unter Einwirkung einer die Photoreaktion zwischen Chlor und Methylchlorsilan auslösenden Strahlung, d a durch gekennzeichnet, daß man Chlor und das entsprechende Methylchlorsilan in einer ersten Zone unter Ausschluß der die Photoreaktion auslösenden Strahlung vermischt und anschließend die Lösung :n einer zweiten Zone einer die Photoreaktion auslösenden Strahlung aussetzt, wobei ein Gasübertritt aus der ersten Zone in die Reaktionszone verhindert wird.25Es ist bekannt, daß Chlormethyl-chlorsilane durch Umsetzung von Methylohlorsilanen mit Chlor unter Einwirkung von energiereicher Strahlung in flüssiger und gasförmiger Phase hergestellt werden können (vgl. USA.-Paitentschriften 2 5ΙΛ 149 und 2 715 134). Diese Verfahren weisen aber schwerwiegende Nachteile auf, so daß eine wirtschaftliche ui.d vor allem gefahrlose Durchführung im technischen Maßstab nicht möglich ist. Führt man nämlich die Chlorierung der Methylchlorsiiane in der Gasphase derart durch, daß man die gasförmigen Methylchlorsilani." und das gasförmige Chlor in bekannter Weise in einen Reaktor leitet und dort unter Bestrahlung mit UV-Licht miteinander reagieren läßt, kann es zu heftigen Explosionen kommen (vgl. W. Zimmermann, Chem. Berichte, 87, 887 (1954)). Wie sich aus Versuchen ergeben hat, werden diese durch geringe Mengen Luft oder höhere lokale Chlorkonzentrationen in der Gasphase verursacht.Weicht man auf die Chlorierung der Methylchlorsiiane in der flüssigen Phase aus, indem man in einem Reaktor in bekannter Weise unter Bestrahlung mit 5» UV-Licht das gasförmige Chlor in das flüssige Methylchlorsilan einleitet, so kann gasförmiges Chlor in der Nähe der Einleitstelle eine in der Flüssigkeit befindliche Gasphase aus vielen einzelnen Gasblasen bilden und es kann in den über dem flüssigen Methylchlorsilan befindlichen Gasraum gelangen, so daß wieder die Möglichkeit einer Explosion in dieser Gasphase gegeben ist. Ein weiterer Nachteil ist die Tatsache, daß in der Nahe der Stellen, an denen das gasförmige Chlor in das flüssige Methylchlorsilan eingeleitet wird, lokal hohe Chlorkonzentrationen in der flüssigen Phase auftreten. Diese bedingen einen relativ hohen Anteil an höherchlorierten, in den meisten Fällen unerwünschten Nebenprodukten und damit eine Verringerung der Ausbeute an monochloriertem Produkt.Überraschenderweise hat es sich herausgestellt, daß man bei der Chlorierung von Methylchlorsilanen in flüssiger Phase unter Bestrahlung die genannten Schwierigkeiten dadurch vermeiden kann, daß man das Chlor nicht direkt in die Reaktionszone einspeist, sondern kontinuierlich in einem der Reaktionszone vorgeschalteten separaten Mischgefaß in dem flüssigen Methylchlorsilan in der gewünschten Dosierung löst und diese praktisch homogene Lösung von Chlor in Methylchlorsilan in einer solchen Weise durch einen Reaktor führt, daß unter Bestrahlung im Reaktor eine vollständige Umsetzung des gelösten Chlors mit dem Methylcnlorsilan erfolgt. Auf diese Weise wird mit Sicherheit vermieden, daß sich im Reaktor durch Ansammlung von gasförmigem Chlor über oder unter der Flüssigkeitsoberfläche ein explosionsfähiges Gasgemisch bilden kann. Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß durch das Einspeisen der homogenen Lösung von Chlor in Methylchlorsiiane in den Reaktor hohe lokale Chlorkonzentrationen in der Reaktionszone vermieden werden und dadurch der Anteil der höherchlorierten, meist unerwünschten Nebenprodukte, siark herabgesetzt und so die Ausbeute an monochloriertem Produkt gesteigeri wird.Ferner hat das Verfahren noch einen zusätzlichen Vorteil. Wird das gasförmige Chlor erfindungsgemäß nicht in den Reaktor eingespeist, sondern in einem dem Reaktor vorgeschalteten Mischgefäß in dem betreffenden flüssigen Methylchlorsilan gelöst und diese Lösung in einer solchen Weise durch einen Reaktor geführt, daß im Reaktor unter Bestrahlung eine vollständige Umsetzung des gelösten Chlors mit dem Methylchlorsilan erfolgt, dann kann der Prozeß leicht so geführt werden, daß der gesamte bei der Umsetzung entstehende Chlorwasserstoff nicht wie bei den bekannten Verfahren im Reaktor bzw. in der Reaktionszonc frei wird, sondern erst in einem dem eigentlichen Reaktor nachgeschalteten Entgasungsgefäß bzw. in der nachfolgenden Destillationsstufe. Auf diese Weise wird die bei Flüssigphasenchlorierungen wegen der dadurch bedingten schwierigen Prozeßführung unerwünschte Blasen- bzw. Schaumbildung im Reaktor völlig verhindert, so daß der Reaktor wesentlich kleiner und damit wirtschaftlicher ausgelegt werden kann.Das erfindungsgemäßc Verfahren wird im Prinzip so durchgeführt, daß das zu chlorierende Methylchlorsilan in einer dunklen Zone mit Chlor versetzt wird. Dabei bildet sich eine praktisch homogene Lösung von Chlor im Methylchlorsilan. Anschließend bringt man diese chlorhaltige Lösung in ein Reaktionsgefäß, wo die eigentliche Umsetzung — unter Einwirkung von energiereicher Strahlung — stattfindetDas Reaktionsgemisch, das im wesentlichen aus dem chlorierten Methylchlorsilan, wenig nicht umge·
Ausgangsmaterial und geringen Mengen an
chlorierten Produkten besteht, wird einem Trennverfahren unterworfen, bei dem dann das gewünschte Produkt in sehr reiner Form anfällt.Als Ausgangssubstanzen für das erfindungsgemäße Verfahren werden bekannte Methylchlorsiiane der Formel eingesetzt.Um eine möglichst homogene Lösung des Chlors in dem Methylchlorsilan zu erzielen, wird das Chlor in der gewünschten Menge mit Hilfe geeigneter Vorrichtungen, z. B. Begasungsventilen oder Ringbrausen in das Silan eingebracht.Die Temperatur, bei der die Chlorsilane mit Chlor versetzt werden, ist nicht kritisch, es empfiehlt sich jedoch im Temperaturbereich zwischen 00C und 50" C, zu arbeiten.
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JPS543274Y2 (de) * | 1972-12-05 | 1979-02-14 | ||
US3912604A (en) * | 1973-07-27 | 1975-10-14 | Bayer Ag | Process for brominating methylchlorosilanes |
DE2614197C2 (de) * | 1976-04-02 | 1985-04-11 | Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf | Verfahren zur Herstellung von α-Chlormethylsilanen |
JPS5458521A (en) * | 1977-10-17 | 1979-05-11 | Kanesuke Hagiwara | Winder without seal |
JPS63240808A (ja) * | 1987-03-30 | 1988-10-06 | 春日井仏具株式会社 | 仏像の蓮華座 |
JPS63249512A (ja) * | 1987-04-06 | 1988-10-17 | 春日井仏具株式会社 | 仏像の台座 |
US5449801A (en) * | 1993-07-14 | 1995-09-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Reactive distillation process for free radical halogenation |
DE10154943C1 (de) * | 2001-11-08 | 2002-11-21 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Chlorierung von Methylsilanen sowie Vorrichtung zu dessen Durchführung |
CN104558003B (zh) * | 2015-01-27 | 2017-08-29 | 荆州市江汉精细化工有限公司 | 一种液相氯化反应制备氯甲基三氯硅烷的方法 |
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