DE2106818A1

DE2106818A1 -

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Publication number: DE2106818A1
Application number: DE19712106818
Authority: DE
Priority date: 1970-02-13
Filing date: 1971-02-12
Publication date: 1971-08-19
Also published as: SE366400B; FR2078562A5; NL7102007A; AU2528871A; BE762929A; GB1291533A; US3653904A

Description

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DR.-INQ. H. FINOkE · MONOHtN«, <2 DIF¹L.-INQ. H. BOHR ..-...— - DIPL.-INQ, S. STAEQER

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Mappe 8661 - Dr. Z.
Docket NOeV.Ö· 90

YISUAI GEAPHIC3 GORP, New York, N.Y., U.S.A<

Verfahren und löaungen für die photographiBche Sohnellentwicklung

Priorität» 13.2·ί970 - U.S.A.

Ea wurden die verschiedensten Materialien und Zusammensetzungen In der photographlachen Technik verwendeti ua die für die pbotograpbiscbe Entwicklung erforderliche Zeit abzukürzen. Jedoch erzielen die bisher bekannten Materialien und Zusammensetzungen die größere Geschwindigkeit auf Kosten der Qualität, der Stabilität und der V/irtaohaftliöhkeit dee Endprodukts. Deageaäß liegt der Erfindung die Auf* gäbe zugrunde, Löeucgen für die rasche Entwicklung τοη exponierten liobteapfindlioben Materialien in weniger al« einer 1/2 ain su schaffen. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren sur Entwicklung exponierter pbotographisoher Materialien alt einer hoben Geeobwindigkeit zu schaffen, wobei eine gute Qualität und Stabilität bei geringen Kosten erzielt wird, Bei der Entwicklung gemäß der vorliegenden Erfindung werden die üblichen billigen lichtempfindlichen Materialien verwendet, und es werden

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vorzügliche Resultate mit solchen Materialien erzielt.

Die üblichen exponierten lichtempfindlichen Materialien werden durch 4 Bäder hindtirobgeführt, die auf eine Temperatur von 23,9 bis 5t,7⁰G gehalten werde». Die ersten beiden Bäder, in welchen die Entwicklung erfolgt, enthalten Hydrochinon im ersten Bad und ein Alkall im zweiten Bad. Die Fixierung und Waschung werden In den letzten beiden Bildern ausgeführt·

Sin fünftes Bad, welches Glycerin für die* Verhinderung einer Rissbildung der Emulsion enthält, kann verwendet werden, um die lebensdauer und Dauerhaftigkeit des fertigen Produkte su verbessern.

Bei der Entwicklung der exponierten lichtempfindlichen Materialien gemäß der Erfindung werden die Materialien rasch duroh eine Reihe von 4 Bidern bindurob£*fiihrt. Di· Lösungen in den Bädern werden mittels eines üblichen Thermostats auf eint Temperatur von 23,9 bis 51,7⁰O gehalten. Diese erhöhten Temperatures beschleunigen die Entwieklungs- und ?ixierungsreaktionen· Bei Terwendung der erfindungsgemäfien Zutammensetsungen ist es möglich, dafl das lieht· " empfindliche Material durch «11· vier Bider in weniger al« 1/2 min hindurchläuft·

Es wird eine hohe fintwioklungsgeschwindigkeit durch di« hoohalkalische Hydrochinonentwicklung ersielt, wobei gleich* seitig die Aktivität und Oebrauohsfihigkeit der Lösung stark vergrößert wird. Diese Vorteile werden dadurch »iohergestellt, daß die Komponenten der Entwioklungsl0sung In 2 stabile Bäder getrennt werden· Das erste Bad dient daeu, das lichtempfindliche Material mit Entwickler bei einem pH zu imprägnieren, der eine lange Lebensdauer und Stabilität der Lösung sicherstellt. Der für eine rasche Entwicklung

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richtige pH wird durch das »weite Bad geliefert. Das Hydroebi npn unterliegt eoait keiner in-sitn-Oxydation, und es wird nur die kleine Iiydrocbinonmenge, die in das zweite alkalische Bad überführt wird, einer chemischen Reaktion ausgesetzt*

Sin bevorzugtes erstes erfindungagemäßes Bad besteht aus dem Folgenden»

Gewiohtsteil»

WaBBer 86,73

ffatriuabisulfit .0,70

Beneötriazol 0,02 Ifydrocbinon 4 »7* Xthylendyool 7 »73

»Bariumsulfit 0,11

Das Äthylenclycol erhöht die Löslichkeit des Hydrochinon in der Lösung, wodurch die Hydrochinonaeng« steigt» die durch das lichtempfindliche Material absorbiert wird.

Ein bevorzugtes zweites erfindungegemäBes Bad besteht aus Folgendem}

Gewichtsteile

Wasser 88,09

Kaliumbromid 0,65 Hatriumsulfit 5,87 T rinatriizmphosphät 1,47 Hatrlumhydrozid 3,92

Wenn €as lichtempfindliche Material aus dem zweiten Bad herauskommt, dann ist es voll entwickelt, Die Entwicklungen seit liegt in der Größenordnung von 14 see, und zwar

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aufgrund der Kombination der hohen Konzentration der ersten Lösung, des hohen pH-Werts der «weiten Lösung und der erhöhten Temperaturen (23,9 bis 51,7⁰O) der beiden lösungen.

Das entwickelte lichtempfindliche Material wird dann den dritten Bad sugefUhrt, welches «ine rasche Fixierung erseugt.

Sine bevorzugte erfindungsgemäf· Fixierungelösung besteht aus dem folgendent

gewichtsteile

Amwoniumthioeulfat (50 Jt) 35,72 Ammoniumthlocyanat (50 Ji) 17,86

Wasser 46,42

Sine weitere erfindungsgemäBe l'ixlerungslösung besteht aus dem Folgenden:

gewichtsteile

Wasser 54,75

Hononatriumphosphat 2,78 Natriumsulfit 1,21 Ammoniuathiooyanat (50 Jt) 12,12 Ammoniomthiosulfat (50 ^) 29,14

Wenn das lichtempfindliche Material aus dem dritten oder Fixierungsbad herauskommt, durch welches es in etwa 7 see hindurchgeht, dann wird es im vierten Bad wtthrend annähernd der gleichen Zeit gewaschen.

Sin bevorzugtes viertes Bad besteht aus Folgendem:

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Gewichtsteile

Ammoniumthiosulfat (50 ^) 10,71

Wasser 89,29

Die Verwendung einer verdünnten Tbiosulfatlösung als letztes Bad ergibt eine ausreichende Komplexbildung mit den freien Silberionen und eine ausreichende Auswaschung der Reaktionsprodukte, so daß eine gute Schnellfixierung ersielt wird.

Wenn ein vollständig fixiertes photographisches Produkt gewünscht wird, dann kann ein fünftes Bad verwendet werden,=

Ein zufriedenstellendes fünftes erfindungsgemäßes Bad zur Erzielung von photographischen Materialien mit höchster Qualität "besteht aus Folgendem:

Gewichtateile

Wasser 94,75

Hatriumbenzoat 0,28

Isopropy!alkohol 1,42

Essigsäure (50 $) 1,42

Glyzerin 1,42

Athylenclyool 0,71

Da» entwickelte photographieche Material soll im letzten Bad annähernd 7 see bleiben.

Aus dem obigen ist ersichtlich, daß die Erfindung eine Reibe von Lösungen liefert, die, wenn sie bei den angegebenen Temperaturen verwendet wtrden, voll entwickelte photographisehe Materialien hoher Qualität in kurzer Zeit ergeben, wobei die üblichen billigen lichtempfindlichen Papiere, Filme usw« verwendet werden.

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Claims

Patentansprüche

Eine Reihe von Lösungen zur Sohnellentwicklung exponierter lichtempfindlicher Materialisn, dadurch gekennzeichnet, daß a ie aus B'olgendem bestehen:

einem ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew,~<& V/asser, 0,70 Gew.-~£ Satriumbisulfit, 0,02 Gew--# Benzotriazole 4,71 Gew.~4> 3ydrochinon, 7,73 Gew.-^ Äthylenclycoi und 0,11 Gew.-^ Natriumsulfat; einem zweiten Bad, bestehend aus 88,09 Gew.-^ Waaaer, 0,65 Gew.~$ Kaliumbromid, 5,87 Gew.-$> iSatriumsulfit, 1,47 Gew.-^ Trinatriunrohosphat und 3,92 Gew,~# Natriumhydroxid\ einem'dritten Bad, bestehend aus 35,72 GeW₁-^ Ammoniumthiosulfat (50 $>) , 17,86 Gew„-# Ammoniumthiocyanat (50 #) und 4^,42 Gew₃--5& Wasser; und einem vierten Bad, bestehend aus 10,71 Gew. -fi Ammoniumthiosulfat (50 $) und 89,29 Gew.-# V/asserj wobei daa erste, das zweite, das dritte und das vierte Bad bei einer,Temperatur zwischen 23,9 und 51,7°C (75 bis 125°FJ verwendet werden.

Eine Reihe von lösungen fUr die Schnellentwieklung von exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurih gekennzeichnet, daß sie bestehen aus: einem ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew.-Jb V/asser, 0,70 Gew.--# fiatriumbisulfit, 0,02 Gevf.-^ Benzotriaiiolj 4,71 Gew.-$> Hydrochinon, 7,73 Gew.-# Äthylenclycoi und 0,11 Gew.-?S Natriumsulfit; einem zweiten Bad, bestehend aus 88,09 Gew.-^ Wasser, 0,65 Gew..-# Kaliumbromid, 5,87 Gew.-^ Natriumsulfit, 1,47 Gew.-^ Trinatriumphosphat und 3,92 Gew.-^ Natriumhydroxid; einem dritten Bad, bestehend aus 29,14 Gew.-# Ammoniumthiosulfat (50 $>), 12,12 Gew.-# Ammoniumthiocyanat (50 #>, 54,75 Gew.-$> Wasser, 2,78 Gew.-<$> Mononatriumphoiiphat und 1,21 Gew . -i> Hatriumsulfit; und einem vierten Bad, bestehend aas 10,71 Gew.-^ Ammoniumthiosulfat {-jO $) und 89,29 Gew*c -i»

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Wasserι wobei das erste, das zweite, das dritte und das Tierte Bad bei einer Temperatur «wischen 23,9 und 51,7⁰C (75 bie 125⁰P) verwendet werden.

3. Eine Reihe von Lösungen für die Schnellentwicklung τοη exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurch gekennseichnet, daß sie bestehen aus: . eines ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew.-jt Wasser, 0,70 Gew.-it Matrlusbisulfit, 0,02 Gew.-jt Bensotrlaeol, ' 4,71 Gew.-Jt Hydrochinon, 7,73 Gew.-£ Xthylenclycol und 0,11 Gew.-Ji NatriussulfIt; eines zweiten Bad, bestehend aus 68,09 Gew.-Ji Wasser, 0,65 Gew.-Ji Kaliumbromid, 5,87 Gew.-Ji Matriusaulf it, 1,47 Gew.-jt Trinatriumphosphat und 3»92 Gew.-Jt Natriumhydroxid j eines dritten Bad, bestehend aus 35,72 Gew.-Jt Ammoniumthioeulfat (50 ?t), 17,86 Gew.-jt Ammoniumthiocyanat (50 #) und 46,42 Gew.-Ji Wasserf eines vierten Bad, bestehend aus 10,71 Gew.-Jt Ammoniumthioeulfat (50 #) und 89,29 Gew.-# Wassert und einem fünften Bad, bestehend aus 94,75 Gew.-^ Wasser, 0,28 Gew.-# Natriumbensoat, 1,24 Gew.-f> Ieopropylalkohol, 1,42 Gew.-^ Essigsäure (50 t>), 1,42 Gew.-Ji Glycerin und 0,71 Gew.-jt Xthylenclycolj wobei das erste, das «weite, das dritte, das vierte.und das fünfte Bad bei einer Temperatur «wischen 23,9 und 51,7⁰C (75 bis 125⁰F) verwendet werden.

4· Eine Reihe von Losungen für die Schnellentwioklung von exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurch gekennreicbnet, dafi sie bestehen aus:

_· einem ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew.-ji Wasser,. 0,70 Gew.-5i Matriumbisulfit, 0_#02 Gew.-^ Benaotriaeol, 4=»71 Gew.-Jt Hydrochinon, 7,73 Gew.-56 Äthylenclycol und ** 0,11 Gew.-£ latriumeulfit j einem «weiten Bad, bestehend -* aus 88,09 Gew.-ji Wasser, 0,65 Gew»-# Kaliumbromid,* u, 5,87 Gew.-5t HatriussulfIt_t 1,47 Gew.-ji Trinatriumphosphat und 3,92 G*w.-j6 iatriumhydroxid; einem dritten Bad, bestehend aus 29,14 Gew.-Jt Ammoniumthioeulfat

(50 #), 12,12 Gew.-?£ Ammoniumthiocyaiiat (50 ?>), 54,75 Gew.-^ Wasser, 2,78 Gew.-^ Monoaatriumpnosphat und 1,21 Gew„-?£ Natriumsulfat; einem vierteil Bad, bestehend aus 10,71 Gew<.~$ Ammoriiurathiosulfst (50 $) und 89,29 Gew.-$ V/aaser: und einem fünften Bad, bestehend aus 94,75 Gew„-$ Waoser, 0,28 Gew.-# Natriumbenaoat, 1,42 Gew.-^ Isopropy!alkohol, 1,42 Gew„--$ Essigsäure (50 $), 1,42 Gew»-$ Glyzerin und 0,71 Gew.-?? Äthylen glycol; wobei das erste, daa zweite, das dritte, das vierte und das fünfte Bad bei einer Temperatur zwischen 23,9 und 51,7⁰C (75 bia 125°?) verwendet werden.

5* Verfahren zur Entwicklung von exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurch gekennzeichnet, daß man daa lichtempfindliche Material durch einen Entwickler hindurchführt, der eine hohe Konzentration an Hydrochinon und eine Temperatur von 23,9 bis 51,7⁰C (75 bis 120⁰P) hindurchführt und hierauf das lichtempfindliche Material fixiert und ausv/äsnht.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Hydrochinon mindestens 4,71 Qevs,-% des Entwicklers ausmacht.

7ο Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daS der Entv/ickler aus zwei Bädern besteht, wobei das erste Bad das Hydrochinon in hoher Konzentration enthält und das aweite Bad einen für eine rasche Entwicklung nötigen hohen pH-V/ert besitzt.

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