DE2106818A1

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Publication number: DE2106818A1
Application number: DE19712106818
Authority: DE
Priority date: 1970-02-13
Filing date: 1971-02-12
Publication date: 1971-08-19
Also published as: SE366400B; FR2078562A5; NL7102007A; AU2528871A; BE762929A; GB1291533A; US3653904A

Description

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DR.-INQ. H. FINOkE · MONOHtN«, <2DR.-INQ. H. FINOkE · MONOHtN «, <2 DIF¹L.-INQ. H. BOHR ..-...— -DIF ¹ L.-INQ. H. BOHR ..-...— - DIPL.-INQ, S. STAEQERDIPL.-INQ, S. STAEQER

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Mappe 8661 - Dr. Z.
Docket NOeV.Ö· 90Folder 8661 - Dr. Z.
Docket NOeV.Ö 90

YISUAI GEAPHIC3 GORP, New York, N.Y., U.S.A<YISUAI GEAPHIC3 GORP, New York, N.Y., U.S.A. <

Verfahren und löaungen für dieProcedures and solutions for the photographiBche Sohnellentwicklungphotographic son development

Priorität» 13.2·ί970 - U.S.A.Priority »13.2 · ί970 - U.S.A.

Ea wurden die verschiedensten Materialien und Zusammensetzungen In der photographlachen Technik verwendeti ua die für die pbotograpbiscbe Entwicklung erforderliche Zeit abzukürzen. Jedoch erzielen die bisher bekannten Materialien und Zusammensetzungen die größere Geschwindigkeit auf Kosten der Qualität, der Stabilität und der V/irtaohaftliöhkeit dee Endprodukts. Deageaäß liegt der Erfindung die Auf* gäbe zugrunde, Löeucgen für die rasche Entwicklung τοη exponierten liobteapfindlioben Materialien in weniger al« einer 1/2 ain su schaffen. Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren sur Entwicklung exponierter pbotographisoher Materialien alt einer hoben Geeobwindigkeit zu schaffen, wobei eine gute Qualität und Stabilität bei geringen Kosten erzielt wird, Bei der Entwicklung gemäß der vorliegenden Erfindung werden die üblichen billigen lichtempfindlichen Materialien verwendet, und es werdenA wide variety of materials and compositions were used in the photographic technique, including the Shorten the time required for the graphic development. However, the previously known materials achieve and compositions the greater speed at the expense of the quality, stability and reliability of the end product. Deageaäß is the invention the * would be based on Löeucgen for the rapid development τοη exposed liobteapfindliobic materials in less than to create a 1/2 ain su. Another object of the invention is to provide a method of developing exposed pbotographisoher materials old to create a high geeob speed, with good quality and stability is obtained at a low cost. When developing according to the present invention, the usual ones become inexpensive photosensitive materials used and there will be

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vorzügliche Resultate mit solchen Materialien erzielt.achieved excellent results with such materials.

Die üblichen exponierten lichtempfindlichen Materialien werden durch 4 Bäder hindtirobgeführt, die auf eine Temperatur von 23,9 bis 5t,7⁰G gehalten werde». Die ersten beiden Bäder, in welchen die Entwicklung erfolgt, enthalten Hydrochinon im ersten Bad und ein Alkall im zweiten Bad. Die Fixierung und Waschung werden In den letzten beiden Bildern ausgeführt·The usual exposed light-sensitive materials are hindtirobgeführt by 4 baths, which was being held at a temperature of 23.9 to 5t, 7 ⁰ G ». The first two baths in which development takes place contain hydroquinone in the first bath and an alkali in the second bath. The fixation and washing are carried out in the last two pictures

Sin fünftes Bad, welches Glycerin für die* Verhinderung einer Rissbildung der Emulsion enthält, kann verwendet werden, um die lebensdauer und Dauerhaftigkeit des fertigen Produkte su verbessern.Sin fifth bath, which glycerin for the * prevention of a Cracking the emulsion containing it can be used to increase the life and durability of the finished product su improve.

Bei der Entwicklung der exponierten lichtempfindlichen Materialien gemäß der Erfindung werden die Materialien rasch duroh eine Reihe von 4 Bidern bindurob£*fiihrt. Di· Lösungen in den Bädern werden mittels eines üblichen Thermostats auf eint Temperatur von 23,9 bis 51,7⁰O gehalten. Diese erhöhten Temperatures beschleunigen die Entwieklungs- und ?ixierungsreaktionen· Bei Terwendung der erfindungsgemäfien Zutammensetsungen ist es möglich, dafl das lieht· " empfindliche Material durch «11· vier Bider in weniger al« 1/2 min hindurchläuft·In developing the exposed photosensitive materials according to the invention, the materials will be rapidly passed through a series of 4 images. Di · solutions in the bath are maintained by means of a conventional thermostat at one temperature from 23.9 to 51.7 ⁰ O. This increased temperature accelerates the development and oxidation reactions. When using the ingredients according to the invention, it is possible for the slightly sensitive material to pass through four frames in less than half a minute.

Es wird eine hohe fintwioklungsgeschwindigkeit durch di« hoohalkalische Hydrochinonentwicklung ersielt, wobei gleich* seitig die Aktivität und Oebrauohsfihigkeit der Lösung stark vergrößert wird. Diese Vorteile werden dadurch »iohergestellt, daß die Komponenten der Entwioklungsl0sung In 2 stabile Bäder getrennt werden· Das erste Bad dient daeu, das lichtempfindliche Material mit Entwickler bei einem pH zu imprägnieren, der eine lange Lebensdauer und Stabilität der Lösung sicherstellt. Der für eine rasche EntwicklungA high finting speed is achieved through the high-alkaline hydroquinone development achieved, where * on the other hand, the activity and usability of the solution is greatly enlarged. These advantages are produced in that the components of the development solution In 2 stable baths are separated · The first bath serves as a impregnate the photosensitive material with developer at a pH that has a long life and stability of the solution. The one for rapid development

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richtige pH wird durch das »weite Bad geliefert. Das Hydroebicorrect pH is supplied by the »wide bath. The Hydroebi npn unterliegt eoait keiner in-sitn-Oxydation, und es wird nur die kleine Iiydrocbinonmenge, die in das zweite alkalische Bad überführt wird, einer chemischen Reaktion ausgesetzt*npn is not subject to in-sitn oxidation, and it only becomes the small amount of iydrocbinon contained in the second alkaline Bath is transferred, exposed to a chemical reaction *

Sin bevorzugtes erstes erfindungagemäßes Bad besteht aus dem Folgenden»A preferred first bathroom according to the invention consists of the following »

Gewiohtsteil»Gewiohtteil »

WaBBer 86,73WaBBer 86.73

ffatriuabisulfit .0,70ffatriuabisulfite .0.70

Beneötriazol 0,02Beneotriazole 0.02 Ifydrocbinon 4 »7*Ifydrocbinon 4 »7 * Xthylendyool 7 »73Xthylendyool 7 »73

»Bariumsulfit 0,11»Barium sulfite 0.11

Das Äthylenclycol erhöht die Löslichkeit des Hydrochinon in der Lösung, wodurch die Hydrochinonaeng« steigt» die durch das lichtempfindliche Material absorbiert wird.The ethylene glycol increases the solubility of the hydroquinone in the solution, whereby the Hydrochinonaeng «increases» the is absorbed by the photosensitive material.

Ein bevorzugtes zweites erfindungegemäBes Bad besteht aus Folgendem}A preferred second bathroom according to the invention consists of Following}

GewichtsteileParts by weight

Wasser 88,09Water 88.09

Kaliumbromid 0,65Potassium bromide 0.65 Hatriumsulfit 5,87Sodium sulfite 5.87 T rinatriizmphosphät 1,47Trinatriizmphosphät 1.47 Hatrlumhydrozid 3,92Hatrum Hydrozide 3.92

Wenn €as lichtempfindliche Material aus dem zweiten Bad herauskommt, dann ist es voll entwickelt, Die Entwicklungen seit liegt in der Größenordnung von 14 see, und zwarIf € as photosensitive material from the second bath comes out then it is fully developed, The developments since is in the order of 14 see, namely

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aufgrund der Kombination der hohen Konzentration der ersten Lösung, des hohen pH-Werts der «weiten Lösung und der erhöhten Temperaturen (23,9 bis 51,7⁰O) der beiden lösungen.due to the combination of the high concentration of the first solution, the high pH value of the «wide solution and the elevated temperatures (23.9 to 51.7 ⁰ O) of the two solutions.

Das entwickelte lichtempfindliche Material wird dann den dritten Bad sugefUhrt, welches «ine rasche Fixierung erseugt.The developed photosensitive material then becomes the Third bath suggests, which allows for quick fixation.

Sine bevorzugte erfindungsgemäf· Fixierungelösung besteht aus dem folgendent A preferred fixing solution according to the invention consists of the following t

gewichtsteileparts by weight

Amwoniumthioeulfat (50 Jt) 35,72Ammonium Thioeulfate (50 Jt) 35.72 Ammoniumthlocyanat (50 Ji) 17,86Ammonium thlocyanate (50 Ji) 17.86

Wasser 46,42Water 46.42

Sine weitere erfindungsgemäBe l'ixlerungslösung besteht aus dem Folgenden:Another fixation solution according to the invention consists of the following:

gewichtsteileparts by weight

Wasser 54,75Water 54.75

Hononatriumphosphat 2,78Honosodium Phosphate 2.78 Natriumsulfit 1,21Sodium sulfite 1.21 Ammoniuathiooyanat (50 Jt) 12,12Ammonium thiooyanate (50 Jt) 12.12 Ammoniomthiosulfat (50 ^) 29,14Ammoniom thiosulfate (50 ^) 29.14

Wenn das lichtempfindliche Material aus dem dritten oder Fixierungsbad herauskommt, durch welches es in etwa 7 see hindurchgeht, dann wird es im vierten Bad wtthrend annähernd der gleichen Zeit gewaschen.When the photosensitive material from the third or Comes out of the fixation bath, through which it passes for about 7 seconds, then in the fourth bath it becomes approximately washed at the same time.

Sin bevorzugtes viertes Bad besteht aus Folgendem:A preferred fourth bath consists of the following:

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GewichtsteileParts by weight

Ammoniumthiosulfat (50 ^) 10,71Ammonium thiosulfate (50 ^) 10.71

Wasser 89,29Water 89.29

Die Verwendung einer verdünnten Tbiosulfatlösung als letztes Bad ergibt eine ausreichende Komplexbildung mit den freien Silberionen und eine ausreichende Auswaschung der Reaktionsprodukte, so daß eine gute Schnellfixierung ersielt wird.The use of a dilute Tbiosulphate solution as a last bath results in sufficient complex formation with the free silver ions and sufficient leaching of the reaction products, so that a good rapid fixation is obtained.

Wenn ein vollständig fixiertes photographisches Produkt gewünscht wird, dann kann ein fünftes Bad verwendet werden,=If a fully fixed photographic product is desired, then a fifth bath can be used, =

Ein zufriedenstellendes fünftes erfindungsgemäßes Bad zur Erzielung von photographischen Materialien mit höchster Qualität "besteht aus Folgendem:A satisfactory fifth bath of the present invention for obtaining photographic materials with superiority Quality "consists of the following:

Gewichtateile Weight parts

Wasser 94,75Water 94.75

Hatriumbenzoat 0,28Sodium benzoate 0.28

Isopropy!alkohol 1,42Isopropyl alcohol 1.42

Essigsäure (50 $) 1,42Acetic Acid ( $ 50) 1.42

Glyzerin 1,42Glycerine 1.42

Athylenclyool 0,71Ethylene glycol 0.71

Da» entwickelte photographieche Material soll im letzten Bad annähernd 7 see bleiben.The photographic material developed should be in the last Remain bath for approximately 7 seconds.

Aus dem obigen ist ersichtlich, daß die Erfindung eine Reibe von Lösungen liefert, die, wenn sie bei den angegebenen Temperaturen verwendet wtrden, voll entwickelte photographisehe Materialien hoher Qualität in kurzer Zeit ergeben, wobei die üblichen billigen lichtempfindlichen Papiere, Filme usw« verwendet werden.From the above it can be seen that the invention provides a grater of solutions which when applied to the stated Temperatures can be used, fully developed high quality photographic materials in a short time result, with the usual cheap photosensitive Papers, films, etc. «can be used.

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Claims

PatentansprücheClaims

Eine Reihe von Lösungen zur Sohnellentwicklung exponierter lichtempfindlicher Materialisn, dadurch gekennzeichnet, daß a ie aus B'olgendem bestehen:A number of solutions for son development exposed light-sensitive material, characterized in that that they consist of the following:

einem ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew,~<& V/asser, 0,70 Gew.-~£ Satriumbisulfit, 0,02 Gew--# Benzotriazole 4,71 Gew.~4> 3ydrochinon, 7,73 Gew.-^ Äthylenclycoi und 0,11 Gew.-^ Natriumsulfat; einem zweiten Bad, bestehend aus 88,09 Gew.-^ Waaaer, 0,65 Gew.~$ Kaliumbromid, 5,87 Gew.-$> iSatriumsulfit, 1,47 Gew.-^ Trinatriunrohosphat und 3,92 Gew,~# Natriumhydroxid\ einem'dritten Bad, bestehend aus 35,72 GeW₁-^ Ammoniumthiosulfat (50 $>) , 17,86 Gew„-# Ammoniumthiocyanat (50 #) und 4^,42 Gew₃--5& Wasser; und einem vierten Bad, bestehend aus 10,71 Gew. -fi Ammoniumthiosulfat (50 $) und 89,29 Gew.-# V/asserj wobei daa erste, das zweite, das dritte und das vierte Bad bei einer,Temperatur zwischen 23,9 und 51,7°C (75 bis 125°FJ verwendet werden.a first bath consisting of 86.73 wt ~ <& V / ater, 0.70 wt ~ £ Satriumbisulfit, 0.02 wt - # benzotriazoles 4.71 wt ~. 4> 3ydrochinon, 7.73 wt - ^ ethylene glycol and 0.11% by weight sodium sulfate; a second bath consisting of 88.09 wt .- ^ Waaaer, 0.65 wt ~ $ potassium bromide, 5.87 wt -.. $> iSatriumsulfit, 1.47 wt .- ^ Trinatriunrohosphat and 3.92 wt, ~ # sodium hydroxide \ einem'dritten bath consisting of 35.72 GeW ₁ - ^ ammonium thiosulfate (50 $>), 17.86 wt "- # ammonium thiocyanate (50 #) and 4 ^, 42 wt ₃ --5 &water; and a fourth bath, consisting of 10.71 wt .-% ammonium thiosulfate ($ 50) and 89.29 wt .- # V / asserj where daa first, second, third and fourth bath at a, temperature between 23, 9 and 51.7 ° C (75 to 125 ° FJ can be used.

Eine Reihe von lösungen fUr die Schnellentwieklung von exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurih gekennzeichnet, daß sie bestehen aus: einem ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew.-Jb V/asser, 0,70 Gew.--# fiatriumbisulfit, 0,02 Gevf.-^ Benzotriaiiolj 4,71 Gew.-$> Hydrochinon, 7,73 Gew.-# Äthylenclycoi und 0,11 Gew.-?S Natriumsulfit; einem zweiten Bad, bestehend aus 88,09 Gew.-^ Wasser, 0,65 Gew..-# Kaliumbromid, 5,87 Gew.-^ Natriumsulfit, 1,47 Gew.-^ Trinatriumphosphat und 3,92 Gew.-^ Natriumhydroxid; einem dritten Bad, bestehend aus 29,14 Gew.-# Ammoniumthiosulfat (50 $>), 12,12 Gew.-# Ammoniumthiocyanat (50 #>, 54,75 Gew.-$> Wasser, 2,78 Gew.-<$> Mononatriumphoiiphat und 1,21 Gew . -i> Hatriumsulfit; und einem vierten Bad, bestehend aas 10,71 Gew.-^ Ammoniumthiosulfat {-jO $) und 89,29 Gew*c -i» A series of solutions for the rapid development of exposed photosensitive materials, characterized in that they consist of: a first bath consisting of 86.73% by weight of water, 0.70% by weight of fiatrium bisulfite, 0.02 Gevf .- ^ Benzotriaiiolj 4.71 wt .- $> hydroquinone, 7.73 wt .-% ethylene glycol and 0.11 wt .-% sodium sulfite; a second bath, consisting of 88.09 wt .- ^ water, 0.65 wt .- ^ potassium bromide, 5.87 wt .- ^ sodium sulfite, 1.47 wt .- ^ trisodium phosphate and 3.92 wt .- ^ Sodium hydroxide; a third bath consisting of 29.14 wt .- # Ammonium thiosulfate (50 $>), 12.12 wt .- # ammonium thiocyanate (50 #> 54.75 wt -. $> water, 2.78 wt -. < . $> Mononatriumphoiiphat and 1.21 wt -i> Hatriumsulfit; and a fourth bath consisting aas 10.71 wt .- ^ ammonium -jō {$) and 89.29 wt * c -i "

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Wasserι wobei das erste, das zweite, das dritte und das Tierte Bad bei einer Temperatur «wischen 23,9 und 51,7⁰C (75 bie 125⁰P) verwendet werden.Wasserι the first, the second, the third and the Tierte bath at a temperature between 23.9 and 51.7 ⁰ C (75 to 125 ⁰ P) are used.

3. Eine Reihe von Lösungen für die Schnellentwicklung τοη exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurch gekennseichnet, daß sie bestehen aus: . eines ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew.-jt Wasser, 0,70 Gew.-it Matrlusbisulfit, 0,02 Gew.-jt Bensotrlaeol, ' 4,71 Gew.-Jt Hydrochinon, 7,73 Gew.-£ Xthylenclycol und 0,11 Gew.-Ji NatriussulfIt; eines zweiten Bad, bestehend aus 68,09 Gew.-Ji Wasser, 0,65 Gew.-Ji Kaliumbromid, 5,87 Gew.-Ji Matriusaulf it, 1,47 Gew.-jt Trinatriumphosphat und 3»92 Gew.-Jt Natriumhydroxid j eines dritten Bad, bestehend aus 35,72 Gew.-Jt Ammoniumthioeulfat (50 ?t), 17,86 Gew.-jt Ammoniumthiocyanat (50 #) und 46,42 Gew.-Ji Wasserf eines vierten Bad, bestehend aus 10,71 Gew.-Jt Ammoniumthioeulfat (50 #) und 89,29 Gew.-# Wassert und einem fünften Bad, bestehend aus 94,75 Gew.-^ Wasser, 0,28 Gew.-# Natriumbensoat, 1,24 Gew.-f> Ieopropylalkohol, 1,42 Gew.-^ Essigsäure (50 t>), 1,42 Gew.-Ji Glycerin und 0,71 Gew.-jt Xthylenclycolj wobei das erste, das «weite, das dritte, das vierte.und das fünfte Bad bei einer Temperatur «wischen 23,9 und 51,7⁰C (75 bis 125⁰F) verwendet werden.3. A number of solutions for the rapid development of exposed light-sensitive materials, characterized in that they consist of:. a first bath, consisting of 86.73 pbw by weight of water, 0.70 pbw by weight of matrium bisulfite, 0.02 pbw of bensotrlaeol, 4.71 pbw by weight of hydroquinone, 7.73 pbw by weight Ethylene glycol and 0.11 wt% sodium sulfite; a second bath, consisting of 68.09 parts by weight of water, 0.65 parts by weight of potassium bromide, 5.87 parts by weight of matrius sulfite, 1.47 parts by weight of trisodium phosphate and 3 »92 parts by weight of trisodium phosphate Sodium hydroxide in a third bath, consisting of 35.72% by weight of ammonium thioeulphate (50%), 17.86% by weight of ammonium thiocyanate (50 #) and 46.42% by weight of water in a fourth bath, consisting of 10 , 71 parts by weight of ammonium thioeulphate (50 #) and 89.29% by weight of water and a fifth bath consisting of 94.75% by weight of water, 0.28% by weight of sodium likewiseate, 1.24% by weight. -f> Ieopropylalkohol, 1.42 wt .- ^ acetic acid (50 t>), 1.42 part by weight of glycerol and 0.71 part by weight Ji jt Xthylenclycolj wherein the first, the "wide, the third, the fourth. and the fifth bath at a temperature "wipe 23.9 51.7 ⁰ C (75 to 125 ⁰ F).

4· Eine Reihe von Losungen für die Schnellentwioklung von exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurch gekennreicbnet, dafi sie bestehen aus:4 · A set of solutions for the rapid development of exposed light-sensitive materials, characterized by the fact that they consist of:

_· einem ersten Bad, bestehend aus 86,73 Gew.-ji Wasser,. 0,70 Gew.-5i Matriumbisulfit, 0_#02 Gew.-^ Benaotriaeol, 4=»71 Gew.-Jt Hydrochinon, 7,73 Gew.-56 Äthylenclycol und ** 0,11 Gew.-£ latriumeulfit j einem «weiten Bad, bestehend -* aus 88,09 Gew.-ji Wasser, 0,65 Gew»-# Kaliumbromid,* u, 5,87 Gew.-5t HatriussulfIt_t 1,47 Gew.-ji Trinatriumphosphat und 3,92 G*w.-j6 iatriumhydroxid; einem dritten Bad, bestehend aus 29,14 Gew.-Jt Ammoniumthioeulfat_ · A first bath, consisting of 86.73% by weight of water. 0.70 wt. 5i of sodium bisulfite, 0 _# 02 wt .- ^ Benaotriaeol, 4 = "71 wt.% Hydroquinone, 7.73 wt. wide bath consisting - * of 88.09 parts by weight ji water, 0.65 wt »- # potassium bromide, u *, 5.87 part by weight 5t HatriussulfIt _t 1.47 part by weight of trisodium phosphate and 3.92 G ji * w.-j6 sodium hydroxide; a third bath consisting of 29.14 parts by weight of ammonium thioeulphate

(50 #), 12,12 Gew.-?£ Ammoniumthiocyaiiat (50 ?>), 54,75 Gew.-^ Wasser, 2,78 Gew.-^ Monoaatriumpnosphat und 1,21 Gew„-?£ Natriumsulfat; einem vierteil Bad, bestehend aus 10,71 Gew<.~$ Ammoriiurathiosulfst (50 $) und 89,29 Gew.-$ V/aaser: und einem fünften Bad, bestehend aus 94,75 Gew„-$ Waoser, 0,28 Gew.-# Natriumbenaoat, 1,42 Gew.-^ Isopropy!alkohol, 1,42 Gew„--$ Essigsäure (50 $), 1,42 Gew»-$ Glyzerin und 0,71 Gew.-?? Äthylen glycol; wobei das erste, daa zweite, das dritte, das vierte und das fünfte Bad bei einer Temperatur zwischen 23,9 und 51,7⁰C (75 bia 125°?) verwendet werden.(50 #), 12.12 wt.% Ammonium thiocyanate (50%), 54.75 wt.% Water, 2.78 wt.% Mono-sodium phosphate and 1.21 wt.% Sodium sulfate; a four-part bath, consisting of 10.71% by weight of Ammoriiurathiosulfst ($ 50) and 89.29% by weight of water: and a fifth bath, consisting of 94.75% by weight of Waoser, 0.28 Sodium benzoate by weight, 1.42% by weight isopropyl alcohol, 1.42% by weight acetic acid ($ 50), 1.42% by weight glycerine and 0.71% by weight. Ethylene glycol; wherein the first, second daa, the third, the fourth and the fifth bath used at a temperature from 23.9 to 51.7 ⁰ C (75 ° bia 125?).

5* Verfahren zur Entwicklung von exponierten lichtempfindlichen Materialien, dadurch gekennzeichnet, daß man daa lichtempfindliche Material durch einen Entwickler hindurchführt, der eine hohe Konzentration an Hydrochinon und eine Temperatur von 23,9 bis 51,7⁰C (75 bis 120⁰P) hindurchführt und hierauf das lichtempfindliche Material fixiert und ausv/äsnht. 5 * A method for developing exposed light-sensitive materials, characterized in that daa photosensitive material passes through a developer which passes a high concentration of hydroquinone and a temperature from 23.9 to 51.7 ⁰ C (75 to 120 ⁰ P) and then fixed and sewn the photosensitive material.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Hydrochinon mindestens 4,71 Qevs,-% des Entwicklers ausmacht.6. The method according to claim 5, characterized in that the hydroquinone makes up at least 4.71 Qevs, -% of the developer.

7ο Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daS der Entv/ickler aus zwei Bädern besteht, wobei das erste Bad das Hydrochinon in hoher Konzentration enthält und das aweite Bad einen für eine rasche Entwicklung nötigen hohen pH-V/ert besitzt.7ο method according to claim 6, characterized in that that the developer consists of two baths, the first bath containing the hydroquinone in high concentration and the wide bath has a high pH value necessary for rapid development.

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ΜΊΜ·. H. FINCKE. DiPl.-ING. H. BCH* MH^NO. 8. STAKM ΜΊΜ ·. H. FINCKE. DiPl.-ING. H. BCH * MH ^ NO. 8. STAKM

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