DE2056954C2 - Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines Zinnüberzugs und Verfahren hierzu - Google Patents
Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines Zinnüberzugs und Verfahren hierzuInfo
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Description
R1 (C2H4O)0(C3H6O)4H
I /
R2-C-N
I \
R3 X
ist, worin Ri, R2 und R3 Alkylgruppen bedeuten, die zusammen 7 bis 23 Kohlenstoffatomc enthalten, X für ein
Wasserstoffatom oder die Gruppe
steht, a eine ganze Zahl von 15 bis 45 ist, b eine Zahl von 15 bis 67,5 bedeutet und das Verhältnis b : a einen
Wert von 1,0 bis 1,5 :1,0 hat, wenn X für — H steht, a + c eine ganze Zahl von 15 bis 45 ist und b + d eine
Zahl von 15 bis 67,5 bedeutet, oder das Verhältnis (b + d):(a + feinen Wert von 1,0 bis 1,5 :1,0 hat, wenn X
die oben angegebene Gruppe darstellt.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite oberflächenaktive Mittel eine tertiäre
Carbinaminpolyoxyalkylenverbindung der allgemeinen Formel
(C2H4OUC3H6O)4H
X
ist, worin e für eine ganze Zahl von 12 bis 15 steht und X, a sowie b die in Anspruch 1 genannten Bedeutungen
haben.
3. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Substituent X ein Wasserstoffatom ist und a
sowie b jeweils für Zahlen von 15 bis 20 stehen.
4. Bad nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich Glanzbildner und Netzmittel
sowie Chelatisiermittel enthält.
5. Verfahren zur galvanischen Abscheidung eines glatten, gut haftenden und glänzenden Zinnüberzugs
unter Verwendung eines Bades gemäß den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Abscheidung
bei einer Temperatur von 7 bis 57CC und einer Stromdichte von 1,1 bis 21,5 A/dm2 durchgeführt wird.
Es gibt bereits die verschiedensten Bäder zur galvanischen Abscheidung von Zinn. Davon werden Stannofluorboratlösungen
und die alkalischen Stannatlösungen am meisten verwendet. Diese Bäder sind zwar im allgemeinen
brauchbar und werden in großem Umfang eingesetzt, zeigen jedoch gewöhnlich Mängel hinsichtlich
einer oder mehrerer wünschenswerter Betriebseigenschaften, so daß die damit erzeugten Überzüge beispielsweise
kein vorteilhaft ausgeglichenes Verhältnis von Glanz, Glätte, Duktilität, Haftung, Lötbarkeit, Porenfreiheit
und Alterungsbeständigkeit aufweisen. Einige Bäder sind verhältnismäßig aufwendig und viele sind schwer
in betriebsfähigem Zustand zu halten, da gewöhnlich eine ziemlich genaue Einstellung und Überwachung der
Konzentrationen ihrer Bestandteile erforderlich ist. Neuere Versuche zur Bildung glänzender Zinnüberzüge
werden in Transactions of the Institute of Metal Finishing, 1967, Bd. 45, Seiten 115 bis 121 und in US-PS 33 61 562
beschrieben. Entsprechendes gilt auch für die ältere DE-PS 19 52 218, die auf ein wäßriges saures Bad zur
galvanischen Abscheidung eines glatten, gut haftenden, gegebenenfalls halbglänzenden oder glänzenden Zinnüberzugs
aus einem Zinnsalz, einer freien Säure, einem oberflächenaktiven Imidazolinderivat und einem Netzmittel
in gelöster Form gerichtet ist, das pro Liter 15,0 bis 100,0 g Stannoionen, 30,0 bis 280,0 g Sulfationen, 0,5 bis
6,0 g eines oberflächenaktiven sulfatierten Polyoxyalkylcarbinamins, 0,5 bis 3,0 g eines oberflächenaktiven Imidazolinderivats
und 0,9 bis 4,1 g Wasserstoffionen enthält und ein Gewichtsverhältnis von Carbinamin zu
Imidazolinderivat von 0,75 bis 3,0:1,0 aufweist. Ein weiteres wäßriges saures Bad dieser Art geht aus der
ebenfalls älteren DE-PS 19 56 144 hervor und enthält 10,0 bis 50,0 g/l Stannoionen, 100,0 bis 250,0 g/l Sulfationen,
1,5 bis 4,5 g/l Wasserstoffionen, als oberflächenaktive Mittel 0,2 bis 20,0 g/l Imidazolinderivate oder Mischungen
von Imdazolinderivaten mit einem Kondensat aus einem Alkylphenol mit einer Alkylkette von 6 bis 12 Kohlen-
sloffalomen und Ethylenoxid und/oder Propylenoxid und als Glanzbüdner 0,005 bis 1,0 g/l eines heterocyclischen
Carboxaldehyds, in dem der heterocyclische Ring fünf Ringatome aufweist und die Carboxaldehydgruppe
an ein Ringkohlenstoffatom gebunden ist
Die verschiedenen bekannten Bäder arbeiten zwar mit gewissen Erfolgen, doch besteht weiterhin Bedarf an
einem Bad, das glatte, glänzende, dichte und festhaftende Überzüge ergibt, die vorteilhafte Lötbarkeit aufweisen
und alterungsbeständig sind, und mit dem eine galvanische Abscheidung in Stufen vermieden werden kann, wenn
in dem Werkstück Löcher vorhanden sind.
Aufgabe der Erfindung ist daher die Bereitstellung eines wäßrigen sauren Bades zur galvanischen Abscheidung
glatter, gut haftender, dichter, glänzender und verhältnismäßig porenfreier Zinnüberzüge, das eine starke
Verringerung der Pittingbildung ermöglicht, keine Abscheidung in Stufen um Löcher im Werkstück herum zeigt
und sogar auf verhältnismäß rauhen Oberflächen verhältnismäßig glatte Oberflächen ergibt Die damit erhaltenen
Oberzüge sollen einen hohen Korrosionsschutz bieten, sowohl nach der Abscheidung als auch nach längerer
Alterung ausgezeichnete Lötbarkeit aufweisen, nicht trüber werden und in hohem Maße verschmutzungsbeständig
sein. Das Bad selbst soll vorteilhafte Betriebsgeschwindigkeiten ermöglichen, kein hohes Maß an
Überwachung und Steuerung zur Einstellung der Konzentrationen seiner Bestandteile innerhalb kritischer
Grenzen erfordern und mit verhältnismäßig geringem Kostenaufwand betrieben werden können. Diese Aufgabe
wird nun erfindungsgemäß durch das aus den Ansprüchen hervorgehende neue wäßrige saure Bad zur
galvanischen Abscheidung von Zinnüberzügen und das Verfahren zu seiner Anwendung gelöst
Die bevorzugten Bäder enthalten 55,0 bis 75,0 g/l Stannoionen, 125,0 bis 200,0 g/I Sulfationen, 1,0 bis 15,0 g/l
des ersten oberflächenaktiven Mittels (Imidazolinderivat), 0,5 bis 10,0 g/l des zweiten oberflächenaktiven Mittels
(tertiäre Carbinaminpolyoxyalkylanverbindungen), 0,1 bis 1,0 g/l des dritten oberflächenaktiven Mittels (Kondensat
aus einem Alkylphenol und einem Alkylenoxid), 0,05 bis 0,5 g/l des Glanzbildners (cyclischer Aldehyd
und/oder cyclisches Keton) und 1,5 bis 3,0 g/I Wasserstoffionen. Das Imidazolinderivat und die Carbinaminpolyoxyalkylenverbindung
liegen am vorteilhaftesten in Konzentrationen von 5,0 bis 10,0 g/l bzw. 2,0 bis 5,0 g/l vor.
Die beim erfindungsgemäßen Bad benötigten Stannoionen und Sulfationen werden zweckmäßigerweise in
Form von Stannosulfat und Schwefelsäure zugeführt Die Schwefelsäure ist zugleich auch zur Einstellung der
Wasserstoffionenkonzentration geeignet, obwohl hierzu auch andere Säuren verwendet werden können, die
keine störenden Ionen liefern. Statt Stannosulfat läßt sich beispielsweise auch Stannofluorborat verwenden, was
jedoch v/eniger vorteilhaft ist. Werden solche andere Zinnverbindungen verwendet, dann soll ihre Konzentration
nicht mehr als 50,0 Gewichtsprozent, vorzugweise weniger als 20 Gewichtsprozent, bezogen auf die
Sulfatverbindung, ausmachen.
Das im erfindungsgemäßen Bad vorhandene erste oberflächenaktive Mittel hat die allgemeine Formel
H2C-CH, CH2Z
N-CH2CH2Y
/ \
N = C G
N = C G
R
Hierin bedeutet R einen Alkylrest mit 5 bis 24 Kohlenstoffatomen, G das Ion —OH, den salzbildenden Rest
einer Säure, den salzbildenden Rest eines anionischen oberflächenaktiven Sulfats, vorzugsweise -OSO2-OR,
oder eines anionischen oberflächenaktiven Sulfonats und Z die Gruppe —COOM, -CH2COOM oder
—CHOH-CH2SO3M. M ist ein Wasserstoffatom, ein Akalimetall oder eine organische Base und Y bezeichnet
die Gruppe —OR' oder — N(R')3A. Jeder Rest R' bedeutet unabhängig von anderen Resten R' ein Wasserstoffatom,
ein Akalimetall oder die Gruppe — (CH2)„COOM, A steht für einen anionischen einwertigen Rest und η ist
eine ganze Zahl von 1 bis 4. Die gestrichelte Linie besagt, daß diese beiden Substituenten entweder insgesamt
vorhanden sein oder ganz fehlen können. Bevorzugt sind solche Imidiazolinderivate der obigen Formel, worin G
für -OSO2-OR steht, wobei R insbesondere eine do bis Cig Alkylgruppe ist, und Z die Gruppe -COOM
bedeutet, worin M vorzugsweise ein Alkalimetallkation ist.
Beispiele für geeignete Imidazolinderivate gemäß obiger Formel sind 2-Alkyl-l-(ethyl-/?-oxypropansäure)imidazoline,
in denen die Alkylgruppe aus einem Caprylrest, einem Undecylrest oder einer Mischung von
C7—Ci 7-Ketten besteht, sowie das Dinatriumsalz von Lauroylcycloimidinium-i-cthoxyethansäure-2-ethansäure.
Mischungen aus verschiedenen Imidazolinderivaten führen im allgemeinen zu besonders guten Ergebnissen.
Eine solche Mischung besteht beispielsweise aus (A) einem Imidazolinderivat, in dem die Gruppen —G und
-CH2Z fehlen, Y für -N[(CH2)n-COOH]3Cl steht, und η einen Wert von 1 bis 4 hat, und aus (B) einem
Imidazolinderivat, worin G die Gruppe -CH, Y die Gruppe -0(CH2JnCOOM und Z die Gruppe —(CH2)m
COOM bedeutet, wobei η einen Wert von 1 bis 4, m einen Wert von 0 bis 1 hat und M ein Alkalimetall ist. Eine
zweite vorteilhafte Mischung besteht aus (A) einem Imidazolinderivat, worin Z die Gruppe COONa, G die
Gruppe OH und Y die Gruppe OCH2COONa bedeutet, und (B) einem Imidazolinderivat, worin die Gruppen G
und -CH2Z fehlen und Y für -N(CH2CH2COOH)2(Ch2COOH)CI steht. Das erstgenannte Imidazolinderivat
liegt in bezug auf das zweite Imidazolinderivat in einem Gewichtsverhältnis von 1 bis 8 : 1, vorzugsweise von 4,5
bis 6,5, vor.
Das im erfindungsgemäßen Bad vorhandene zweite oberflächenaktive Mittel hat die für diese tertiäre Carbinaminpolyoxyalkylenverbindungen
in den Patentansprüchen angegebenen Formeln, wobei in der bevorzugten Formel gemäß Anspruch 2 der Index eeine Zahl von 12 bis 15 bedeutet, X insbesondere ein Wasserstoffatom ist
und a und b vor allem jeweils Zahlen von 15 bis 20 sind. Die Carbinaminpolyoxyalkylenverbindungen sind aus
US-PS 31 17 999 bekannt Zur Erzielung besonders guter Ergebnisse wird das zweite oberflächenaktive Mittel
(gegebenenfalls auch in Form einer Mischung solcher Verbindungen) in einer Konzentration von vorzugsweise
0,5 bis 10,0 g/I, insbesondere 2,0 bis 5,0 g/l, angewandt.
Die Carbinaminpolyoxyalkylenvertindung und das Imidazolinderivat reichen zwar im allgemeinen als oberflächenaktive
Mittel zur Erzielung der erfindungsgemäßen Vorteile aus. Sehr häufig werden die besten Überzüge
jedoch durch Verwendung einer Kombination aus diesen beiden oberflächenaktiven Mitteln und einem
dritten oberflächenaktiven Mittei erzielt, nämlich einem Kondensat aus einem Alkylphenol und einem Alkylenoxid.
Das Alkylenoxid liegt in bezug auf das Alkylphenol in diesem Kondensat in einem Molverh?ltnis von 8,0 bis
25,0 :1,0 vor und besteht aus Ethylenoxid, Propylenoxid oder einer Mischung daraus. Der Alkylsubstituent am
Phenol enthält im allgemeinen 6 bis 12 und vorzugsweise 8 bis 10 Kohlenstoffatome. Beispiele für solche
Kondensate sind Octylphenoxypolyethoxyethanole und Nonylphenoxypolyethoxyethanole, wobei Nonylphenoxypolyethoxyethanole
mit einem Molverhältnis von Oxid zu Phenol von 19,0 bis 20,0 :1,0 bevorzugt sind.
Bei dem erfindungsgemäßen Bad vorhandenen Glanzbildner kann es sich um irgendeinen cyclischen Aldehyd,
cyclisches Keton oder eine Mischung hiervon handeln, wobei die Carbonylgruppe entweder direkt an den Ring
gebunden oder damit über ein oder mehrere Atome verbunden sein kann. Beispiele für geeignete cyclische
Ketone sind Benzylidenaceton, Methylphenylketon, Isopropylphenylketon, 4-(2-Furyl)-3-buten-2-on, 4-p-Sulfophenyl-3-buten-2-on,
!,S-Di-p-sulfonphenyl-M-pentadien-S-on^-Hydroxy-S-rnethoxy-benzylidenaceton.^Pyridyl-2-)-3-buten-2-on,
Furylidenaceton oder Pyridylidenaceton. Beispiele für geeignete cyclische Aldehyde sind
2-Pentyl-3-phenylpropenal, o-Anisaldehyd, p-AnisaldehydbisuIfit, Furfural, Glutaraldehyd, Zimtaldehyd, Veratrumaldehyd,
Benzaldehyd, o-Chlorbenzaldahyd oder p-Chlorbenzoaldehyd. Vorzugsweise weist der Aldehyd
eine heterocyclischen Fünfring auf, und insbesondere ist die Aldehydgruppe an eines der Kohlenstoffatome im
Ring gebunden, das sich im allgemeinen in Stellung 2 befindet. Es können zwar Aldehyde mit längerer Kohlenstoffkette
verwendet werden, besonders bevorzugt sind jedoch Verbindungen, die eine einfache Aldehydgruppe
(—CHO) enthalten. Die Aldehyde können im Ring oder in der Kette substituiert sein. Besonders gute Ergebnisse
werden durch Verwendung von Aldehyden erzielt, die sich von Thiophen, Furan und Pyrrol ableiten. Beispiele
für solche heterocyclische Carboxaldehyde sind Furfural (2-Furaldehyd), 2-Thiophencarboxaldehyd oder 2-Pyrrolcarboxyaldehyd.
Vorteilhafte Ergebnisse werden zwar bereits durch Zusatz des Glanzbildners in so geringen Mengen wie
0,005 g/l erzielt, vorzugsweise liegt der Glanzbildner jedoch in Mengen von wenigstens 0,05 g/l vor. Bei einer
Konzentration über 0,5 g/l läßt sich der Betrieb des Bades zunehmend schwerer steuern. Bei Mengen über 1,0 g/l
tritt ziemlich deutliche Pittingbildung und Verbrennung auf, wobei der Glanz vor allem bei niederen Stromdichten
merklich abnimmt. Konzentrationen an Glanzbildner von 0,05 bis 0,5 g/l sind daher bevorzugt.
Sind die jeweiligen Glanzbildner im sauren Bad zu wenig löslich, dann empfiehlt sich ihre Anwendung als
Lösung in einem Lösungsmittel, beispielsweise einem niedermolekularen Alkanol, wie Methanol, Ethanol oder
Propanol, oder einem niedermolekularen Glykolether, wie Ethylenglykolmonoethylether. Im allgemeinen wird
der Glanzbildner dem Lösungsmittel in Mengen von 1,0 bis 50,0 g/l, vorzugsweise 5,0 bis 25,0 g/l, zugesetzt,
damit sich eine in dem sauren Bad leicht dispergierbare stabile Lösung ergibt.
Das erfindungsgemäße Bad arbeitet im allgemeinen ohne zusätzliche Bestandteile vorteilhaft. Es kann zur
Modifizierung seiner Wirkungsweise erforderlichenfalls jedoch noch mit weiteren Additiven versetzt werden,
beispielsweise oberflächenaktiven Mitteln, Chelatisiermitteln und zusätzlichen Glanzbildnern. Beispiele für
solche Hilfsglanzbildner sind die Polyvinylalkohole, die gewöhnlich in Mengen von weniger als 1,0 g/l, vorzugsweise
weniger als 0,2 g/l angewandt werden. Als Chelatisiermittel eignen sich beispielsweise Zitronensäure,
Apfelsäure oder Aminopolyessigsäuren, wie Ethylendiamintetraessigsäure, Diethylentriaminpentaessigsäure
oder Nitrilotriessigsäure, die im allgemeinen in einer Menge von 5,0 bis 20,0 g/l zugesetzt werden.
Die erfindungsgemäßen Bäder werden in einem Stromdichtebereich von 1,1 bis 21,5 A/dm2, vorzugsweise 2,7
bis 16,1 A/dm2, und insbesondere 5,4 bis 10,7 A/dm2, betrieben. Der Wirkungsgrad der Abscheidung ist im
allgemeinen ziemlich hoch und erreicht unter optimalen Bedingungen bis zu 95%, bezogen auf die theoretische
AbscheidungOmenge. Glänzende Überzüge ausgezeichneter Qualität ergeben sich normalerweise bei einem
Wirkungsgrad von über 70%. Zur Erzielung optimaler Ergebnisse soll das Flächenverhältnis von Anode zu
Kathode 1,5 bis 3,0 :1,0 und vorzugsweise 2,0 :1,0, betragen. Ferner soll die Anodenstromdichte einen Wert von
4,3 A/dm2 nicht überschreiten, da dann die Gefahr eines unwirksamen Betriebs, einer übermäßigen Schlammbildung
und einer Erzeugung rauher Überzüge besteht. Die angelegte Spannung soll 0,2 bis 5,0 V1 und vorzugsweise
0,5 bis 4,0 V, betragen.
Die Bäder sollen bei Temperaturen zwischen 7 und 570C, und vorzugsweise 16 bis 32° C, beirieben werden. Bei einem Betrieb unterhalb 7°C besteht die Gefahr eines unzureichenden Wirkungsgrades und der Bildung unbefriedigender Überzüge, während bei Temperaturen über 570C matte, rauhe und allgemein unbrauchbare Überzüge entstehen können und das Bad mit übermäßiger Geschwindigkeit verbraucht wird.
Die Bäder sollen bei Temperaturen zwischen 7 und 570C, und vorzugsweise 16 bis 32° C, beirieben werden. Bei einem Betrieb unterhalb 7°C besteht die Gefahr eines unzureichenden Wirkungsgrades und der Bildung unbefriedigender Überzüge, während bei Temperaturen über 570C matte, rauhe und allgemein unbrauchbare Überzüge entstehen können und das Bad mit übermäßiger Geschwindigkeit verbraucht wird.
Jeder metallische Träger oder oberflächenmodifizierte Gegenstand, der unter Verwendung bekannter Bäder
mit Zinn galvanisch überzogen werden kann, kann auch erfindungsgemäß beschichtet werden. Gute Zinnüberzüge
lassen sich beispielsweise auf Gegenständen aus Kupfer, Nickel, Eisen und Stahl erzeugen. Zu besten
Ergebnissen gelangt man bei Verwendung von Anoden aus verhältnismäßig reinem Zinn.
Zur Bildung gleichmäßiger Überzüge hoher Qualität und zur Verhinderung einer Schlamm- oder Filmbildung
empfiehlt sich eine gewisse Durchmischung der Bäder während der galvanischen Abscheidung, gegebenenfalls
auch unter Bewegung der Kathode, da diese hierdurch insbesondere bei hohen Stromdichten und Temperaturen
verbessert wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren läßt sich mit gleicher Wirksamkeit auf Trog- und Trommelgalvanisiervorrichtungen
anwenden, und kann für Streifen, Draht und Kontaktstreifen verwendet werden. Besonders bedeutsam
ist die Anwendung des erfindungsgemäßen Bades und des erfindungsgemäßen Verfahrens für Kontaktstrei-
fen und dergleichen, weil der erzeugte Überzug ausgezeichnete Lötbarkeit aufweist und eine Abscheidung in
Stufenform (infolge Polarisation) damit vermieden wird. Eine Filtration des Bades ist nicht wesentlich, gewöhnlich
jedoch günstig, wenn eine Verschmutzung des Bades durch Verunreinigungen auftritt, die aus der Luft
stammen oder aus anderen Arbeitsgängen mit geschleppt werden. Vorzugsweise wird kontinuierlich gearbeitet.
Für diesen Zweck können verschiedene Filtermedien benutzt werden, beispielsweise Gewebe, poröses Steinzeug
und andere übliche Filter.
Die Verarmung der verschiedenen Bestandteile des Bades wird am besten aufgrund analytischer Bestimmungen
der verschiedenen Bestandteile in regelmäßigen Abständen korrigiert, die für eine bestimmte Anlage
festgelegt werden können. Zum Nachweis dafür, wann der Zusatz eines oberflächenaktiven Mittels erforderlich
ist., wird am besten eine Probe des Bades in einer geeigneten Testzelle geprüft und ein geeignetes Schema für
eine gegebene Anlage und Werkstückart festgelegt. Um die erforderlichen Mengen an Stannosalz zu ermitteln,
können eine 0,1 η Kaliumiodatlösung und eine l°/oige Stärkelösung zur Filtration verwendet werden. Die
Konzentration an freier Schwefelsäure kann durch einfache Titration mit einem geeigneten Indikator, zum
Beispiel Thymolphthalein, ermittelt werden. Die erforderliche Glänzermenge wird am besten dadurch ermittelt,
daß eine Probe des Bades in einer geeigneten Testzelle getestet wird.
Durch die folgenden Beispiele wird die Erfindung näher erläutert. Alle Teile beziehen sich auf das Gewicht,
wenn nichts anderes angegeben ist.
Es wird ein wäßriges Bad hergestellt, das 120,0 g pro Liter Stannosulfat, 92,0 g pro Liter Schwefelsäure, 4,5 g
pro Liter eines im Handel erhältlichen Imidazolinderivats der eingangs angegebenen allgemeinen Formel, worin
die Gruppen G und -CH2Z fehlen und Y die Gruppe -N(CH2CH2COOH)2(CH2COOH)Ci bedeutet, 0,75 g pro
Liter eines zweiten im Handel erhältlichen Imidazolinderivats, worin Z die Gruppe -COONa, G die Gruppe
-OH und Y die Gruppe -OCH2COONa ist, 0,93 g pro Liter eines Ethylenoxid-Octylphenol-Kondensats mit
einem Molverhältnis von etwa 10,0 :1,0,4,1 g pro Liter einer im Handel erhältlichen Mischung aus Carbinaminpolyoxyalkylenverbindungen
der Formel t-CeH2e +/ΝΗ(Ο>Η4θ)^3Η6Ο)ί,Η, worin e eine ganze Zahl von 12
bis 15 ist und a und b jeweils Zahlen von 15 bis 20 bedeuten, und 0,08 g pro Liter Thiophenaldehyd enthält. Das
Bad wird in eine Streifen- oder Bandgalvanisiervorrichtung eingeführt und bei einer Temperatur von etwa 10
Grad C gehalten. In das Bad wird ein gestanzter Stahlkontaktstreifen und eine Anode aus reinem Zinn eingeführt.
Zwischen dem Streifen und der Anode wird eine Spannung von etwa 3 Volt angelegt, die eine Kathodenstromdichte
von etwa 8,6 A/dm2 und an der Anode eine Stromdichte von weniger als 4,3 A/dm2 ergibt Der
Streifen wird während einer Zeit von etwa 2 Minuten in dem Bad bewegt und galvanisiert. Nach Entnahme des
Streifens aus dem Bad, Spülen und Trocknen ergibt eine Untersuchung einen glänzenden dichten festhaftenden
Zinnüberzug, der glatt, frei von Pittings und durchweg gleichmäßig ist, selbst um die Löcher herum. Die
Lötbarkeit nach dem Galvanisieren und nach längerer Alterung ist ausgezeichnet
Eine Zinnlösung wird durch Auflösen von 132,0 g pro Liter Stannosulfat, 55,0 ml pro Liter Schwefelsäure und
0,1 g pro Liter Thiophenaldehyd in Wasser hergestellt Eine erste wäßrige Stammlösung (mit A bezeichnet) wird
durch Vermischen des Ethylenoxid-Octylphenol-Kondensats und des ersten Imidazolinderivats, die in Beispiel 1
erwähnt sind, in Konzentrationen von 20,0 bzw. 80,0 g pro Liter bereitet Eine zweite Stammlösung (mit B
bezeichnet) wird durch Auflösen von 100,0 g pro Liter der gleichen Mischung aus Carbinaminpolyoxyalkylenverbindungen,
wie sie in dem vorhergehenden Beispiel verwendet wird, in Wasser hergestellt. Eine Reihe von
Versuchen wird unter Verwendung von Stahlblechen in Hullzellen durchgeführt, die mit verschiedenen Anteilen
der drei Lösungen zubereitete Bäder enthalten. Die Bäder werden 3 Minuten mit 5 Ampere bei 24 Grad C
betrieben. Für Durchmischung wird mit einem Rührstab gesorgt der gegen die Vorderseite des Blechs bewegt
wird. In der folgenden Tabelle sind die Volumenanteile der Stammlösungen in den verschiedenen Bädern, der
Bereich glänzender Überzüge in A/dm2 und eine visuelle Beschreibung der erzeugten Überzüge angegeben.
Versuch | Zinnlösung, | Losung »A«, | Lösung »B«, | Glanzbereich, | Beschreibung |
Teile | Teile | Teile | A/dm2 | des Oberzugs | |
1 | 250 | 12 | 2-1/2 | 2,2-21,5 | trübgiänzend |
2 | 250 | 12 | 5 | 3,2-21,5 | trübglänzend, |
besser als 1 | |||||
3 | 250 | 12 | 10 | 2.2-16,1 | glänzend |
4 | 250 | 12 | 20 | 2,2—21,5 | trübgiänzend |
5 | 250 | 24 | 5 | 2,2-16,1 | hochglänzend |
6 | 250 | 24 | 10 | 2,2-21,5 | hochglänzend |
7 | 250 | 24 | 20 | 2.2-18.8 | hochelänzend |
Claims (1)
1. Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines glatten, gut haftenden und glänzenden
Zinnüberzugs, enthaltend 35,0 bis 85,0 g/l Stannoionen, 70,0 bis 250,0 g/l Sulfationen. 0.25 bis 25,0 g/l eines
Imidazolinderivats als erstes oberflächenaktives Mittel, 0,15 bis 15,0 g/l eines tertiären Carbinamins als
zweites oberflächenaktives Mittel, 0,0 bis 5,0 g/l eines Kondensats aus einem Alkylphenol mit einer Alkylkette
von 6 bis 12 Kohlenstoffatomen und einem Alkylenoxid, das aus Ethylenoxid, Propylenoxid oder Mischungen
daraus besteht, als gegebenenfalls vorhandenes drittes oberflächenaktives Mittel, 0,005 bis 1,0 g/l eines
cyclischen Aldehyds und/oder eines cyclischen Ketons als Gianzbildner lind 03 bis 4,5 g/l Wasserstoffionen,
ίο dadurch gekennzeichnet, daß das zweite oberflächenaktive Mittel eine tertiäre Carbinaminpolyoxyalkylenverbindung
der allgemeinen Formel
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Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3755096A (en) * | 1971-07-01 | 1973-08-28 | M & T Chemicals Inc | Bright acid tin plating |
US4207148A (en) * | 1975-11-28 | 1980-06-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Electroplating bath for the electrodeposition of tin and tin/cadmium deposits |
US4135991A (en) * | 1977-08-12 | 1979-01-23 | R. O. Hull & Company, Inc. | Bath and method for electroplating tin and/or lead |
GB2013241B (en) * | 1977-11-16 | 1982-03-24 | Dipsol Chem | Electroplating bath for depositing tin or tin alloy with brightness |
US4242182A (en) * | 1978-07-21 | 1980-12-30 | Francine Popescu | Bright tin electroplating bath |
US5110423A (en) * | 1990-05-25 | 1992-05-05 | Technic Inc. | Bath for electroplating bright tin or tin-lead alloys and method thereof |
US6083078A (en) * | 1999-01-20 | 2000-07-04 | Dah Yang Toy Industrial Col, Ltd. | Toy with moving body movable between two platforms |
US6251253B1 (en) | 1999-03-19 | 2001-06-26 | Technic, Inc. | Metal alloy sulfate electroplating baths |
US6562220B2 (en) | 1999-03-19 | 2003-05-13 | Technic, Inc. | Metal alloy sulfate electroplating baths |
US6582582B2 (en) | 2001-03-09 | 2003-06-24 | Donald Becking | Electroplating composition and process |
US6860981B2 (en) * | 2002-04-30 | 2005-03-01 | Technic, Inc. | Minimizing whisker growth in tin electrodeposits |
US20060292847A1 (en) * | 2005-06-24 | 2006-12-28 | Schetty Robert A Iii | Silver barrier layers to minimize whisker growth in tin electrodeposits |
WO2007008369A1 (en) * | 2005-07-11 | 2007-01-18 | Technic, Inc. | Tin electrodeposits having properties or characteristics that minimize tin whisker growth |
US20090120497A1 (en) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Schetty Iii Robert A | Method of metallizing solar cell conductors by electroplating with minimal attack on underlying materials of construction |
JP5583894B2 (ja) * | 2008-06-12 | 2014-09-03 | ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. | 電気錫めっき液および電気錫めっき方法 |
FR3071853A1 (fr) * | 2017-09-29 | 2019-04-05 | Compagnie Generale Des Etablissements Michelin | Procede d'electrodeposition d'une composition adhesive comportant un sel de phosphate et une resine thermodurcissable sur un element conducteur |
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